DE60322657D1 - Katoptrisches Projektionssystem, Belichtungsapparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung - Google Patents
Katoptrisches Projektionssystem, Belichtungsapparat und Verfahren zur Herstellung einer VorrichtungInfo
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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- G03F7/70233—Optical aspects of catoptric systems, i.e. comprising only reflective elements, e.g. extreme ultraviolet [EUV] projection systems
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- G—PHYSICS
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- G03F7/70275—Multiple projection paths, e.g. array of projection systems, microlens projection systems or tandem projection systems
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- Lenses (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002378776A JP3938040B2 (ja) | 2002-12-27 | 2002-12-27 | 反射型投影光学系、露光装置及びデバイス製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE60322657D1 true DE60322657D1 (de) | 2008-09-18 |
Family
ID=32463612
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE60322657T Expired - Lifetime DE60322657D1 (de) | 2002-12-27 | 2003-12-18 | Katoptrisches Projektionssystem, Belichtungsapparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7130018B2 (de) |
EP (1) | EP1434093B1 (de) |
JP (1) | JP3938040B2 (de) |
KR (1) | KR100554784B1 (de) |
DE (1) | DE60322657D1 (de) |
TW (1) | TWI260470B (de) |
Families Citing this family (34)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8208198B2 (en) | 2004-01-14 | 2012-06-26 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Catadioptric projection objective |
JP2005189247A (ja) * | 2003-12-24 | 2005-07-14 | Nikon Corp | 投影光学系および該投影光学系を備えた露光装置 |
US20080151365A1 (en) | 2004-01-14 | 2008-06-26 | Carl Zeiss Smt Ag | Catadioptric projection objective |
DE602005003665T2 (de) | 2004-05-17 | 2008-11-20 | Carl Zeiss Smt Ag | Katadioptrisches projektionsobjektiv mit zwischenbildern |
TW200622304A (en) * | 2004-11-05 | 2006-07-01 | Nikon Corp | Projection optical system and exposure device with it |
DE102005042005A1 (de) | 2004-12-23 | 2006-07-06 | Carl Zeiss Smt Ag | Hochaperturiges Objektiv mit obskurierter Pupille |
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JP4957548B2 (ja) * | 2005-08-24 | 2012-06-20 | 株式会社ニコン | 投影光学系、および露光装置 |
EP1924888B1 (de) * | 2005-09-13 | 2013-07-24 | Carl Zeiss SMT GmbH | Optisches projektionssystem für mikrolithopgraphie, verfahren zur herstellung eines geräts und verfahren für den entwurf einer optischen oberfläche |
JP5068271B2 (ja) | 2006-02-17 | 2012-11-07 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | マイクロリソグラフィ照明システム、及びこの種の照明システムを含む投影露光装置 |
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US7929114B2 (en) | 2007-01-17 | 2011-04-19 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projection optics for microlithography |
EP1950594A1 (de) | 2007-01-17 | 2008-07-30 | Carl Zeiss SMT AG | Abbildende Optik, Projektionsbelichtunsanlage für die Mikrolithographie mit einer derartigen abbildenden Optik, Verfahren zur Herstellung eines mikrostrukturierten Bauteils mit einer derartigen Projektionsbelichtungsanlage, durch das Herstellungsverfahren gefertigtes mikrostrukturiertes Bauelement sowie Verwendung einer derartigen abbildenden Optik |
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DE102008002377A1 (de) | 2007-07-17 | 2009-01-22 | Carl Zeiss Smt Ag | Beleuchtungssystem sowie Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithografie mit einem derartigen Beleuchtungssystem |
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US8027022B2 (en) | 2007-07-24 | 2011-09-27 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projection objective |
CN101836163B (zh) * | 2007-08-20 | 2012-06-27 | 卡尔蔡司Smt有限责任公司 | 包括具有反射涂层的镜元件的投射物镜 |
DE102007045396A1 (de) | 2007-09-21 | 2009-04-23 | Carl Zeiss Smt Ag | Bündelführender optischer Kollektor zur Erfassung der Emission einer Strahlungsquelle |
KR101542272B1 (ko) | 2007-10-26 | 2015-08-06 | 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 | 결상 광학 시스템 및 이러한 유형의 결상 광학 시스템을 구비하는 마이크로리소그래피용 투영 노광 장치 |
KR101592136B1 (ko) | 2007-10-26 | 2016-02-04 | 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 | 결상 광학 시스템 및 이러한 유형의 결상 광학 시스템을 갖는 마이크로리소그래피용 투영 노광 장치 |
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DE102013204445A1 (de) * | 2013-03-14 | 2014-09-18 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Vergrößernde abbildende Optik sowie EUV-Maskeninspektionssystem mit einer derartigen abbildenden Optik |
NL2014267A (en) * | 2014-02-24 | 2015-08-25 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and method. |
JP6635904B2 (ja) * | 2016-10-14 | 2020-01-29 | キヤノン株式会社 | 投影光学系、露光装置及び物品の製造方法 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP2000139672A (ja) | 1998-11-09 | 2000-05-23 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 滑り防止層を有する敷物 |
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JP2002162566A (ja) * | 2000-11-27 | 2002-06-07 | Nikon Corp | 光学系の設計方法,光学系および投影露光装置 |
-
2002
- 2002-12-27 JP JP2002378776A patent/JP3938040B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2003
- 2003-12-18 EP EP03029172A patent/EP1434093B1/de not_active Expired - Fee Related
- 2003-12-18 DE DE60322657T patent/DE60322657D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2003-12-24 US US10/746,575 patent/US7130018B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2003-12-25 TW TW092136893A patent/TWI260470B/zh not_active IP Right Cessation
- 2003-12-27 KR KR1020030098115A patent/KR100554784B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20040189968A1 (en) | 2004-09-30 |
JP2004214242A (ja) | 2004-07-29 |
EP1434093A2 (de) | 2004-06-30 |
TWI260470B (en) | 2006-08-21 |
TW200426526A (en) | 2004-12-01 |
KR20040060824A (ko) | 2004-07-06 |
KR100554784B1 (ko) | 2006-02-22 |
US7130018B2 (en) | 2006-10-31 |
EP1434093A3 (de) | 2006-08-02 |
EP1434093B1 (de) | 2008-08-06 |
JP3938040B2 (ja) | 2007-06-27 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8364 | No opposition during term of opposition |