NL9201825A - Inrichting voor het vervaardigen van een matrijs voor een schijfvormige registratiedrager. - Google Patents
Inrichting voor het vervaardigen van een matrijs voor een schijfvormige registratiedrager. Download PDFInfo
- Publication number
- NL9201825A NL9201825A NL9201825A NL9201825A NL9201825A NL 9201825 A NL9201825 A NL 9201825A NL 9201825 A NL9201825 A NL 9201825A NL 9201825 A NL9201825 A NL 9201825A NL 9201825 A NL9201825 A NL 9201825A
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- substrate
- station
- arm
- photoresist layer
- turntable
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
- G11B7/261—Preparing a master, e.g. exposing photoresist, electroforming
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
- B29D17/00—Producing carriers of records containing fine grooves or impressions, e.g. disc records for needle playback, cylinder records; Producing record discs from master stencils
- B29D17/005—Producing optically read record carriers, e.g. optical discs
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
- G11B7/263—Preparing and using a stamper, e.g. pressing or injection molding substrates
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S414/00—Material or article handling
- Y10S414/135—Associated with semiconductor wafer handling
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S414/00—Material or article handling
- Y10S414/135—Associated with semiconductor wafer handling
- Y10S414/141—Associated with semiconductor wafer handling includes means for gripping wafer
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/146—Laser beam
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
- Perforating, Stamping-Out Or Severing By Means Other Than Cutting (AREA)
Description
Korte aanduiding : Inrichting voor het vervaardigen van een matrijs voor een schijfvormige registratiedrager.
De uitvinding heeft betrekking op een inrichting voor het vervaardigen van een matrijs voor een schijfvormige registratiedrager, welke inrichting is voorzien van een station voor het aanbrengen van een voor lichtenergie gevoelige laag zoals een foto-resistlaag op een substraat, van een station voor het belichten van de voor licht gevoelige laag in overeenstemming met de in te schrijven registratiegègevens, van een station voor het ontwikkelen van de voor licht gevoelige laag en metalliseren van de de ontwikkelde foto-resistlaag dragende zijde van het substraat, van een station voor het aanbrengen van een metalen deklaag en van een station voor het aanbrengen van een beschermende laklaag.
Onder registratiedragers worden verstaan geluid- en/of beelddragers en/of informatiedragers en dergelijke, bijvoorbeeld zogenaamde compact discs, evenals dragers, die later te bewerken zijn voor het erop aanbrengen van geluid, beeld of andere te registreren gegevens.
Een werkwijze voor het vervaardigen van een dergelijke matrijs is bijvoorbeeld beschreven in de Nederlandse octrooiaanvrage 8802211. Enige indicatie omtrent de opbouw van een voor het uitvoeren van een dergelijke werkwijze te gebruiken inrichting is echter in deze publicatie niet terug te vinden.
In de Nederlandse octrooiaanvrage 8702157 is een inrichting beschreven voor het uitvoeren van een bepaalde behandeling van dergelijke registratiedragers, waarbij de inrichting is voorzien van een draaitafel voor het ondersteunen van een registratiedrager, welke draaitafel met zijn aandrijfmechanisme tussen verschillende stations verplaatsbaar is. Dit leidt niet slechts tot een gecompliceerde opbouw van de inrichting, maar een verder nadeel is, dat de bewerking van een registratiedrager in het eerste station pas kan beginnen, nadat de bewerking in het laatste station is voltooid en de draaitafel weer naar het eerste station is teruggebracht. Het zal duidelijk zijn, dat met een dergelijke inrichting geen economische massaproductie te realiseren is.
Verder is voorgesteld, om de diverse de hierboven genoemde stations uit te voeren als aparte eenheden, en registratiedragers tussen de verschillende stations in cassettes te transporteren. Een dergelijke op stelling van aparte stations vereist veel ruimte, terwijl tevens het transport tussen de verschillende stations een nadelige en vertragende fak-tor in het productieproces vormt.
Met de uitvinding wordt beoogd een inrichting van bovengenoemde soort te verkrijgen, welke een doelmatige en compacte opbouw kan hebben en waarbij de opeenvolgende bewerkingen opeenvolgend en zonder ingrijpen van een bediener kan plaatsvinden.
Volgens de uitvinding kan dit worden bereikt, doordat de ver- t| schillende stations zijn ondergebracht in een behuizing en in de diverse stations middelen zijn aangebracht voor het opnemen van de substraten terwijl een in de behuizing opgesteld transportmechanisme is voorzien van ten minste een transportorgaan voor het grijpen van een substraat, welk transportorgaan in een horizontaal vlak in twee een hoek met elkaar insluitende richtingen, evenals in op en neer gaande richting in de behuizing verplaatsbaar is.
Bij toepassing van de constructie volgens de uitvinding kunnen de substraten op de gewenste wijze met behulp van het transportmechanisme worden getransporteerd tussen de in de diverse stations aangebrachte middelen voor het opnemen van de substraten, terwijl in ieder van deze stations, onafhankelijk van elkaar gewenste bewerkingen op het substraat kunnen worden uitgevoerd.
De uitvinding zal hieronder nader worden uiteengezet aan de hand van een in bijgaande figuren schematisch weergegeven uitvoeringsvoorbeeld van de constructie volgens de uitvinding.
Figuur 1 toont schematisch een vooraanzicht op de inrichting volgens de uitvinding.
Figuur 2 toont schematisch een bovenaanzicht op de verschillende stations van de inrichting volgens de uitvinding.
Figuur 3 toont een dwarsdoorsnede over de in figuren 1 en 2 weergegeven inrichting.
Figuur 4 toont een aanzicht op een inrichting voor het afnemen van een substraat uit een stapel substraten en voor het overgeven van dit substraat aan het transportmechanisme.
Figuur 5 toont een bovenaanzicht op figuur 4.
Figuur 6 toont een bovenaanzicht op het mechanisme voor het schoonmaken en aanbrengen van een hecht!aag en van een foto-resistlaag.
Figuur 7 toont een bovenaanzicht op delen van een droogstation.
Figuur 8 toont een zijaanzicht op figuur 7.
Figuur 9 toont gedeeltelijk in doorsnede en gedeeltelijk in aanzicht delen van het ontwikkel- en metallisatiestation.
Figuur 10 toont een aanzicht van middelen voor het plaatsen van contactringen op een substraat.
Figuur 11 toont een bovenaanzicht op figuur 10.
Figuur 12 toont een aanzicht op middelen voor het plaatsen van % een klemring op een substraat.
Figuur 13 toont een bovenaanzicht op figuur 12.
Figuur 14 toont een mechanisme voor het onderdompelen in een eveneens weergegeven, een electrolysevloeistof bevattend bad.
Figuur 15 toont op grotere schaal een detail van de in figuur 14 weergegeven constructie.
Figuur 15 toont een aanzicht op een deel van een station, waar de verkregen matrijs aan een eindafwerking kan worden onderworpen.
Figuur 17 toont een bovenaanzicht op figuur 16.
De in de figuren 1-3 weergegeven inrichting omvat een tijdens normaal bedrijf afgesloten behuizing 1, waarin verschillende eenheden 2-7 zijn opgenomen. Bij voorkeur zijn deze eenheden 2-7 zodanig uitgevoerd, dat eventueel een dergelijke eenheid in zijn geheel kan worden uitgenomen om naar behoefte door een een overeenkomstige bewerking(en) of andere bewerkingen) uitvoerende eenheid te kunnen worden vervangen.
Nabij de bovenzijde van de inrichting is een zich in de lengterichting van de inrichting uitstrekkende, deel van een transportmechanisme uitmakende ligger 8 aangebracht. Langs deze ligger is een slede 9 met behulp van een niet nader weergegeven aandrijfmechanisme heen en weer beweegbaar, zoals aangeduid met behulp van de pijl A. De slede 9 ondersteunt een zich loodrecht op de ligger 8 uitstrekkende ligger 10, waarlangs een verdere slede 9' met behulp van niet nader weergegeven aandrijfmiddelen heen en weer beweegbaar is in de richting volgens pijl B. De slede 10 dient voor het ondersteunen van een tweetal transportorganen 11 en 12, die zijn voorzien van radiaal verschuifbare haakvormige vingers 13. De transportorganen 11 en 12 zijn met behulp van niet nader weergegeven aandrijfmiddelen op en neer beweegbaar.
Indien de vingers 13 radiaal naar buiten geschoven zijn kan een transportorgaan op een substraat worden geplaatst waarna bij het binnen bewegen van de vingers 13 de haakvormige uiteinden van de vingers onder het substraat zullen grijpen, zodat zodoende het substraat door een desbetreffend transportorgaan kan worden opgetild en met behulp van het bovenbeschreven transportmechanisme door de behuizing kan worden verplaatst.
Zoals verder uit de figuren 1-3 duidelijk zal zijn kan men de behuizing onderverdelen in een drietal boven elkaar gelegen compartimenten 14-16. In het bovenste compartiment 14 is in feite het transportmechanisme opgesteld. In het daaronder liggende compartiment 15, dat ter hoogte van de eenheden 2-7 op de in figuren 1 en 2 aangeduide wijze kan zijn onderverdeeld, zijn de verschillende hieronder nader te beschrijven organen voor het bewerken van de registratiedrager opgesteld. Althans enige van deze eenheden zullen zijn voorzien van een draaitafel zoals schematisch aangeduid in figuur 3.
In het onderste eveneens in overeenstemming met de eenheden 2-7 onderverdeelde compartiment 16 zullen hulpmiddelen, zoals electronische uitrusting, vloeistof bevattende vaten en dergelijke zijn opgesteld. Bij voorkeur zijn deze hulpmiddelen op sleden opgesteld, zodat zij dwars op de lengterichting van de behuizing in en uit de behuizing te schuiven zijn voor het plegen van onderhoud en dergelijke.
De eenheid 3 is voorzien van een opening via welke een houder, die een aantal boven elkaar opgestelde substraten, in het algemeen gevormd door glazen schijven, ondersteunt, in de inrichting kan worden opgesteld. Ter hoogte van deze inbrengplaats is een nader in de figuren 4 en 5 weergegeven mechanisme opgesteld voor het afnemen van een substraat uit de stapel en voor het afgeven van dit substraat aan het transportmechanisme.
Zoals in figuur 4 is weergegeven bevindt een aantal bijvoorbeeld door glazen schijven gevormde substraten 18 zich in de behuizing in een stapel boven elkaar.
Het in de figuren 4 en 5 weergegeven mechanisme omvat een aan het gestel van de inrichting bevestigde steun 19 waarin een verticaal staande schroefspindel 20 draaibaar is gelegerd. De schroefspindel 20 is in draaiing te brengen met behulp van een met de schroefspindel verbonden aandrijf motor 21.
De schroef spindel 20 is gevoerd door een op niet nader weergegeven wijze tegen verdraaiing om de hartlijn van de schroefspindel 20 ge- borgd moerorgaan 22. Met dit moerorgaan 22 is een uiteinde verbonden van een arm 23, die met behulp van een niet nader weergegeven aandrijforgaan om de hartlijn van de schroefspindel 20 ten opzichte van het moerorgaan 22 verdraaibaar is en met de schroefspindel op en neer beweegbaar is.
Aan het vrije uiteinde van de arm 23 zijn een drietal omhoog gekeerde zuignappen 24 bevestigd.
Indien een stapel substraten 18 in de inrichting is geplaatst kan met behulp van een geschikt besturingsmechanisme de arm 23 tot een stand onder de stapel worden gebracht, vervolgens onder de stapel gezwenkt en omhoog bewogen, totdat de zuignappen 24 tegen de onderzijde van het onderste substraat 18 aanliggen. Deze stand wordt waargenomen met behulp van een aan de arm bevestigde sensor 25. Met behulp van niet nader weergegeven middelen kan een onderdruk worden opgewekt in de zuignappen 24, waarna het onderste substraat 18 met behulp van de arm 23 onder de achterblijvende stapel substraten kan worden weggezwenkt tot in een naast de houder met substraten gelegen stand. In deze stand kan het substraat 18 van de arm 23 worden overgenomen door een van de transportorganen 11 of 12.
Zoals uit het hieronder staande nog zal blijken zullen in bepaalde fasen van het bewerkingsproces de registratiedragers vochtig zijn. Op grond hiervan zijn zoals hierboven reeds vermeld een tweetal transportorganen 11 en 12 aangebracht, zodat het ene transportorgaan kan worden benut voor het transporteren van droge substraten en het andere transportorgaan kan worden benut voor het transporteren van natte substraten, waardoor ongewenste verontreinigingen van de substraten en de inrichting kan worden verhinderd.
Nadat zo een in het algemeen door een glazen schijf gevormd substraat 18 door een transportorgaan 11, 12 is opgenomen kan dit substraat door een in de het compartiment 15 aan de bovenzijde afsluitende wand 26 aangebracht gat 27 omhoog bewogen worden in de ruimte 14 en daar worden getransporteerd naar de eenheid 4 om daar via een in de wand 26 aangebracht gat 27 naar beneden te worden bewogen naar een station 28 voor het reinigen en het aanbrengen van een hechtlaag en een zogenaamde lak- of foto-resist-1 aag.
Zoals nader schematisch in figuur 6 is weergegeven omvat dit station 28 een draaitafel 29, welke is opgesteld binnen een komvormig orgaan, waarvan de opbouw althans in hoofdzaak overeenkomt met het komvormige orgaan dat nog nader zal worden beschreven aan de hand van figuur 9.
Verder zijn in dit station een tweetal om verticale draaiings-assen 31 resp. 32 verzwenkbare toevoerleidingen 33 en 34 aangebracht, alsmede een om een verticale draaiingsas 35 verzwenkbaar en in verticale richting op en neer beweegbaar reinigingsorgaan, zoals bijvoorbeeld bor-stelorgaan 36, welk borstelorgaan om een horizontale draaiingsas draaibaar is.
Terwijl het op de draaitafel 29 gebrachte substraat met behulp van de draaitafel in draaiing wordt gebracht’’zal eerst met behulp van de toevoerleiding 33 een door gede-ioniseerd water gevormde spoel vloei stof over het bovenoppervlak van de substraat worden verspreid voor het schoon-spoelen van het substraat. Tijdens het toevoeren van spoelwater wordt het bovenoppervlak van het substraat tevens schoon geborsteld met behulp van de borstel 36, die tot in een boven het substraat gezwenkte stand is gebracht. Na reiniging kan de borstel worden teruggezwenkt naar de in figuur 6 weergegeven stand, waarin de borstel ligt boven een schematisch aangeduide opvangbak 37 waarop een afvoerleiding 38 is aangesloten voor het afvoeren van van de borstel druipend vocht. Na het schoonspoelen kan een laag hechtmiddel worden aangebracht. Na het aanbrengen van een laag hechtmiddel wordt met behulp van de leiding 34 het materiaal voor het vormen van de uiteindelijke laklaag of zogenaamde foto-resistlaag aangebracht en over het oppervlak van het substraat verspreid.
Op het komvormige opneemorgaan 30 is nog een afzuigleiding 39 voor het afzuigen van dampen aangesloten.
Nadat zo de laklaag of foto-resistlaag op het substraat is aangebracht zal dit substraat met het transportmechanisme worden verplaatst naar het station 40 voor het drogen van de laklaag.
Voor het drogen van de lak is een lucht! ei ding aangebracht met een in de tekeningen in station 40 weergegeven horizontaal verlopend 1ei -dinggedeelte 41. Door een in de onderwand van het leidinggedeelte 41 aangebrachte opening is een draaitafel 42 althans gedeeltelijk in het inwendige van het leidinggedeelte 41 opgesteld. De draaitafel is voorzien van een drietal zuignappen 43, waarin een onderdruk kan worden opgewekt voor het vastzetten van een substraat 18 op de desbetreffende draaitafel. De draaitafel kan in draaiing worden gebracht met behulp van een met de draaitafel verbonden aandrijfmotor 44.
Het substraat 18 kan met behulp van het transportmechanisme op de draaitafel worden geplaatst via een in de bovenwand van het leiding-gedeelte 41 aangebrachte opening, die af te sluiten is met behulp van een deksel 45. Het deksel 45 is bevestigd aan een uiteinde van een draagarm 45'. De draagarm 45' is bevestigd aan een verticaal staande as 46, die om zijn hartlijn te verdraaien is met behulp van een rotatiemotor 47.
De as 46 wordt verder ondersteund door een steunmechanisme 48, dat met behulp van een verstelcylinder 49 in verticale richting op en neer s beweegbaar is. Voor het openen van de in de bovenwand van het leidingge-deelte 41 aangebrachte opening kan dus het deksel 44 omhoog bewogen worden en vervolgens in horizontale richting verzwenkt vanuit de in figuur 7 met getrokken lijnen weergegeven stand naar de in figuur 7 met gestippelde lijnen weergegeven stand.
Na het aanbrengen van het substraat op de draaitafel kan door verplaatsing van het deksel in tegengestelde richting het luchtkanaal worden afgesloten. Met behulp van een niet nader weergegeven ventilator kan dan een luchtstroom worden opgewekt in het luchtkanaal. Voor de verwarming van de lucht zijn in het luchtkanaal zich loodrecht op de lengterichting van het luchtkanaal uitstrekkende verwarmingsspiralen 50 aangebracht, die in figuur 7 in een ten opzichte van de werkelijke stand over 90° verdraaide stand zijn afgebeeld.
Zoals verder nog uit figuur 7 blijkt is tussen de draaitafel en de verwarmingsspiralen in het luchtkanaal nog een de doortocht van het luchtkanaal enigszins vernauwend diafragma 51 aangebracht voor het bewerkstelligen van een zo gelijkmatig mogelijke luchtstroom over het op de draaitafel rustende substraat.
Na de doorvoer van warme lucht voor het drogen wordt nog enige tijd koelere lucht voor het afkoelen van het substraat door de leiding gevoerd.
In de praktijk is gebleken, dat geschikt ± 3 minuten warme lucht en ± 7 minuten koellucht wordt doorgevoerd. In de praktijk betekent dit, dat hierdoor een aanzienlijke verkorting van de voor het drogen van de lak of foto-resist is verkregen. Tot nu toe is het gebruikelijk om dit drogen te doen plaatsvinden in een aparte oven, waarbij de droogtijd ± 1 uur bedraagt.
Nadat zo de foto-resistlaag is gedroogd en het leidinggedeelte 41 door verwijderen van het deksel 45 weer is geopend kan het nu van een foto-resistlaag voorziene substraat worden toegevoerd naar een station 52 voor het op de registratiedrager opnemen van de gewenste informatie of dergelijke. Dit station 52 omvat een draaitafel 53 waarop met behulp van het transportmechanisme het van een laklaag resp. foto-resistlaag voorziene substraat 18 kan worden geplaatst. Verder omvat het station 52 op gebruikelijke wijze een laserinrichting 54 alsmede een optisch apparaat 55 waarmee de lichtbundel wordt gestuurd naar door een drager 56 gedragen lensen 57. De drager 56 is bevestigd aan een as 58, die'tiet behulp van een aandrijfmechanisme 59 in zijn lengterichting kan worden verplaatst ten einde de drager 56 te verplaatsen over geleidingsrails 60, zodanig, dat de drager over het door de draaitafel 53 ondersteunde substraat 18 beweegt. Zodoende zal de foto-resistlaag op gewenste wijze worden belicht in overeenstemming met de op te nemen informatie of dergelijke.
Na zo zijn te belicht wordt het substraat 18 met behulp van het bovenbeschreven transportmechanisme verplaatst naar een station 61.
Zoals nader in figuur 9 is weergegeven bevindt zich in het station 61 een draaitafel 62 voor het opnemen van een substraat. De draaitafel 62 is met behulp van een motor 63 om een verticaal staande as in draaiing te brengen.
De draaitafel 63 is opgesteld in een komvormig orgaan 65 op de onderzijde waarvan een afvoerleiding 66 is aangesloten.
Nabij de bovenzijde van het komvormige orgaan 65 is in het komvormige orgaan een rondlopende uitsparing 67 aangebracht, waarvan de binnenwand enigszins lager is gelegen dan de buitenwand, zoals duidelijk zal zijn uit figuur 9. Op deze uitsparing 67 is een leiding 68 voor het afzuigen van dampen aangesloten.
Nabij de draaitafel is een met behulp van een aandrijfmechanisme 69 om een verticale draaiingsas draaibare as 70 aangebracht waaraan een uiteinde van een arm 71 is bevestigd. Het uiteinde van de arm 71 dient voor de ondersteuning van een aantal leidingen 72 voor de toevoer van verschillende vloeistoffen indien het desbetréffende de leidingen ondersteunde uiteinde van de arm 71 op de in figuur 9 aangeduide wijze boven het komvormige orgaan is gelegen.
Vanuit deze stand kan de arm 71 worden verzwenkt in een stand, waarin het vrije, de leidingen ondersteunende uiteinde van de arm boven een opvangbak 74 is gelegen (figuur 2) zodat eventueel uit de leidingen druppelende vloeistof, of spoel vloei stof ten behoeve van het doorspoelen van de leidingen via de opvangbak 74 kan worden afgevoerd.
Opgemerkt wordt, dat in figuur 2 de schematisch weergegeven arm 71 met leidingen 72 ter wille van de duidelijkheid van de tekening niet zoals gebruikelijk boven de opvangbak 74, maar in een andere stand is weergegeven.
Een verdere met behulp van een aandrijforgaan 75 verdraaibare verticaal staande as 76 steunt een arm 77, waaraan een drietal lensen 78 is bevestigd. De lensen 78 dienen voor het opvangen van in de richting volgens pijl B aangestraald laserlicht, dat door het op bovenbeschreven wijze bewerkte substraat kan bewegen en vervolgens door de lensen 78 wordt opgevangen. Het door de lensen opgevangen licht wordt beïnvloed door de vormgeving, welke de foto-resistlaag in de bewerkingsstap verkrijgt en zo kan worden gecontroleerd of de gewenste bewerking al dan niet op de gewenste wijze wordt uitgevoerd.
Met behulp van de verschillende leidingen worden opeenvolgend verschillende vloeistoffen toegevoerd. Eerst zal het substraat worden gespoeld, waarna een basische ontwikkelvloeistof over de foto-resistlaag wordt gespoeld om de belichte materiaaldelen van de foto-resistlaag te verwijderen. Tijdens dit zo ontwikkelen van de foto-resistlaag wordt in het bijzonder de bovenbeschreven controle met behulp van het laserlicht en de lensen 78 bewerkstelligd.
Daarna wordt door het toevoeren van geschikte vloeistoffen de resterende foto-resistlaag en/of het bovenvlak van het substraat 18 gemetalliseerd, in het algemeen voorzien van een nikkellaag, zodat dan een product wordt verkregen, dat in principe overeenkomt met het in figuur 2 van de bovengenoemde Nederlandse octrooiaanvrage 8802211 weergegeven product.
Na het zo behandelen van het substraat 18 met de daarop aangebrachte foto-resistlaag in het station 61 wordt, nadat de armen 77 en 71 zijn verzwenkt in een naast het komvormige orgaan 65 gelegen stand, het substraat met het transportmechanisme verplaatst naar een volgend station 80 en wel op een draagplaat 81 (figuur 15), welke is bevestigd aan het boveneinde van een draagarm 82, die bij het plaatsen van het substraat de in figuur 14 weergegeven verticale stand inneemt. Vanuit deze stand is de draagarra 82 met behulp van een niet nader weergegeven verstelcylinder, die met behulp van een drijfstang 83 met de arm 82 is gekoppeld, verzwenkbaar om een zich horizontaal uitstrekkende zwenkas 84 naar de in figuur 14 in gestippelde lijnen weergegeven stand.
Meer in het bijzonder komt daarbij het substraat 18 te liggen op de boveneinden van enige in de draagplaat 81 geplaatste drukveren 85.
Vervolgens moet op het substraat een dunne metalen, in het bijzonder uit roestvrijstaal of nikkel bestaande contactring 86 worden geplaatst, welke ring zodanige afmetingen heeft, dat de ring een smalle buitenrand van het substraat bedekt en aan de buitenzijde enigszins buiten het substraat uitsteekt.
Voor het aanbrengen van de metalen contactring 86 is in het station 80 het in de figuren 10 en 11 weergegeven mechanisme opgesteld.
Dit mechanisme omvat een draagorgaan 87, dat met behulp van een verstelcylinder 88 in verticale richting verplaatsbaar is.
Dit draagorgaan 87 ondersteunt een verticaal staande as 89 waaraan een uiteinde van een arm 90 is bevestigd.
De as 89 met de daaraan bevestigde arm 90 kan om de verticaal staande hartlijn van de as 89 worden verzwenkt met behulp van een aan het draagorgaan bevestigde verstelcylinder 91 waarvan de zuigerstang 91' is gekoppeld met de as 89.
Het vrije uiteinde van de arm 90 wordt gevormd door een plaat 92. Op de plaat 92 rust een schijf 93, die ten opzichte van de plaat 92 om een as 94 verdraaibaar is. Voor het verdraaien van de plaat 93 is de plaat 93 gekoppeld met een zuigerstang 95 van een aan de arm 90 bevestigde verstelcylinder 96.
In de plaat 93 zijn een drietal sleufgaten 97 aangebracht zodanig, dat de afstand tussen de as 94 en de desbetreffende sleufgaten vanaf een einde van ieder van de sleufgaten naar het andere einde van ieder van de sleufgaten geleidelijk toeneemt. In deze sleufgaten 97 zijn verticaal staande pennen 98 gelegen, die zijn verbonden met de uiteinden van stangen 99, die zich ten opzichte van de as 94 in radiale richting uitstrekken. De stangen 99 zijn in de lengterichting verschuifbaar opgenomen in aan de plaat 92 bevestigde geleidingsblokken 99'.
Het zal duidelijk zijn, dat bij heen en weer verdraaien van de plaat 93 met behulp van de verstelcylinder 96 de stangen 99 in hun lengterichting zullen worden verschoven.
Aan de uiteinden van stangen 99 zijn zich naar beneden toe uitstrekkende armen 100 bevestigd en aan de uiteinden van de armen 100 zijn vingers 101 bevestigd.
Een aantal ringen 86 zal boven elkaar liggend in een rek of dergelijke bij het station 80 zijn opgesteld, bijvoorbeeld in de schematisch in figuur 10 aangeduide positie 86.
De bovenste ring uit de stapel kan nu worden opgenomen met behulp van het aan de hand van de figuren 10 en 11 beschreven mechanisme, door de vingers eerst met behulp van de armen 99 naar buiten te schuiven, verder door geschikt verzwenken en verticaal bewegen van de arm 90 de vingers in een stand te brengen waarin zij onder de bovenste ring van de stapel zijn gelegen, waarna de vingers weer naar elkaar toe kunnen worden bewogen, zodat de vingers 101 onder de bovenste ring van de stapel komt te liggen. Daarop kan de bovenste ring door geschikt in verticale richting bewegen en verzwenken van de arm 90 worden gebracht in een stand boven de door de draagplaat 81 ondersteunde substraat om zo de ring op dit substraat af te leggen.
Daarna moet voor de verdere bewerking het substraat en de op het substraat gelegde ring aan de draagplaat 85 worden vastgeklemd.
Voor het aanbrengen van een klemring 102 is het in figuren 12 en 13 weergegeven mechanisme in station 80 aangebracht.
Zoals in het bijzonder uit figuur 15 blijkt heeft de klemring 102 een min of meer L-vormige doorsnede, zodanig, dat bij aangebrachte klemring 102 een been van de klemring 102 met een daarin aangebrachte pakkingring 103 op de ring 86 komt te rusten, terwijl het andere been zich min of meer langs de buitenomtrek van de draagplaat 81 uitstrekt. Op regelmatige afstand van elkaar zijn in de buitenomtrek van de draagplaat 81 een drietal radiaal verlopende pennen 104 aangebracht, zodanig, dat deze pennen uit de buitenomtrek van de draagplaat 81 uitsteken en kunnen samenwerken met in de klemring 102 aangebrachte L-vormige sleufgaten 105, waarvan een kort been in een aan de binnenzijde en onderzijde van de klemring gelegen plaats open is en het lange been zich in de omtreksrichting uitstrekt.
Het in de figuren 12 en 13 weergegeven mechanisme voor het aanbrengen resp. verwijderen van de klemring 102 omvat een draagorgaan 106, dat met behulp van een verstelcylinder 107 in verticale richting verplaatsbaar is. Het draagorgaan ondersteunt een verticaal staande as 108, waaraan het vrije uiteinde van een arm 109 is bevestigd. De as 108 is met de arm 109 om de hartlijn van de as 108 verzwenkbaar met behulp van een aan het draagorgaan 106 bevestigde verstelcylinder 110 waarvan een zuigerstang met de as 108 is gekoppeld.
Het vrije uiteinde van de arm 109 ondersteunt met behulp van een verticaal staande as 112 een schijf 113, die met behulp van een aan de arm 109 bevestigde verstelcylinder 114 om de hartfijn van de verticaal staande as 112 verdraaibaar is. Aan de onderzijde van de plaat 113 is een verdere plaat 115 bevestigd met behulp van bouten 116. Deze bouten 116 zijn gevoerd door sleufgaten 117 ten einde een juiste instelling van de beide platen 113 en 115 ten opzichte van elkaar mogelijk te maken.
Aan de platen 115 zijn op regelmatige afstand van elkaar enige onder de plaat 115 uitstrekkende pennen 117 bevestigd. Aan de ondereinden van de pennen zijn koppen 118 bevestigd, die zijn opgenomen in in het inwendige van de klemring 102 aangebrachte gekromde sleufgaten 119, die aan een einde zijn voorzien van een verbreed, aan de bovenzijde van de klemring open gat 120 via welke een kop 118 in het sleufgat 119 kan worden gebracht resp. daaruit verwijderd bij geschikte verticale verplaatsing van de arm 109 met de door de arm gedragen onderdelen en verdraaiing van de platen 113 en 115 om de as 112.
Door verzwenking van de arm 109 kan de klemring 102 worden gebracht boven de in figuur 15 weergegeven draagplaat 81 en vervolgens omlaag worden bewogen, zodanig, dat de pennen 104 door de verticaal verlopende delen van de L-vormige sleufgaten 105 naar binnen bewegen en de klemring 102 op de ring 86 komt te rusten. Vervolgens kan de klemring door verdraaiing van de aan elkaar bevestigde platen 113 en 115 met behulp van de verstelcylinder 114 worden verdraaid, waarbij de klemring door de platen 113 en 115 wordt meegenomen via de bouten 117. Bij het einde van de verdraaiing zullen de pennen 104 nabij de gesloten uiteinden van de horizontaal verlopende delen van de sleufgaten 105 zijn gelegen. Vervolgens kunnen de platen 113 en 115 worden verzwenkt naar een stand waarin de koppen 118 bij de uitsparingen 120 komen te liggen zodat dan de platen 113 en 115 met de pennen 117 omhoog kunnen worden bewogen onder het achterlaten van de klemring 102 op de draagplaat 81.
Vervolgens kan, zoals met stippellijnen in figuur 14 weergegeven, het zo vastgeklemde substraat 18 met de daarop vastgeklemde roestvrijstalen contactring 86 worden verzwenkt in een electrolyse-vloeistof bevattende bak 125. In deze bak is een huis 126 opgesteld dat aan een zijkant is voorzien van een opening 127 waartegenover de draagplaat 81 met het daarop geklemde substraat 18 op de in de figuur 14 met stippellijnen weergegeven wijze wordt opgesteld.
Zoals verder in de figuur 14 is aangeduid is in het huis 126 voor de opening 127 een plaat 129 te schuiven, welke is voorzien van een doortocht 130, welke is aangepast aan het te metalliseren oppervlak van het substraat. Daar de plaat 129 gemakkelijk uitwisselbaar is met een andere plaat met een andere doortocht kan de grootte van de doortocht gemakkelijk aan de behoefte worden aangepast.
In de bak is verder een opneemorgaan 131 geplaatst, waarin zich een groot aantal metalen kogels, in het algemeen nikkelen kogels 132 zal bevinden. Door toepassing van de weergegeven constructie kan de afstand tussen het de nikkelen kogels bevattende opneemorgaan 132 en het te behandelen substraat verhoudingsgewijs klein, in de orde van ± 35 mm worden gehouden, hetgeen een gunstige invloed heeft op het snel en gelijkmatig bedekken van het substraat.
Zoals verder nog in de figuur 14 is aangeduid zijn in de de opening 127 begrenzende wand van het huis 126 een aantal vloeistofdoor-tochten 133 aangebracht over een omtrekshoek van ± 50°. Via deze openingen kan vers electroliet worden toegevoerd, zodanig, dat dit verse electroliet ongeveer stroomt in een richting evenwijdig aan het oppervlak van het substraat 18, zoals aangeduid met behulp van de pijl C.
Door het steeds toevoeren van verse electroliet zal een goede neerslag varv het nikkel op het substraatoppervlak worden bewerkstelligd.
Het zal duidelijk zijn, dat daarbij de nikkelneerslag op het substraat en de daarop gelegde metalen contactring bijvoorbeeld als cathode zal werken en de nikkelkogels de anode zullen vormen zoals in dergelijke processen gebruikelijk is.
Zo zal in dit station op het substraat een dikke deklaag worden aangebracht, in de geest zoals weergegeven in figuur 3 van de bovengenoemde Nederlandse octrooiaanvrage 8802211.
Indien een voldoend dikke ruglaag is gevormd zal de draagplaat 81 weer worden teruggezwenkt waarbij de draagplaat met het substraat en de deklaag met warm gedeïoniseerd water wordt schoongespoeld. Vervolgens wordt de draagplaat teruggezwenkt naar de in figuur 14 weergegeven stand, waarna de klemring 102 kan worden verwijderd door een omkering van de hierboven beschreven stappen voor het aanbrengen van de klemring 102. Vervolgens kan met behulp van het transportmechanisme het substraat met de daarop aangebrachte ruglaag, die nu een geheel vormt met de op het substraat gelegde ring 86, worden afgenomen en worden geplaatst op een verzwenkbare arm 140, die is opgesteld in een verder station1* 141. De opbouw van de verzwenkbare arm 140 komt althans in hoofdzaak overeen met de hierboven beschreven arm 23 en met behulp van deze arm 140, die zowel om een verticale as verzwenkbaar als in hoogterichting verplaatsbaar is, kunnen de substraten worden geplaatst in een in het station 141 geplaatst rek 142.
De zo bewerkte substraten kunnen via een niet nader aangeduide toegangsdeur uit de inrichting worden verwijderd zodat het substraat op gebruikelijke wijze, bijvoorbeeld met de hand, kan worden verwijderd van de op bovenbeschreven wijze op het substraat gevormde zogenaamde vadermatrijs, welke er uit zal zien, zoals aangeduid in figuur 4 van de bovengenoemde Nederlandse octrooiaanvrage 8802211.
Deze vadermatri js kan, indien nodig, nog met zijn het reliëf bezittende oppervlak naar boven worden geplaatst op een in station 141 aanwezige draaitafel 145, waarna een schematisch aangeduide lichtbron 146, die bevestigd is aan een om een verticale as draaibare arm 147, over de plaat kan worden bewogen voor het ontwikkelen van op de gevormde vadermatri js nog aanwezige resten van lak resp. foto-resist. Vervolgens kan een aan het uiteinde van een arm 148 (figuren 16, 17) bevestigd sproei-mechanisme 149 boven de in station 140 op de draaitafel rustende vadermatri js worden gezwenkt. De arm 148 is weer op soortgelijke wijze als hierboven besproken met behulp van een verstelcylinder 150 in verticale richting op en neer beweegbaar alsmede met behulp van een horizontale verstelcylinder 151 om een verticale zwenkas verzwenkbaar.
In een in de figuur 16 weergegeven stand van het sproei-mechanisme 149 kan spoel vloeistof op de op de in figuur 16 niet weergegeven draaitafel 145 rustende vadermatrijs 152 worden gespoten, om de vadermatri js schoon te spoelen.
Vervolgens kan via de sproei-inrichting 149 een laklaag op de vadermatrijs 152 worden aangebracht. Hiertoe wordt de arm 148 omlaag bewogen, zodat een met een aan de arm 148 bevestigde en het sproeimechanisme omgevende mantel 153' gekoppelde opvangring 153 op het konisch naar boven toelopende omtreksvlak van het de draaitafel 145 opnemende komvormige . orgaan 154 komt te rusten. Hiertoe is een bodemring 155 van de opvangring vanaf zijn buitenomtrek schuin omhoog naar binnen lopend uitgevoerd waardoor tussen de buitenwand van de opvangring 153 en de bodemring 155 een opvangruimte 156 is gevormd voor het opvangen van eventuele restlak. Opvangring 153 is met behulp van pennen 157 <h geeigende L-vormige sleuf-gaten, die een soort bajonetsluiting vormen, gemakkelijk verwijderbaar met de mantel 153' gekoppeld, zodat de opvangring 153 gemakkelijk kan worden afgenomen en schoongemaakt, indien een zekere hoeveelheid lak zich in de ring verzameld heeft.
De zo voltooide vadermatrijs kan uit de inrichting worden af gevoerd voor opslag en/of voor toevoer aan verdere bewerkingsmachines.
Tijdens bedrijf zal de behuizing 1 afgesloten zijn en kan schone lucht via door de behuizing begrensde kanalen 158 en een raster 159 in de stations voor het bewerken van het substraat worden toegevoerd.
De verschillende stations kunnen in een andere volgorde worden opgesteld dan hierboven is beschreven en in de figuren is afgebeeld.
Het aanbrengen van het station 52 nabij een uiteinde van de behuizing 1 verdient echter de voorkeur omdat de in dit station opgestelde apparatuur, zoals de laserinrichting en de optica, gevoelige onderdelen zijn, die regelmatig onderhoud behoeven.
Door de opstelling van deze apparatuur nabij een uiteinde van de inrichting kan de apparatuur gemakkelijk goed toegankelijk worden ondergebracht.
Verder is het niet noodzakelijk, dat de verschillende stations in een rechte lijn achter elkaar zijn opgesteld. De behuizing 1 kan bijvoorbeeld ook een gebogen verloop hebben.
Hoewel in het bovenstaande meerdere malen naar de Nederlandse octrooiaanvrage 8802211 is verwezen zal het duidelijk zijn, dat bij gebruikmaking van de inrichting volgens de uitvinding een vadermatrijs op het substraat 18 kan worden gevormd onder gebruikmaken van een werkwijze, die afwijkt van de in de Nederlandse octrooiaanvrage 8802211 beschreven werkwijze.
Claims (31)
1. Inrichting voor het vervaardigen van een matrijs voor een schijfvormige registratiedrager, welke inrichting is voorzien van een station voor het aanbrengen van een voor lichtenergie gevoelige laag zoals een foto-resistlaag op een substraat, van een station voor het belichten van de voor licht gevoelige laag in overeenstemming met de in te schrijven registratie-gegevens, van een station voor het ontwikkelen van de voor licht gevoelige laag en metalliseren van de dl ontwikkelde foto-resistlaag dragende zijde van het substraat en van een station voor het aanbrengen van een metalen deklaag, met het kenmerk, dat de verschillende stations zijn ondergebracht in een behuizing en in de diverse stations middelen zijn aangebracht voor het opnemen van de substraten, terwijl een in de behuizing opgesteld transportmechanisme is voorzien van tenminste een transportorgaan voor het grijpen van een substraat, welk transportorgaan in een horizontaal vlak in twee een hoek met elkaar insluitende richtingen, evenals in op en neer gaande richting in de behuizing verplaatsbaar is.
2. Inrichting volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat de inrichting bij een invoerstation is voorzien van een om een verticale as ver-zwenkbare en in hoogterichting verplaatsbare arm aan een uiteinde waarvan middelen zijn aangebracht voor het opnemen van een substraat.
3. Inrichting volgens conclusie 2, met het kenmerk, dat in de middelen voor het opnemen van het substraat een onderdruk kan worden opgewekt.
4. Inrichting volgens een der voorgaande conclusies, met het kenmerk, dat het station voor het aanbrengen van een voor licht gevoelige laag is voorzien van een draaitafel voor het opnemen van een substraat, alsmede van verplaatsbare, bijvoorbeeld om verticale draaiingsassen verzwenkbare, toevoerleidingen voor het toevoeren van spoel vloei stof en hechtmiddel en lichtgevoelig materiaal op de bovenzijde van het op de draaitafel rustende substraat, terwijl in het station verder een om een verticale as verzwenkbare en in hoogterichting verplaatsbare borstelinrichting is aangebracht.
5. Inrichting volgens conclusie 4, met het kenmerk, dat naast de draaitafel een opvangbak is opgesteld, waarboven de borstel kan worden geplaatst terwijl de opvangbak is aangesloten op een afvoerleiding.
6. Inrichting volgens een der voorgaande conclusies, met het kenmerk, dat de inrichting is voorzien van een droogstation voor het drogen van een aangebrachte foto-resistlaag, waarbij het droogstation een luchtleiding omvat voor het opnemen van een substraat alsmede middelen voor het doorvoeren van lucht door de luchtleiding en middelen voor het verwarmen van de door de luchtleiding gevoerde lucht.
7. Inrichting volgens conclusie 6, met het kenmerk, dat voor het inbrengen van een substraat in de luchtleiding in een bovenwand van de luchtleiding een opening is aangebracht, welfte afsluitbaar is met behulp van een in hoogterichting verplaatsbaar en om een verticale draaiingsas verzwenkbaar deksel.
8. Inrichting volgens conclusie 6 of 7, met het kenmerk, dat in de luchtleiding bovenstrooms van de plaats voor het opnemen van een substraat in de luchtleiding een diafragma is aangebracht.
9. Inrichting volgens een der voorgaande conclusies 2-8, met het kenmerk, dat het droogstation is opgesteld nabij het invoerstation voor de substraten.
10. Inrichting volgens een der voorgaande conclusies, met het kenmerk, dat het station voor het ontwikkelen van de foto-resistlaag en voor het metalliseren van de ontwikkelde foto-resistlaag is voorzien van een draaitafel en een nabij de draaitafel om een verticale draai ingas ver-zwenkbare arm welke leidingen ondersteund via welke vloeistoffen voor het behandelen van de foto-resistlaag en voor het metalliseren kunnen worden toegevoerd.
11. Inrichting volgens conclusie 10, met het kenmerk, dat naast de draaitafel een op een afvoer aangesloten opvangbak is opgesteld waarboven de de leidingen ondersteunende arm kan worden gezwenkt.
12. Inrichting volgens conclusie 10 of 11, met het kenmerk, dat nabij de draaitafel een lensen ondersteunende arm, die om een verticale draaiingsas verdraaibaar is, is opgesteld, terwijl onder de draaitafel een bron van laserlicht is opgesteld zodanig, dat vanaf de laserbron door het substraat bewegend licht door de lensen kan worden opgenomen en verwerkt voor het bepalen van de kwaliteit van het substraat met de daarop aangebracht ontwikkelde foto-resistlaag.
14. Inrichting volgens een der voorgaande conclusies, met het kenmerk, dat de inrichting is voorzien van een station voor het aanbrengen van een uit metaal bestaande deklaag op het van een ontwikkelde foto-resistlaag voorziene substraat, waarbij in dit station een steunorgaan is opgesteld voor het opnemen van een substraat, welk steunorgaan om een horizontale as verzwenkbaar is tussen een voor het opnemen van een substraat geschikte stand en een stand, waarin het door het steunorgaan ondersteunde substraat is ondergedompeld in een een electrolyse-vloeistof bevattend vat.
15. Inrichting volgens conclusie 14, met het kenmerk, dat in het station voor het aanbrengen van een deklaag εεΉ aan het uiteinde van een om een verticale as verdraaibare arm aangebracht grijporgaan is opgesteld, welk grijporgaan enige ten opzichte van het hart van het grijporgaan in radiale richting heen en weer verschuifbare vingers omvat voor het opnemen van ringvormige op het substraat te plaatsen voorwerpen.
16. Inrichting volgens conclusie 14 of 15, met het kenmerk, dat in het station voor het aanbrengen van de deklaag een om een verticale as ver-zwenkbare arm is opgesteld waarbij aan het einde van de arm een mechanisme is aangebracht voor het bevestigen van een klemring op het steunorgaan.
17. Inrichting volgens conclusie 16, met het kenmerk, dat de klemring en het voor het opnemen van substraat bestemde steunorgaan zijn voorzien van pennen en in hoofdzaak L-vormige sleufgaten, die samen een soort bajonetsluiting vormen voor het vastzetten van de klemring op het steunorgaan.
18. Inrichting volgens conclusie 16 of 17, met het kenmerk, dat het mechanisme voor het bevestigen van de klemring een ten opzichte van de arm om een draaiingsas verdraaibare drager omvat, en aan de drager enige onder de drager uitstekende pennen zijn bevestigd, die aan hun ondereinden zijn voorzien van koppen, die passen in het inwendige van de klemring aangebrachte, zich concentrisch om de draaiingsas uitstrekkende sleufgaten, die nabij een einde toegankelijk zijn voor het inbrengen en uittrekken van de aan de ondereinden van de pennen bevestigde koppen.
19. Inrichting volgens een der conclusies 14-18, met het kenmerk, dat in de in het electrolyse-vloeistof bevattende vat ingebrachte stand van het steunorgaan het door het steunorgaan ondersteunde substraat is gelegen tegenover een opening, die is aangebracht in een in het vat geplaatst huis, waarin zich korrels bevinden van het materiaal waaruit de deklaag moet worden gevormd, terwijl verder middelen zijn aangebracht, met behulp waar- van langs de naar het inwendige van het huis gekeerde zijde van het substraat een stroom kan worden opgewekt van toegevoerde verse electrolyse-vloeistof.
20. Inrichting volgens conclusie 19, met het kenmerk, dat in het huis een uitwisselbare plaat is aangebracht, voorzien van een opening waarvan het hart althans nagenoeg samenvalt met het hart van de in het huis aangebrachte opening.
21. Inrichting volgens een der voorgaande conclusies, met het kenmerk, dat de inrichting is voorzien van een station waarin een rek staat opgesteld voor het opnemen van behandelde substraten alsmede een om een verticaal staande zwenkas verzwenkbare en in hoogterichting verplaatsbare arm, die aan zijn uiteinde is voorzien van middelen voor het opnemen van het substraat, een en ander zodanig, dat met behulp van de arm door het transportmechanisme op de arm geplaatste substraten in het rek kunnen worden geplaatst en deze substraten met behulp van de arm ook uit het rek kunnen worden uitgenomen.
22. Inrichting volgens een der voorgaande conclusies, met het kenmerk, dat de inrichting is voorzien van een station, waarin een draaitafel is opgesteld waarop een gevormde matrijs kan worden opgelegd, zodanig dat de matrijs op de aangebrachte deklaag rust, terwijl in het station verder een om een verticale as verdraaibare arm is aangebracht, welke een lichtbron ondersteunt voor het belichten van de matrijs, meer in het bijzonder van eventuele op de matrijs aanwezige restanten foto-resist.
23. Inrichting volgens conclusie 22, met het kenmerk, dat in het station tevens een om een verticale zwenkas verzwenkbare en op en neer beweegbare arm is aangebracht, welke sproeimiddelen ondersteunt, met behulp waarvan op het bovenvlak van de matrijs spoel vloeistof en/of lak kan worden aangebracht.
24. Inrichting volgens conclusie 23, met het kenmerk, dat de sproeimiddelen zijn omgeven door een ringvormige mantel op de onderzijde waarvan zich een schuin omhoog en naar binnen gerichte bodemrand aansluit.
25. Inrichting volgens conclusie 24, met het kenmerk, dat de mantel gemakkelijk afneembaar met de arm is gekoppeld.
26. Inrichting volgens een der voorgaande conclusies, met het kenmerk, dat het station voor het belichten van de foto-resistlaag nabij een uiteinde van de inrichting is opgesteld.
27. Inrichting volgens een der voorgaande conclusies, met het kenmerk, dat het transportmechanisme is voorzien van twee transportorganen voor het grijpen van een substraat, waarbij de beide transportorganen zijn bevestigd aan een slede, die in twee een hoek met elkaar insluitende richtingen verplaatsbaar is, terwijl ieder van de transportorganen onafhankelijk van het andere transportorgaan in op en neer gaande richting verplaatsbaar is.
28. Inrichting volgens een der voorgaande conclusies, met het kenmerk, dat ieder station is opgesteld in een’’ ruimte waarin middelen zijn aangebracht voor het in deze ruimte toevoeren van schone lucht.
29. Werkwijze voor het vervaardigen van een matrijs voor een schijf-vormige registratiedrager, waarbij een substraat, waarop de matrijs moet worden gevormd, in een tijdens bedrijf afgesloten behuizing met behulp van transportmiddelen automatisch wordt verplaatst tussen verschillende stations zoals een station voor het aanbrengen van een foto-resistlaag op het substraat, van een station voor het belichten van de foto-resistlaag in overeenstemming met de in te schrijven registratiegegevens, een station voor het ontwikkelen van de foto-resistlaag en metalliseren van de de ontwikkelde foto-resistlaag dragende zijde van het substraat en van een station voor het aanbrengen van een metalen deklaag.
30. Werkwijze volgens conclusie 29, met het kenmerk, dat het substraat in een daartoe geschikt station eerst wordt schoongespoeld en/of schoongeborsteld, waarna in dit station op het substraat een foto-resistlaag wordt aangebracht.
31. Werkwijze volgens conclusie 29 of 30, met het kenmerk, dat na het aanbrengen van de foto-resistlaag het substraat wordt gebracht in een station, waar verwarmde lucht over de foto-resistlaag wordt gevoerd voor het drogen van de foto-resistlaag.
32. Werkwijze volgens conclusie 31, met het kenmerk, dat het substraat wordt geplaatst in een afsluitbare luchtleiding waardoorheen eerst verwarmde lucht en vervolgens koellucht wordt gevoerd.
Priority Applications (12)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL9201825A NL9201825A (nl) | 1992-10-21 | 1992-10-21 | Inrichting voor het vervaardigen van een matrijs voor een schijfvormige registratiedrager. |
DE69300222T DE69300222T2 (de) | 1992-10-21 | 1993-10-18 | Gerät zur Herstellung einer Matrize für einen scheibenförmigen Aufzeichnungsträger. |
EP93202917A EP0594255B1 (en) | 1992-10-21 | 1993-10-18 | A device for manufacturing a mould for a disc-shaped registration carrier |
AT93202917T ATE124562T1 (de) | 1992-10-21 | 1993-10-18 | Gerät zur herstellung einer matrize für einen scheibenförmigen aufzeichnungsträger. |
US08/138,224 US5403397A (en) | 1992-10-21 | 1993-10-20 | Device for manufacturing a mold for a disc-shaped registration carrier |
JP5263487A JP2771762B2 (ja) | 1992-10-21 | 1993-10-21 | ディスク形記録担体用の型製造装置 |
RU93048165A RU2113020C1 (ru) | 1992-10-21 | 1993-10-21 | Способ и устройство для изготовления матрицы для дискового носителя информации |
KR1019930021947A KR0182331B1 (ko) | 1992-10-21 | 1993-10-21 | 원판형 기록매체의 주물을 제조하는 장치 |
CN93120241A CN1039063C (zh) | 1992-10-21 | 1993-10-21 | 一种制造盘状纪录体的模盘的装置及其方法 |
TW082109132A TW239212B (nl) | 1992-10-21 | 1993-11-02 | |
HK184995A HK184995A (en) | 1992-10-21 | 1995-12-07 | A device for manufacturing a mould for a disc-shaped registration carrier |
US08/838,805 US5780205A (en) | 1992-10-21 | 1997-04-10 | Method for manufacturing a mold for a disc-shaped registration carrier |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL9201825 | 1992-10-21 | ||
NL9201825A NL9201825A (nl) | 1992-10-21 | 1992-10-21 | Inrichting voor het vervaardigen van een matrijs voor een schijfvormige registratiedrager. |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NL9201825A true NL9201825A (nl) | 1994-05-16 |
Family
ID=19861405
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NL9201825A NL9201825A (nl) | 1992-10-21 | 1992-10-21 | Inrichting voor het vervaardigen van een matrijs voor een schijfvormige registratiedrager. |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US5403397A (nl) |
EP (1) | EP0594255B1 (nl) |
JP (1) | JP2771762B2 (nl) |
KR (1) | KR0182331B1 (nl) |
CN (1) | CN1039063C (nl) |
AT (1) | ATE124562T1 (nl) |
DE (1) | DE69300222T2 (nl) |
HK (1) | HK184995A (nl) |
NL (1) | NL9201825A (nl) |
RU (1) | RU2113020C1 (nl) |
TW (1) | TW239212B (nl) |
Families Citing this family (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100284556B1 (ko) * | 1993-03-25 | 2001-04-02 | 다카시마 히로시 | 도포막 형성방법 및 그를 위한 장치 |
US5565034A (en) * | 1993-10-29 | 1996-10-15 | Tokyo Electron Limited | Apparatus for processing substrates having a film formed on a surface of the substrate |
US5518542A (en) * | 1993-11-05 | 1996-05-21 | Tokyo Electron Limited | Double-sided substrate cleaning apparatus |
US6074901A (en) * | 1993-12-03 | 2000-06-13 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Process for crystallizing an amorphous silicon film and apparatus for fabricating the same |
JPH07186194A (ja) * | 1993-12-27 | 1995-07-25 | Sony Disc Technol:Kk | スタンパーの自動交換装置 |
US5718763A (en) * | 1994-04-04 | 1998-02-17 | Tokyo Electron Limited | Resist processing apparatus for a rectangular substrate |
JP3196917B2 (ja) * | 1994-06-17 | 2001-08-06 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
US5529626A (en) * | 1994-10-24 | 1996-06-25 | Nec Electronics, Inc. | Spincup with a wafer backside deposition reduction apparatus |
JP3235012B2 (ja) * | 1995-08-18 | 2001-12-04 | 株式会社新川 | ダイ移送装置 |
JP3354761B2 (ja) * | 1995-08-30 | 2002-12-09 | オリジン電気株式会社 | ディスク用被膜形成装置 |
DE19537409A1 (de) * | 1995-10-09 | 1997-04-10 | Leybold Ag | Vorrichtung zur Herstellung von belichteten und metallisierten Substraten |
NL1002849C2 (nl) * | 1996-04-12 | 1997-10-15 | Od & Me Bv | Inrichting voor het bewerken van een schijfvormig substraat alsmede een station geschikt voor koppeling met een dergelijke inrichting. |
NL1002848C2 (nl) * | 1996-04-12 | 1997-10-15 | Od & Me Bv | Grijperinrichting voor het beetpakken van een schijfvormig object. |
NL1002879C2 (nl) * | 1996-04-16 | 1997-10-17 | Robi Omp Mastering Dev Gmbh | Cassette voor een schijfvormige drager of substraat. |
NL1002876C2 (nl) * | 1996-04-16 | 1997-10-17 | Robi Omp Mastering Dev Gmbh | Inrichting voor het vervaardigen van schijfvormige informatiedragers. |
JP3249395B2 (ja) * | 1996-06-21 | 2002-01-21 | 東京応化工業株式会社 | 処理ユニット構築体 |
US5779799A (en) * | 1996-06-21 | 1998-07-14 | Micron Technology, Inc. | Substrate coating apparatus |
NL1004837C2 (nl) * | 1996-12-19 | 1998-06-22 | O T B Engineering B V | Systeem voor het produceren van optische gegevensdragers. |
KR20000046116A (ko) * | 1998-12-31 | 2000-07-25 | 김영환 | Cdma무선데이터 서비스를 위한 교환기의 계층 3 메시지 처리 장치 |
DE29909642U1 (de) * | 1999-06-02 | 2000-10-05 | Universalmanufakturing & Logistics GmbH, 30851 Langenhagen | Vorrichtung zum Beschichten scheibenförmiger Informationsträger |
WO2002095499A1 (en) * | 2001-05-23 | 2002-11-28 | Optical Measuring-Equipment & Projects Bv | Method for manufacturing a stamper for optical disc production, a stamper obtained by the method, and an optical disc obtained with such stamper |
DE10136331A1 (de) * | 2001-07-26 | 2003-02-20 | Steag Hamatech Ag | Vorrichtung und Verfahren zum Abtasten von Datenträgern |
DE10202559A1 (de) * | 2002-01-24 | 2003-07-31 | Krauss Maffei Kunststofftech | Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen optischer Datenträger |
WO2007084952A2 (en) * | 2006-01-18 | 2007-07-26 | Akrion Technologies, Inc. | Systems and methods for drying a rotating substrate |
DE102006015460A1 (de) * | 2006-03-31 | 2007-10-04 | Büttner, Dieter | Vorrichtung zum Herstellen einer Datenträger-Matrize |
EP1965383A1 (en) * | 2007-03-02 | 2008-09-03 | Singulus Mastering B.V. | Diffraction order measurement |
DE102009060649A1 (de) * | 2009-12-22 | 2011-06-30 | EISENMANN Anlagenbau GmbH & Co. KG, 71032 | Anlage zur Oberflächenbehandlung von Gegenständen |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4650735A (en) * | 1982-10-14 | 1987-03-17 | U.S. Philips Corporation | Method of manufacturing a metal matrix and an intermediate product obtained in performing the method |
US4604027A (en) * | 1984-06-21 | 1986-08-05 | At&T Technologies, Inc. | Manipulator of articles and methods of moving articles over an extended distance |
JPH0620922B2 (ja) * | 1984-10-19 | 1994-03-23 | 株式会社東芝 | 被検物の搬送装置 |
EP0189279B1 (en) * | 1985-01-22 | 1991-10-09 | Applied Materials, Inc. | Semiconductor processing system |
JPS61178747A (ja) * | 1985-02-04 | 1986-08-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光デイスクの製造方法およびその装置 |
JPH0739288B2 (ja) * | 1985-09-18 | 1995-05-01 | 松下電器産業株式会社 | デイスク基板搬送装置 |
US4850791A (en) * | 1986-09-10 | 1989-07-25 | Pioneer Electronic Corporation | Flow processing system |
JPH0410529A (ja) * | 1990-04-27 | 1992-01-14 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | サセプタ及びウエーハ自動脱着装置 |
JPH0451444A (ja) * | 1990-06-20 | 1992-02-19 | Nec Kyushu Ltd | イオン注入装置 |
JPH04221444A (ja) * | 1990-12-20 | 1992-08-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光ディスク製造装置 |
DE4127341C2 (de) * | 1991-08-19 | 2000-03-09 | Leybold Ag | Vorrichtung zum selbsttätigen Gießen, Beschichten, Lackieren, Prüfen und Sortieren von Werkstücken |
-
1992
- 1992-10-21 NL NL9201825A patent/NL9201825A/nl not_active Application Discontinuation
-
1993
- 1993-10-18 EP EP93202917A patent/EP0594255B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-10-18 DE DE69300222T patent/DE69300222T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1993-10-18 AT AT93202917T patent/ATE124562T1/de not_active IP Right Cessation
- 1993-10-20 US US08/138,224 patent/US5403397A/en not_active Expired - Fee Related
- 1993-10-21 JP JP5263487A patent/JP2771762B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1993-10-21 CN CN93120241A patent/CN1039063C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1993-10-21 RU RU93048165A patent/RU2113020C1/ru active
- 1993-10-21 KR KR1019930021947A patent/KR0182331B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1993-11-02 TW TW082109132A patent/TW239212B/zh active
-
1995
- 1995-12-07 HK HK184995A patent/HK184995A/xx not_active IP Right Cessation
-
1997
- 1997-04-10 US US08/838,805 patent/US5780205A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0594255B1 (en) | 1995-06-28 |
DE69300222T2 (de) | 1995-11-16 |
US5780205A (en) | 1998-07-14 |
DE69300222D1 (de) | 1995-08-03 |
KR0182331B1 (ko) | 1999-04-15 |
CN1091852A (zh) | 1994-09-07 |
EP0594255A1 (en) | 1994-04-27 |
KR940008779A (ko) | 1994-05-16 |
US5403397A (en) | 1995-04-04 |
CN1039063C (zh) | 1998-07-08 |
RU2113020C1 (ru) | 1998-06-10 |
ATE124562T1 (de) | 1995-07-15 |
JP2771762B2 (ja) | 1998-07-02 |
HK184995A (en) | 1995-12-15 |
JPH06195764A (ja) | 1994-07-15 |
TW239212B (nl) | 1995-01-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
NL9201825A (nl) | Inrichting voor het vervaardigen van een matrijs voor een schijfvormige registratiedrager. | |
JP3455458B2 (ja) | 塗布、現像装置及び塗布現像処理における基板再生システム | |
US5612068A (en) | Apparatus for the transfer of substrates | |
US5415890A (en) | Modular apparatus and method for surface treatment of parts with liquid baths | |
US6547638B2 (en) | Method and apparatus for dry-in, dry-out polishing and washing of a semiconductor device | |
JP6130536B2 (ja) | 試料を空調室装置に時間制御された態様で自動的に格納する方法 | |
KR970000698B1 (ko) | 기판반송장치 | |
US5974680A (en) | Apparatus for use in cleaning wafers | |
JPH06504369A (ja) | 生物サンプルの移動 | |
FI109873B (fi) | Menetelmä ja laite tuotteen päällystämiseksi | |
JPH07192375A (ja) | コーティング装置に間欠的かつ自動的にロード及びアンロードする装置と方法 | |
JP2008177468A (ja) | 基板の処理方法、塗布処理装置及び基板処理システム | |
US6444170B1 (en) | Apparatus for the treatment for specimens | |
US4850381A (en) | Machine for stripping wafers | |
US5138974A (en) | Vacuum apparatus for coating an optical substrate | |
US20180045858A1 (en) | Apparatus for coating lenses including advanced drying techniques | |
JP2014087792A (ja) | 光学制御器を有するスピンコーター | |
US6207337B1 (en) | Immersion coating system | |
TWI473667B (zh) | 清潔方法及裝置 | |
JP4373246B2 (ja) | 光学レンズのコーティング装置 | |
US20230279537A1 (en) | Coating installation, clamping ring and magazine for spectacle lenses and method of coating spectacle lenses | |
US20220355434A1 (en) | Block mold and apparatus for blocking a lens | |
NL1011077C2 (nl) | Werkwijze en inrichting voor het langs een snijlijn(en) van elkaar scheiden van met een gemeenschappelijke drager gevormde producten. | |
JPH05242534A (ja) | ディスク型情報記録媒体製造用のディスクの外周円筒面 をクリーニングする方法及び装置 | |
ATE64267T1 (de) | Verfahren zum automatischen bearbeiten von kaeselaiben und maschine zur durchfuehrung des verfahrens. |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A1B | A search report has been drawn up | ||
BV | The patent application has lapsed |