DE69525310T2

DE69525310T2 - Verfahren zum Herstellen eines Substrates für eine Elektronenquelle und eines damit versehenen Bilderzeugungsgerätes

Info

Publication number: DE69525310T2
Application number: DE69525310T
Authority: DE
Inventors: Tetsuya Kaneko; Yoshihiro Yanagisawa
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1994-11-25
Filing date: 1995-11-24
Publication date: 2002-08-14
Anticipated expiration: 2015-11-25
Also published as: US5996488A; KR960019376A; DE69525310D1; EP0714113B1; KR100356263B1; CN1107883C; US6457408B1; EP0714113A1; CN1155102A

Description

Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Herstellen eines Substrats zur Verwendung bei der Herstellung einer Elektronenquelle, einem Verfahren zur Herstellung einer Elektronenquelle und ein Verfahren zur Herstellung eines Bilderzeugungsgeräts.
In den vergangenen Jahren wurde erhöhte Aufmerksamkeit einem Bilderzeugungsgerät in Gestalt eines dünnen, flachen Bildschirms gewidmet, von dem erwartet wird, daß es eine Kathodenstrahlröhre, die große Abmessungen und hohes Gewicht hat, ablösen wird. Unter den verschieden Typen von Bilderzeugungsgeräten mit einem Flachbildschirm, wurden Flüssigkristallanzeigen intensiv untersucht.
Flüssigkristallanzeigen haben jedoch das Problem, daß die Helligkeit der ausgegebenen Bilder nicht hoch genug ist. Hinzu kommt, daß der Blickwinkel auf einen engen Bereich begrenzt ist. Anzeigen vom Emissionstypus wie Plasmaanzeigen, Fluoreszenzanzeigen oder Anzeigen mit einem elektronenemittierenden Gerät sind vielversprechende Kandidaten als Anzeigeeinheiten, die die Flüssigkristallanzeigen ersetzen können. Diese Anzeigen vom Emissionstypus bieten ein helleres Bild und einen größeren Blickwinkel als Flüssigkristallanzeigen. Es besteht auch der Bedarf nach größeren Bildschirmflächen. Um derartigen Anforderungen gerecht zu werden, wurden kürzlich Kathodenstrahlröhren mit einer Bildschirmdiagonalen von mehr als 30 Zoll (1 Zoll = 2,54 cm) entwickelt; noch größere Kathodenstrahlröhren werden in Hinkunft erwartet. Es gilt zu bedenken: Je größer ein Bildschirm wird, um so mehr Platz wird zur Installation dieser Röhre benötigt. Dies bedeutet, daß Kathodenstrahlröhren für großflächige Anzeigen nicht sehr geeignet sind. Flachbildschirmanzeigen vom Emissionstypus mit einem kleineren Gefäß hingegen lassen sich mit großen Bildschirmabmessungen realisieren. Deshalb sind sie derzeit von höchstem Interesse. Unter diesem Gesichtspunkt sind unter den Bilderzeugungsgeräten mit Flachbildschirm vom Emissionstypus der elektronenemittierende Typus sehr vielversprechend. Besonders attraktiv ist eine von M. I. Elinson u. a. (Radio. Eng. Electron. Phys., 10, 1290 (1965)) vorgeschlagenes Bilderzeugungsgerät, das eine an der Oberfläche leitende, elektronenemittierende Einrichtung ist, bei der Elektronen sehr einfach emittiert werden können.
Bei oberflächenleitenden, elektronenemittierenden Einrichtungen wird ein Dünnfilm von geringer Dicke auf einem Substrat gebildet, wodurch Elektronenemission dann auftritt, wenn ein elektrischer Strom durch den Dünnfilm parallel zur Filmoberfläche fließt. Es sind eine ganze Reihe von oberflächenleitenden, elektronenemittierenden Einrichtungen bekannt. Es handelt sich um eine Einrichtung mit einem dünnen SnO&sub2;-Film (Elinson u. a.), einem dünnen Au-Film (G. Dittmer, Thin Solid Films, 9, 317 (1972)), einem dünnen In&sub2;O&sub3;/SnO&sub2;-Film (M. Hartwell und C. G. Fonstad, IEEE Trans. ED Conf., 519 (1975)) oder einem dünnen Kohlenstoff-Film (Araki u. a., Vaccuum, 26(1), 22 (1983)).
Die von M. Hartwell u. a. vorgeschlagene Einrichtung wird beispielhaft für eine oberflächenleitende, elektronenemittierende Einrichtung beschrieben. Ihre Struktur zeigt Fig. 9. Hier weist das Bezugszeichen 1001 auf ein Substrat hin. Das Bezugszeichen 1004 verweist auf einen elektrisch leitenden Dünnfilm, der in einer H-Struktur aus einem Metalloxid durch Zerstäubung gebildet wird. Der elektrisch leitende Dünnfilm 1004 bezieht sich auf ein Verfahren, das Erregungsformierung genannt wird - eine ausführlich Beschreibung folgt -, wodurch ein Elektronenemmissions-Bereich 1005 in dem elektrisch leitenden Dünnfilm 1004 gebildet wird. Der Anteil des elektrisch leitenden Dünnfilms 1004 hat zwischen den Elektroden eine Länge L von 0,5 mm bis 1 mm und eine Breite von 0,1 mm.
Die Erfinder der vorliegenden Erfindung haben eine oberflächenleitende, elektronenemittierende Einrichtung vorgeschlagen, bei der die Teilchen, die die Fähigkeit haben, Elektronen emittieren zu können, in einem Bereich zwischen einem Elektrodenpaar verteilt werden, wie in der U.S.-Patentschrift Nummer 5 066 883 bekannt gemacht wurde. Dieses elektronenemittierende Einrichtung hat den Vorteil, daß die Positionierung der Elektronenemission genauer gesteuert werden kann, als bei den anderen oben beschriebenen oberflächenleitenden, elektronenemittierenden Einrichtungen. Die Fig. 3A und 3B zeigen eine typische Struktur einer oberflächenleitenden, elektronenemittierenden Einrichtung entsprechend der U.S.-Patentschrift 5 066 883. Diese Einrichtung enthält eine isolierendes Substrat 31, die Elektroden 32 und 33 zur Herstellung einer elektrischen Verbindung und einen elektrisch leitenden Dünnfilm 34, der elektrisch leitende Teilchen enthält. Ein elektronenemittierender Zone 35 wird in dem elektrisch leitenden Dünnfilm 34 gebildet. In der oberflächenleitenden, elektronenemittierenden Einrichtung wird der Abstand L zwischen einem Paar Elektroden auf einen Wert in der Größenordnung 0,01 um und 100 um eingestellt. Der Flächenwiderstand der elektronenemittierenden Zone 35 liegt vorwiegend im Bereich von 1 · 10&supmin;³ Ω/ bis 1 · 10&supmin;&sup9; Ω/ . Die Elektroden haben eine Dicke von weniger als 200 nm, wodurch die Elektroden einen guten elektrischen Kontakt mit dem Dünnfilm 34, der aus leitenden Teilchen, haben. Wird eine große Anzahl ähnlicher Einrichtungen angeordnet, ist es wichtig, daß die Längen- und Breitenabmessungen des Dünnfilms zwischen den beiden Elektroden nicht zu sehr streuen, damit bei den Kennlinien für die Elektronenemission nur geringe Abweichungen auftreten. Die Fig. 4A bis 4C zeigen die Verfahrensschritte bei der Herstellung der elektronenemittierenden Einrichtung von den Fig. 3A und 3B.
Die Erfinder der vorliegenden Erfindung haben Verfahren zur Herstellung großformatiger Bilderzeugungsgeräte untersucht, indem eine große Anzahl von oberflächenleitenden, elektronenemittierender Einrichtungen auf einem Substrat angeordnet wurden. Bei ihren Untersuchungen haben sie Techniken entdeckt, bei denen die Elektroden der Elektronenquelle und die zugehörige Verdrahtung mit Hilfe der Photolithographie strukturiert ist. Wenn jedoch die Photolithographie dazu verwendet wird, ein großformatiges Bilderzeugungsgerät herzustellen, ist es schwierig eine große Anzahl von elektronenemittierenden Einrichtungen mit guten Kenndaten und mit nur geringen Abweichungen bei diesen Kenndaten herzustellen.
Die Erfinder der vorliegenden Erfindung haben in Betracht gezogen, die Elektrodenmuster mit Hilfe des Offsetdrucks herzustellen. Sie haben herausgefunden, daß bei Verwendung eines Hochdruckverfahrens bei der Herstellung des Substrats für die Elektronenquelle zur Bildung einer großen Anzahl von oberflächenleitenden, elektronenemittierenden Einrichtungen große Abweichungen in den elektronenemittierenden Kenndaten bezüglich der oberflächenleitenden, elektronenemittierenden Einrichtungen, die auf dem Substrat aufgebracht sind, auftreten. Als Ergebnis hat ein Bilderzeugungsgerät bei Verwendung diese elektronenerzeugende Substrats eine schlechte Bildqualität. Dies liegt hauptsächlich an den Abweichungen in den Abmessungen der Elektroden auf dem Substrat. Speziell sind die Abweichungen in den Abmessungen zwischen dem Mittelteil und den Randbereichen des Substrats groß.
Die vorliegende Erfindung ist als Lösung zu den oben angesprochenen Problemen bei der Herstellung eines elektronenerzeugendes Substrats und für ein Bilderzeugungsgerät gedacht.
Das Verfahren gemäß der vorliegenden Erfindung ist, wie bei dem oben angedeuteten US-Patentschrift A-5 066 883, ein Verfahren zum Herstellen eines Substrats zur Verwendung bei der Herstellung einer Elektronenquelle, wobei das hergestellte Substrat ein Stützsubstrat und für jede einer Vielzahl von elektronenemittierenden Einrichtungen ein Paar beabstandeter Elektroden enthält, die auf der Oberfläche des Stützsubstrats vorgesehen sind, und einen leitfähigen Dünnfilm, der sich zwischen jeweils überlappenden Abschnitten des Paares beabstandeter Elektroden erstreckt, wobei der leitfähige Dünnfilm so eingerichtet ist, daß er sukzessiv gebildet werden kann, um zwischen den Elektroden eine elektronenemittierende Zone aufzuweisen, mit den Verfahrensschritten:
Bereitstellen des Stützsubstrats;
Erzeugen der Elektroden durch Herstellen eines gemusterten Dünnfilms aus Elektrodenmaterial auf der Oberfläche vom Stützsubstrat; und
Herstellen des leitfähigen sich dazwischen erstreckenden Dünnfilms und Überlappen der jeweiligen Abschnitte der Elektroden;
dadurch gekennzeichnet, daß
der Verfahrensschritt des Herstellens der Elektroden erfolgt durch:
Bereitstellen einer Tiefdruckplatte, bei der vertiefte Abschnitte dem Muster der Elektroden entsprechen, die durch Offsetdrucken herzustellen sind, wobei die vertieften Abschnitte eine Tiefe von 4 bis 15 um haben;
Auftragen einer Tinte, um Elektrodenmaterial nach Trocknen und Tempern zu bilden, um die Tiefdruckplatte in den vertieften Abschnitten auszufüllen;
Drücken einer Maske gegen die Druckplatte, um die Tinte aus den vertieften Abschnitten zur Oberfläche der Maske zu übertragen;
Drücken der Maske gegen die Oberfläche des Stützsubstrats, um die Tinte aus der Maske auf die Oberfläche des Stützsubstrats zu übertragen; und
Trocknen und Tempern der auf die Oberfläche der stützsubstratübertragenen Tinte, um die Elektroden herzustellen.
Während Offset-Tiefdruck bei dem obigen Verfahren bevorzugt wird, muß zugegeben werden, daß schon die japanische Patentschrift JP-A-4-290295 über die Anwendung des Offsetdrucks zur Herstellung von gedruckten Schaltungen, wie beispielsweise der Montage integrierter Chips, bei der Herstellung von Thermoköpfen oder integrierten Hybridschaltungen berichtet hat.
Das aufbereitete Substrat kann dann verarbeitet werden, um die Herstellung der Elektronenquelle fertigzustellen. Hierin enthalten ist das Durchführen einer Formierungsbehandlung, um eine elektronenemittierende Zone in jedem einzelnen leitfähigen Dünnfilm in der Zone zwischen den beabstandeten Elektroden zu bilden.
Ebenfalls gemäß der vorliegenden Erfindung wird ein Verfahren zur Herstellung eines Bilderzeugungsgerätes bereitgestellt, mit den Verfahrensschritten:
Herstellen eines Substrats;
Bereitstellen eines fluoreszierenden Plattengliedes;
Zusammenbauen des hergestellten Substrats mit dem fluoreszierenden Plattenglied und Bilden einer Hülle, wobei das fluoreszierende Plattenglied einem jeweiligen leitfähigen Dünnfilm gegenüber angeordnet ist; und Durchführen einer Formierungsbehandlung zur Bildung einer elektronenemittierenden Zone in jedem jeweiligen leitfähigen Dünnfilm in der Zone zwischen den beabstandeten Elektroden.

KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNG

Die Fig. 1A und 1B zeigen schematische Darstellungen, die eine Druckform entsprechend der vorliegenden Erfindung veranschaulichen;
Die Fig. 2A bis 2D zeigen schematische Darstellungen, die das Verfahren zur Bildung der Elektroden entsprechend der vorliegenden Erfindung veranschaulichen;
Die Fig. 3A und 3B zeigen schematische Darstellungen, die eine oberflächenleitende, elektronenemittierende Einrichtung, anwendbar auf die vorliegende Erfindung, veranschaulichen;
Die Fig. 4A bis 4C zeigen schematische Darstellungen, die das Verfahren der Herstellung elektronenemittierender Einrichtung (s. Fig. 3) veranschaulichen;
Die Fig. 5A bis 5E zeigen schematische Darstellungen, die das Verfahren zur Herstellung eines elektronenerzeugenden Substrats mit matrixförmige Verdrahtungen veranschaulicht;
Fig. 6 zeigt die Schwingungsform einer Formierungsspannung;
Fig. 7 zeigt eine schematische Darstellung eines Bilderzeugungsgeräts entsprechend der vorliegenden Erfindung;
Fig. 8 zeigt ein Schaltdiagramm, dasein Beispiel einer Steuerschaltung veranschaulicht; und
Fig. 9 zeigt eine schematische Darstellung, die eine konventionelle oberflächenleitende, elektronenemittierende Einrichtung veranschaulicht.

GENAUE BESCHREIBUNG DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSBEISPIELE

Das Verfahren zur Herstellung einer Elektronenquelle und eines Bilderzeugungsgeräts entsprechend der vorliegenden Erfindung wird nun genauer beschrieben.
Bei dieser Erfindung liegt die Tiefe der tiefliegenden Druckelemente der Druckform in der Größenordnung von 4 um bis 15 um. Tiefliegende Druckelemente mit einer kleineren Tiefe auf der Druckform bewirken, daß das Eindringen der Drucktuchoberfläche in die tiefliegende Druckelemente mechanisch begrenzt ist und deshalb die Deformation eines gedruckten Musters vermieden werden kann, ohne eine Feinjustierung der Druckkraft auf die Druckform vornehmen zu müssen. Dies bedeutet, daß diese Technik die Abweichungen in den Form der Elektrode zwischen den mittleren und den äußeren Bereichen des Substrats reduzieren kann, wobei gewährleistet ist, daß eine Vielzahl elektronenemittierender Einrichtungen auf dem Substrate mit geringen Abweichungen in den Abständen zwischen den Elektroden und der Dicke der Elektroden gebildet werden können. Die vorliegende Erfindung stellt ein elektronenerzeugendes Substrat zur Verfügung, das elektronenemittierende Einrichtungen mit einheitlichen Eigenschaften hat und ein Bilderzeugungsgerät, das dieses elektronenerzeugende Substrat verwendet.
Da bei der vorliegenden Erfindung des weiteren die tiefliegende Druckelemente der Druckform eine geringe Tiefe haben, ist es möglich, die Druckfarbe von der Innenseite der tiefliegende Druckelemente auf das Drucktuch mit einem Wirkungsgrad nahe 100% zu übertragen. Dies vermeidet ein Problem wegen der Restfarbe, die in den tiefliegende Druckelementen, ohne übertragen zu werden, verbleibt.
Bei der vorliegenden Erfindung liegt die Tiefe der tiefliegende Druckelemente in der Größenordnung von 4 um bis 15 um, bevorzugt 4 um bis 12 um, und idealerweise 7 um bis 9 um.
Bei dieser Erfindung sollte die Viskosität der Druckfarbe nicht zu hoch sein, weil eine hohe Viskosität zu Schwierigkeiten beim Entfernen der Druckfarbe von den tiefliegende Druckelementen führt und somit ein Übertragen der Druckfarbe auf das Drucktuch Schwierigkeiten mit sich bringt. Ist jedoch andererseits die Viskosität zu niedrig, führt das Fließvermögen der Druckfarbe zu einer schlechten Gleichmäßigkeit in den Mustern der Elektroden. Das heißt, bei der vorliegenden Erfindung sollte die Viskosität der Druckfarbe in der Größenordnung von 1 Pa s und 10 Pa s, bevorzugt 1 Pa s bis 5 Pa s betragen. Bei Verwendung der Druckfarbe mit der angegebenen Viskosität wird ermöglicht, die Elektrodenmuster mit einer Dicke kleiner 200 nm und mit einer sehr geringen Abweichung in der Dicke zu bilden. Die Druckfarbe sollte harzhaltig mit einem Anteil von sieben Gewichtsprozenten Platin oder Gold sein. Obgleich bei der vorliegende Erfindung beim Tiefdruckverfahren keine bestimmte Druckkraft auf die Druckform vorgeschrieben ist, sollte die Druckkraft auf die Druckform so eingestellt sein, daß das Eindringen in die tiefliegenden Druckelemente in der Größenordnung von 50 um bis 200 um liegt, damit eine gute Reproduzierbarkeit bei der Herstellung einer großen Anzahl von elektronenemittierenden Einrichtungen, von elektronenerzeugenden Substraten einschließlich der elektronenemittierenden Einrichtungen und der Bilderzeugungsgeräte zu erzielen. Damit eine gute Farbübertragung erreicht wird, sollte ein Drucktuch mit einer Oberflächenbeschichtung aus Silikongummi verwendet werden. Dies ist insbesondere dann wünschenswert, wenn die Druckfarbe auf ein Substrat übertragen wird, das keine Möglichkeit bietet, Druckfarbe zu absorbieren, beispielsweise ein glasartiges Substrat.
Nun wird ein Verfahren zur Herstellung eines Bilderzeugungsgeräts mit einem elektronenerzeugenden Substrat behandelt. Das heißt, das Bilderzeugungsgerät wird folgendermaßen hergestellt:
(1) Als erstes werden eine Vielzahl gegenüberliegender Elektrodenpaare auf dem Substrat matrixförmig angeordnet.
(2) Die Verdrahtungen werden anschließend matrixförmig angeordnet, so daß die Elektroden über diese Verdrahtungen miteinander verbunden werden.
(3) Ein elektrisch leitender Dünnfilm, der als ein elektronenemittierende Zone dient, wird zwischen den gegenüberliegenden Elektroden gebildet. Es wird also ein elektronenerzeugenden Substrat erhalten.
(4) Eine Frontplatte wird erzeugt, indem ein fluoreszierendes Material auf der Oberfläche eines lichtdurchlässigen Substrats beschichtet wird
(5) Das elektronenerzeugende Substrat und die Frontplatte sind so angeordnet, daß sie sich gegenüberstehen, wobei eine Vakuumkammer gebildet wird.
(6) Das Innere der Vakuumkammer ist evakuiert. Anschließend wird die Erregerformierung und das Gettern ausgeführt. Auf diese Weise wird ein Bilderzeugungsgerät erhalten.
Wenn der Bildschirm mit den matrixförmige Verdrahtungen über eine Schaltungsanordnung nach Fig. 8 angesteuert wird, lassen sich auf ihm Fernsehbilder ausgeben. Die einzelnen Komponenten der Schaltungsanordnung werden nun genauer beschrieben.
In Fig. 8 bezeichnet das Bezugszeichen 901 einen Bildschirm mit matrixförmigen Verdrahtungen. Die Treiberschaltung beinhaltet eine Abtastschaltung 902, einer Steuerschaltung 903, ein Schieberegister 904, einen Zeilenspeicher 905, einem Trennkreis für das Synchronisiersignal 906, ein Modulationssignalgenerator 907 und die Gleichspannungsquellen Ux und Ua.
Der Bildschirm 901 ist mit den externen Schaltkreisen über die Anschlüsse Dox1 bis Doxm, die Anschlüsse Doy1 bis Doyn und einen Hochspannungsanschluß Hv verbunden. Die bei dem Bildschirm verwendete Elektronenquelle wird über diese Anschlüsse folgendermaßen angesteuert: Die oberflächenleitende, elektronenemittierende Einrichtung, die in Form einer m · n- Matrix angeordnet ist, wird Zeile für Zeile (n Einrichtungen pro Zeiteinheit) durch ein Abtastsignal, das über die Anschlüsse Dox1 bis Doxm angelegt wird, gesteuert.
Über die Anschlüsse Doy1 bis Doyn wird ein Modulationssignal an jede Einrichtung in der Zeile der oberflächenleitenden, elektronenemittierenden Einrichtungen, die durch das Abtastsignal ausgewählt wird, angelegt, wodurch der von jeder Einrichtung emittierte Elektronenstrahl gesteuert wird. Eine Gleichspannung von beispielsweise 10 kV wird von der Gleichspannungsquelle Va über den Hochspannungsanschluß Hv geliefert. Diese Spannung dient dazu, den Elektronenstrahl, der von jeder oberflächenleitenden, elektronenemittierenden Einrichtung emittiert wird, zu beschleunigen, wodurch der Energieinhalt der Elektronen ausreichend hoch ist, die Phosphoratome anzuregen.
Die Abtastschaltung 902 arbeitet folgendermaßen: Die Abtastschaltung 902 beinhaltet m Schaltelemente (S&sub1; bis Sm in Fig. 8). Jedes Schaltelement wird entweder mit der Spannung Ux, die von der Gleichstromspannungsquelle stammt, oder mit der Spannung 0 V (Massepotential) angesteuert, wodurch der Bildschirm über die Anschlüsse Dox1 bis Doxm mit entsprechender Spannung versorgt wird. Jedes Schaltelement S&sub1; bis Sm besteht aus einer Schalteinrichtung, beispielsweise einem Feldeffekttransistor. Diese Schaltelemente S&sub1; bis Sm werden über das Steuersignal Tscan, das von der Steuerschaltung 903 stammt, betätigt.
In diesem Beispiel wird die Ausgangsspannung der Gleichspannungsquelle Ux auf einen festen Wert gesetzt, wodurch Einrichtungen, die nicht abgetastet werden, mit einer Spannung versorgt werden, die kleiner ist als die Schwellenspannung der Elektronenemission der oberflächenleitenden, elektronenemittierenden Einrichtung.
Die Steuerschaltung 903 ist für die Steuerung verschiedener Schaltungen zuständig, wodurch ein Bild entsprechend einem Bildsignal, das von einer externen Schaltung kommt, einwandfrei ausgegeben wird. Als Antwort auf auf das Synchronisiersignal, das von dem Trennkreis für das Synchronisiersignal 906 kommt, generiert die Steuerschaltung 903 die Steuersignale Tscan, Tsft und Tmry und sendet sie an die zugehörigen Schaltungen.
Die Trennschaltung 906 für das Synchronisiersignal besteht aus einer Filterschaltung, um einen Anteil eines Synchronisiersignals und einen Anteil eines Helligkeitssignals von einem Fernsehsignal, das der NTSC-Norm entspricht und von einer externen Schaltung kommt, herauszufiltern. Obgleich das durch die Schaltung 906 herausgefilterte Synchronisiersignal in Fig. 8 einfach als Tsync bezeichnet wird, besteht das tatsächliche Synchronisiersignal aus einem vertikalen und einem horizontalen Anteil. Der aus dem Fernsehsignal herausgefilterte Anteil des Bildhelligkeitssignals wird in Fig. 8 als DATA bezeichnet. Dieses DATA-Signal wird dem Schieberegister 904 zugeführt.
Das Schieberegister 904 setzt ein DATA-Signal, das in einer zeitlichen Abfolge empfangen wurde, Zeile für Zeile eines Bildes in ein Signal in paralleler Form um. Der Umsetzvorgang des Schieberegisters 904 wird durch das Steuersignal Tsft, das in der Steuerschaltung 903 erzeugt wird, durchgeführt (dies bedeutet, daß das Steuersignal Tsft Taktsignal für das Schieberegister 904 ist). Nachdem die Umsetzung in die parallele Form durchgeführt wurde, werden die Bilddaten Zeile für Zeile in Form von Parallelsignalen über die Verbindungen Id1 bis Idn vom Schieberegister ausgegeben (wobei n elektronenemittierende Einrichtungen angesteuert werden)
Der Zeilenspeicher 905 speichert eine Bilddatenzeile für eine bestimmte Zeitdauer zwischen. Das heißt, der Zeilenspeicher 905 speichert die über Id1 bis Idn übertragenen Daten unter der Steuerung des in der Steuerschaltung 903 erzeugten Steuersignals Tmry zwischen. Der Inhalt des Zeilenspeichers 905 wird über die Verbindungen I'd1 bis I'dn an den Modulationssignalgenerator 907 übertragen. Der Modulationssignalgenerator 907 erzeugt Signale entsprechend den empfangenen Bilddaten, so daß jede oberflächenleitende, elektronenemittierende Einrichtung durch das entsprechende Modulationssignal angesteuert wird, wobei die Signale des Modulationssignalgenerators 907 an die oberflächenleitenden, elektronenemittierenden Einrichtungen des Bildschirm 901 über die Anschlüsse Doy1 bis Doyn zugeführt werden.
Die elektronenemittierenden Einrichtungen, die bei der vorliegenden Erfindung verwendet werden, haben grundlegende Kenndaten bezüglich des Emissionsstroms Ic. Bei der Emission von Elektronen gibt es eine fest vorgegebene Schwellenspannung Uth. Dies bedeutet, nur wenn an der elektronenemittierenden Einrichtung eine Spannung anliegt, die größer als die Schwellenspannung Uth ist, kann diese elektronenemittierende Einrichtung Elektronen emittieren. In diesem Fall variiert der Emissionsstrom in Abhängigkeit der anliegenden Spannung. Wenn deshalb die elektronenemittierende Einrichtung von einem Spannungsimpuls angesteuert wird, bei der der Spannungswert unterhalb der Schwellenspannung für die Elektronenemission liegt, werden keine Elektronen emittiert. Liegt der Spannungswert des Spannungsimpulses oberhalb der Schwellenspannung wird ein Elektronenstrahl emittiert. Hierdurch ist es möglich, die Intensität des Elektronenstrahls zu steuern, indem die Spitzenspannung Um des Impulses verändert wird. Darüber hinaus ist es möglich die Gesamtladungsmenge, die vom Elektronenstrahl übertragen wird, durch Veränderung der Impulsbreite Pw zu steuern.
Aus der obigen Diskussion kann entnommen werden, daß zur Steuerung der elektronenemittierenden Einrichtung Spannungsmodulation oder Pulsweitenmodulation angewendet werden kann, wodurch die elektronenemittierende Einrichtung Elektronen in Abhängigkeit des Eingangssignals emittiert. Wird Spannungsmodulation verwendet, ist der Modulationssignalgenerator 907 so ausgelegt, daß ein Impuls mit einer festen Breite und eine Spitzenspannung, die sich in Abhängigkeit der Eingangsdaten ändert, erzeugt wird.
Andererseits wird bei der Pulsweitenmodulation des Modulationssignalgenerators 907 so ausgelegt, daß ein Impuls mit einer festen Spitzenspannung und einer Impulsbreite, die sich in Abhängigkeit der Eingangsdaten ändert, erzeugt wird.
Das Schieberegister 904 und der Zeilenspeicher 905 können entweder analoger oder digitaler Natur sein, solange gewährleistet ist, daß die Serien-Parallel-Umsetzung des Bildsignals und die Speicheroperationen mit einer vorgegebenen Geschwindigkeit genau ausgeführt werden kann.
Wird die digitale Technik für diese Schaltungen verwendet, ist ein Analog-Digital-Umsetzer erforderlich, der mit dem Ausgang des Trennkreises für das Synchronisiersignal 906 verbunden ist, damit das Ausgabesignal DATA von der Schaltung 906 von einer analogen in eine digitale Form umgesetzt wird. Darüber hinaus sollte ein geeigneter Modulationssignalgenerator 907 in Anhängigkeit davon ausgewählt werden, ob der Zeilenspeicher 905 analoge oder digitale Signale ausgibt. Wird bei digitalen Signalen die Spannungsmodulation angewendet, dann ist es erforderlich, daß der Modulationssignalgenerator 907 eine Digital-Analog-Umsetzer enthält und, falls notwendig, einen Verstärker. Wird die Pulsweitenmodulation angewendet, dann ist erforderlich, daß der Modulationssignalgenerator beispielsweise mit einer Kombination aus einem Hochgeschwindigkeitssignalgenerator, einem Zähler zum Zählen der Anzahl der vom Signalgenerator erzeugten Impulse und einem Komparator zum Vergleichen der Ausgabewerte des Zählers mit den Ausgabewerten des Speichers ausgestattet ist. Erforderlich kann noch ein Verstärker sein, damit die Spannung des durch den Komparator ausgegebenen Pulsweitenmodulationssignals ausreicht, um die oberflächenleitende, elektronenemittierende Einrichtung anzusteuern.
Andererseits, wenn Spannungsmodulation bei Verwendung von analogen Signalen angewendet wird, kommt als Modulationssignalgenerator 907 ein Verstärker, beispielsweise ein Operationsverstärker, zur Anwendung. Falls erforderlich, wird noch ein Pegelumsetzer benötigt. Werden mit der Pulsweitenmodulation analoge Signale verarbeitet, kann eine spannungsgesteuerter Oszillator als Modulationssignalgenerator 907 verwendet werden. Falls erforderlich kann noch ein Verstärker hinzugefügt werden, damit die Ausgangsspannung der spannungsgesteuerten Oszillators ausreicht, um die oberflächenleitende, elektronenemittierende Einrichtung anzusteuern.
In der Bildanzeige, deren Aufbau weiter oben beschrieben wurde, werden Elektronen emittiert, indem über die externen Anschlüsse Dox1 bis Doxm und Doy1 bis Doyn an jede elektronenemittierende Einrichtung eine Spannung angelegt wird. Die emittierten Elektronen werden mit Hilfe einer Hochspannung, die über den Hochspannungsanschluß Hv zugeführt wird, in Richtung einer metallischen Rückwand 85 oder einer lichtdurchlässigen Elektrode (hier nicht dargestellt) beschleunigt. Die beschleunigten Elektronen treffen auf eine fluoreszierende Schicht 84 auf, wodurch ein Bild durch Aussenden von Licht durch die fluoreszierende Schicht entsteht.
Bezugnehmend auf spezifische Ausführungsbeispiele, wird die vorliegende Erfindung unten genauer beschrieben.

Ausführungsbeispiel 1 und Vergleichsbeispiel 1

Bezugnehmend auf die Fig. 1A, 1B, 2A bis 2D wird nun das Verfahren zur Herstellung der Elektroden über den Weg des Offsetdrucks beschrieben. Bei diesem Ausführungsbeispiel wurden verschiedene Druckformen mit tiefliegende Druckelementen unterschiedlicher Tiefe verwendet, und die Ergebnisse wurden verglichen.
Die Fig. 2A bis 2D zeigen Querschnittsdarstellungen des Druckverfahrens. Das Bezugszeichen 21 zeigt eine Farbauftragseinheit, 22 zeigt eine Druckform, die aus chrombeschichtetem Messing besteht und 29 zeigt die tiefliegenden Druckelemente der Druckform, worin die Vertiefungen bezüglich eines Musters, das gedruckt werden soll, gebildet werden,. Bezugszeichen 25 bezeichnet eine Druckfarbe, die aus einer harzhaltigen Paste mit Platinzusatz besteht. Diese Druckfarbe wird auf die Druckform aufgebracht. Bezugszeichen 26 bezeichnet ein Rakel aus Schwedenstahl, das über die Oberfläche der Druckform gleitet, damit die Druckfarbe in die tiefliegende Druckelemente gelangen kann. Bezugszeichen 23 bezeichnet ein Substrat, hergestellt aus einer blauen Folie mit den Abmessungen 40 cm · 40 cm. Bezugszeichen 27 bezeichnet ein Drucktuch mit einem Überzug aus Silikongummi, das sich dreht und die sich über die Druckform und das Substrat bewegt, wobei eine Druckkraft auf die Druckform 22 und das Substrat 23 ausgeübt wird.
Nach dem vorliegenden Ausführungsbeispiel wurde die Druckfarbe 25 auf die Druckform aufgetragen (Fig. 2A). Anschließend wurde das Rakel 26 über die Oberfläche der Druckform 22 geführt, wobei eine Druckkraft auf die Oberflächen der Druckform ausgeübt wird, die einer Eindringtiefe von 2 mm äquivalent ist. Der Winkel, den das Rakel 26 gegenüber der Oberfläche der Druckform 22 einnimmt, beträgt 60º. Beim Gleiten des Rakels 26 über die Druckform werden die tiefliegende Druckelemente 29 mit Druckfarbe aufgefüllt (Fig. 2B).
Anschließend rollt das Drucktuch 27 über die Druckform 22 unter Ausübung einer Druckkraft ab (Fig. 2C), wodurch die Druckfarbe 25 an das Drucktuch 27 übertragen wird.
Das Drucktuch 27 wird dann gedreht und bewegt sich anschließend unter Ausübung einer Druckkraft über die Oberfläche des Substrats 23, wodurch die Druckfarbe auf die Oberfläche des glasartigen Substrats 23 übertragen wird. Als Ergebnis erhält man das Elektrodenmuster 33 (Fig. 2D).
Bei diesem Ausführungsbeispiel besteht die Druckfarbe aus einer harzhaltigen Paste mit einem Zusatz von sieben Gewichtsprozenten Platin. Die Viskosität wurde auf 7000 cps (Centopascal) eingestellt. In all den Fällen wurde beim Drucken die Druckkraft auf die Oberfläche der Druckform so eingestellt, daß eine äquivalente Eindringtiefe von 50 um erzielt wurde. Entsprechend war die Druckkraft beim Drucken. Die Viskosität der Druckfarbe wurde mit Hilfe eines kegelförmigen Werkszeugs, das einen Durchmesser von 20 cm und einen Kegelwinkel von 5º hat, errechnet. Sechs unterschiedliche Druckformen 22 wurden verwendet, wobei die tiefliegende Druckelemente 109, die zu den Druckmustern gehören, auf der Oberfläche der Druckform mit Tiefen von 4 um, 7 um, 9 um, 12 um, 15 um und 20 um hergestellt wurden. Das in diesem Ausführungsbeispiel verwendete Elektronenmuster besteht aus einer Vielzahl matrixförmig angeordneter Elektrodenpaaren, wobei eine Elektrode eines Paares eine rechteckige Form der Abmessungen 500 um · 150 um, und die andere Elektrode ebenfalls eine rechteckige Form mit den Abmessungen 350 um · 200 um hat. Die beiden Elektroden haben voneinander einen Abstand von 20 um.
Nachdem die Druckfarbe auf das glasartige Substrat übertragen war, wurde das Substrat bei 80ºC über einen Zeitraum von 10 min getrocknet und anschließend in einem Ofen mit Förderband bei einer Spitzentemperatur von 580ºC über einen Zeitraum von 10 min ausgehärtet. Die Elektroden, die hierdurch eine ausreichend gute Qualität für den praktischen Einsatz haben, waren nicht verwendbar, wenn die Druckform eine Vertiefung von 20 um aufwies. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 zusammengefaßt. Tabelle 1

Anmerkung:

Θ: ausgezeichnet; O: gut; Δ: brauchbar; X: unbrauchbar;
Druckkraft beim Drucken äquivalent einer Eindringtiefe von 50 um;
Druckkraft auf die Oberfläche der Druckform äquivalent einer Eindringtiefe von 50 um.

Ausführungsbeispiel 2

Die Elektroden werden in ähnlicher Weise wie in Ausführungsbeispiel 1 hergestellt, jedoch mit dem Unterschied, daß die Viskosität der Druckfarbe 1000 cps oder 5000 cps statt der in Ausführungsbeispiel 1 verwendeten Viskosität von 7000 cps eingestellt wurde. Außerdem wurden die tiefliegende Druckelemente zu 4 um, 7 um, 9 um und 12 um gewählt. Die Viskositäten beider Druckfarben (1000 cps bzw. 5000 cps) führten zu ähnlichen Ergebnissen wie in Tabelle 2 dargestellt. Tabelle 2

Anmerkung:

Ausführungsbeispiel 3

Die Elektroden werden in ähnlicher Weise wie in Ausführungsbeispiel 1 hergestellt, jedoch mit dem Unterschied, daß die in Ausführungsbeispiel 1 verwendete Druckfarbe (7000 cps und Platingewichtsanteil von 7%) nun einen Platingewichtsanteil von 5%, 10% und 15% hat. Außerdem wurden die tiefliegende Druckelemente zu 7 um bzw. 9 um gewählt, die die Ergebnisse, die in Tabelle 3 zusammengefaßt sind, nicht sonderlich beeinflussen. Tabelle 3

Anmerkung:

Θ: ausgezeichnet; O: gut;
Tiefe der tiefliegende Druckelemente: 7 um bzw. 9 um,
Druckkraft beim Drucken äquivalent einer Eindringtiefe von 50 um;
Druckkraft auf die Oberfläche der Druckform äquivalent einer Eindringtiefe von 50 um.
Obwohl die Druckfarbe bei den Ausführungsbeispielen als Beispiel mit einem Platinanteil beschrieben wurden, kann auch ein Gold-, ein Palladium- oder ein Silberanteil als Zusatz zur Druckfarbe verwendet werden. Des weiteren kann die Druckkraft auf die Oberfläche der Druckform äquivalent einer Eindringtiefe von 50 um bis 200 um gewählt werden.

Ausführungsbeispiel 4

Wenn ein dünner, elektrisch leitender Film auf das oben beschriebene Substrat ausgebracht wird und die Verdrahtungen ausgeführt werden, wird ein elektronenerzeugendes Substrat gewonnen. Wenn eine Frontplatte, die mit einem fluoreszierenden Material überzogen ist, so angeordnet ist, daß sie sich gegenüber dem elektronenerzeugenden Substrat befindet, wobei durch Bilden einer Vakuumkammer ein Bilderzeugungsgerät entsteht. Das Verfahren der Herstellung eines elektronenerzeugenden Substrats und eines Bilderzeugungsgeräts wird nun unter Bezugnahme auf die Fig. 5A bis 5E beschrieben.
Ein elektronenerzeugendes Substrat mit den Abmessungen 40 cm², auf dem sich eine große Anzahl von Elektrodenpaaren 32 und 33 befinden, wurde gemäß den Ausführungsbeispielen 1, 2 oder 3 aufbereitet. Eine erste Verdrahtung (Verdrahtung der unteren Ebene) wurde auf dem Substrat vorgenommen. Das heißt, ein Verdrahtungsmuster 51 auf der unteren Ebene, das eine Dicke von 12 um und eine Breite von 100 um hat, wurde mit Hilfe eines Siebdruckverfahrens vorgenommen, wobei die elektrisch leitende Paste aus Silber besteht, die anschließend ausgehärtet wird (Fig. 5B).
Anschließend wurde ein isolierendes Filmmuster als Zwischenschicht, die sich senkrecht zu dem Verbindungsmuster auf unterer Ebenen erstreckt, mit Hilfe eines Siebdruckverfahrens vorgenommen, wobei eine Dickfilmpaste, die vorwiegend Bleioxid in Verbindung mit einem Glasbinder und einem Harz enthält, verwendet wird. Das Siebdrucken mit einer Dickfilmpaste und anschließendem Aushärten werden zweimal durchgeführt, wobei ein isolierender Film 52 als Zwischenmuster in Streifenform gebildet wurde (Fig. 5C).
Anschließend wurde ein zweites Verdrahtungsmuster (Verdrahtung auf der oberer Ebene) 53, das eine Dicke von 12 um und eine Breite von 100 um hat, gebildet, wobei ein Siebdruckverfahren verwendet wurde, das dem Verbindungsmuster auf der unteren Ebenen ähnlich ist. Es werden also matrixförmige Verdrahtungen von streifenförmigen Verdrahtungen auf der unteren Ebene und streifenförmigen Verdrahtungen auf der oberen Ebene, die sich rechtwinklig kreuzen, vorgenommen (Fig. 5D).
Anschließend werden die Elektronenemissions-Zonen folgendermaßen gebildet: Als erstes wurde natürliches Palladium (CCP 4230, erhältlich von Okuno Seiyaku Kogyo Co., Ltd.) auf das Substrat aufgebracht, auf dem schon die Elektroden 32 und 33 und die Verdrahtungen 51 und 53 gebildet wurden. Anschließend wird das Palladium einer Temperatur von 300ºC über einen Zeitraum von 10 min ausgesetzt, wobei sich ein elektrisch leitender Film 54 mit einer Dicke von 10 nm, der vorwiegend aus Palladium-Teilchen besteht, bildet. Dieser Film 54 enthält eine Vielzahl von Teilchen. Diese Teilchen können in dem Film fein verteilt sein, oder sie können so angeordnet sein, daß sie sehr nahe beieinander liegen oder sich überlappen (oder sie können in der Gestalt von Inseln verteilt sein). Der Durchmesser der Teilchen entspricht dem Durchmesser der Teilchen, die in den oben beschriebenen Zuständen vorkamen. Der Palladiumfilm wurde mit Hilfe der Photolithographie aufgebracht. Auf diese Weise wurde ein elektronenerzeugendes Substrat erhalten (Fig. 5E).
Ein Bilderzeugungsgerät wurde unter Verwendung des oben beschriebenen elektronenerzeugenden Substrats hergestellt (s. Fig. 7)
Das elektronenerzeugende Substrat 71 mit den matrixförmigen Verdrahtungen 72 und 73 wurden an der Rückplatte 81 befestigt. Ein glasartiges Substrat 83 (auf der Frontplatte 86) hat schwarze Streifen (nicht dargestellt) und einen fluoreszierenden Werkstoff 84. Eine metallische Rückwand 85 wurde so angeordnet, daß sie dem elektronenerzeugenden Substrat 71 mit Hilfe eines Halterahmens 82 gegenübersteht. Diese Teile wurden mit einer Fritte (Glasmasse) versiegelt.
Die Vakuumkammer wurde entsprechend den oben beschriebenen Verfahrensschritten gebildet, und das Gas wurde mit einer Vakuumpumpe (nicht dargestellt) so lange evakuiert, bis das Vakuum ausreichend niedrig war. Anschließend wurde den Elektroden jeder oberflächenleitenden, elektronenemittierenden Einrichtung über die externen Anschlüsse Dx1 bis Dxn und Dy1 bis Dym eine Spannung zugeführt, wodurch der elektrisch leitende Film einem Formierungsverfahren unterworfen wurde, und elektronenemittierende Bereiche 74 gebildet wurden. Das Formierungsverfahren wurde mit einer Spannung durchgeführt, das eine Schwingungsform mit einer Impulsbreite T1 und einem Impulsintervall T2 hat (s. Fig. 6).
In dem Ausführungsbeispiel wurden T1 auf 1 ms und T2 auf 10 ms gesetzt. Die Spitzenspannung der Dreiecksschwingung wurde auf 14 V eingestellt. Nach Beendigung des Formierungsverfahrens bei einem Druck von etwa 1,33 · 10&supmin;³ Pa wurde die Vakuumpumpe (nicht dargestellt) mit einem Gasbrenner eingeschmolzen, um das Gefäß 88 zu versiegeln.
Weiterhin wurde das Gettern ausgeführt, um nach dem Versiegeln einen ausreichend niedrigen Druck in dem Gefäß 88 zu haben.
Die sich daraus ergebende Anzeige wurde mit der in Fig. 8 gezeigten Steuerschaltung verbunden, aufgrund dessen ein Fernsehbild auf dem Bildschirm angezeigt wurde. Es wurde also eine vollständige Bildanzeigeeinheit erhalten. Eine Vielzahl der Elektroden, die bei der Herstellung der Bildschirmanzeige gebildet wurden, hatten in den Abmessungen nur geringfügige Abweichungen. Deshalb wiesen die dargestellten Bilder eine hohe Qualität auf. Über eine langen Zeitraum konnten keine Güteverluste festgestellt werden.

Claims

1. Verfahren zum Herstellen eines Substrats zur Verwendung bei der Herstellung einer Elektronenquelle (31 bis 35, 51 bis 53), wobei das hergestellte Substrat (31 bis 34; 31 bis 34, 51 bis 53) ein Stützsubstrat (31) und für jeden einer Vielzahl von elektronenemittierenden Einrichtungen (74) ein Paar beabstandeter Elektroden (32, 33) enthält, die auf der Oberfläche des Stützsubstrats (23; 31) vorgesehen sind, und einen leitfähigen Dünnfilm (34; 54), der sich zwischen jeweils überlappenden Abschnitten des Paares beabstandeter Elektroden erstreckt, wobei der leitfähige Dünnfilm (34; 54) so eingerichtet ist, daß er sukzessiv gebildet werden kann, um zwischen den Elektroden eine elektronenemittierende Zone (35) aufzuweisen, mit den Verfahrensschritten:

Bereitstellen des Stützsubstrats (23; 31);

Erzeugen der Elektroden (32, 33) durch Herstellen eines gemusterten Dünnfilms aus Elektrodenmaterial auf der Oberfläche vom Stützsubstrat; und

Herstellen des leitfähigen sich dazwischen erstreckenden Dünnfilms (34; 54) und Überlappen der jeweiligen Abschnitte der Elektroden;

dadurch gekennzeichnet, daß

der Verfahrensschritt des Herstellens der Elektroden (32, 33) erfolgt durch:

Bereitstellen einer Tiefdruckplatte (22), bei der vertiefte Abschnitte (29) dem Muster der Elektroden (32, 33) entsprechen, die durch Offsetdrucken herzustellen sind, wobei die vertieften Abschnitte eine Tiefe von 4 bis 15 um haben;

Auftragen einer Tinte (25), um Elektrodenmaterial nach Trocknen und Tempern zu bilden, um die Tiefdruckplatte (22) in den vertieften Abschnitten auszufüllen;

Drücken einer Maske (27) gegen die Druckplatte, um die Tinte aus den vertieften Abschnitten zur Oberfläche der Maske zu übertragen;

Drücken der Maske gegen die Oberfläche des Stützsubstrats, um die Tinte aus der Maske auf die Oberfläche des Stützsubstrats zu übertragen; und

Trocknen und Tempern der auf die Oberfläche der stützsubstratsübertragenden Tinte, um die Elektroden herzustellen.

2. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem der gemusterte Dünnfilm aus Elektrodenmaterial eine Stärke von 200 nm oder weniger hat.

3. Verfahren nach Anspruch 2, bei dem der Verfahrensschritt des Drückens der Maske (27) gegen die Oberfläche des Stützsubstrats (23) bei einer Druckanpressung von 50 bis 200 um erfolgt.

4. Verfahren nach den Ansprüchen 2 oder 3, wobei die Oberfläche der Maske (27) aus Silikongummi besteht.

5. Verfahren nach Anspruch 4, bei dem die vertieften Abschnitte eine Tief von 4 bis 9 um haben.

6. Verfahren nach Anspruch 5, bei dem die vertieften Abschnitte eine Tiefe von 7 bis 9 um haben.

7. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei die Tinte (25) eine Viskosität von 1 bis 10 Pas (1000 bis 10000 cps) hat.

8. Verfahren nach Anspruch 7, bei dem die Tinte eine Viskosität von 1 bis 5 Pas (1000 bis 5000 cps) hat.

9. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, bei dem die Tinte (25) eine organometallische Komponente enthält.

10. Verfahren nach Anspruch 9, bei dem der gewichtsprozentuale Inhalt der Metallelementkomponente der organometallischen Zusammensetzung Tinte 7 bis 15 beträgt.

11. Verfahren nach einem der Ansprüche 9 oder 10, bei dem die Metallelementkomponente entweder Pt, Au, Pd oder Ag ist.

12. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, bei dem der Verfahrensschritt des Erzeugens vom leitfähigen Dünnfilm (34; 54) einen Dünnfilm mit Partikeln bereitstellt.

13. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, bei dem die Verfahrensschritte des Erzeugens der Elektroden und des leitfähigen Dünnfilms zum Erzeugen von Elektroden (32, 33) und leitfähigem Dünnfilm (34; 54) zur Herstellung einer oberflächenleitenden elektronenemittierenden Einrichtung (31 bis 35) erfolgen.

14. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, bei dem das hergestellte Substrat (31 bis 34, 51 bis 53) ebenfalls eine Verdrahtung (51, 53) enthält, die mit den Elektroden (32, 33) verbunden ist, wobei das Verfahren einen Verfahrensschritt des Erzeugens der Verdrahtung (51, 53) durch Siebdruck umfaßt.

15. Verfahren nach Anspruch 14, bei dem der Siebdruck nach dem Verfahrensschritt des Erzeugens der Elektrode erfolgt.

16. Verfahren nach Anspruch 15, bei dem der Verfahrensschritt des Erzeugens vom leitfähigen Dünnfilm nach dem Verfahrensschritt des Siebdruckens erfolgt.

17. Verfahren nach einem der Ansprüche 14 bis 16, bei dem das hergestellte Substrat über eine Vielzahl von Paaren (32, 33) von Elektroden verfügt, die zu einer Matrix angeordnet sind, jeweilige leitfähige Dünnfilme (34) für jedes Paar von Elektroden (32, 33) und über eine Verdrahtung (51, 53), die mit den Paaren der Elektroden verbunden ist; wobei das Siebdrucken in zwei Stufen erfolgt, nämlich in einer ersten Stufe, bei der Drucken einer Zeilenverdrahtung (51) zum Verbinden eines (32) eines jeden Paares von Elektroden (32, 33) zeilenweise erfolgt, und einer zweiten Stufe, bei der Drucken einer Spaltenverdrahtung (53) zum Verbinden der anderen (33) eines jeden Paares von Elektroden (32, 33) spaltenweise erfolgt, wobei die zweite Stufe des Druckens nach Auftragen einer Isolation (52) zum Isolieren der Zeilenverdrahtung (51) Drucken, gedruckt in der ersten Stufe, von der Spaltenverdrahtung (53), gedruckt in der zweiten Stufe, erfolgt.

18. Verfahren zur Herstellung einer Elektronenquelle, mit den Verfahrensschritten:

Herstellen eines Substrats (31 bis 34, 51 bis 53) durch das Verfahren nach einem der Ansprüche 14 bis 17; und

Durchführen einer Formierungsbehandlung, um eine elektronenemittierende Zone (35) in jedem einzelnen leitfähigen Dünnfilm (34) in der Zone zwischen beabstandeten Elektroden (32, 33) zu bilden.

19. Verfahren zu Herstellung eines Bilderzeugungsgerätes (71, 88), mit den Verfahrensschritten:

Herstellen eines Substrats (71) durch ein Verfahren nach einem der Ansprüche 14 bis 17;

Bereitstellen eines fluoreszierenden Plattengliedes (86; 83 bis 85);

Zusammenbauen des hergestellten Substrats (71) mit dem fluoreszierenden Plattenglied (86) und Bilden einer Hülle (88), wobei das fluoreszierende Plattenglied einem jeweiligen leitfähigen Dünnfilm (34; 54) gegenüber angeordnet ist; und

Durchführen einer Formierungsbehandlung zur Bildung einer elektronenemittierenden Zone (35; 74) in jedem jeweiligen leitfähigen Dünnfilm (34; 54) in der Zone zwischen den beabstandeten Elektroden (32, 33).

20. Verfahren nach Anspruch 19, das den Verfahrensschritt des Beinhaltens von Ansteuerschaltungskomponenten (902 bis 907) zur Ansteuerung des Bilderzeugungsgerätes (71, 88) umfaßt.