DE69300222T2

DE69300222T2 - Gerät zur Herstellung einer Matrize für einen scheibenförmigen Aufzeichnungsträger.

Info

Publication number: DE69300222T2
Application number: DE69300222T
Authority: DE
Inventors: Lodewijk Joseph Michel Beckers; Nijs Joseph Petrus De; Marcellus Adrianus Corn Geerts; Christopher Jayne
Original assignee: OD&ME BV
Current assignee: Singulus Mastering BV
Priority date: 1992-10-21
Filing date: 1993-10-18
Publication date: 1995-11-16
Anticipated expiration: 2013-10-19
Also published as: JP2771762B2; CN1091852A; KR940008779A; HK184995A; TW239212B; ATE124562T1; DE69300222D1; EP0594255B1; RU2113020C1; CN1039063C; US5403397A; EP0594255A1; JPH06195764A; KR0182331B1; US5780205A; NL9201825A

Description

Die Erfindung betrifft ein Gerät zur Herstellung einer Matrize für einen scheibenförmigen Aufzeichnungsträger, wobei das Gerät mit einer Station zum Auftragen einer lichtempfindlichen Schicht, z. B. einer Fotolackschicht, auf ein Substrat, mit einer Station zum Belichten der lichtempfindlichen Schicht entsprechend den zu speichernden Aufzeichnungsdaten, mit einer Station zum Entwickeln der lichtempfindlichen Schicht und Metallisieren der die lichtempfindliche Schicht tragenden Seite des Substrats, mit einer Station zum Auftragen einer Metallauflage und mit einer Station zum Auftragen einer Schutzlackauflage versehen ist.
Mit dem Begriff "Aufzeichnungsträger" sind Ton- und/oder Bildträger und/oder Datenträger u. ä., beispielsweise sogenannte Kompaktplatten (CD's), sowie Träger gemeint, die in einer späteren Stufe zum Speichern von Tönen, Bildern und anderen auf ihnen zu registrierenden Daten bearbeitet werden können.
Ein Verfahren zur Herstellung einer solchen Matrize ist z. B. in der NL-A-8802211 beschrieben. Diese Veröffentlichung enthält aber keinen Hinweis zum Aufbau des Geräts, das zur Durchführung eines solchen Verfahrens zu verwenden ist.
Die NL-A-8702157 beschreibt ein Gerät zur Durchführung einer bestimmten Behandlung solcher Aufzeichnungsträger, wobei das Gerät mit einem Drehtisch zum Stützen eines Aufzeichnungsträgers versehen ist und der Drehtisch sowie sein Antriebsmechanismus zwischen mehreren Stationen beweglich sind. Dies führt nicht nur zu einem komplizierten Aufbau des Geräts, sondern ein weiterer Nachteil ist, daß die Bearbeitung eines Aufzeichnungsträgers in der ersten Station erst beginnen kann, wenn die Bearbeitung in der letzten Station abgeschlossen und der Drehtisch zur ersten Station zurückgeführt ist. Es liegt auf der Hand, daß sich mit einem solchen Gerät keine wirtschaftliche Massenproduktion realisieren läßt.
Ferner wurde vorgeschlagen, die verschiedenen vorgenannten Stationen als separate Einheiten zu gestalten und Aufzeichnungsträger zwischen den verschiedenen Stationen in Kassetten zu transportieren. Eine Anordnung von mehreren Stationen dieser Art hat einen großen Raumbedarf, und auch der Transport zwischen den verschiedenen Stationen ist ein nachteiliger Faktor, der den Herstellungsprozeß verlangsamt.
Die Aufgabe der Erfindung besteht darin, ein Gerät der vorgenannten Art vorzusehen, das einen effektiven und kompakten Aufbau haben kann und bei dem die aufeinanderfolgenden Betriebsabläufe der Reihe nach und ohne notwendige Bedienereingriffe stattfinden können.
Erfindungsgemäß läßt sich dies dadurch erreichen, daß die verschiedenen Stationen in einem Gehäuse untergebracht und Einrichtungen zum Aufnehmen der Substrate in den verschiedenen Stationen vorgesehen sind, während ein im Gehäuse angeordneter Transportmechanismus mit mindestens einer Transporteinrichtung zum Greifen eines Substrats versehen ist, wobei die Transporteinrichtung zwischen den Stationen in einer waagerechten Ebene in eine erste Richtung und in eine zweite Richtung quer zur ersten Richtung hin- und herbeweglich ist und sich außerdem im Gehäuse aufwärts und abwärts bewegen kann.
Bei Verwendung des erfindungsgemäßen Aufbaus können die Substrate auf die gewünschte Weise durch den Transportmechanismus zwischen den in den verschiedenen Stationen vorgesehenen Einrichtungen zum Aufnehmen der Substrate transportiert werden, während gewünschte Betriebsabläufe unabhängig voneinander am Substrat in jeder der Stationen durchgeführt werden können.
Nachstehend wird die Erfindung näher anhand einer Ausführungsform des erfindungsgemäßen Aufbaus erläutert, der schematisch in den beigefügten Zeichnungen veranschaulicht ist. Es zeigen:
Fig. 1 eine schematische Vorderansicht des erfindungsgemäßen Geräts;
Fig. 2 eine schematische Draufsicht auf die verschiedenen Stationen des erfindungsgemäßen Geräts;
Fig. 3 eine Querschnittansicht des Geräts von Fig. 1 und 2;
Fig. 4 einen Aufriß eines Geräts zum Entnehmen eines Substrats aus einem Substratstapel und zum übergeben des Substrats zum Transportmechanismus;
Fig. 5 eine Draufsicht von Fig. 4;
Fig. 6 eine Draufsicht auf den Mechanismus zum Reinigen und Auftragen einer ersten Auflage und einer lichtempfindlichen Schicht;
Fig. 7 eine Draufsicht auf Teile einer Trocknungsstation;
Fig. 8 eine Seitenansicht von Fig. 7;
Fig. 9 eine teilweise im Schnitt und teilweise im Aufriß gezeigte Ansicht der Station zum Entwickeln und Metallisieren;
Fig. 10 einen Aufriß der Einrichtung zum Auflegen von Kontaktringen auf ein Substrat;
Fig. 11 eine Draufsicht von Fig. 10;
Fig. 12 einen Aufriß der Einrichtung zum Auflegen eines Klemmrings auf ein Substrat;
Fig. 13 eine Draufsicht von Fig. 12;
Fig. 14 einen Mechanismus zum Durchführen des Eintauchschritts in ein Bad (gleichfalls gezeigt), das Elektrolysefluid enthält;
Fig. 15 eine vergrößerte Ansicht einer Einzelheit des Aufbaus von Fig. 14;
Fig. 16 einen Aufriß eines Teils einer Station, in dem die gewonnene Matrize einer Endbearbeitung unterzogen werden kann; und
Fig. 17 eine Draufsicht von Fig. 16.
Das in Fig. 1 bis 3 gezeigte Gerät weist ein Gehäuse 1 auf, das im Normalbetrieb geschlossen ist und in dem mehrere Einheiten 2 bis 7 untergebracht sind. Vorzugsweise ist die Gestaltung der Einheiten 2 bis 7 so, daß eine solche Einheit als Ganzes entnommen werden kann, um so bei Bedarf durch eine Einheit ausgetauscht zu werden, die einen oder mehrere entsprechende Betriebsabläufe oder einen oder mehrere andere Betriebsabläufe durchführt.
In der Nähe der Oberseite des Geräts ist ein Träger 8 vorgesehen, der in Längsrichtung des Geräts verläuft und Teil eines Transportmechanismus bildet. Ein Schlitten 9 ist entlang dem Träger 8 durch einen (nicht gezeigten) Antriebsmechanismus hin- und herbeweglich, was durch den Pfeil A dargestellt ist. Der Schlitten 9 hält einen senkrecht zum Träger 8 verlaufenden Träger 10, an dem ein weiterer Schlitten 9' in die Richtung gemäß dem Pfeil B hin- und herbeweglich ist. Der Schlitten 9' dient zum Halten zweier Transporteinrichtungen 11 und 12, die mit radial beweglichen hakenförmigen Fingern 13 versehen sind. Die Transporteinrichtungen 11 und 12 sind durch eine (nicht gezeigte) Antriebseinrichtung in senkrechte Richtung hin- und herbeweglich.
Sind die Finger 13 radial nach außen bewegt, kann eine Transporteinrichtung auf ein Substrat aufgesetzt werden, und bei erneuter Einwärtsbewegung der Finger 13 kommen die hakenförmigen Enden der Finger unter dem Substrat zum Eingriff, so daß das Substrat durch eine jeweilige Transporteinrichtung angehoben und durch den vorstehend beschriebenen Transportmechanismus durch das Gehäuse bewegt werden kann.
Wie aus Fig. 1 bis 3 ferner hervorgeht, kann das Gehäuse in drei übereinander befindliche Fächer 14 bis 16 unterteilt sein. Im obersten Fach 14 ist strenggenommen der Transportmechanismus untergebracht. Im darunter befindlichen Fach 15, das in der Nähe der Einheiten 2 bis 7 auf die in Fig. 1 und 2 gezeigte Weise unterteilt sein kann, sind die verschiedenen noch zu beschreibenden Einrichtungen zum Bearbeiten des Aufzeichnungsträgers untergebracht. Mindestens einige dieser Einheiten sind mit einem Drehtisch versehen, der schematisch in Fig. 3 gezeigt ist.
Im untersten Fach 16, das ebenso in Übereinstimmung mit den Einheiten 2 bis 7 unterteilt ist, sind Hilfseinrichtungen untergebracht, z. B. elektronische Ausrüstungen, Flüssigkeitsbehälter u. ä. Vorzugsweise sind die Hilfseinrichtungen auf Schlitten angeordnet, so daß sie in das Gehäuse und aus ihm heraus quer zur Gehäuselängsrichtung bewegt werden können, um Wartungsarbeiten u. ä. durchzuführen.
Die Einheit 3 ist mit einer Öffnung versehen, durch die ein Halter im Gerät angeordnet werden kann, der eine Anzahl übereinander angeordneter Substrate, im allgemeinen Glasscheiben, stützt. Ein näher in Fig. 4 und 5 dargestellter Mechanismus ist in der Nähe der Einführöffnung angeordnet, wobei der Mechanismus dazu dient, ein Substrat vom Stapel zu entnehmen und das Substrat zum Transportmechanismus zu führen.
Gemäß Fig. 4 ist eine Anzahl Substrate 18, z. B. Glasscheiben, in Gehäuse übereinandergestapelt.
Der Mechanismus von Fig. 4 und 5 weist eine Stütze 19 auf, die am Rahmen des Geräts befestigt ist, in dem eine senkrechte Leitspindel 20 drehbar gelagert ist. Die Leitspindel 20 kann durch einen Antriebsmotor 21 gedreht werden, der mit der Leitspindel verbunden ist.
Die Leitspindel 20 verläuft durch eine Muttereinrichtung 22, die gegen Verdrehung um die Mittelachse der Leitspindel 20 auf eine nicht gezeigte Weise arretiert ist. Mit der Muttereinrichtung 22 ist ein Ende eines Arms 23 verbunden, der um die Mittelachse der Leitspindel 20 gegenüber der Muttereinrichtung 22 durch eine nicht gezeigte Antriebseinrichtung drehbar und senkrecht zusammen mit der Leitspindel hin- und herbeweglich ist.
Am freien Ende des Arms 23 sind drei nach oben zeigende Saugnäpfe 24 befestigt.
Ist ein Stapel Substrate 18 in das Gerät gelegt, kann der Arm 23 durch einen geeigneten Steuermechanismus in eine Position unter dem Stapel bewegt, anschließend unter den Stapel geschwenkt und aufwärts bewegt werden, bis die Saugnäpfe 24 an die Unterseite des untersten Substrats 18 anstoßen. Diese Position wird durch einen am Arm angebrachten Sensor 25 erfaßt. In den Saugnäpfen 24 kann ein Unterdruck durch eine nicht gezeigte Einrichtung erzeugt werden, wonach das unterste Substrat 18 aus seiner Position unter dem Stapel verbleibender Substrate in eine Position neben dem Halter mit Substraten geschwenkt werden kann. In dieser Position kann das Substrat 18 vom Arm 23 durch eine der Transporteinrichtungen 11 oder 12 übernommen werden.
Wie später deutlich wird, sind die Aufzeichnungsträger in bestimmten Verfahrensstufen naß. Daher sind, wie bereits erwähnt, zwei Transporteinrichtungen 11 und 12 vorgesehen, so daß die eine Transporteinrichtung zum Transportieren trockener Substrate und die andere Transporteinrichtung zum Transportieren nasser Substrate verwendet werden kann, wodurch sich eine unerwünschte Verunreinigung des Substrats und des Geräts vermeiden läßt.
Nachdem ein Substrat 18, gewöhnlich durch eine Glasscheibe gebildet, durch eine Transporteinrichtung 11, 12 angehoben wurde, kann das Substrat aufwärts in den Raum 14 durch ein Loch 27 in der das Fach 15 an seiner Oberseite verschließenden Wand 26 bewegt und zur Einheit 4 transportiert werden, um dort abwärts durch ein Loch 27 in der Wand 26 zu einer Station 28 zum Reinigen und Auftragen einer ersten Auflage und einer sogenannten Lackauflage oder lichtempfindlichen Schicht bewegt zu werden.
Wie schematisch in Fig. 6 dargestellt ist, weist diese Station 28 einen Drehtisch 29 auf, der in einer tassenförmigen Einrichtung 30 angeordnet ist, deren Aufbau zumindest im wesentlichen mit der tassenförmigen Einrichtung übereinstimmt, die näher anhand von Fig. 9 zu beschreiben ist.
Ferner sind in dieser Station zwei Zuführrohre 33 und 34, die um eine senkrechte Drehachse 31 bzw. 33 schwenkbar sind, sowie eine Reinigungseinrichtung vorgesehen, die um eine senkrechte Drehachse 35 schwenkbar ist und eine senkrechte Hin- und Herbewegung durchführen kann, z. B. eine Bürsteneinrichtung 36, wobei die Bürsteneinrichtung um eine waagerechte Drehachse drehbar ist.
Beim Drehen des auf den Drehtisch 29 aufgelegten Substrats durch den Drehtisch wird eine Spülflüssigkeit, in diesem Fall Deionat, auf der Oberseite des Sübstrats durch das Zuführrohr 33 verteilt, um das Substrat zu spülen. Beim Zuführen von Spülflüssigkeit wird die Substratoberseite außerdem durch die Bürste 36 saubergebürstet, die in eine Position über dem Substrat geschwenkt wurde. Nach dem Reinigen kann die Bürste in die Position von Fig. 6 zurückgeschwenkt werden, in der sich die Bürste über einer (schematisch dargestellten) Pfanne 37 befindet, die mit einem Abflußrohr 38 zum Abführen von Nässe verbunden ist, die von der Bürste tropft. Nach dem Spülen kann eine erste Auflage über das Rohr 33 aufgetragen werden. Im Anschluß an das Auftragen einer ersten Auflage wird das Material zum Ausbilden der schließlichen Lackauflage oder sogenannten lichtempfindlichen Schicht durch das Zuführrohr 34 aufgetragen und auf der Substratoberfläche verteilt.
Ferner ist ein Absaugrohr 39 zum Abführen von Dämpfen mit der tassenförmigen Pfanne 30 verbunden.
Nach dem so erfolgten Auftragen der Lackauflage oder lichtempfindliche Schicht auf das Substrat wird das Substrat durch den Transportmechanismus zur Station 40 zum Trocknen der Lackauflage bewegt.
Eine Luftleitung mit einem in den Zeichnungen dargestellten waagerechten Rohrteil 41 in der Station ist zum Trocknen des Lacks vorgesehen. Ein Drehtisch 42 ist zumindest teilweise im Inneren des Rohrteils 41 durch ein Loch in der unteren Wand des Rohrteils 41 angeordnet. Der Drehtisch ist mit drei Saugnäpfen 43 versehen, in denen ein Unterdruck zum Befestigen eines Substrats 18 am betreffenden Drehtisch erzeugt werden kann. Der Drehtisch kann durch einen mit dem Drehtisch gekoppelten Antriebsmotor 44 gedreht werden.
Das Substrat 18 kann auf den Drehtisch mittels des Transportmechanismus durch eine Öffnung in der oberen Wand des Rohrteils 41 gelegt werden, wobei die Öffnung durch einen Deckel 45 verschließbar ist. Der Deckel 45 ist an einem Ende eines Stützarms 45' befestigt. Der Stützarm 45' ist an einer senkrechten Welle 46 befestigt, die um ihre Mittelachse durch einen Drehmotor 47 gedreht werden kann.
Ferner wird die Welle 46 durch einen Stützmechanismus 48 gestützt, der durch einen Einstellzylinder 49 auf- und abbewegt werden kann. Um also die Öffnung in der oberen Wand des Rohrteils 41 zu öffnen, kann der Deckel 45 aufwärts bewegt und danach waagerecht aus der mit Vollinien in Fig. 7 dargestellten Position in die mit Strichlinien in Fig. 7 veranschaulichte Position geschwenkt werden.
Nachdem das Substrat auf den Drehtisch aufgelegt wurde, kann der Luftdurchgang verschlossen werden, indem der Deckel in entgegengesetzte Richtung bewegt wird. Danach kann im Luftdurchgang eine Luftströmung durch einen (nicht gezeigten) Lüfter erzeugt werden. Senkrecht zur Längsrichtung des Luftdurchgangs verlaufende Heizspulen 50 sind vorgesehen, um die Luft im Luftdurchgang zu erwärmen, wobei in Fig. 7 die Heizspulen in einer um 90º zur tatsächlichen Position gedrehten Lage gezeigt sind.
Wie ferner aus Fig. 7 hervorgeht, ist eine Membran 51, die den Luftdurchgang leicht verengt, zwischen dem Drehtisch und den Heizspulen im Luftdurchgang vorgesehen, um eine möglichst gleichmäßige Luftströmung über das auf dem Drehtisch gestützte Substrat zu erreichen.
Nach dem Durchgang von Warmluft für den Trocknungsschritt wird kühlere Luft zum Kühlen des Substrats für eine gewisse Zeit durch die Luftleitung geleitet.
In der Praxis erwies sich, daß in einer geeigneten Ausführungsform Warmluft für etwa 3 Minuten und Kühlluft für etwa 7 Minuten durchgeleitet wird. Für die Praxis bedeutet dies, daß sich dadurch die zum Trocknen des Lacks oder des lichtempfindlichen Materials erforderliche Zeit beträchtlich verkürzen läßt. Bisher fand diese Trocknung gewöhnlich in einem separaten Ofen statt, bei - dem die Trocknungszeit etwa 1 Stunde beträgt.
Nach dem so erfolgten Trocknen der lichtempfindlichen Schicht und dem erneuten Öffnen des Rohrteils 41 durch Entfernen des Deckels 45 kann das nunmehr mit einer lichtempfindlichen Schicht versehene Substrat zu einer Station 52 zum Aufzeichnen der gewünschten Informationen auf dem Aufzeichnungsträger geführt werden. Diese Station 52 weist einen Drehtisch 53 auf, auf den das mit einer Lackauflage oder lichtempfindlichen Schicht versehene Substrat 18 durch den Transportmechanismus aufgelegt werden kann. Ferner weist die Station 52 normalerweise ein Lasergerät 54 sowie eine optische Vorrichtung 55 auf, durch die der Lichtstrahl zu Linsen 57 emittiert wird, die durch einen Träger 56 gehalten werden. Der Träger 56 ist an einer Welle 58 befestigt, die durch einen Antriebsmechanismus 59 längs bewegt werden kann, um den Träger über Führungsschienen 60 so zu bewegen, daß sich der Träger über das durch den Drehtisch 53 gestützte Substrat 18 bewegt. Dadurch wird die lichtempfindliche Schicht auf die gewünschte Weise entsprechend den aufzuzeichnenden Informationen o. ä. belichtet.
Nach dem so erfolgten Belichten wird das Substrat 18 durch den vorstehend beschriebenen Transportmechanismus zu einer Station 61 bewegt.
Wie in Fig. 9 näher dargestellt ist, weist die Station 61 einen Drehtisch 62 zum Aufnehmen eines Substrats auf. Der Drehtisch 62 kann durch einen Motor 63 um eine senkrechte Achse gedreht werden.
Der Drehtisch 62 ist in einer tassenförmigen Einrichtung 65 angeordnet, an deren Unterseite ein Abflußrohr 66 angeschlossen ist.
In der Nähe der Oberseite der tassenförmigen Einrichtung 65 ist eine kreisförmige Ausnehmung 67 in der tassenförmigen Einrichtung vorgesehen, wobei die Innenwand der Ausnehmung etwas niedriger als die Außenwand angeordnet ist, was aus Fig. 9 hervorgeht. Mit der Ausnehmung 67 ist ein Rohr 68 zum Abführen von Dämpfen verbunden.
Eine um eine senkrechte Drehachse durch einen Antriebsmechanismus 69 drehbare Drehwelle 70 ist in der Nähe des Drehtischs vorgesehen, wobei an der Drehwelle das Ende eines Arms 71 befestigt ist. Das Ende des Arms 71 dient zum Halten mehrerer Rohre 72 zum Zuführen verschiedener Flüssigkeiten, wenn sich das Ende dieses die Rohre haltenden Arms 71 über der tassenförmigen Einrichtung auf die in Fig. 9 gezeigte Weise befindet.
Aus dieser Position kann der Arm 71 in eine Position geschwenkt werden, in der sich das freie Ende des die Rohre haltenden Arms über einer Pfanne 74 (Fig. 2) befindet, so daß aus den Rohren tropfende Flüssigkeit oder zum Spülen der Rohre verwendete Spülflüssigkeit über die Pfanne 74 abgelassen werden kann.
Zu beachten ist, daß zum besseren Verständnis der schematisch dargestellte Arm 71 und die Rohre 72 in Fig. 2 nicht in ihrer gewöhnlichen Position über der Pfanne 74, sondern in einer anderen Position gezeigt sind.
Eine weitere senkrechte Welle 76, die durch eine Antriebseinrichtung 75 drehbar ist, hält einen Arm 77, an dem drei Linsen 78 befestigt sind. Die Linsen 78 dienen zum Erfassen von in die Richtung des Pfeils B abgestrahltem Laserlicht, das sich durch das auf die vorstehend beschriebene Weise bearbeitete Substrat bewegen kann und anschließend durch die Linsen 78 erfaßt wird. Das durch die Linsen erfaßte Licht wird durch die Konfiguration beeinflußt, die die lichtempfindliche Schicht im Bearbeitungsschritt erhält, wodurch kontrolliert werden kann, ob die gewünschte Bearbeitung auf die gewünschte Weise erfolgt.
Über die verschiedenen Rohre werden verschiedene Flüssigkeiten nacheinander zugeführt. Zunächst wird das Substrat gespült, wonach eine basische Entwicklungslösung über die lichtempfindliche Schicht geführt wird, um die belichteten Materialien aus der lichtempfindlichen Schicht auszuwaschen. Bei der so durchgeführten Entwicklung der lichtempfindlichen Schicht erfolgt insbesondere die vorstehend beschriebene Kontrolle mit dem Laserlicht und den Linsen 78.
Danach wird die verbleibende lichtempfindliche Schicht und/oder die Oberseite des Substrats 18 durch Zuführen geeigneter Flüssigkeiten metallisiert und im allgemeinen mit einer Nickelauflage versehen, so daß sich ein Produkt ergibt, das im Grundsatz dem Produkt von Fig. 2 der vorgenannten NL-A- 8802211 entspricht.
Nach der so erfolgten Behandlung des Substrats 18 und der darauf aufgetragenen lichtempfindlichen Schicht in der Station 61 und nach Schwenken der Arme 77 und 71 in eine Position neben der tassenförmigen Einrichtung wird das Substrat zu einer nachfolgenden Station 80 durch den Transportmechanismus transportiert, und zwar auf einer Stützplatte 81 (Fig. 15), die am oberen Ende eines Stützarms 82 befestigt ist, der beim Auflegen des Substrats die senkrechte Position von Fig. 14 einnimmt. Aus dieser Position ist der Stützarm 82 um eine waagerechte Schwenkachse 84 in die mit Strichlinien in Fig. 14 gezeigte Position durch einen (nicht gezeigten) Einstellzylinder schwenkbar, der mit dem Arm 82 durch eine Verbindungsstange 83 verbunden ist.
Insbesondere kommt das Substrat 18 dadurch auf den oberen Enden einiger Druckfedern 85 zu liegen, die in der Stützplatte 81 angebracht sind.
Danach muß ein dünner Metallkontaktring 86, der insbesondere aus rostfreiem Stahl oder Nickel hergestellt ist, auf dem Substrat plaziert werden, wobei die Abmessungen des Rings so sind, daß der Ring eine schmale Außenkante des Substrats bedeckt und an der Außenseite etwas über das Substrat vorsteht.
Der Mechanismus von Fig. 10 und 11 ist in der Station 80 angeordnet, um den Metallkontaktring 86 anzubringen.
Dieser Mechanismus weist eine Stützeinrichtung 87 auf, die durch einen Einstellzylinder 88 senkrecht beweglich ist.
Die Stützeinrichtung 87 stützt eine senkrechte Welle 89, an der ein Ende eines Arms 90 befestigt ist.
Die Welle 89 mit dem daran befestigten Arm 90 kann um die senkrechte Achse der Welle 89 durch einen an der Stützeinrichtung befestigten Einstellzylinder 91 geschwenkt werden, wobei die Kolbenstange 91' des Einstellzylinders mit der Welle 89 gekoppelt ist.
Das freie Ende des Arms 90 wird durch eine Platte 92 gebildet. Eine Scheibe 93 wird auf der Platte 92 gehalten, wobei die Scheibe um eine Achse 94 gegenüber der Platte 92 drehbar ist. Die Scheibe 93 ist mit einer Kolbenstange 95 eines am Arm 90 befestigten Einstellzylinders 96 gekoppelt, um die Scheibe 93 zu drehen.
Drei Schlitzlöcher 97 sind in der Scheibe 93 so vorgesehen, daß der Abstand zwischen der Achse 94 und den jeweiligen Schlitzlöchern von einem Ende jedes der Schlitzlöcher zum anderen Ende jedes der Schlitzlöcher allmählich zunimmt. In den Schlitzlöchern 97 sind senkrechte Stifte 98 angeordnet, wobei die Stifte mit den Enden von Stangen 99 verbunden sind, die in Radialrichtung zur Achse 94 verlaufen. Die Stangen 99 sind in Führungsblöcken 99' untergebracht, die an der Platte 92 befestigt sind, um in Längsrichtung beweglich zu sein.
Deutlich wird, daß beim Vorwärts- und Rückwärtsschwenken der Scheibe 93 durch den Einstellzylinder 96 die Stangen 99 in ihre Längsrichtung bewegt werden.
Abwärts verlaufende Arme 100 sind an den Enden der Stangen 99 befestigt, und Finger 101 sind an den Enden der Arme 100 befestigt.
Mehrere Ringe 86, die in einem Gestell o. ä. übereinanderliegen, sind in der Nähe der Station 80 angeordnet, z. B. in der in Fig. 10 schematisch gezeigten Position 86.
Nunmehr kann der oberste Ring des Stapels durch den anhand von Fig. 10 und 11 beschriebenen Mechanismus aufgehoben werden, indem zunächst die Finger durch die Arme 99 nach außen und ferner die Finger in eine Position bewegt werden, in der sie sich unter dem obersten Ring des Stapels befinden, indem der Arm 90 auf geeignete Weise geschwenkt und senkrecht bewegt wird, wonach die Finger wieder so aufeinander zu bewegt werden können, daß die Finger 101 unter dem obersten Ring des Stapels zu liegen kommen. Anschließend kann der oberste Ring in eine Position über dem durch die Stützplatte 81 gestützten Substrat bewegt werden, indem der Arm 90 auf geeignete Weise in senkrechte Richtung bewegt und der Arm geschwenkt wird, um den Ring auf diese Weise auf dem Substrat zu plazieren.
Danach sind das Substrat und der auf dem Substrat aufgelegte Ring auf der Stützplatte 81 zur weiteren Bearbeitung festzuklemmen.
Der Mechanismus von Fig. 12 und 13 ist in der Station 80 zum Anbringen eines Klemmrings 102 vorgesehen.
Wie insbesondere aus Fig. 15 hervorgeht, hat der Klemmring 102 ein mehr oder minder L-förmiges Profil, wobei die Konfiguration so ist, daß in der Montageposition des Klemmrings 102 ein Schenkel des Klemmrings 102 mit einem darin vorgesehenen Dichtungsring 103 am Ring 86 zu liegen kommt, während der andere Schenkel mehr oder minder am Außenumfang der Stützplatte 81 entlang verläuft. Drei radial verlaufende Stifte 104 sind im Außenumfang der Stützplatte in regelmäßigem Abstand so vorgesehen, daß die Stifte über den Außenumfang der Stützplatte 81 vorstehen und mit L-förmigen Schlitzlöchern 105 im Klemmring 102 zusammenwirken können, wobei der kurze Schenkel der Schlitzlöcher an einem Punkt an der Innenseite und Unterseite des Klemmrings offen ist und der lange Schenkel in Umfangsrichtung verläuft.
Der Mechanismus von Fig. 12 und 13 zum Anbringen bzw. Entfernen des Klemmrings 102 weist eine Stützeinrichtung 106 auf, die senkrecht durch einen Einstellzylinder 107 beweglich ist. Die Stützeinrichtung stützt eine senkrechte Welle 108, an der das freie Ende eines Arms 109 befestigt ist. Zusammen mit dem Arm 109 ist die Welle 108 um die Mittelachse der Welle 108 durch einen an der Stützeinrichtung 106 befestigten Einstellzylinder 110 schwenkbar, wobei eine Kolbenstange des Einstellzylinders mit der Welle 108 gekoppelt ist.
Das freie Ende des Arms 109 stützt eine Scheibe 113 durch eine senkrechte Welle 112, wobei die Scheibe um die Mittelachse der senkrechten Welle 112 durch einen am Arm 109 befestigten Einstellzylinder 114 drehbar ist. Eine weitere Platte 115 ist an der Unterseite der Platte 113 durch Schrauben 116 befestigt. Die Schrauben 116 verlaufen durch Schlitzlöcher 117, um eine richtige Einstellung der beiden Platten 113 und 115 zueinander zu gewährleisten.
Einige unter der Platte 115 verlaufende Stifte 117 sind in regelmäßigen Abständen an der Platte 115 befestigt. An den unteren Enden der Stifte sind Köpfe 118 befestigt, wobei die Köpfe in gekrümmten Schlitzlöchern 119 im Inneren des Klemmrings 102 untergebracht und die Schlitzlöcher an einem Ende mit einem vergrößerten Loch 120 versehen sind, das an der Oberseite des Klemmrings offen ist und durch das ein Kopf 118 in das Schlitzloch 119 eingefügt bzw. aus ihm entfernt werden kann, nachdem der Arm 109 mit den durch den Arm gestützten Teilen eine geeignete senkrechte Bewegung vollführt hat und sich die Platten 113 und 115 um die Welle 112 gedreht haben.
Durch Schwenken des Arms 109 kann der Klemmring 102 in eine Position über der Stützplatte 81 gemäß Fig. 15 und anschließend so abwärts bewegt werden, daß sich die Stifte 104 zur Innenseite durch die senkrecht verlaufenden Teile der L-förmigen Schlitzlöcher 105 bewegen und der Klemmring 102 auf dem Ring 86 gestützt ist. Danach kann der Klemmring unter Drehung der miteinander verbundenen Platten 113 und 115 durch den Einstellzylinder 114 gedreht werden, wodurch der Klemmring durch die Scheiben 113 und 115 über die Schrauben 117 mitgenommen wird. Am Ende der Drehung befinden sich die Stifte 104 in der Nähe der geschlossenen Enden der waagerecht verlaufenden Teile der Schlitzlöcher 105. Danach können die Platten 113 und 115 in eine Position geschwenkt werden, in der die Köpfe 118 in der Nähe der Ausnehmungen 120 zu liegen kommen, so daß die Platten 113 und 115 anschließend mit den Stiften 117 aufwärts bewegt werden können, während der Klemmring 102 auf der Stützplatte 81 zurückbleibt.
Gemäß der Darstellung durch Strichlinien in Fig. 14 können in der Folge das so festgeklemmte Substrat 18 und der darauf festgeklemmte Kontaktring 86 aus rostfreiem Stahl in einen Elektrolysefluid enthaltenden Behälter 125 geschwenkt werden. Im Behälter ist ein Gehäuse 126 angeordnet, wobei das Gehäuse mit einer Öffnung 127 auf einer Seite versehen ist, gegenüber der die Stützplatte 81 mit dem darauf festgeklemmten Substrat 18 auf die mit Strichlinien in Fig. 14 dargestellte Weise angeordnet ist.
Wie ferner aus Fig. 14 hervorgeht, dann eine Platte 129 vor die Öffnung 127 im Gehäuse 126 bewegt werden, wobei die Platte mit einem Durchgang 130 versehen ist, der an die zu metallisierende Substratoberfläche angepaßt ist. Da sich die Platte 129 leicht durch eine andere Platte mit einem anderen Durchgang austauschen läßt, kann die Durchgangsgröße bedarfsgemäß leicht eingestellt werden.
Ferner ist im Behälter eine Aufnahmeeinrichtung 131 angeordnet, wobei sich in der Aufnahmeeinrichtung eine große Anzahl Metallkugeln, gewöhnlich Nickelkugeln 132, befindet. Unter Verwendung des dargestellten Aufbaus kann der Abstand zwischen der die Nickelkugeln enthaltenden Aufnahmeeinrichtung 131 und dem zu behandelnden Substrat vergleichsweise klein und etwa bei 35 mm gehalten werden, was sich positiv auf die schnelle und gleichmäßige Beschichtung des Substrat auswirkt.
Wie ferner aus Fig. 14 hervorgeht, ist eine Anzahl Flüssigkeitsdurchgänge 113 in einem Umfangswinkel von etwa 50. in der Wand des Gehäuses 126 vorgesehen, die die Öffnung 127 abgrenzt. Durch diese Öffnungen kann frisches Elektrolyt so zugeführt werden, daß das frische Elektrolyt annähernd in Parallelrichtung zur Oberfläche des Substrats 18 fließt, was durch den Pfeil C dargestellt ist.
Durch konstantes Zuführen von frischem Elektrolyt wird eine befriedigende Nickelablagerung auf der Substratoberfläche erreicht.
Deutlich ist, daß dadurch die Nickelauflage auf dem Substrat und dem darauf plazierten Metallkontaktring z. B. als Kathode wirkt, während die Nickelkugeln die Anode bilden, was in Verfahren wie diesem üblich ist.
Somit wird in dieser Station eine dicke Auflage auf das Substrat auf die die Fig. 3 der vorgenannten NL-A-8802211 entsprechende Weise aufgetragen.
Sobald eine ausreichend dicke Auflage gebildet ist, wird die Stützplatte 81 wieder zurückgeschwenkt, wodurch die Stützplatte mit dem Substrat und der Auflage mit warmem Deionat gespült wird. Anschließend wird die Stützplatte wieder in die Position von Fig. 14 geschwenkt, wonach der Klemmring 102 durch Umkehr der vorstehend beschriebenen Schritte zum Anbringen des Klemmrings 102 entfernt werden kann. In der Folge kann das Substrat mit der darauf aufgetragenen Auflage, die jetzt in einem Stück mit dem auf dem Substrat plazierten Ring 86 vorliegt, durch den Transportmechanismus entfernt und auf einen schwenkbaren Arm 140 gelegt werden, der in einer weiteren Station 141 angeordnet ist. Der Aufbau des schwenkbaren Arms 140 entspricht zumindest im wesentlichen dem des vorstehend beschriebenen Arms 23, und die Substrate können in ein Gestell 142 in der Station 141 durch den Arm 140 gelegt werden, der um eine senkrechte Achse schwenkbar sowie senkrecht beweglich ist.
Die auf diese Weise bearbeiteten Substrate können aus dem Gerät durch eine (nicht gezeigte) Zugangstür so entfernt werden, daß das Substrat auf die gewöhnliche Weise, z. B. manuell, von der auf dem Substrat auf die vorstehend beschriebene Weise ausgebildeten sogenannten Matrize abgenommen werden kann, deren Aussehen Fig. 4 der vorgenannten NL-A-8802211 entspricht.
Bei Bedarf kann die Matrize auf einen in der Station 141 vorhandenen Drehtisch 145 mit ihrer Prägefläche nach oben gelegt werden, wonach eine (schematisch dargestellte) Lichtquelle 146, die an einem um eine senkrechte Achse schwenkbaren Arm 147 befestigt ist, über die Platte so bewegt werden kann, daß der Restlack oder verbleibende Fotolack auf der ausgebildeten Matrize entwickelt wird. Danach kann ein Sprühmechanismus 149, der am Ende eines Arms 148 befestigt ist (Fig. 16, 17), über die auf dem Drehtisch gestützte Matrize geschwenkt werden. Der Arm 148 kann ähnlich wie in der vorstehenden Beschreibung durch einen Einstellzylinder 150 aufund abbewegt sowie um eine senkrechte Schwenkachse durch einen waagerechten Einstellzylinder 151 geschwenkt werden.
In der Position des Sprühmechanismus 149 von Fig. 16 kann Spülflüssigkeit auf die Matrize 152 gesprüht werden, die auf dem (in Fig. 16 nicht gezeigten) Drehtisch 145 gestützt wird, um die Matrize zu spülen.
Danach kann eine Lackauflage auf die Matrize 152 über das Sprühgerät 149 aufgetragen werden. Dazu wird der Arm 148 abwärts bewegt, so daß ein Aufnahmering 153, der mit einem am Arm 148 befestigten Mantel 153' gekoppelt ist und den Sprühmechanismus umgibt, auf der oben konisch zulaufenden Umfangsfläche der tassenförmigen Einrichtung 154 zu liegen kommt, in der der Drehtisch 145 untergebracht ist. Zu diesem Zweck ist ein Bodenring 155 des Aufnahmerings so gestaltet, daß er von seinem Außenumfang schräg aufwärts nach innen verläuft, wodurch ein Raum 156 zum Auffangen von Restlack zwischen der Außenwand des Aufnahmerings 153 und dem Bodenring 155 gebildet wird. Der Aufnahmering 153 ist mit dem Mantel 153' durch Stifte 157 und geeignete L-förmige Schlitzlöcher gekoppelt, die zur leichten Lösbarkeit eine Art Bajonettverschluß bilden, so daß der Aufnahmering 153 leicht entfernt und gereinigt werden kann, wenn sich eine bestimmte Lackmenge im Ring angesammelt hat.
Die so fertiggestellte Matrize läßt sich aus dem Gerät abgeben, um gelagert und/oder zu weiteren Bearbeitungsmaschinen geführt zu werden.
Im Betrieb ist das Gehäuse 1 geschlossen, und saubere Luft kann den Stationen zur Substratbearbeitung über Kanäle 158 zugeführt werden, die durch das Gehäuse und ein Gitter 159 abgegrenzt sind.
Die Reihenfolge, in der die verschiedenen Stationen angeordnet sind, kann sich von der vorstehend beschriebenen und in den Zeichnungen dargestellten Reihenfolge unterscheiden.
Vorzugsweise ist jedoch die Station 52 in der Nähe eines Endes des Gehäuses 1 vorgesehen, da die in dieser Station angeordneten Ausrüstungen, z. B. das Lasergerät und die Optik, empfindliche Komponenten aufweisen und regelmäßiger Wartung bedürfen.
Durch die Anordnung dieser Ausrüstungen in der Nähe eines Endes des Geräts lassen sich die Ausrüstungen so unterbringen, daß sie leicht zugänglich sind.
Ferner ist es nicht notwendig, die verschiedenen Stationen auf einer Geraden anzuordnen. Das Gehäuse 1 kann z. B. auch gebogen sein.
Obwohl vorstehend mehrfach auf die NL-A-8802211 verwiesen wurde, liegt auf der Hand, daß bei Verwendung des erfindungsgemäßen Geräts eine Matrize auf dem Substrat 18 auch durch ein Verfahren ausgebildet werden kann, das sich von dem in der NL-A-8802211 beschriebenen Verfahren unterscheidet.

Claims

1. Gerät zur Herstellung einer Matrize für einen scheibenförmigen Aufzeichnungsträger, wobei das Gerät mit einer Station (28) zum Auftragen einer lichtempfindlichen Schicht, z. B. einer Fotolackschicht, auf ein Substrat (18), mit-einer Station (52) zum Belichten der lichtempfindlichen Schicht entsprechend den zu speichernden Aufzeichnungsdaten, mit einer Station (61) zum Entwickeln der lichtempfindlichen Schicht und Metallisieren der die lichtempfindliche Schicht tragenden Seite des Substrats und mit einer Station (80) zum Auftragen einer Metallauflage versehen ist, dadurch gekennzeichnet, daß die verschiedenen Stationen (28, 52, 61, 80) in einem Gehäuse (1) untergebracht und Einrichtungen (29, 53, 62, 81) zum Aufnehmen der Substrate (18) in den verschiedenen Stationen vorgesehen sind, während ein in dem Gehäuse angeordneter Transportmechanismus (9 bis 12) mit mindestens einer Transporteinrichtung (11, 12) zum Greifen eines Substrats versehen ist, wobei die Transporteinrichtung (11, 12) zwischen den Stationen in einer waagerechten Ebene in eine erste Richtung und in eine zweite Richtung quer zu der ersten Richtung hin- und hergehend beweglich ist und sich außerdem in dem Gehäuse aufwärts und abwärts bewegen kann.

2. Gerät nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Gerät an der Stelle einer Zuführstation (3) mit einem um eine senkrechte Achse (20) schwenkbaren und senkrecht beweglichen Arm (23) versehen ist, an dessen einem Ende eine Einrichtung (24) zum Aufheben eines Substrats vorgesehen ist.

3. Gerät nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß in der Einrichtung (24) zum Aufheben des Substrats ein Unterdruck erzeugt werden kann.

4. Gerät nach einem der vorausgegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Station (28) zum Auftragen einer lichtempfindlichen Schicht mit einem Drehtisch (29) zum Aufnehmen eines Substrats (18) sowie mit beweglichen, z. B. um senkrechte Achsen (31, 32) schwenkbaren Zuführrohren (33, 34) zum Zuführen von Spülflüssigkeit sowie ersten Auflagematerial und lichtempfindlichem Material zu der Oberseite des auf dem Drehtisch (29) gestützten Substrats (18) versehen ist, während ferner ein um eine senkrechte Achse (35) schwenkbares und senkrecht bewegliches Bürstengerät (36) in der Station vorgesehen ist.

5. Gerät nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß neben dem Drehtisch (29) eine Pfanne (37) angeordnet ist, über der die Bürste (36) angeordnet sein kann, während die Pfanne (37) mit einem Abflußrohr (38) verbunden ist.

6. Gerät nach einem der vorausgegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Gerät mit einer Trocknungsstation (40) zum Trocknen einer aufgetragenen lichtempfindlichen Schicht versehen ist, wobei die Trocknungsstation (40) eine Luftleitung (41) zum Aufnehmen eines Substrats (18) sowie eine Einrichtung zum Leiten von Luft durch die Luftleitung (41) und eine Einrichtung (50) zum Erwärmen der durch die Luftleitung geleiteten Luft aufweist.

7. Gerät nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß eine Öffnung in einer oberen Wand der Luftleitung (41) vorgesehen ist, um ein Substrat in die Luftleitung einzuführen, wobei die Öffnung mit einem senkrecht beweglichen Deckel (45) verschlossen werden kann, der um eine senkrechte Drehachse (46) schwenkbar ist.

8. Gerät nach Anspruch 6 oder 7, dadurch gekennzeichnet, daß eine Membran (51) in der Luftleitung (41) stromaufwärts vor der Stelle vorgesehen ist, an der ein Substrat (18) in die Luftleitung eingeführt wird.

9. Gerät nach einem der vorausgegangenen Ansprüche 2 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Trocknungsstation (40) in der Nähe der Zuführstation (3) für die Substrate angeordnet ist.

10. Gerät nach einem der vorausgegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Station (61) zum Entwickeln der lichtempfindlichen Schicht und Metallisieren der entwikkelten lichtempfindlichen Schicht mit einem Drehtisch (62) und einem um eine senkrechte Drehachse (70) schwenkbaren Arm (71) in der Nähe des Drehtischs versehen ist, wobei der Arm Rohre (72) stützt, durch die Fluide zum Behandeln der lichtempfindlichen Schicht und zum Metallisieren zugeführt werden können.

11. Gerät nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß eine mit einem Abflußrohr verbundene Pfanne (74) neben dem Drehtisch (62) angeordnet ist, über dem der die Rohre (72) stützende Arm (71) geschwenkt werden kann.

12. Gerät nach Anspruch 10 oder 11, dadurch gekennzeichnet, daß ein Linsen (78) stützender Arm (77), der um eine senkrechte Drehachse schwenkbar ist, neben dem Drehtisch (62) angeordnet ist, während eine Laserlichtquelle unter dem Drehtisch so angeordnet ist, daß Licht, das sich von der Laserquelle durch das Substrat (18) bewegt (B), durch die Linsen (78) erfaßt und verarbeitet werden kann, um die Qualität des Substrats mit der darauf aufgetragenen entwickelten lichtempfindlichen Schicht zu bestimmen.

13. Gerät mach einem der vorausgegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Station (80) zum Auftragen einer Metallauflage auf das Substrat mit einer Stützeinrichtung (81) versehen ist, die um eine waagerechte Achse (84) zwischen einer zum Aufnehmen eines Substrats geeigneten Position und einer Position schwenkbar ist, in der das durch die Stützeinrichtung gestützte Substrat in einen Behälter (125) getaucht wird, der Elektrolysefluid enthält.

14. Gerät nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß eine an dem Ende eines um eine senkrechte Achse schwenkbaren Arms (90) angebrachte Greifeinrichtung (92 bis 100) in der Station (80) zum Auftragen einer Metallauflage angeordnet ist, wobei die Greifeinrichtung mehrere in Radialrichtung zu der Achse der Greifeinrichtung hin- und hergehend bewegliche Finger (101) zum Aufheben ringförmiger Gegenstände (86) aufweist, die auf dem Substrat zu plazieren sind.

15. Gerät nach Anspruch 13 oder 14, dadurch gekennzeichnet, daß ein schwenkbarer Arm (109), der um eine senkrechte Achse schwenkbar ist, in der Station zum Auftragen einer Metallauflage angeordnet ist, wobei ein Mechanismus (113 bis 115) zum Befestigen eines Klemmrings (102) an der Stützeinrichtung (81) an dem Ende des Arms angebracht ist.

16. Gerät nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß der Klemmring (102) und die zum Aufnehmen des Substrats (18) vorgesehene Stützeinrichtung (81) mit Stiften (104) und im wesentlichen L-förmigen Schlitzlöchern (105) versehen sind, die in Kombination eine Art Bajonettverschluß zum Befestigen des Klemmrings (102) an der Stützeinrichtung (81) bilden.

17. Gerät nach Anspruch 15 oder 16, dadurch gekennzeichnet, daß der Mechanismus zum Befestigen des Klemmrings (102) einen Träger (115) aufweist, der um eine Drehachse (112) gegenüber dem Arm (109) drehbar ist, und daß mehrere unter dem Träger vorstehende Stifte (117) an dem Träger befestigt sind, wobei die Stifte an ihren unteren Enden mit Köpfen (118) versehen sind, die sich in das Innere von Schlitzlöchern (119) einpassen, die in dem Inneren des Klemmrings (102) vorgesehen sind und konzentrisch die Drehachse umgeben, und die Schlitzlöcher (119) in der Nähe eines Endes zum Einführen und Herausziehen der an den unteren Enden der Stifte (117) befestigten Köpfe (118) zugänglich sind.

18. Gerät nach einem der vorausgegangenen Ansprüche 13 bis 17, dadurch gekennzeichnet, daß in der Position, in der sich die Stützeinrichtung (81) in dem Elektrolysefluid enthaltenden Behälter (125) befindet, sich das durch die Stützeinrichtung (81) gestützte Substrat (18) gegenüber einer Öffnung (127) befindet, die in einem in dem Behälter (125) angeordneten Gehäuse (126) vorgesehen ist, das Körner (132) des Materials enthält, aus dem die Auflage zu bilden ist, während ferner eine Einrichtung (133) vorgesehen ist, durch die eine Strömung von zugeführtem frischen Elektrolysefluid entlang der Seite des Substrats (18) erzeugt werden kann, die zu dem Inneren des Gehäuses (126) zeigt.

19. Gerät nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, daß eine austauschbare Platte (129) in dem Gehäuse (126) vorgesehen ist, wobei die Platte (129) mit einer Öffnung (130) versehen ist, deren Mitte im wesentlichen mit der Mitte der in dem Gehäuse (126) vorgesehen Öffnung (127) übereinstimmt.

20. Gerät nach einem der vorausgegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Gerät versehen ist mit einer Station (141), in der ein Gestell (142) zum Aufnehmen behandelter Substrate (18) sowie ein um eine senkrechte Schwenkachse schwenkbarer und senkrecht beweglicher Arm (140) angeordnet ist, wobei der Arm (140) an seinem Ende mit einer Einrichtung zum Aufheben des Substrats (18) versehen und all dies so gestaltet ist, daß durch den Transportmechanismus (9 bis 12) auf den Arm gelegte Substrate (18) durch den Arm (140) in das Gestell (142) gelegt und außerdem durch den Arm aus dem Gestell entnommen werden können.

21. Gerät nach einem der vorausgegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Gerät mit einer Station (141) versehen ist, in der ein Drehtisch (145) angeordnet ist, auf den eine geformte Matrize so plaziert werden kann, daß die Matrize auf der aufgetragenen Auflage ruht, während in der Station ferner ein um eine senkrechte Achse schwenkbarer Arm (147) untergebracht ist, der eine Lichtquelle (146) zum Belichten der Matrize und insbesondere von jedem auf der Matrize vorhandenen restlichen lichtempfindlichen Material stützt.

22. Gerät nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet, daß in der Station (141) ferner ein um eine senkrechte Schwenkachse schwenkbarer und senkrecht hin- und hergehend beweglicher Arm (148) untergebracht ist, wobei der Arm eine Sprüheinrichtung (149) stützt, durch die eine Spülflüssigkeit und/oder ein Lack auf die Oberseite der Matrize aufgetragen werden kann.

23. Gerät nach Anspruch 22, dadurch gekennzeichnet, daß die Sprüheinrichtung (149) von einem ringförmigen Mantel (153) umgeben ist, an dessen unterer Seite sich eine untere Kante (155) anschließt, die nach innen schräg aufwärts verläuft.

24. Gerät nach Anspruch 23, dadurch gekennzeichnet, daß der Mantel (153) mit dem Arm so gekoppelt ist, daß er leicht abnehmbar ist.

25. Gerät nach einen der vorausgegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Station (52) zum Belichten der lichtempfindlichen Schicht in der Nähe eines Endes des Geräts angeordnet ist.

26. Gerät nach einem der vorausgegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Transportmechanismus (9 bis 12) mit zwei Transporteinrichtungen (11, 12) zum Greifen eines Substrats versehen ist, wobei die beiden Transporteinrichtungen (11, 12) an einem in entgegengesetzte Richtungen beweglichen Schlitten (9) befestigt sind, während jede der Transporteinrichtungen (11, 12) unabhängig von der anderen Transporteinrichtung aufwärts und abwärts bewegt werden kann.

27. Gerät nach einem der vorausgegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß jede Station (28, 52, 61, 80, 40) in einem Raum (2 bis 7) angeordnet ist, in dem eine Einrichtung (158, 159) zum Zuführen von sauberer Luft in den Raum vorgesehen ist.

28. Verfahren zum Herstellen einer Matrize für einen scheibenförmigen Aufzeichnungsträger, wobei ein Substrat (18), auf dem die Matrize auszubilden ist, automatisch durch eine Transporteinrichtung (11, 12) in einem im Normalbetrieb geschlossenen Gehäuse (1) zwischen mehreren Stationen mit einer Station (28) zum Auftragen einer lichtempfindlichen Schicht auf das Substrat, einer Station (52) zum Belichten der lichtempfindlichen Schicht entsprechend den zu speichernden Aufzeichnungsdaten, einer Station (61) zum Entwickeln der lichtempfindlichen Schicht und Metallisieren der die lichtempfindliche Schicht tragenden Seite des Substrats und einer Station (80) zum Auftragen einer Metallauflage bewegt wird, wobei die Transporteinrichtung (11, 12) das Substrat (18) ergreift und sich zwischen den Stationen in einer waagerechten Ebene in eine erste Richtung hin- und hergehend und in eine zweite Richtung quer zu der ersten Richtung hin- und hergehend sowie außerdem in dem Gehäuse aufwärts und abwärts bewegt.

29. Verfahren nach Anspruch 28, dadurch gekennzeichnet, daß das Substrat (18) zunächst in einer dazu geeigneten Station (28) saubergespült und/oder -gebürstet wird, wonach eine lichtempfindliche Schicht auf das Substrat in der Station aufgetragen wird.

30. Verfahren nach Anspruch 28 oder 29, dadurch gekennzeichnet, daß nach dem Auftragen der lichtempfindlichen Schicht das Substrat (18) zu einer Station (40) bewegt wird, in der erwärmte Luft über die lichtempfindliche Schicht geleitet wird, um die lichtempfindliche Schicht zu trocknen.

31. Verfahren nach Anspruch 30, dadurch gekennzeichnet, daß das Substrat (18) in eine verschließbare Luftleitung (41) eingeführt wird, durch die zunächst erwärmte Luft und anschließend Kühiluft geleitet wird.