JPS58191188A - 薄膜印刷方法 - Google Patents
薄膜印刷方法Info
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- JPS58191188A JPS58191188A JP7417282A JP7417282A JPS58191188A JP S58191188 A JPS58191188 A JP S58191188A JP 7417282 A JP7417282 A JP 7417282A JP 7417282 A JP7417282 A JP 7417282A JP S58191188 A JPS58191188 A JP S58191188A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- roller
- ink
- resin
- thin film
- transferred
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M1/00—Inking and printing with a printer's forme
- B41M1/10—Intaglio printing ; Gravure printing
Landscapes
- Printing Methods (AREA)
- Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は薄ＭｉＪＩ刷方法に関するものであり、更に詳
しくは電子部品に用いられる高分子薄膜を均一で正確な
膜厚をもって容易に所望のパターン形状に印刷形成する
ことを目的とするものである。
しくは電子部品に用いられる高分子薄膜を均一で正確な
膜厚をもって容易に所望のパターン形状に印刷形成する
ことを目的とするものである。
近年、半導体素子の絶縁被膜や液晶表示素子の配向膜な
ど種々の電子部品に高分子４膜が必要とされ、用いられ
ている。一般にこれらの薄ａＣは厚さ１００Ａ〜３００
０ Ａのものを形成して使用されるが、その膜厚の均一
性、パターンの形状寸法精度は緻しく要求されている。
ど種々の電子部品に高分子４膜が必要とされ、用いられ
ている。一般にこれらの薄ａＣは厚さ１００Ａ〜３００
０ Ａのものを形成して使用されるが、その膜厚の均一
性、パターンの形状寸法精度は緻しく要求されている。
従来、前記４１７４を形成する方法としては印刷による
方法が考えられている（例えば特開昭５５＝３７３１４
号公報参照）。この方法は平版オフセット印刷に用いる
オフセット校正機を用いて凸版を設けたブランケット嗣
によってガラス板等の表面が平滑な被印刷体の上に高分
子浴衣を印刷インキとして用い、高分子薄膜を印刷形成
する方法である。この方法によれば次のような欠点があ
る。即ち、この目的に用いられる高分子浴液は積度が２
０００ｃｐ〜１０ｃｐの非常に低粘度な溶液であるから
オフセット校正機を用いて印刷するに際しては十分均一
な濃厚が得られにくい。父、求める厚みの薄膜を安定し
て印刷することが困遁であった。
方法が考えられている（例えば特開昭５５＝３７３１４
号公報参照）。この方法は平版オフセット印刷に用いる
オフセット校正機を用いて凸版を設けたブランケット嗣
によってガラス板等の表面が平滑な被印刷体の上に高分
子浴衣を印刷インキとして用い、高分子薄膜を印刷形成
する方法である。この方法によれば次のような欠点があ
る。即ち、この目的に用いられる高分子浴液は積度が２
０００ｃｐ〜１０ｃｐの非常に低粘度な溶液であるから
オフセット校正機を用いて印刷するに際しては十分均一
な濃厚が得られにくい。父、求める厚みの薄膜を安定し
て印刷することが困遁であった。
何故なら、オフセット校正機にＢいてはインキを練り、
展色するのにロール練り方法が用いられるが、一般のオ
フセット印刷用インキに比べて非常に低ｆＬ！ｉ度で粘
着性の少ない高分子溶液を用いるため均一に練られず又
ローＶ間のギャップよりインキが流れ出すため展色を均
一（こすることができない。更にロールへインキを定電
的に一定して供給することが内達であり、よって定量的
に安定した展色を行うことができないからである。
展色するのにロール練り方法が用いられるが、一般のオ
フセット印刷用インキに比べて非常に低ｆＬ！ｉ度で粘
着性の少ない高分子溶液を用いるため均一に練られず又
ローＶ間のギャップよりインキが流れ出すため展色を均
一（こすることができない。更にロールへインキを定電
的に一定して供給することが内達であり、よって定量的
に安定した展色を行うことができないからである。
本発明者はかかる従来法におけるインキの展色部の問題
に起因する膜厚の均−化及び定量化、安だ化の問題点を
解消せんとし、種々研究考察を重ねた結果、本発明を児
成するに至ったものである。
に起因する膜厚の均−化及び定量化、安だ化の問題点を
解消せんとし、種々研究考察を重ねた結果、本発明を児
成するに至ったものである。
即ち本発明は深さが３μｍ〜５０μｍ、開口部の平均ａ
カ１ｏμｍ〜５００μｍ、開口部圓積が５％〜８０％、
ｌｄ当りの小孔１の合計凹部容積がＱ、Ｑ５霧３〜５Ｉ
ｔ１５、小孔１間の平均最短距離が１０μｍ〜２０００
μｍであるような小孔１＃：を所望のパターン状に設け
た凹版２−こ、樹脂又は樹脂前駆体に溶剤を混合してな
る粘度が２０００ｃｐ〜１０ｃｐのインキ３を充填した
後、ローラー会と前記凹版２表面とを圧接せしめ、前記
インキ３を前記ローラー４表面に転移せしめ、その後前
記ローラー４と予めパターンを設けたドライオフセット
版５表面とを圧接せしめ、前記インキ３を前記ドライオ
フセット版５のパターン部分に転移せしめ、その後プラ
ンケア）ローラー６と該ドライオフセット版５表面とを
圧接せしめ、前記インキ３を該ブランケットローラー６
表面に転移せしめ、その後ブランケットローフ６と被印
刷体７表面とを圧接せしめ、仮印刷体７表面に薄膜８を
形成することを特徴とする薄膜印刷方法である。
カ１ｏμｍ〜５００μｍ、開口部圓積が５％〜８０％、
ｌｄ当りの小孔１の合計凹部容積がＱ、Ｑ５霧３〜５Ｉ
ｔ１５、小孔１間の平均最短距離が１０μｍ〜２０００
μｍであるような小孔１＃：を所望のパターン状に設け
た凹版２−こ、樹脂又は樹脂前駆体に溶剤を混合してな
る粘度が２０００ｃｐ〜１０ｃｐのインキ３を充填した
後、ローラー会と前記凹版２表面とを圧接せしめ、前記
インキ３を前記ローラー４表面に転移せしめ、その後前
記ローラー４と予めパターンを設けたドライオフセット
版５表面とを圧接せしめ、前記インキ３を前記ドライオ
フセット版５のパターン部分に転移せしめ、その後プラ
ンケア）ローラー６と該ドライオフセット版５表面とを
圧接せしめ、前記インキ３を該ブランケットローラー６
表面に転移せしめ、その後ブランケットローフ６と被印
刷体７表面とを圧接せしめ、仮印刷体７表面に薄膜８を
形成することを特徴とする薄膜印刷方法である。
以下本発明を図面ｔこ基づいて更に詳しく説明する。
まず４膜を形成するための低粘度の樹脂又は樹脂前駆体
と浴剤とからなるインキを凹版２に充填する。使用する
インキは低粘度のものであり、その粘性は２０００ｃｐ
〜１０ｃｐのものを用いる。使用できる樹脂又は樹脂前
駆体としては、ポリアミック酸、フェノ−Ｍ１ノボラフ
ク、ポリエステル、エポキシ、つＶタン、シリコン、メ
ラミンの樹脂又は樹脂前駆体、ポリ塩化ビニル、ポリ酢
酸ビニｖ。
と浴剤とからなるインキを凹版２に充填する。使用する
インキは低粘度のものであり、その粘性は２０００ｃｐ
〜１０ｃｐのものを用いる。使用できる樹脂又は樹脂前
駆体としては、ポリアミック酸、フェノ−Ｍ１ノボラフ
ク、ポリエステル、エポキシ、つＶタン、シリコン、メ
ラミンの樹脂又は樹脂前駆体、ポリ塩化ビニル、ポリ酢
酸ビニｖ。
ポリメチルメタクレート、ポリスチレン、ポリビニルア
ルコ−Ｖ、ポリビニルアルコー〃、ポリイミド、ポリス
ルフォン等の熱可塑性樹脂や天然ゴム、スチレン−ブタ
ジェンゴム、ホリイソグチレン、ニトソルゴム等がある
。
ルコ−Ｖ、ポリビニルアルコー〃、ポリイミド、ポリス
ルフォン等の熱可塑性樹脂や天然ゴム、スチレン−ブタ
ジェンゴム、ホリイソグチレン、ニトソルゴム等がある
。
使用する回置２はその表面に多数の小孔１を折重のパタ
ーン形状に有するものである（第１−８［）。この小孔
ｌ＃は印刷業界において七Ｖと呼ばれるもので、その−
１−の形状は逆ピラミッド型等、配列の線類は格子型、
斜線型等があるので適宜選択する。
ーン形状に有するものである（第１−８［）。この小孔
ｌ＃は印刷業界において七Ｖと呼ばれるもので、その−
１−の形状は逆ピラミッド型等、配列の線類は格子型、
斜線型等があるので適宜選択する。
小孔１の深さは３μｌ１ｌＩ〜５０μｍ、開口部の平均
佳ＡＣＩＯμｍ〜５００μｍ％ 開口部面積が５％〜８
０％、１−当りの合ｉｔ凹部容積が０．０５ｍ３〜５ｍ
３、小孔１間の平均最短距離が１０μｍ〜２０００μｍ
である。このような特定は均一な厚さの薄膜を形成する
ためになされるものである。即ち前記各範囲より大きい
値の小孔であれば凹版に充填されるインキ量が多過ぎる
ため、ローラーが仮印刷体表面に圧接する際にローラー
の周囲にインキがはみ出し、その結果、被印刷体表面に
形成される薄膜の厚さが一定にならない。又、小孔が前
記範囲より小さいものであれば、充填され、転移される
インキ量が少な過ぎるため、被印刷体表面には各小孔よ
り転移され−たインキが各々独立して転移さｎる傾向が
あり、連続した均一な厚さの薄膜を形成できない。従っ
て前記各範囲の小孔が形成された凹版を用いると均一な
厚さのＡｄを形成できる。
佳ＡＣＩＯμｍ〜５００μｍ％ 開口部面積が５％〜８
０％、１−当りの合ｉｔ凹部容積が０．０５ｍ３〜５ｍ
３、小孔１間の平均最短距離が１０μｍ〜２０００μｍ
である。このような特定は均一な厚さの薄膜を形成する
ためになされるものである。即ち前記各範囲より大きい
値の小孔であれば凹版に充填されるインキ量が多過ぎる
ため、ローラーが仮印刷体表面に圧接する際にローラー
の周囲にインキがはみ出し、その結果、被印刷体表面に
形成される薄膜の厚さが一定にならない。又、小孔が前
記範囲より小さいものであれば、充填され、転移される
インキ量が少な過ぎるため、被印刷体表面には各小孔よ
り転移され−たインキが各々独立して転移さｎる傾向が
あり、連続した均一な厚さの薄膜を形成できない。従っ
て前記各範囲の小孔が形成された凹版を用いると均一な
厚さのＡｄを形成できる。
小孔１の深さ、関口部の平均径、開口部ＩＩ［Ｉ槓、小
孔１の合ｉｔ四部容積、小孔１闇の平均最短距離な遇宜
設けた凹版２を選択使用することによって、形成する薄
膜の厚さを調即することができる。尚、インキを凹版２
に充填するに際しては、ドクター等を用いるとより正確
な分電のインキを供することができる。
孔１の合ｉｔ四部容積、小孔１闇の平均最短距離な遇宜
設けた凹版２を選択使用することによって、形成する薄
膜の厚さを調即することができる。尚、インキを凹版２
に充填するに際しては、ドクター等を用いるとより正確
な分電のインキを供することができる。
尚、凹版２ｔこは小孔１群の代りに適宜な長さのｍ＃を
設けたものを用いてもよい。この場合、溝の深さは３μ
ｍ〜５０μｍ％開口部の平均中が１．０μｍ〜５００μ
ｍ、開口部面積が５％〜８０％、１ｄ当りの合計凹部容
積がＱ、９５ｍ”〜５１ｍ１ｌ１３、溝間の平均距離が
１．０μｍ〜１０ＵＯμｍである。
設けたものを用いてもよい。この場合、溝の深さは３μ
ｍ〜５０μｍ％開口部の平均中が１．０μｍ〜５００μ
ｍ、開口部面積が５％〜８０％、１ｄ当りの合計凹部容
積がＱ、９５ｍ”〜５１ｍ１ｌ１３、溝間の平均距離が
１．０μｍ〜１０ＵＯμｍである。
次をこローラー４を目■記凹版２表面に圧接せしめる（
第２図参照）。ローラー４の側面は平滑な表面を呈する
ゴム又は樹脂が設けられている。このローラー４は例え
ばブチルゴム等のゴム又はナイロン系樹脂よりなる。表
面粗さはＪ工Ｓ規格Ｒｚ ５０μｍ以上が好ましい。
第２図参照）。ローラー４の側面は平滑な表面を呈する
ゴム又は樹脂が設けられている。このローラー４は例え
ばブチルゴム等のゴム又はナイロン系樹脂よりなる。表
面粗さはＪ工Ｓ規格Ｒｚ ５０μｍ以上が好ましい。
この圧接によってローラー４表面にインキ３が１模する
。その後ローラー慟を予めパターンを設けたドライオフ
セット版５に圧接せしめる。この圧Ｉ２＃こまって前記
インキ３はドライオフセット版５のパターン部分のみＩ
Ｃ転移する（第３図参照）。
。その後ローラー慟を予めパターンを設けたドライオフ
セット版５に圧接せしめる。この圧Ｉ２＃こまって前記
インキ３はドライオフセット版５のパターン部分のみＩ
Ｃ転移する（第３図参照）。
次にブランケットローラー６と前記ドライオフセット版
５表面とを圧接せしめ、パターン部分のインキ３をブラ
ンケットローラー６表面に転移せしめる（第４図参照）
。その後該ブランケットローラー６をガラス板等の破印
−」体７表面に薄膜８が形成される（第５図参照）。
５表面とを圧接せしめ、パターン部分のインキ３をブラ
ンケットローラー６表面に転移せしめる（第４図参照）
。その後該ブランケットローラー６をガラス板等の破印
−」体７表面に薄膜８が形成される（第５図参照）。
本発明は以上のような４映印刷方法であるから、凹版へ
のインキの充填が、低粘度のインキであっても、正！ｔ
こ安定して行うことができるため、均一な厚さの薄膜を
容易に形成でき、正確な膜厚を安定して鴎ることができ
る。また所望のパターン形状の寸法積度も正確に得るこ
とができるものである。従って櫨々の電子部品の菌分子
薄膜を形成するのに広く利用されることが期待される。
のインキの充填が、低粘度のインキであっても、正！ｔ
こ安定して行うことができるため、均一な厚さの薄膜を
容易に形成でき、正確な膜厚を安定して鴎ることができ
る。また所望のパターン形状の寸法積度も正確に得るこ
とができるものである。従って櫨々の電子部品の菌分子
薄膜を形成するのに広く利用されることが期待される。
以下本発明の詳細な説明する。
〈実施例〉
米し■製セミコファイン５Ｐ−７１０（商品名）をＮ−
メチル−２−ピロリドンで希釈し、樹脂分７％、粘度約
５０ ｃｐｓとしたものをインキとして用い、深度２０
μ、開ロ部平均ｆｆｆｌ１００ｕ、開ロ部面積が約３０
％、１ｃｄ当り四部面積約０．３５−なる小孔部を全面
に有するグラビア版を凹版として用いて、その少孔部ｔ
こインキを元嘱し、表面を鋼製のドクター刃で余分のイ
ンキをかき取った後、表面平滑なるブチＶゴム製のロー
ラーを圧接し、インキを定量転移し、このローラーを東
し■製ドライオフセット版を製版パターン化したものに
圧接し、すでにパターン化した上にのみ定量転移し、さ
らにその後前記ブチルゴムローラーとは別の表面平滑な
るブチＶゴム製ローラーを圧接し、ドライオフセット威
より定量転移し、このローラーを被印刷物である液晶表
示用のガラス板表［ｆｉに圧接しドフィオフセ、）パタ
ーン通りの超分子塗膜を印刷し、加熱乾燥の後イミド化
の為熱処理を行った。出来上がったポリイミド膜（へ）
膜厚は９００〜１０００大の範囲で十分に均一であり、
液晶パネルとして組立てた後、特性テスト及び強制却命
テストを行った結果、液晶配向膜としては極めて一秀な
ものであった。
メチル−２−ピロリドンで希釈し、樹脂分７％、粘度約
５０ ｃｐｓとしたものをインキとして用い、深度２０
μ、開ロ部平均ｆｆｆｌ１００ｕ、開ロ部面積が約３０
％、１ｃｄ当り四部面積約０．３５−なる小孔部を全面
に有するグラビア版を凹版として用いて、その少孔部ｔ
こインキを元嘱し、表面を鋼製のドクター刃で余分のイ
ンキをかき取った後、表面平滑なるブチＶゴム製のロー
ラーを圧接し、インキを定量転移し、このローラーを東
し■製ドライオフセット版を製版パターン化したものに
圧接し、すでにパターン化した上にのみ定量転移し、さ
らにその後前記ブチルゴムローラーとは別の表面平滑な
るブチＶゴム製ローラーを圧接し、ドライオフセット威
より定量転移し、このローラーを被印刷物である液晶表
示用のガラス板表［ｆｉに圧接しドフィオフセ、）パタ
ーン通りの超分子塗膜を印刷し、加熱乾燥の後イミド化
の為熱処理を行った。出来上がったポリイミド膜（へ）
膜厚は９００〜１０００大の範囲で十分に均一であり、
液晶パネルとして組立てた後、特性テスト及び強制却命
テストを行った結果、液晶配向膜としては極めて一秀な
ものであった。
第１図、第２図、第３図、第４図及び第５図は本発明に
かかる薄膜印刷方法１こおける各工程を示す模式図を各
々示す。 図中、１・・・・小 孔 ２・・・・凹 版３・・・
ｅインキ ４・・・−ローラー５・・・・ド
ライオフセット版 ６・−・・ブランケットローラー ？・・・・仮印刷体 ８・・・・薄膜 階許出願人 日本写真印刷株式会社 手 続 婦 正 −（自発） 昭和５７年７月３１日 特許庁長官 殿 り事件の表示 昭和５７年特許願第７４１７２号 区発明の名称 薄−印刷方法 ａｍｌｆをする者 事件との関係 時計出願人 ４、ｍＩ正の片縁 ｌ）別紙のとおり ２）明細ｉｉＦ第８第８頁５打５ るのを［品分子薄膜や金属酸化物４祠」−こ禰正します
。 明細書第５頁第３行目〜第４行目に「樹脂又は樹脂前駆
体に溶剤を混合してなる粘度が２０００ｃｐ〜１０ｃｐ
のインキ３」とあるのを［粘度が２０００ＣＩ＋−ＩＬ
ＩＱｐであるような、樹脂又は樹脂前駆体と溶剤とから
なるインキ或いは加熱により金属酸化物を形成するよう
な金属化合物と浴剤とからなるインキ］に補正します。 明細書第６頁第２行目〜第１２行目に［使用するインキ
は・・・・等がある。」とあるのを以ｒのように補正し
ます。 ［便用するインキは比較的低粘度のものであり、その粘
度は２０００ｃｐ−１０ｃｐのものを用い、特ｔこ好ま
しくは１５０ｃｐ〜５０ｃｐである。２０００ｃｐ以上
及び１Ｏｃｐ以下のものを使用することは作業性並びに
製品の仕上り具合からして大変不利である。 使用できる樹脂又は樹ｌ１１１前駆体とは熱可塑性樹脂
又は熱可塑性樹脂自１駆体を指す。まず次のような熱硬
化性及び光硬化性樹脂の硬化樹脂前駆体について示す。 即ち、フェノ−Ｖ樹脂、メラミン樹脂、尿素−膓、イソ
シアヌレート樹脂、不飽和ポリエステル樹脂，アＶキト
樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シリコン樹脂，架
橋ポリエチレン及び未加硫ゴム等である。更に熱ＩＩＩ
Ｔ型性樹脂としてはポリエステル、ポリアミド、ポリイ
ミド、ポリ嘔化ビニｖ１ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸
ビニル、ポリスチレン、ポリビニルピリドン、ポリビニ
ルアＶコーν、ポリビニルブチラール、ポリカーボネー
ト、ポリスルホン、ポリエーテＩレエステＭ１ボリエー
テＭスジホン、ポリアクリレート、ポリメチルメタアク
リレート等がある。 以上のような樹脂及び樹Ｊｉ＋ｉＩ前駆体或いはそれら
の混合物が本発明をこおいて使用できるものであるが、
インキの粘度が特定されていることから、溶剤に溶液化
しつる目的からして、余り扁分子量のものは不適当であ
り、インキ化しうる程度のオリゴマー又はポリマーを採
用しなければならない。 また、加熱により金属酸化物を形成するような金属化合
物としては、カドミウム、インジウム、スズもしくはプ
ンチモン等の単独又は二種以上の鉱酸塩、ハロゲン１し
物、酸化物等の慝機化合物或いは有機酸塩、アＶコキシ
化合物、有Ｉ！キレート化合物又はこれらの混合物を使
用する。−１明細書第９頁第１５行目Ｐ−［高分子Ｍ膜
ｊとあるの１６「薄膜」に補正します。 以上 特許請求の範囲 ｌ深さが３μｍ〜５０μｍ、開口部の平均径が１μｍ〜
６００μｍ１開ロ部面積が１％〜８０％、ｌｄ当りの小
孔の合計凹部容積がα０５−〜５−１小孔間の平均最短
距離が１０μｍ〜２０００μｍであるような小孔群を全
面に又は必要部分に設けた凹版に、粘度が２０００ｃｐ
＝ １ｏｃｐσ入樹脂又は樹脂前駆体と溶剤と後、ロ
ーラーとＨ１Ｉ記凹版表面とを圧接せしめ、前記インキ
を前記ローラー表面ｔこ弘移せしめ、その後前記ローラ
ーと予めパターンを設けたドライオフ４ ツ）版表面と
を圧接せしめ、前記インキを前記ドライオフセット版の
パターン部分に転移せしめ、その後フ゛ランケットロー
ラーと該ドライオフセクト版表面とを圧接せしめ、前記
インキを該ブランケットローラー表面に１移せしめ、そ
の後該ブランケットローラーと被印刷体表面とを圧接せ
しめ、被印刷体表面に薄膜を形成することを特徴２ ロ
ーラーがブチルゴムよりなることを特徴とする特許請求
の範囲第１項記載の４護印刷方法。 ８ ローラーＩバナイロン系樹脂よりなることを特徴と
する特許請求の範囲第１項記載の薄膜印刷方法。 ４深さが８μｍ〜５０μｍ１ 開口部の平均中が１μ
ｍ〜５００μｍ１開口部面積が５％〜８０％、ｌｃｄ当
りの溝の合計凹部容積がα０５−〜５−１溝間の平均距
離力ＬＯ／７ｍＮ１０００μｍであるような虜群を設け
た凹版を用いることを特徴とする特許請求の範囲第１項
記載の薄膜印刷方法。
かかる薄膜印刷方法１こおける各工程を示す模式図を各
々示す。 図中、１・・・・小 孔 ２・・・・凹 版３・・・
ｅインキ ４・・・−ローラー５・・・・ド
ライオフセット版 ６・−・・ブランケットローラー ？・・・・仮印刷体 ８・・・・薄膜 階許出願人 日本写真印刷株式会社 手 続 婦 正 −（自発） 昭和５７年７月３１日 特許庁長官 殿 り事件の表示 昭和５７年特許願第７４１７２号 区発明の名称 薄−印刷方法 ａｍｌｆをする者 事件との関係 時計出願人 ４、ｍＩ正の片縁 ｌ）別紙のとおり ２）明細ｉｉＦ第８第８頁５打５ るのを［品分子薄膜や金属酸化物４祠」−こ禰正します
。 明細書第５頁第３行目〜第４行目に「樹脂又は樹脂前駆
体に溶剤を混合してなる粘度が２０００ｃｐ〜１０ｃｐ
のインキ３」とあるのを［粘度が２０００ＣＩ＋−ＩＬ
ＩＱｐであるような、樹脂又は樹脂前駆体と溶剤とから
なるインキ或いは加熱により金属酸化物を形成するよう
な金属化合物と浴剤とからなるインキ］に補正します。 明細書第６頁第２行目〜第１２行目に［使用するインキ
は・・・・等がある。」とあるのを以ｒのように補正し
ます。 ［便用するインキは比較的低粘度のものであり、その粘
度は２０００ｃｐ−１０ｃｐのものを用い、特ｔこ好ま
しくは１５０ｃｐ〜５０ｃｐである。２０００ｃｐ以上
及び１Ｏｃｐ以下のものを使用することは作業性並びに
製品の仕上り具合からして大変不利である。 使用できる樹脂又は樹ｌ１１１前駆体とは熱可塑性樹脂
又は熱可塑性樹脂自１駆体を指す。まず次のような熱硬
化性及び光硬化性樹脂の硬化樹脂前駆体について示す。 即ち、フェノ−Ｖ樹脂、メラミン樹脂、尿素−膓、イソ
シアヌレート樹脂、不飽和ポリエステル樹脂，アＶキト
樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シリコン樹脂，架
橋ポリエチレン及び未加硫ゴム等である。更に熱ＩＩＩ
Ｔ型性樹脂としてはポリエステル、ポリアミド、ポリイ
ミド、ポリ嘔化ビニｖ１ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸
ビニル、ポリスチレン、ポリビニルピリドン、ポリビニ
ルアＶコーν、ポリビニルブチラール、ポリカーボネー
ト、ポリスルホン、ポリエーテＩレエステＭ１ボリエー
テＭスジホン、ポリアクリレート、ポリメチルメタアク
リレート等がある。 以上のような樹脂及び樹Ｊｉ＋ｉＩ前駆体或いはそれら
の混合物が本発明をこおいて使用できるものであるが、
インキの粘度が特定されていることから、溶剤に溶液化
しつる目的からして、余り扁分子量のものは不適当であ
り、インキ化しうる程度のオリゴマー又はポリマーを採
用しなければならない。 また、加熱により金属酸化物を形成するような金属化合
物としては、カドミウム、インジウム、スズもしくはプ
ンチモン等の単独又は二種以上の鉱酸塩、ハロゲン１し
物、酸化物等の慝機化合物或いは有機酸塩、アＶコキシ
化合物、有Ｉ！キレート化合物又はこれらの混合物を使
用する。−１明細書第９頁第１５行目Ｐ−［高分子Ｍ膜
ｊとあるの１６「薄膜」に補正します。 以上 特許請求の範囲 ｌ深さが３μｍ〜５０μｍ、開口部の平均径が１μｍ〜
６００μｍ１開ロ部面積が１％〜８０％、ｌｄ当りの小
孔の合計凹部容積がα０５−〜５−１小孔間の平均最短
距離が１０μｍ〜２０００μｍであるような小孔群を全
面に又は必要部分に設けた凹版に、粘度が２０００ｃｐ
＝ １ｏｃｐσ入樹脂又は樹脂前駆体と溶剤と後、ロ
ーラーとＨ１Ｉ記凹版表面とを圧接せしめ、前記インキ
を前記ローラー表面ｔこ弘移せしめ、その後前記ローラ
ーと予めパターンを設けたドライオフ４ ツ）版表面と
を圧接せしめ、前記インキを前記ドライオフセット版の
パターン部分に転移せしめ、その後フ゛ランケットロー
ラーと該ドライオフセクト版表面とを圧接せしめ、前記
インキを該ブランケットローラー表面に１移せしめ、そ
の後該ブランケットローラーと被印刷体表面とを圧接せ
しめ、被印刷体表面に薄膜を形成することを特徴２ ロ
ーラーがブチルゴムよりなることを特徴とする特許請求
の範囲第１項記載の４護印刷方法。 ８ ローラーＩバナイロン系樹脂よりなることを特徴と
する特許請求の範囲第１項記載の薄膜印刷方法。 ４深さが８μｍ〜５０μｍ１ 開口部の平均中が１μ
ｍ〜５００μｍ１開口部面積が５％〜８０％、ｌｃｄ当
りの溝の合計凹部容積がα０５−〜５−１溝間の平均距
離力ＬＯ／７ｍＮ１０００μｍであるような虜群を設け
た凹版を用いることを特徴とする特許請求の範囲第１項
記載の薄膜印刷方法。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ｌ深さが３μｍ〜５０μｍ１ 開口部の平均径が１μｍ
〜５００μｍ％開口部面積が１９ｂ〜８０％、Ｉｄ当り
の小孔の合計凹部容積がＱ、９５Ｍ３〜５ｕ３．小孔間
の平均最短距離が１０μｍ〜２０００μｍであるような
小孔群を全面に又は必要部分に設けた凹版に、粘度が２
００１！ｐ −１（ｌａｐの、樹脂又は樹鹿前駆体と浴
剤とからなるインキを充填した後、ローラーと前記凹版
表面とを圧接せしめ、前記インキを前記ローラー表面に
転移せしめ、その後ｕｄ記ローラーと予めパターンを設
けたドラ４オフセット叡表１とを圧接せしめ、前記イン
キを前記ドライオフセット板のパターン部分ｔｃ４６移
せしめ、その後ブランケットローラーと該ドライオフセ
ット版表面とを圧接せしめ、前記インキを該ブランケッ
トローラー表面會こ転移せしめ、その後該グランヶット
ローラーと被印刷体表面とを圧接せしめ、被印刷体表面
に４膜を形成することを特徴とする薄膜印刷方法。 ２ ローラーがブチルゴムよりなることを特徴とする特
ｆｆ＃１求の範囲第１項記載の薄膜印刷方法。 ３ ローラーがナイロン系樹脂よりなることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項記載の薄膜印刷方法。 ４深さが３μｍ〜５０μｍ１開口部の平均中が１μｍ〜
５００μｍ、開口部面積が５％〜８０％、ｌｔ４当りの
虚の合計四部＃積が０．０５Ｊａ１１３〜５ＩｌｊＩ１
３、ａｔ間）平均距離が１．０μｍ〜１０００μｍであ
るような溝群を設けた凹版を用いることな特徴とする特
許請求の範囲ｊｇ１項記載の薄膜印刷方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7417282A JPS58191188A (ja) | 1982-04-30 | 1982-04-30 | 薄膜印刷方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7417282A JPS58191188A (ja) | 1982-04-30 | 1982-04-30 | 薄膜印刷方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58191188A true JPS58191188A (ja) | 1983-11-08 |
| JPH0216228B2 JPH0216228B2 (ja) | 1990-04-16 |
Family
ID=13539468
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7417282A Granted JPS58191188A (ja) | 1982-04-30 | 1982-04-30 | 薄膜印刷方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58191188A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5996488A (en) * | 1994-11-25 | 1999-12-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Preparation of an electron source by offset printing electrodes having thickness less than 200 nm |
| US7406915B2 (en) * | 2004-04-30 | 2008-08-05 | Lg Display Co., Ltd. | Method for forming black matrix of liquid crystal display device |
-
1982
- 1982-04-30 JP JP7417282A patent/JPS58191188A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5996488A (en) * | 1994-11-25 | 1999-12-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Preparation of an electron source by offset printing electrodes having thickness less than 200 nm |
| US6457408B1 (en) | 1994-11-25 | 2002-10-01 | Canon Kabushiki Kaisha | Producing surface conduction electron emitting device with offset printed electrodes |
| US7406915B2 (en) * | 2004-04-30 | 2008-08-05 | Lg Display Co., Ltd. | Method for forming black matrix of liquid crystal display device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0216228B2 (ja) | 1990-04-16 |
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