DE69032487T2 - Verfahren zur Entfernung von feinkörnigen Teilchen aus Fluorharzgegenständen - Google Patents
Verfahren zur Entfernung von feinkörnigen Teilchen aus FluorharzgegenständenInfo
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Description
- Vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Entfernen von feinteiligen Komponenten, die aus Verunreinigungen auf Formkörpern aus fluorhaltigem Harz abgelagert sind.
- Derzeit müssen auch feinkörnige Teilchen von Submikrongröße von den Formkörpern aus fluorhaltigem Harz auf dem Gebiet der sogenannten Hochtechnologie entfernt werden. Ferner ist ein erhöhtes Bedürfnis für einen höheren Grad der Reinigung zu erwarten.
- Beispielsweise werden Behälter aus fluorhaltigem Harz zur Aufbewahrung eines Mittels zum Feuchtätzen bei der Herstellung von Halbleitern, d. h. repräsentativen Produkten auf dem Gebiet der Hochtechnologie, verwendet. Diese Behälter werden üblicherweise mit einer verdünnten wässerigen Lösung eines oberflächenaktiven Mittels, starken Säure oder ultrareinem Wasser gereinigt, oder sie können erforderlichenfalls durch Ultraschallbehandlung oder Eintauchen gereinigt werden. Diese Verfahren können jedoch nicht einen befriedigenden Grad der Reinigung bei Behältern aus fluorhaltigem Harz erreichen, im Vergleich zu dem Grad bei Behältern aus Polyethylen, weshalb sie für Behälter zur Aufbewahrung eines Mittels zum Naßätzen unbrauchbar sein können. Insbesondere müssen die Behälter aus fluorhaltigem Harz zur Aufbewahrung einer 50%igen wässerigen Lösung von HF, die bei der Halbleiterherstellung benutzt wird, auf ein solches Ausmaß gereinigt werden, daß nach der Reinigung zehn Teilchen oder weniger in einem Milliliter der Lösung hinsichtlich der Teilchen mit einer Teilchengröße von nicht weniger als 0,3 um enthalten sind, und daß nach Reinigung ein Teilchen oder weniger in einem Milliliter der Lösung hinsichtlich der Teilchen mit einer Teilchengröße von nicht weniger als 0,5 um enthalten ist. Die Reinigung mit ultrareinem Wasser kann die zuvor genannten Grade überhaupt nicht erreichen.
- Als Stand der Technik ist JP-A-63-310683 bekannt, die ein Verfahren zum Reinigen eines Gegenstands aus fluorhaltigem Harz offenbart, wobei das Verfahren die Stufen der Einführung von Wasserdampf in einen Waschbehälter, das Halten des Behälters auf hoher Temperatur, hohem Druck und hoher Feuchtigkeit, das Vermindern des Innendrucks des Behälters und das schnelle Abkühlen des Gegenstands durch Gießen von Wasser über den Gegenstand umfaßt. Die Veröffentlichung legt jedoch nirgends dar, daß feinkörnige Teilchen von dem Gegenstand aus fluorhaltigem Harz auf einen befriedigenden Reinigungsgrad entfernt werden können, indem man den Gegenstand bei einer hohen Temperatur in der Atmosphäre aus inaktivem Gas hält.
- J. Colloid and Interface Science 47 (1974), 650 beschreibt ein Verfahren zum Erläutern der Art der Oberfläche von aus Polymeren hergestellten Gegenständen und gibt auf Seite 655 ein Verfahren an, bei dem eine geätzte Probe in einem Umluftofen bei einer der Nachbehandlungen der geätzten Probe 200ºC ausgesetzt wird, wobei der Unterschied zwischen der Oberfläche einer Folienprobe von PTFE oder FEP und deren geätzten Oberfläche ermittelt wird. Die Veröffentlichung legt jedoch lediglich ein Verfahren dar, bei dem ein Gegenstand aus einem Polymeren auf eine hohe Temperatur in einen der Verfahren erwärmt wird, die im Verlauf der Prüfung der Eigenschaften der Oberfläche des Polymergegenstands benutzt werden, lehrt jedoch nirgends irgendein Mittel zur Entfernung von feinkörnigen Teilchen von einem Gegenstand aus fluorhaltigem Harz bis zu einem hohen Reinigungsgrad.
- Die Verwendung von Behältern aus fluorhaltigem Harz ist deshalb begrenzt, weil sie schwierig zu reinigen bleiben. Infolgedessen können derartige Behälter im wesentlichen außer Gebrauch bleiben, wenn ein höherer Reinigungsgrad zukünftig festgelegt wird.
- Ein Ziel vorliegender Erfindung ist die Bereitstellung eines Verfahrens zum Entfernen feinteiliger Komponenten als Verunreinigungen von Formkörpern aus fluorhaltigem Harz.
- Andere Ziele und Merkmale der Erfindung werden aus nachfolgender Beschreibung offensichtlich.
- Das Verfahren gemäß der Erfindung umfaßt im wesentlichen das Unterwerfen eines Gegenstandes aus fluorhaltigem Harz einem zuvor definierten Verfahren. Das Verfahren wird im folgenden in größerer Einzelheit beschrieben.
- Bei diesem Verfahren wird ein Gegenstand aus fluorhaltigem Harz bei einer hohen Temperatur im Bereich von 150º bis zu einer Temperatur gehalten, die geringer als der Schmelzpunkt des Gegenstands ist, vorzugsweise bei etwa 150º bis etwa 260ºC, um die Teilchen zu verdampfen oder wegzuzerstäuben. Die Verdampfung und Zerstäubung der Teilchen kann vorteilhafterweise beschleunigt werden, indem man ein zusätzliches Verfahren, wie z. B. die Umdrehung des Gegenstands, die Bewegung der Gasatmosphäre oder ein Verdüsen des Atmosphärengases durchführt. Wenn der Gegenstand in Luft erwärmt wird, kann sich ihm bei einer hohen Temperatur ein Reaktionsprodukt aus den Teilchen und Sauerstoff ablagern, und das fluorhaltige Harz kann sich hinsichtlich seiner Eigenschaften verschlechtern. Um diese Möglichkeit auszuschalten, wird der Gegenstand in einen Heizofen gestellt und in der Atmosphäre aus inaktivem Gas erwärmt. Je länger die Verweilzeit bei einer hohen Temperatur ist, desto höher ist der Reinigungsgrad, jedoch mit wirtschaftlichem Nachteil. Die Verweilzeit ist nicht speziell begrenzt und kann z. B. je nach Verunreinigungsgrad des Gegenstands oder dem erforderlichen Reinigungsgrad, in geeigneter Weise bestimmt werden. Üblicherweise beträgt sie etwa 10 bis 30 Minuten.
- Das Verfahren kann entweder mit einem Formkörper aus fluorhaltigem Harz oder während des Formverfahrens des fluorhaltigen Harzes durchgeführt werden.
- Der Reinigungsgrad kann bei Gegenständen aus fluorhaltigem Harz auch erhöht werden, indem man ein zusätzliches Reinigungsverfahren zumindest einmal mit ultrareinem Wasser und/oder einem Reinigungsmittel vor oder nach, oder sowohl vor als auch nach, der Durchführung des Verfahrens durchgeführt werden. Brauchbare Reinigungsmittel umfassen:
- Im Hinblick auf den zuvor genannten Stand der Technik führte die Anwenderin intensive Untersuchungen durch und fand, daß die feinkörnigen Teilchen von einem Gegenstand aus fluorhaltigem Harz wirksam entfernt werden können, wenn der Gegenstand auf einer hohen Temperatur gehalten wird.
- Eine andere Entdeckung war, daß eine ähnliche, teilchenentfernende Wirkung auch erhalten werden kann, wenn der Gegenstand in der Atmosphäre eines speziellen Gases vom Fluortyp gehalten wird.
- Eine zusätzliche Entdeckung war, daß eine ähnliche, teilchenentfernende Wirkung auch erreicht werden kann, wenn der Gegenstand mit einem speziellen Lösungsmittel in Berührung gebracht wird.
- Auf Grundlage dieser neuen Entdeckungen wurde vorliegende Erfindung vollendet.
- Gemäß vorliegender Erfindung werden zur Verfügung gestellt:
- (1) Ein Verfahren zur Entfernung der auf einem Gegenstand aus fluorhaltigem Harz abgelagerten feinkörnigen Teilchen, welches das Halten des Gegenstands aus fluorhaltigem Harz bei einer Temperatur von nicht weniger als 150ºC bis zu einer Temperatur von weniger als dem Schmelzpunkt des Gegenstands in einer Atmosphäre eines inaktiven Gases umfaßt;
- (2) Ein Verfahren, wie zuvor im Absatz (1) definiert, bei dem der Gegenstand zumindest einmal mit wenigstens einem der Mittel ultrareines Wasser, ein Reinigungsmittel und eine wässerige Lösung eines Elektrolyten bei hoher Konzentration (nicht weniger als 0,5 Gew.-%) vor oder nach, oder sowohl vor als auch nach, Durchführung des in
- (1) definierten Verfahrens reinigt.
- (a) Säuren und Mittel vom Alkalityp, wie z. B. wässerige Lösungen mit einem Gehalt an zumindest einer Verbindung, ausgewählt aus HF, NH&sub4;F, HCl, HNO&sub3;, H&sub2;O&sub2;, H&sub2;SO&sub4;, H&sub3;PO&sub4; und NH&sub3;; und
- (b) organische Lösungsmittel, wie z. B. Trichlorethylen, Methylalkohol, Ethylalkohol, Isopropylalkohol und Aceton.
- Die vorhergehenden Reinigungsmittel werden in Behältern oder Tanks aus fluorhaltigem Harz gelagert oder in Rohren aus fluorhaltigem Harz zur Verwendung auf dem Gebiet der Halbleiterherstellung transportiert.
- Der Reinigungsgrad an Gegenständen aus fluorhaltigem Harz kann auch erhöht werden, indem man eine zusätzliche Reinigung zumindest einmal mit einer wässerigen Lösung eines Elektrolyten bei einer hohen Konzentration (nicht weniger als 0,5 Gew.-%) vor oder nach, oder sowohl vor als auch nach, Durchführung dieses Verfahrens durchführt. Beispiele für brauchbare Elektrolyten sind NH&sub4;Cl, NH&sub4;F, KCl, KF, NaCl, MgCl&sub2;, MgCO&sub3;, ZnU&sub2;, ZnSO&sub4;, FeCl&sub3;, AlCl&sub3; und Al&sub2;(SO&sub4;)&sub3;.
- Das erfindungsgemäße Verfahren ist zur Entfernung der feinkörnigen Teilchen von dem Gegenstand aus fluorhaltigem Harz geeignet, der auf ein großes Ausmaß gereinigt werden muß, insbesondere für Gegenstände aus fluorhaltigem Harz, wie Behälter, Tanks, Rohre, Schläuche oder Träger für Wafers zur Verwendung auf dem Gebiet der Halbleiterstellung.
- Nachfolgende Vorteile können durch Reinigung eines Gegenstands aus fluorhaltigem Harz gemäß vorliegender Erfindung erreicht werden:
- (A) Das erfindungsgemäße Verfahren kann zu einer Reinigungswirkung auf ein bislang durch herkömmliche Verfahren nicht erreichbares Ausmaß führen, insbesondere zu einem solchen Grad, daß nach der Reinigung zehn Teilchen oder weniger in einem Milliliter der in einem Behälter aus fluorhaltigem Harz gehaltenen Lösung hinsichtlich der Teilchen mit einer Teilchengröße von nicht weniger als 0,3 um enthalten sind, und nach der Reinigung ein Teilchen oder weniger in einem Milliliter der Lösung im Behälter hinsichtlich Teilchen mit einer Teilchengröße von nicht weniger als 0,5 um enthalten ist. Infolgedessen können die erfindungsgemäßen Verfahren das Erfordernis hinsichtlich höherer Reinigungsgrade, die auf dem Gebiet der Halbleiterherstellung und anderen Gebieten zu erwarten sind, erfüllen.
- (B) Wenn das Verfahren gemäß der Erfindung während der Verformung des fluorhaltigen Harzes durchgeführt wird, braucht mit dem geformten Produkt kein Reinigungsverfahren durchgeführt werden.
Claims (2)
1. Verfahren zur Entfernung der feinkörnigen, auf einem Gegenstand aus
fluorhaltigem Harz abgelagerten Teilchen, welches das Halten des
Gegenstands aus fluorhaltigem Harz bei einer Temperatur von nicht weniger
als 150ºC bis zu einer Temperatur, die geringer als der Schmelzpunkt des
Gegenstands ist, in der Atmosphäre aus inaktivem Gas umfaßt.
2. Verfahren gemäß Anspruch 1, bei dem der Gegenstand zumindest einmal
mit zumindest einem der Mittel ultrareines Wasser, ein Reinigungsmittel und
eine wässerige Lösung eines Elektrolyten bei einer Konzentration von nicht
weniger als 0,5 Gew.-% vor oder nach, oder sowohl vor als auch nach dem
Halten des Gegenstands aus fluorhaltigem Harz bei einer Temperatur von
nicht weniger als 150ºC bis zu einer Temperatur, die geringer als der
Schmelzpunkt des Gegenstands ist, in der Atmosphäre aus inaktivem Gas
gereinigt wird.
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| US5158801A (en) * | 1988-04-01 | 1992-10-27 | The United States Of America As Represented By The United States Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Method of forming a multiple layer dielectric and a hot film sensor therewith |
| US5213621A (en) * | 1991-10-11 | 1993-05-25 | Air Products And Chemicals, Inc. | Halogenated carboxylic acid cleaning agents for fabricating integrated circuits and a process for using the same |
| JP3275431B2 (ja) * | 1993-03-25 | 2002-04-15 | ダイキン工業株式会社 | フッ素樹脂成形体およびその製法 |
| US5760151A (en) * | 1995-08-17 | 1998-06-02 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Tetrafluoroethylene copolymer |
| US6113824A (en) * | 1997-06-20 | 2000-09-05 | Daikin Industries, Ltd. | Process for surface treating a fluorine-containing resin molded article |
| DE69936456T2 (de) * | 1998-03-25 | 2008-03-13 | Daikin Industries, Ltd. | Verfahren zum reinigen einer aus fluorhaltigem kautschuk geformten vorrichtung zur halbleiterherstellung |
| US7067616B2 (en) * | 2003-06-26 | 2006-06-27 | Advanced Technology Materials, Inc. | Polytetrafluoroethylene treatment |
| CN102007196B (zh) * | 2008-03-07 | 2014-10-29 | 高级技术材料公司 | 非选择性氧化物蚀刻湿清洁组合物及使用方法 |
| JP5381367B2 (ja) * | 2009-06-15 | 2014-01-08 | 旭硝子株式会社 | 含フッ素樹脂成形体の製造方法 |
| KR102504511B1 (ko) * | 2018-11-27 | 2023-02-28 | 다이킨 고교 가부시키가이샤 | 불소 수지 성형품의 제조 방법 및 제조 시스템 |
Family Cites Families (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4144218A (en) * | 1977-07-08 | 1979-03-13 | Hercules Incorporated | Thermosetting compositions containing a poly (arylacetylene) and a poly (phenylene oxide) |
| US4328044A (en) * | 1978-02-02 | 1982-05-04 | University Of Dayton | Method for cleaning metal parts |
| GB2059754B (en) * | 1979-10-04 | 1983-05-18 | Corval Machinery Ltd | Washing moulded plastics articles |
| DD152921A1 (de) * | 1980-09-11 | 1981-12-16 | Heinz Werner | Verfahren und anordnung zur beseitigung auf einer oberflaeche haftender partikel |
| JPS5825481A (ja) * | 1981-08-06 | 1983-02-15 | Nippon Steel Corp | 鋼帯の水切り方法 |
| JPS5899113A (ja) * | 1981-12-07 | 1983-06-13 | Hitachi Ltd | 気体反応を利用したｓｉ，ｓｉｏ２試料処理法 |
| US4711256A (en) * | 1985-04-19 | 1987-12-08 | Robert Kaiser | Method and apparatus for removal of small particles from a surface |
| US4680060A (en) * | 1985-09-20 | 1987-07-14 | The Coca-Cola Company | Process for the extraction of contaminants from plastics |
| US4787941A (en) * | 1986-06-30 | 1988-11-29 | Wang Laboratories, Inc. | Cleaning method for keyboard assemblies |
| JPS6345822A (ja) * | 1986-08-13 | 1988-02-26 | Hitachi Ltd | クリ−ニング方法および装置 |
| JPS63310063A (ja) * | 1987-06-11 | 1988-12-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | レイアウト表示装置 |
| JP2541560B2 (ja) * | 1987-06-12 | 1996-10-09 | 住友シチックス株式会社 | フッ素樹脂製品の洗浄方法 |
| US4764405A (en) * | 1987-07-22 | 1988-08-16 | Air Products And Chemicals, Inc. | Method for increasing barrier properties of thermoplastic substrates |
| FR2632654B1 (fr) * | 1988-06-09 | 1994-05-06 | Atochem | Materiau de polyfluorure de vinylidene a surface adaptee pour adherer a un polymere non compatible, procede de traitement de surface d'un materiau de polyfluorure de vinylidene pour permettre son adherence a un polymere non compatible |
| BR8804580A (pt) * | 1988-09-01 | 1990-01-23 | Mauro Sergio Curtis | Processo para tratamento de superficie de pvc |
| DE3840269A1 (de) * | 1988-11-30 | 1990-05-31 | Messer Griesheim Gmbh | Verfahren zur erzeugung glatter oberflaechen auf gegenstaenden aus polymeren von ethylen, propylen, butadien und polystyrol |
-
1989
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