DE69113139T2 - Mittel und Verfahren zum Entfernen von Lötflussmitteln auf Kolophoniumbasis. - Google Patents

Mittel und Verfahren zum Entfernen von Lötflussmitteln auf Kolophoniumbasis.

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Description

  • Die vorliegende Erfindung betrifft ein Reinigungsmittel und ein Verfahren zur Entfernung von Löt-Flußmitteln auf Colophonium-Basis und insbesondere ein Reinigungsmittel und ein Verfahren zur Entfernung von Löt-Flußmitteln auf Colophonium-Basis für die Montage.
  • Ein Löt-Flußmittel auf Cclophonium-Basis wird bei der Herstellung von Modulen für gedruckte Schaltplatten und gedruckte Verdrahtungsplatten oder dergleichen eingesetzt. Im allgemeinen wird das Löten durchgeführt, um die Verbindung zwischen dem Substrat und Nadeln zu fördern und die Oxidation an Kontaktpunkten, die die elektrische Leitfähigkeit beeinträchtigt, zu verhindern. Flußmittel auf Colophonium-Basis werden eingesetzt, um das Löten wie gewünscht zu erzielen. Nach dem Löten wird ein Reinigungsmittel verwendet, um nur das Flußmittel selektiv und vollständig zu entfernen. Wenn das Reinigungsmittel das Flußmittel nicht vollständig entfernt, beeinträchtigt das verbliebene Flußmittel die Lötstelle, was zu Nachteilen hinsichtlich Schaltkreiskorrosion, Verschlechterung der elektrischen Isoliereigenschaften auf Plattenoberflächen und zu einem schließlichen Ausfall des Schaltkreises führt. Um derartige Nachteile zu eliminieren, wird das verbliebene Flußmittel, insbesondere der darin vorhandene Aktivator, üblicherweise durch ein geeignetes Reinigungsmittel entfernt.
  • Bisher sind halogenierte Kohlenwasserstoff-Lösungsmittel wie beispielsweise Trichlorethylen, Trichlortrifluorethan und ähnliche Flone als Reinigungsmittel für die Entfernung von Lötmitteln auf Colophonium-Basis verwendet worden. Strenge Vorschriften hinsichtlich der Kontrolle derartiger halogenierter Kohlenwasserstoff- Lösungsmittel sind jedoch festgelegt worden, um die Umweltverschmutzungs-Probleme wie beispielsweise die Zerstörung der Ozonschicht zu lösen. Momentan besteht ein dringendes Bedürfnis der Elektrogeräte- Industrie für die Entwicklung von Reinigungsmitteln für Flußmittel als Ersatz für Flone.
  • In den letzten Jahren sind verschiedene halogenfreie Reinigungsmittel für Flußmittel entwickelt worden. Beispielsweise ist ein Reinigungsmittel vom Alkali-Verseifungs-Typ vorgeschlagen worden. Ein derartiges Reinigungsmittel, das in Form einer wäßrigen Lösung vorliegt, weist hinsichtlich der Entzündbarkeit kein Problem auf, zeigt aber den Nachteil einer niedrigen Reinigungseffizienz, so daß die Platte für eine lange Zeitdauer unter Erwärmen mit der Lösung in Berührung gebracht werden sollte, und es besteht die Gefahr, daß die Metallteile der Platte möglicherweise korrodiert werden. Andererseits sind auch Reinigungsmittel vom Nicht-Alkali- Verseifungs-Typ vorgeschlagen worden. DE-C-858485 offenbart eine Zusammensetzung für die Entfernung von Löt-Flußmittel, die Phosphorsäure und ein nicht-ionisches Tensid umfaßt. Es ist jedoch kein Reinigungsmittel bereitgestellt worden, das alle Eigenschafts- Anforderungen für Reinigungsmittel einschließlich Reinigungseigenschaft, Toxizität, Geruch, Entflammbarkeit usw. vollständig erfüllen kann.
  • Aus diesem Grund haben wir in einem Versuch, die obigen Probleme zu lösen, eine intensive Forschung durchgeführt und folglich gefunden, daß wenn eine spezielle Glycolether-Verbindung und ein nicht- ionisches Tensid gemeinsam als wesentliche Bestandteile verwendet werden, die obigen Probleme gelöst werden können. Auf der Grundlage dieser Erkenntnis haben wir die in der japanischen Patentanmeldung Nr. Hei 1-291905 beschriebene Erfindung gemacht.
  • Wenn die Reinigungseigenschaften eines Reinigungsmittels zur Entfernung von Löt-Flußmitteln im wesentlichen beibehalten werden, wenn das Reinigungsmittel mit Wasser verdünnt wird, weist ein derartiges verdünntes Reinigungsmittel in Form einer wäßrigen Lösung oder Emulsion die Vorteile auf, daß es weniger entzündbar und weniger kostspielig ist und die Belastung hinsichtlich der Abwasser- Behandlung beträchtlich vermindert. Die Beschreibung der obigen japanischen Patentanmeldung offenbart, daß das darin beschriebene Reinigungsmittel in mit Wasser verdünnter Form verwendet werden kann. Es besteht jedoch die Tendenz, daß die Reinigungsfähigkeit dieses Reinigungsmittels bei Verdünnung mit Wasser vermindert wird.
  • Ein Ziel der vorliegenden Erfindung ist die Bereitstellung eines Halogen-freien Reinigungsmittels für die Entfernung von Löt- Flußmitteln, das eine ausgezeichnete Reinigungseigenschaft, insbesondere bei Verwendung in mit Wasser verdünnter Form, aufweist und das im wesentlichen hinsichtlich Eigenschaften, die dem Umweltqualitäts-Standard genügen, Geruch, Entzündbarkeit usw. im wesentlichen zufriedenstellend ist.
  • Wir haben eine umfangreiche Forschung durchgeführt, um das obige Ziel zu erreichen, und haben gefunden, daß ein Reinigungsmittel, das als aktive Bestandteile eine spezielle Glycolether-Verbindung, ein nicht-ionisches Tensid und ein anionisches Phosphat-Tensid umfaßt, überraschenderweise frei von allen oben erwähnten Problemen ist. Auf der Grundlage dieser neuen Erkenntnis haben wir die vorliegende Erfindung gemacht.
  • Erfindungsgemäß wird ein Reinigungsmittel für die Entfernung eines Löt-Flußmittels auf Colophonium-Basis bereitgestellt, welches umf aßt eine Mischung von
  • (A) mindestens einer Glycolether-Verbindung, die durch die Formel (1)
  • dargestellt wird, worin R¹ ein Wasserstoffatom oder eine Alkylgruppe mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen ist, R² eine Alkylgruppe mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen darstellt, R³ für ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe steht und k eine ganze Zahl von 2 bis 4 ist,
  • (B) einem nicht-ionischen Tensid und
  • (C) einem anionischen Phosphat-Tensid.
  • Die vorliegende Erfindung stellt auch ein Reingungsverfahren zur Entfernung eines Flußmittels auf Colophonium-Basis bereit, welches das Kontaktieren des obigen Reinigungsmittels mit dem Flußmittel auf Colophonium-Basis umfaßt.
  • Beispiele für die Glycolether-Verbindungen der Formel (1), d.h. Komponente (A) des Reinigungsmittels für das Löt-Flußmittel auf Colophonium-Basis der vorliegenden Erfindung, sind Diethylenglycolmonomethylether, Diethylenglycoldimethylether, Diethylenglycolmonoethylether, Diethylenglycoldiethylether, Diethylenglycolmethylethylether, Diethylenglycolmonopropylether, Diethylenglycoldipropylether, Diethylenglycolmethylpropylether, Diethylenglycolethylpropylether, Diethylenglycolmonobutylether, Diethylenglycoldibutylether, Diethylenglycolmethylbutylether, Diethylenglycolethylbutylether, Diethylenglycolpropylbutylether, Diethylenglycolmonopentylether, Diethylenglycoldipentylether, Diethylenglycolmethylpentylether, Diethylenglycolethylpentylether, Diethylenglycolpropylpentylether, Diethylenglycolbutylpentylether; die entsprechenden Tri- oder Tetraethylenglycolether; und die entsprechenden Di-, Tri- oder Tetrapropylenglycolether usw. Diese Verbindungen können einzeln eingesetzt werden oder mindestens zwei davon können in einer geeigneten Kombination verwendet werden.
  • Das nicht-ionische Tensid, d.h. Komponente (B) des Reinigungsmittels für Löt-Flußmittel auf Colophonium-Basis der vorliegenden Erfindung, kann ohne spezielle Beschränkung aus vielfältigen bekannten Tensiden ausgewählt werden, solange es nicht-ionische Eigenschaften aufweist. Typische Beispiele dafür sind Polyoxyethylenalkylether, worin die Alkylgruppe mindestens 6, insbesondere 6 - 22, Kohlenstoffatome aufweist, Polyoxyethylenphenylether, Polyoxyethylenalkylphenylether und ähnliche nicht-ionische Tenside auf Polyethylenglycolether- Basis; Polyethylenglycolmonoester, Polyethylenglycoldiester und ähnliche nicht-ionische Tenside auf Polyethylenglycolester-Basis; Addukte von Ethylenoxid und höherem aliphatischen Amin; Addukte von Ethylenoxid und Fettsäureamid; Sorbitanfettsäureester, Zuckerfettsäureester und ähnliche nicht-ionische Tenside auf Basis mehrwertiger Alkohole; Fettsäurealkanolamid; die entsprechenden nicht-ionischen Tenside auf Polyoxypropylen-Basis; und nicht-ionische Tenside auf Polyoxyethylen-Polyoxypropylen-Copolymer-Basis. Diese nicht- ionischen Tenside sind einzeln einsetzbar oder mindestens zwei davon können in Kombination verwendet werden.
  • Unter den oben als Beispiele angegebenen Tensiden sind nichtionische Tenside auf Polyethylenglycolether-Basis im Hinblick auf die Reinigungseigenschaft des Reinigungsmittels wünschenswert und bevorzugter sind Tenside, die durch die folgende Formel (2) dargestellt werden
  • R&sup4;-O-(CH&sub2;CH&sub2;O)m-H (2)
  • worin R&sup4; eine gerad- oder verzweigtkettige Alkylgruppe mit 6 bis 20 Kohlenstoffatomen, vorzugsweise 10 bis 14 Kohlenstoffatomen, eine Phenylgruppe oder eine Phenylgruppe, die mit einer gerad- oder verzweigtkettigen Alkylgruppe mit 7 bis 12 Kohlenstoffatomen substituiert ist, darstellt und m eine ganze Zahl von 2 bis 20, vorzugsweise 3 bis 16 ist.
  • Als anionisches Phosphat-Tensid, d.h. Komponenten (C) der vorliegenden Erfindung, können vielfältige bekannte anionische Phosphat-Tenside ohne spezielle Beschränkung verwendet werden. Bevorzugte Beispiele dafür sind die durch die folgende Formel (3) dargestellten Tenside
  • worin R&sup5; eine gerad- oder verzweigtkettige Alkylgruppe mit 5 bis 20 Kohlenstoffatomen, eine Phenylgruppe oder eine Phenylgruppe, die mit einer gerad- oder verzweigtkettigen Alkylgruppe mit 7 bis 12 Kohlenstoffatomen substituiert ist, darstellt, n eine ganze Zahl von 0 bis 20, vorzugsweise 3 bis 16 ist und X eine Hydroxylgruppe oder eine durch die Formel (4) dargestellte Gruppe bedeutet
  • R&sup6;O(CH&sub2;CH&sub2;O)n&supmin; (4)
  • worin R&sup6; eine gerad- oder verzweigtkettige Alkylgruppe mit 5 bis 20 Kohlenstoffatomen, eine Phenylgruppe oder eine mit einer gerad- oder verzweigtkettigen Alkylgruppe mit 7 bis 12 Kohlenstoffatomen substituierte Phenylgruppe darstellt und n wie oben definiert ist, oder Salze davon. Beispiele für derartige Salze sind Metallsalze wie beispielsweise Natriumsalz und Kaliumsalz, Ammoniumsalze, Alkanolaminsalze wie beispielsweise Monoethanolamin-Salz, Diethanolamin-Salz oder Triethanolamin-Salz und dergleichen.
  • Besonders bevorzugte anionische Phosphat-Tenside sind Polyoxyalkylenphosphat-Tenside der Formel (3), in welcher R&sup5; eine gerad- oder verzweigtkettige Alkylgruppe mit 10 bis 15 Kohlenstoffatomen darstellt, n eine ganze Zahl von 8 bis 12 ist und X für eine Hydroxylgruppe oder eine Gruppe der Formel (4) steht
  • R&sup6;O(CH&sub2;CH&sub2;O)n&supmin; (4)
  • worin R&sup6; eine gerad- oder verzweigtkettige Alkylgruppe mit 10 bis 15 Kohlenstoffatomen bedeutet und n eine ganze Zahl von 8 bis 12 ist.
  • Die durch die Formel (3) dargestellten Polyoxyalkylenphosphat- Tenside und die Salze davon werden weit verbreitet auf den Markt gebracht, beispielsweise unter den Handelsbezeichnungen der "PLYSURF"-Reihe (Produkte von Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.), "N-1000FCP", "RA-574" und "RA-579" (Produkte der Nihon Nyukazai Kabushiki Kaisha) und dergleichen.
  • Bezüglich der Anteile der Glycolether-Verbindung (A), des nicht- ionischen Tensids (B) und des anionischen Phosphat-Tensids (C) gibt es keine spezielle Beschränkung. Das Reinigungsmittel der vorliegenden Erfindung enthält vorzugsweise eine Mischung, welche umfaßt:
  • etwa 10 bis etwa 95 Gew.-% Komponente (A),
  • etwa 5 bis etwa 90 Gew.-% Komponente (B) und
  • etwa 0,1 bis etwa 90 Gew.-% Komponente (C),
  • und enthält bevorzugter eine Mischung, welche umfaßt:
  • etwa 50 bis etwa 90 Gew.-% Komponente (A),
  • etwa 10 bis etwa 60 Gew.-% Komponente (B) und
  • etwa 0,5 bis etwa 60 Gew.-% Komponente (C).
  • In jedem Fall müssen Komponente (A), Komponente (B) und Komponente (C) zusammen 100 Gew.-% ergeben.
  • Erforderlichenfalls kann das erfindungsgemäße Reinigungsmittel Additive wie beispielsweise Antischaummittel, Antioxidationsmittel oder dergleichen enthalten. Ein derartiges Additiv wird, falls eingesetzt, in einer Menge von etwa 0,1 Gew.-% oder weniger, bezogen auf das Gewicht des Reinigungsmittels der Erfindung, zugesetzt.
  • Das Reinigungsmittel der vorliegenden Erfindung, das die Glycolether- Verbindung (A), das nicht-ionische Tensid (B) und das anionische Phosphat-Tensid (C) umfaßt, wird für die Entfernung von Flußmitteln auf Colophonium-Basis eingesetzt, insbesondere denjenigen für die Montage. Durch das erfindungsgemäße Reingungsmittel zu entfernende Flußmittel schließen ein inaktive Colophonium-Flußmittel, die im wesentlichen aus Colophonium, modifiziertem Colophonium oder einer ähnlichen Colophonium-Verbindung bestehen, und aktive Colophonium- Flußmittel, die im wesentlichen aus einer derartigen Colophonium- Verbindung und einem Aktivator (z.B. organischen oder anorganischen Säuresalzen von Amin-Verbindungen wie beispielsweise Triethanolaminhydrochlorid, Triethylentetraminhydrochlorid, Cyclohexylaminhydrochlorid, Anilinhydrochlorid usw.) bestehen. Ein signifikanter Effekt wird vom erfindungsgemäßen Reinigungsmittel insbesondere dann hervorgebracht, wenn es für die Entfernung von aktiven Flußmitteln für die Montage eingesetzt wird.
  • Das Reinigungsmittel der vorliegenden Erfindung kann durch die folgenden Verfahren mit dem Flußmittel auf Colophonium-Basis auf einem Substrat wie beispielsweise einer gedruckten Schaltplatte und dergleichen in Berührung gebracht werden. Das Reinigungsmittel der vorliegenden Erfindung, das aus den aktiven Bestandteilen, d.h. einer Mischung der Glycolether-Verbindung (A), des nicht-ionischen Tensids (B) und des anionischen Phosphat-Tensids (C), besteht, wird so, wie es ist, verwendet, oder in Form einer wäßrigen Lösung mit einer Konzentration der Mischung der aktiven Bestandteile von etwa 10 Gewichts-% oder mehr, aber weniger als 100 Gewichts-%, vorzugsweise etwa 70 Gewichts-% oder mehr, aber weniger als 100 Gewichts-%, verwendet. Das Substrat kann direkt in die so erhaltene wäßrige Lösung oder in die aktiven Bestandteile per se eingetaucht werden. Alternativ kann die wäßrige Lösung über das Substrat gesprüht werden, um es damit zu spülen, oder die aktiven Bestandteile per se oder die wäßrige Lösung kann beim Bürsten mit Hilfe mechanischer Mittel in Berührung mit dem Flußmittel auf Colophonium-Basis gebracht werden. Ein geeignetes Verfahren wird aus diesen Verfahren ausgewählt.
  • Das erfindungsgemäße Reinigungsmittel wird unter den Bedingungen aufgetragen, die in geeigneter Weise gemäß der Konzentration der aktiven Bestandteile in dem zu verwendenden Reinigungsmittel, den Anteilen der aktiven Bestandteile, der Art des zu entfernenden Flußmittels und dergleichen festgelegt werden. Üblicherweise wird das Reinigungsmittel der vorliegenden Erfindung bei einer Temperatur und für eine Zeitspanne, die für die Entfernung des Flußmittels wirksam sind, mit einem Flußmittel in Berührung gebracht. Die Reinigungstemperatur liegt üblicherweise im Bereich von Raumtemperatur bis etwa 80ºC und liegt vorzugsweise zwischen etwa 50ºC und etwa 70ºC. Für die Entfernung eines Flußmittels auf einem Substrat durch das Eintauchverfahren bei einer Temperatur von z.B. etwa 60ºC wird das das Flußmittel tragende Substrat üblicherweise für etwa 1 bis etwa 5 Minuten in das erfindungsgemäße Reinigungsmittel eingetaucht, wodurch das Flußmittel effektiv entfernt werden kann.
  • Anschließend an die Reinigungsoperation wird das Substrat dann mit Wasser als abschließender Stufe gewaschen, wodurch möglicherweise auf dem Substrat verbliebenes Reinigungsmittel vollständig weggewaschen wird. Ein derartiges Spülen führt zu einem hohen Reinheitsgrad.
  • Ein derartiges Spülen kann auf verschiedene Arten und Weisen durchgeführt werden, wie beispielsweise durch Tauchen in fließendes Wasser, Eintauchen in Wasser unter Anwendung von Ultraschall, Sprühen mit Wasser oder dergleichen. Das Spülen wird bei einer Temperatur und für eine Zeitspanne durchgeführt, die für die Entfernung des Reinigungsmittels effektiv sind, und um dadurch einen hohen Reinheitsgrad zu erzielen. Das Spülen wird üblicherweise bei einer Temperatur im Bereich von Raumtemperatur bis etwa 70ºC durchgeführt. Wenn das Spülen durch Abduschen oder Eintauchen durchgeführt wird, beträgt die Zeit für die Vervollständigung des Spülens üblicherweise etwa 30 Sekunden bis etwa 5 Minuten. Auf jeden Fall wird das Spülen fortgesetzt, bis das Substrat für einen konkrelen Zweck sauber genug wird.
  • Das erfindungsgemäße Reinigungsmittel kann eine Flußmittel- Entfernungswirkung zeigen, die höher oder mindestens genauso hoch wie herkömmliche Reinigungsmittel vom halogenierten Kohlenwasserstoff-Typ ist und kann einen hohen Grad der Flußmittel-Entfernung erzielen.
  • Die vorliegende Erfindung kann zusätzlich die folgenden Vorteile liefern.
  • (i) Das Reinigungsmittel der vorliegenden Erfindung ist Halogen-frei und führt zu keinem Ozon-Zerstörungs-Problem, wie es von Reinigungsmitteln vom Flon-Typ verursacht wird.
  • (ii) Das erfindungsgemäße Reinigungsmittel, das die Glycolether- Verbindung der Formel (1) enthält, ist in Abwesenheit von Wasser etwas entflammbar. Eine explosionssichere Reinigungsapparatur, die speziell konstruiert ist, ist jedoch nicht erforderlich und eine handelsübliche herkömmliche Reinigungsapparatur für Flone ist so, wie sie ist, oder leicht modifiziert einsetzbar, da die Glycolether-Verbindung einen Flammpunkt von etwa 70ºC aufweist und als "Erdöl der dritten Art", definiert durch das japanische Feuerwehr-Gesetz, klassifiziert ist.
  • (iii) Das erfindungsgemäße Reinigungsmittel kann bei Verwendung in mit Wasser verdünnter Form beispielsweise die Vorteile liefern, daß die Entflammungsgefahr vermindert wird, das Mittel billiger gemacht wird und die Belastung der Abwasser-Behandlung beträchtlich vermindert wird, während es eine ausreichende Reinigungsfähigkeit beibehält.
  • (iv) Das erfindungsgemäße Reinigungsmittel hat einen sehr schwachen Geruch und ist deshalb auch in dieser Beziehung zufriedenstellend.
  • Erfindungsgemäß werden ein Halogen-freies Löt-Flußmittel-Reinigungsmittel, das hinsichtlich Reinigungseigenschaft hervorragend und hinsichtlich der Eigenschaften, die den Umweltqualitäts-Standard bezüglich Umweltverschmutzung, Entflammbarkeit, Geruch usw. genügen, voll zufriedenstellend ist, ebenso wie ein Reinigungsverfahren unter Verwendung des Löt-Flußmittel-Reinigungsmittels bereitgestellt.
  • Im folgenden wird die vorliegende Erfindung detaillierter unter Bezugnahme auf die folgenden Beispiele beschrieben.
    • Beispiel 1
  • Ein erfindungsgemäßes Reinigungsmittel wurde hergestellt durch Mischen von 68 Gewichtsteilen Diethylenglycoldimethylether und 10,8 Gewichtsteilen nicht - ionischem Tensid aus Polyethylenglycolalkylether (Handelsbezeichnung "NOIGEN ET-135", ein Tensid der Formel (2), in welcher R&sup4; eine verzweigtkettige Alkylgruppe mit 12 bis 14 Kohlenstoffatomen darstellt und m 9 ist, Produkt von Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.), 1,2 Gewichtsteilen Mono(polyoxyalkylenalkylether)phosphat (a) (ein Tensid der Formel (3), in welcher R&sup5; eine geradkettige C&sub1;&sub2;-Alkylgruppe darstellt, n 16 ist und X für eine Hydroxylgruppe steht) und 20 Gewichtsteilen reinem Wasser.
  • Ein Flußmittel auf Colophonium-Basis (Handelsbezeichnung "Resin Flux #77-25", Produkt von LONCO Co., Ltd.) wurde auf die gesamte Fläche einer gedruckten Leiterplatte mit feinem Muster, hergestellt aus einem mit Kupfer überzogenen Laminat, aufgetragen und 2 Minuten bei 30ºC getrocknet, und die Platte wurde unter Herstellung einer Testplatte einem 5-sekündigen Löten bei 260ºC unterzogen.
  • Die Testplatte wurde 1 Minute bei Raumtemperatur in das obige Reinigungsmittel getaucht und der Entfernungsgrad des Flußmittels wurde mit dem bloßen Auge inspiziert und gemäß den folgenden Kriterien beurteilt. Tabelle 1 zeigt die Ergebnisse.
  • A: Das Flußmittel wurde in zufriedenstellendem Maße entfernt.
  • B: Eine kleine Menge des Flußmittels wurde nicht entfernt.
  • C: Eine beträchtliche Menge des Flußmittels wurde nicht entfernt.
  • Anschließend wurde die Testplatte mit Duschwasser gewaschen und getrocknet und die Reinheit (Konzentration der Restionen) der Testplatte wurde gemäß MTL P 28809 unter Verwendung eines Omegameter 600 SE (Handelsbezeichnung für ein Produkt der KENKO Co., Ltd.) bestimmt. Tabelle 1 zeigt die Ergebnisse.
    • Beispiele 2 bis 8 und Vergleichsbeispiel 1
  • Der Grad der Entfernung von Flußmittel und die Reinheit der Testplatte wurden auf dieselbe Weise wie in Beispiel 1 beurteilt, mit der Ausnahme, daß die Zusammensetzung des Reinigungsmittels oder die Reinigungstemperatur wie in Tabelle 1 gezeigt geändert wurden. Tabelle 1 zeigt die Ergebnisse.
    • Beispiele 9 bis 19 und Vergleichsbeispiel 2
  • Der Grad der Entfernung von Flußmittel und die Reinheit der Testplatte wurden auf dieselbe Weise wie in Beispiel 1 beurteilt, mit der Ausnahme, daß die Art des bzw der Tenside wie in Tabelle 1 gezeigt geändert wurde.
  • In Tabelle 1 waren die verwendeten Tenside wie folgt.
  • - "NOIGEN EA-120" (Produkt von Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., nicht-ionisches Tensid aus Polyethylenglycolnonylphenylether, ein Tensid der Formel (2), in welcher R&sup4; eine Nonylphenylgruppe darstellt und m 5 ist)
  • - "NOIGEN EA-143" (Produkt von Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., nicht-ionisches Tensid aus Polyethylenglycoldodecylphenylether, ein Tensid der Formel (2), in welcher R&sup4; eine Dodecylphenylgruppe darstellt und m 10 ist)
  • - "SORGEN TW20" (Produkt von Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., Polyoxyethylensorbitanmonolaurat, durchschnittliche Molzahl von addiertem Ethylenoxid 12)
  • - "EPAN420" (Produkt von Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., Polyoxyethylen-Polyoxypropylen-Block-Copolymer)
  • - (a): Mono(polyoxyethylenalkylether)phosphat (ein Tensid der Formel (3), in welcher R&sup5; eine geradkettige C&sub1;&sub2;-Alkylgruppe darstellt, n 16 ist und X für eine Hydroxylgruppe steht)
  • - (b): Di(polyoxyethylenaralkylether)phosphat (ein Tensid der Formel (3), in welcher R&sup5; eine Nonylphenylgruppe darstellt, n 10 ist und X für C&sub9;H&sub1;&sub9;-C&sub6;H&sub4;-O(CH&sub2;CH&sub2;O)&sub1;&sub0;- steht)
  • - (c): Mono(polyoxyethylenaralkylether)phosphat (ein Tensid der Formel (3), in welcher R&sup5; eine Nonylphenylgruppe darstellt, n 18 ist und X eine Hydroxylgruppe bedeutet)
  • - (d): Mono(polyoxyethylenalkylether)phosphat-Ammoniumsalz (ein Tensid der Formel (3), in welcher R&sup5; eine Dodecylgruppe darstellt, n 14 ist und X für eine Hydroxylgruppe steht und worin die zwei Hydroxylgruppen mit Ammoniak neutralisiert sind)
  • - (e): Mono(polyoxyethylenalkylether)phosphat-Natriumsalz (ein Tensid der Formel (3), in welcher R&sup5; eine Dodecylgruppe darstellt, n 14 ist und X eine Hydroxylgruppe bedeutet und worin die zwei Hydroxylgruppen mit Natriumhydroxid neutralisiert sind)
  • - (f): Laurylphosphat Tabelle 1 Komponente Reinigungsmittel-Zusammensetzung (A)/(B)/(C)/Wasser (Gew.-%) Entfernungsgrad Reinheitsgrad Verschmutzung mit Äquivalent-NaCl (ug/Inch²) NOIGEN Tabelle 1 (Fortsetzung) Komponente Reinigungsmittel-Zusammensetzung (A)/(B)/(C)/Wasser (Gew.-%) Entfernungsgrad Reinheitsgrad Verschmutzung mit Äquivalent-NaCl (ug/Inch²) NOIGEN Keine DEGDME: Diethylenglycoldimethylether DEGDME: Diethylenglycolmonobutylether DEGDME: Diethylenglycoldiethylether

Claims (9)

1. Reinigungsmittel zur Entfernung eines Löt-Flußmittels auf Kolophonium-Basis, umfassend eine Mischung von
(A) mindestens einer Glycolether-Verbindung, die durch die Formel (1)
dargestellt wird, worin R¹ ein Wasserstoffatom oder eine Alkylgruppe mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen ist, R² eine Alkylgruppe mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen darstellt, R³ für ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe steht und k eine ganze Zahl von 2 bis 4 ist,
(B) mindestens einem nicht-ionischen Tensid und
(C) mindestens einem anionischen Phosphat-Tensid.
2. Reinigungsmittel nach Anspruch 1, in welchem das nichtionische Tensid ein Tensid ist, das dargestellt wird durch die Formel (2)
R&sup4;-O-(CH&sub2;CH&sub2;O)m-H (2)
worin R&sup4; eine gerad- oder verzweigtkettige Alkylgruppe mit 6 bis 20 Kohlenstoffatomen, eine Phenylgruppe oder eine mit einer gerad- oder verzweigtkettigen Alkylgruppe mit 7 bis 12 Kohlenstoffatomen substituierte Phenylgruppe darstellt und in eine ganze Zahl von 2 bis 20 ist.
3. Reinigungsmittel nach Anspruch 2, in welchem R&sup4; eine gerad- oder verzweigtkettige Alkylgruppe mit 10 bis 14 Kohlenstoffatomen, eine Phenylgruppe oder eine mit einer gerad- oder verzweigtkettigen Alkylgruppe mit 7 bis 12 Kohlenstoffatomen substituierte Phenylgruppe darstellt und m eine ganze Zahl von 3 bis 16 ist.
4. Reinigungsmittel nach irgendeinem der Ansprüche 1 - 3, in welchem das anionische Phosphat-Tensid ein Polyoxyalkylenphosphat-Tensid ist, das dargestellt wird durch die Formel (3)
worin R&sup5; eine gerad- oder verzweigtkettige Alkylgruppe mit 5 bis 20 Kohlenstoffatomen, eine Phenylgruppe oder eine mit einer gerade oder verzweigtkettigen Alkylgruppe mit 7 bis 12 Kohlenstoffatomen substituierte Phenylgruppe ist, n eine ganze Zahl von 0 bis 20 darstellt und X eine Hydroxylgruppe oder eine Gruppe ist, die durch die Formel (4) dargestellt wird
R&sup6;O(CH&sub2;CH&sub2;O)n- (4)
worin R&sup6; eine gerad- oder verzweigtkettige Alkylgruppe mit 5 bis 20 Kohlenstoffatomen, eine Phenylgruppe oder eine mit einer gerad- oder verzweigtkettigen Alkylgruppe mit 7 bis 12 Kohlenstoffatomen substituierte Phenylgruppe bedeutet und n wie oben definiert ist, oder ein Salz davon.
5. Reinigungsmittel nach Anspruch 4, in welchem R&sup5; eine gerad- oder verzweigtkettige Alkylgruppe mit 10 bis 15 Kohlenstoffatomen ist, n eine ganze Zahl von 8 bis 12 darstellt und X eine Hydroxylgruppe oder eine Gruppe der Formel R&sup6;O(CH&sub2;CH&sub2;O)n- ist, worin R&sup6; eine gerad- oder verzweigtkettige Alkylgruppe mit 10 bis 15 Kohlenstoffatomen darstellt und n eine ganze Zahl von 8 bis 12 ist.
6. Reinigungsmittel nach irgendeinem der Ansprüche 1 - 5, in welchem die Mischung umfaßt
(A) etwa 10 bis etwa 95 Gew.-% der Glycolether-Verbindung,
(B) etwa 5 bis etwa 90 Gew.-% des nicht-ionischen Tensids und
(C) etwa 0,1 bis etwa 90 Gew.-% des anionischen Phosphat-Tensids,
wobei die Summe von (A), (B) und (C) 100 Gew.-% ergibt.
7. Reinigungsmittel nach Anspruch 6, in welchem die Mischung umfaßt
(A) etwa 50 bis etwa 90 Gew.-% der Glycolether-Verbindung,
(B) etwa 10 bis etwa 60 Gew.-% des nicht-ionischen Tensids und
(C) etwa 0,5 bis etwa 60 Gew.-% des anionischen Phosphat-Tensids,
wobei die Summe von (A), (B) und (C) 100 Gew.-% ergibt.
8. Reinigungsmittel nach irgendeinem der Ansprüche 1 - 7, das in Form einer wäßrigen Lösung vorliegt, die die Mischung in einer Konzentration von etwa 10 Gew.-% oder mehr, aber weniger als 100 Gew.-% enthält.
9. Reinigungsverfahren zur Entfernung eines Löt-Flußmittels auf Kolophonium-Basis, umfassend das Kontaktieren eines Reinigungsmittels nach irgendeinem der Ansprüche 1 - 8 mit dem Flußmittel auf einem Substrat.
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