DE60320549T2

DE60320549T2 - Verfahren zum Nacheinbrennen von lithographischen Druckplatten

Info

Publication number: DE60320549T2
Application number: DE2003620549
Authority: DE
Inventors: Eric 2640 Verschueren; Marc 2640 Van Damme
Original assignee: Agfa Graphics NV
Current assignee: Agfa NV
Priority date: 2003-08-13
Filing date: 2003-08-13
Publication date: 2009-05-14
Anticipated expiration: 2023-08-14
Also published as: EP1916101A2; EP1916101B1; EP1506854A1; JP2005062870A; EP1506854B1; EP1916101A3; DE60330201D1; DE60320549D1

Description

TECHNISCHES GEBIET DER ERFINDUNG
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte.
ALLGEMEINER STAND DER TECHNIK
Bei lithografischen Druckmaschinen verwendet man einen sogenannten Druckmaster wie eine auf eine Trommel der Druckpresse aufgespannte Druckplatte. Die Masteroberfläche trägt ein lithografisches Bild und ein Abzug wird erhalten, indem zunächst Druckfarbe auf das Bild aufgetragen und anschließend die Farbe vom Master auf ein Empfangsmaterial, in der Regel Papier, übertragen wird. Bei herkömmlichem lithografischem Nassdruck werden sowohl Druckfarbe als auch Feuchtwasser auf Wasserbasis auf das lithografische Bild, das aus oleophilen (oder hydrophoben, d. h. farbanziehenden, wasserabstoßenden) Bereichen und hydrophilen (oder oleophoben, d. h. wasseranziehenden, farbabstoßenden) Bereichen aufgebaut ist, angebracht. Bei sogenanntem driografischem Druck besteht das lithografische Bild aus farbanziehenden und farbabweisenden (d. h. farbabstoßenden) Bereichen und wird während des driografischen Drucks nur Druckfarbe auf den Master angebracht.
Druckmaster werden in der Regel nach dem sogenannten Computerto-Film-Verfahren (CtF-Verfahren, datengesteuerte Filmherstellung) erhalten, wo verschiedene Druckvorstufen wie die Wahl der Schrifttype, Abtasten, Herstellung von Farbauszügen, Aufrastern, Überfüllen, Layout und Ausschießen digital erfolgen und jeder Farbauszug über einen Filmbelichter auf einen grafischen Film aufbelichtet wird. Nach Entwicklung kann der Film als Maske für die Belichtung eines bilderzeugenden Materials, als Druckplattenvorstufe bezeichnet, benutzt werden und nach der Entwicklung der Platte wird eine Druckplatte erhalten, die als Master einsetzbar ist.
Eine typische Druckplattenvorstufe für Computer-to-Film-Verfahren enthält einen hydrophilen Träger und eine Bildaufzeichnungsschicht mit strahlungsempfindlichen polymeren Schichten, die UV-empfindliche Diazoverbindungen, dichromatsensibilisierte hydrophile Kolloide und eine Vielzahl synthetischer Fotopolymere enthalten. Insbesondere diazosensibilisierte Schichtverbände werden weit verbreitet benutzt. Bei bildmäßiger Belichtung, in der Regel mit Hilfe einer Filmmaske in einem UV-Kontaktkopiergerät, werden die belichteten Bildbereiche unlöslich und bleiben die nicht-belichteten Bereiche löslich in wässrig-alkalischem Entwickler. Die Druckplatte wird anschließend mit dem Entwickler entwickelt, um das in den nicht-belichteten Bereichen enthaltene Diazoniumsalz oder Diazoharz zu entfernen. Die belichteten Bereiche bilden also die Bildbereiche (d. h. die druckenden Bereiche) des Druckmasters und demnach werden solche Druckplattenvorstufen als „negativarbeitend" bezeichnet. Es gibt ebenfalls positivarbeitende Materialien, bei denen die belichteten Bereiche die nicht-druckenden Bereiche bilden, z. B. Platten mit einer Novolak-Naphthochinondiazid-Beschichtung, die nur in den belichteten Bereichen im Entwickler gelöst wird.
Außer den obigen strahlungsempfindlichen Materialien sind ebenfalls wärmeempfindliche oder für Infrarotlicht empfindliche Druckplattenvorstufen zu einem sehr populären Typ geworden. Solche Materialien beinhalten den Vorteil ihrer Tageslichtbeständigkeit und sind besonders geeignet zur Verwendung im sogenannten Computer-to-Plate-Verfahren (direkte digitale Druckplattenbebilderung), bei dem die Plattenvorstufe direkt belichtet wird, d. h. ohne Einsatz einer Filmmaske. In der Regel wird das Material mit Wärme beaufschlagt oder mit Infrarotlicht belichtet und die dabei erzeugte Wärme löst einen (physikalisch)-chemischen Prozess aus, wie Ablation, Polymerisation, Insolubilisierung durch Vernetzung eines Polymers, eine thermische induzierte Solubilisierung, Zersetzung oder Koagulierung der Teilchen eines thermoplastischen polymeren Latex.
Die bekannten wärmeempfindlichen oder IR-empfindlichen Druckplattenvorstufen enthalten in der Regel einen hydrophilen Träger und eine Beschichtung, die ein in den erwärmten Bereichen (positivarbeitendes Material) oder aber in den nicht-erwärmten Bereichen (negativarbeitendes Material) alkalilösliches oleophiles Polymer und eine IR-absorbierende Verbindung enthält. Bei einem solchen oleophilen Polymer handelt es sich in der Regel um ein Phenolharz.
Die Druckfarbe und das Feuchtwasser, die während des Druckprozesses auf die Platte angebracht werden, können die Platte angreifen. Folglich kann die Beständigkeit der Platte gegen diese Flüssigkeiten, im Folgenden als "chemische Beständigkeit" bezeichnet, die Auflagenbeständigkeit beeinträchtigen. Durch Erhitzung des nach dem Entwicklungs- und Gummierprozess auf dem Träger erhaltenen Bildes kann die Auflagenfestigkeit verbessert werden. Im bekannten Nacheinbrennprozess für Druckplatten erfolgt das Einbrennen der Platte in einem Ofen bei einer Temperatur zwischen etwa 235°C und 270°C über einen relativ langen Zeitraum von etwa 2 Minuten bis 5 Minuten, sogar 10 Minuten. Dieser zeitraubende Einbrennprozess ist ungünstig für solche Anwendungen, bei denen die Produktion lithografischer Druckplatten mit hoher Auflagenfestigkeit schnell erfolgen muss, zum Beispiel bei der Herstellung von Druckplatten für Zeitungsdruck. In diesem Geschäftsbereich sind die für die bildmäßige Belichtung von Druckplattenvorstufen und die Entwicklung und Gummierung dieser Vorstufen benutzten Systeme sehr komplexe Maschinen mit einem Durchsatz von bis zu 200 Platten pro Stunde. Freilich wird dieser hohe Durchsatz durch den langsamen Einbrennprozess beschränkt. Eine wesentliche Steigerung der Geschwindigkeit des Einbrennschritts bietet das in der vorliegenden Erfindung offenbarte Verfahren, das eine schnelle Herstellung lithografischer Druckplatten mit hoher chemischer Beständigkeit der Beschichtung erlaubt.
In WO 2005/015318 wird ein Verfahren zur Verbesserung der Auflagenfestigkeit eines Bildes auf einem Bilderzeugungsmaterial offenbart, wobei Infrarotstrahlung direkt auf belichtete Bereiche eines entwickelten Bilderzeugungsmaterials gerichtet wird. Als Strahlungsquellen für die Infrarotstrahlung kommen Infrarotlampen mit einer Wellenlänge zwischen etwa 780 nm und etwa 1.400 nm in Frage und die Dauer der einfallenden Plattenbestrahlung kann zwischen etwa 15 Sekunden und etwa 25 Sekunden eingestellt werden.
In DE 1 955 378 wird ein Verfahren zum Einbrennen einer belichteten und entwickelten Druckplatte durch Erwärmung der Platte mit elektromagnetischer Strahlung, wie Ultrarotstrahlung, auf eine Temperatur von zumindest 180°C offenbart.
In GB 2 205 419 wird ein Verfahren zur Erwärmung einer entwickelten lithografischen Druckplatte mit Infrarotstrahlung zur Steigerung der Beständigkeit gegen Lösungsmittel offenbart. In diesem Verfahren kann die Erwärmung in einem einzelnen Entwicklungsautomaten mit einem Entwicklungsschritt kombiniert werden und entfällt dadurch der Bedarf an einer gesonderten Einbrennmaschine.
In DE 26 48 438 wird ein Verfahren zum Fixieren der Druckbereiche einer Metalloffsetplatte durch Erwärmung der Platte mit Infrarotstrahlung offenbart.
In DE 2 201 936 wird ein Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte offenbart, in dem nach bildmäßiger Belichtung und Entwicklung die Haftung der Beschichtung am Metallträger in den Druckbereichen durch Erwärmung der Rückseite der Platte mit Infrarotstrahlung gesteigert wird.
In DE 100 35 430 wird ein Verfahren zur Wärmebehandlung von Fotolackschichten mit naher Infrarotstrahlung mit einer Wellenlänge zwischen 0,8 und 1,5 μm und einer Bestrahlungsdauer von weniger als 15 Sekunden, vorzugsweise weniger als 2 Sekunden, offenbart.
KURZE DARSTELLUNG DER VORLIEGENDEN ERFINDUNG
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist das Bereitstellen eines Verfahrens zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte, umfassend einen Einbrennschritt, der innerhalb einer Verweilzeit von weniger als 10 Sekunden durchgeführt wird und in dem die chemische Beständigkeit der Beschichtung gegen Druckflüssigkeiten und auf der Druckmaschine verwendete Chemikalien gesteigert wird. Gelöst wird diese Aufgabe durch das in Anspruch 1 definierte Verfahren.
Spezifische Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung sind in den Unteransprüchen beschrieben.
AUSFÜHRLICHE BESCHREIBUNG DER VORLIEGENDEN ERFINDUNG
Wichtig zum Erhalten einer lithografischen Druckplatte mit verbesserter Auflagenfestigkeit ist die Verbesserung der chemischen Beständigkeit der strahlungsempfindlichen Beschichtung gegen die Druckflüssigkeiten, wie das Feuchtwasser und die Druckfarbe, sowie gegen die auf der Druckmaschine verwendeten Chemikalien, wie Reinigungsflüssigkeiten für die Platte, das Gummituch und die Druckwalzen. Diese Druckeigenschaften werden durch eine Wärmebehandlung der Druckplatte nach Entwicklung der bildmäßig belichteten Druckplattenvorstufe und gegebenenfalls Gummierung der Platte beeinflusst. Diese Wärmebehandlung, im Folgenden ebenfalls als "Einbrennschritt", "Einbrennprozess" oder "Einbrennverfahren" bezeichnet, ist eine der wichtigsten Methoden zum schnellen Erhalten dieser Eigenschaften.
Die vorliegende Erfindung verschafft ein die nachstehenden Schritte umfassendes Verfahren zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte: (i) Bereitstellen einer lithografischen Druckplattenvorstufe, die eine strahlungsempfindliche Beschichtung auf einem Substrat mit einer hydrophilen Oberfläche enthält, (ii) bildmäßige Belichtung der strahlungsempfindlichen Beschichtung, (iii) Entwicklung der belichteten Beschichtung zur Erzeugung eines Bildes auf dem Substrat und gegebenenfalls Gummierung der Platte und (iv) Einbrennen des Bildes auf der Platte, wobei der Einbrennschritt innerhalb einer Verweilzeit von weniger als 10 Sekunden durchgeführt wird.
Die vorliegende Erfindung kennzeichnet sich ebenfalls dadurch, dass dieser Einbrennschritt durch Belichtung der Druckplatte mit einer Infrarotstrahlungsquelle, im Nachstehenden als "IR-Strahler" oder abgekürzt "Strahler" bezeichnet, erfolgt. Als Infrarotstrahlungsquelle kommen alle beliebigen, Infrarotstrahlung emittierenden Geräte oder Systeme in Frage. Die Wellenlänge des Strahlers kann zwischen 750 nm und 6 μm, vorzugsweise zwischen 770 nm und 5 μm, besonders bevorzugt zwischen 770 nm und 3,5 μm und ganz besonders bevorzugt zwischen 770 nm und 2 μm variieren. Der Strahler strahlt vorwiegend Infrarotlicht aus, allerdings kann auch Seitenstrahlung mit einer Wellenlänge außerhalb des Wellenlängenbereichs von Infrarotstrahlung auftreten. Die Spitzenwellenlänge des Strahlers kann im nahen Infrarotbereich (d. h. zwischen 750 nm und 1,5 μm), im mittleren Infrarotbereich (d. h. zwischen 1,5 μm und 6 μm), im kurzwelligen Infrarotbereich (d. h. zwischen 750 nm und 2 μm) oder im mittelwelligen Infrarotbereich (d. h. zwischen 2 μm und 3,5 μm) liegen. Bevorzugt wird eine Spitzenwellenlänge im nahen Infrarotbereich oder kurzwelligen Infrarotbereich. Der Strahler kann eine Infrarotlampe sein. Die Lampe kann mit einem Reflektor ausgestattet sein. Der Reflektor hat vorzugsweise eine parabolische oder elliptische Konfiguration, besonders bevorzugt wird eine elliptische Konfiguration.
Als erfindungsgemäß geeignete Infrarot-Strahler sind folgende Strahlertypen zu nennen:

– MICOR-KIR-BANDSTRAHLER TYP LE/LP Infrarot-Strahler, erhältlich durch MICOR GmbH, Kröfteler Strasse 11, Idstein-Heftrich, Deutschland,
– SHORT WAVE Infrarot-Strahler, erhältlich durch HERAEUS NOBLELIGHT GmbH, Reinhard-Heraeus-Ring 7, Kleinostheim, Deutschland,
– INFRALIGHT-HALOGEN Infrarot-Strahler, erhältlich durch HERAEUS NOBLELIGHT GmbH, Reinhard-Heraeus-Ring 7, Kleinostheim, Deutschland,
– CARBON Infrarot-Strahler, erhältlich durch HERAEUS NOBLELIGHT GmbH, Reinhard-Heraeus-Ring 7, Kleinostheim, Deutschland,
– CARBON HIGH POWER Infrarot-Strahler, erhältlich durch HERAEUS NOBLELIGHT GmbH, Reinhard-Heraeus-Ring 7, Kleinostheim, Deutschland, und
– CARBON TWIN Infrarot-Strahler, erhältlich durch HERAEUS NOBLELIGHT GmbH, Reinhard-Heraeus-Ring 7, Kleinostheim, Deutschland.

Typische Infrarot-Strahler kennzeichen sich in der Regel durch eine oder mehrere der folgenden Spezifikationen oder Konfigurationen: die Länge des Strahlers kann zwischen 150 mm und 5 m variieren, die Spannung des Strahlers kann zwischen 57,5 V und 600 V variieren, die Leistung beim maximalen Stromwert kann zwischen 180 W und 15 kW variieren, die mittlere lineare Leistungsdichte kann zwischen 16 W/cm und 70 W/cm variieren, die maximale Flächenleistungsdichte kann zwischen 20 kW/m² and 190 kW/m² variieren, die Fadentemperatur des Strahlers kann bis 2.200°C betragen, der Strahler kann mit einem parabolischen oder elliptischen, gegebenenfalls mit einer Goldbeschichtung belegten Reflektor versehen sein, der Strahler kann einen einseitigen oder zweiseitigen Anschluss haben, der Strahler kann ein Zwillingsrohrdesign haben und der Betrieb des Strahlers kann über ein Steuersystem gesteuert, geschaltet und/oder geregelt werden.
Gemäß einer spezifischen Ausführungsform der vorliegenden Erfindung erfolgt der Einbrennschritt durch Belichtung der Druckplatte mit zumindest einer der Infrarotlampen. Dieser Einbrennprozess kann in einer statischen oder dynamischen Konfiguration durchgeführt werden, bevorzugt wird eine dynamische Konfiguration.
Gemäß einer spezifischen Ausführungsform der vorliegenden Erfindung umfasst der Einbrennschritt folgende Schritte: Bestrahlen der Druckplatte mit einem Strahler und relativ zum Strahler Fördern der Druckplatte. Diese zwei Schritte können separat durchgeführt werden, zum Beispiel indem zunächst die Platte relativ zum Strahler gefördert und dann die Platte bestrahlt wird. Vorzugsweise aber werden beide Schritte gleichzeitig durchgeführt, zum Beispiel indem die Platte bestrahlt wird, indem sie relativ zum Strahler gefördert wird. In diesen Konfigurationen wird zumindest ein Strahler verwendet, ebenfalls möglich ist aber der Einsatz von zwei oder mehr Strahlern des gleichen Typs oder eines unterschiedlichen Typs, wahlweise in einer seriellen Konfiguration. Die Spezifikationen und Konfiguration jedes Strahlers werden je nach der Konfiguration, in der der Einbrennschritt durchgeführt wird, so gewählt, dass die Platte homogen und bei genügend hoher Temperatur erwärmt wird, um eine hohe chemische Beständigkeit zu erzielen.
In einer dynamischen Konfiguration sind die effektive Plattenbestrahlungszeit und die Strahlungsstärke wichtige Parameter für die Effizienz des Einbrennprozesses. Die effektive Plattenbestrahlungszeit kann für jeden Strahler durch die Verweilzeit bestimmt werden. Die Verweilzeit ist das Verhältnis der Brennbandlänge des Strahlers zur relativen Fördergeschwindigkeit der Platte zum Strahler. Die Brennbandlänge des Strahlers kann vom Strahlertyp, vom Reflektortyp und vom Abstand zur Platte abhängen. Je nach Strahlungsintensität kann die relative Fördergeschwindigkeit der Platte zum (zu den) Strahler(n) zwischen 0,5 m/Minute und 20 m/Minute, insbesondere zwischen 1 m/Minute und 15 m/Minute, ganz insbesondere zwischen 2 m/Minute und 10 m/Minute variieren. Der Verweilzeitwert für jeden Strahler liegt unter 10 Sekunden.
In dieser dynamischen Konfiguration kann die Druckplatte isoliert befestigt werden, um Wärmeableitung zur Umgebung zu verhindern. Für die Isolation der Druckplatte wird vorzugsweise ein Teflon-Material, wie eine Folie oder Bahn, zwischen der Druckplatte und dem Fördermittel angebracht.
Zum Erreichen einer hohen chemischen Beständigkeit wird die Beschichtung auf der Platte während des Erwärmungsschritts bis oberhalb einer Schwellentemperatur erhitzt. Die Schwellentemperatur ist abhängig vom Beschichtungstyp, insbesondere vom Typ der in der Beschichtung verwendeten chemischen Verbindungen, und kann ferner vom Typ der Trägeroberfläche der Druckplatte oder vom Typ einer zwischen dem Träger und der Beschichtung befindlichen Haftschicht abhängig sein. In der Regel kann eine solche Schwellentemperatur zum. Beispiel über 100°C oder über 150°C oder sogar über 200°C liegen. Die Temperatur der Beschichtung darf eine obere Grenze, bei der Zersetzung, Abbau oder Verkohlung der Beschichtung oder Abblätterung der Beschichtung vom Träger eintritt, nicht überschreiten. In der Regel kann eine solche obere Temperaturgrenze zum Beispiel etwa 800°C, genauer etwa 600°C betragen. In der Regel, ohne allerdings darauf beschränkt zu sein, kann die Beschichtung der Platte auf eine Temperatur über 120°C, insbesondere über 150°C, noch genauer über 200°C, erhitzt werden. Damit die obere Temperaturgrenze der Beschichtung nicht überschritten wird, ist es wichtig, die Spezifikationen und Konfiguration des (der) Strahler(s) als Funktion der für den jeweiligen Strahler gewählten Verweilzeit zu definieren.
In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung umfasst der Einbrennprozess folgende Schritte:
Bestrahlung der Druckplatte, während diese während der Bestrahlung zum feststehenden Strahler hinzu gefördert wird. Die Platte kann in eine beliebige Richtung gefördert werden, vorzugsweise in eine horizontale Richtung, eine vertikale Richtung oder eine gekippte Richtung, bevorzugt allerdings wird eine horizontale Richtung. Je nach gewählter Förderrichtung (horizontal, vertikal oder gekippt) kann der Strahler vorzugsweise oberhalb oder neben der Platte angeordnet werden. Ganz besonders bevorzugt wird eine Konfiguration mit horizontaler Plattenförderung und über der beschichteten Seite der Platte angeordnetem Strahler.
Bei Verwendung eines Strahlers mit elliptischem Reflektor kann die höchste Strahlungsintensität beim Brennpunktabstand des elliptischen Reflektors erreicht werden. Eine sehr effiziente Erwärmung der Druckplatte kann dann durch Anordnung der Plattenbeschichtung in diesem Brennpunktabstand zum Strahler erhalten werden. Eine solche Konfiguration wird bevorzugt, wenn im Einbrennschritt ein elliptischer Reflektor verwendet wird.
Ein schnellerer Einbrennschritt und somit eine höhere chemische Beständigkeit der Beschichtung wird erzielt, indem für den jeweiligen Strahler die Spezifikationen und Konfigurationen so gewählt werden, dass die Strahlungsintensität auf der Beschichtung auf die relative Fördergeschwindigkeit der Platte zum Strahler abgestimmt und genügend hoch ist, um die Beschichtung auf seine Schwellentemperatur zu erwärmen. In der vorliegenden Erfindung erfolgt der Einbrennschritt innerhalb einer Verweilzeit von weniger als 10 Sekunden.
In einer weiteren erfindungsgemäßen Ausführungsform wird ein Gerät zum Einbrennen eines nach Entwicklung einer bildmäßig belichteten strahlungsempfindlichen Beschichtung auf einem Substrat mit einer hydrophilen Oberfläche erzeugten Bildes offenbart, wobei das Gerät eine Infrarotstrahlungsquelle umfasst, dadurch gekennzeichnet, dass die Infrarotstrahlungsquelle eine nahe Infrarotlampe oder eine mittelwellige Infrarotlampe ist. Bevorzugt können in diesem Gerät wie oben beschriebene Konfigurationen für dynamische und statische Konfigurationen verwendet werden. Gemäß einer weiteren erfindungsgemäßen Ausführungsform wird ein Entwicklungsgerät zur Entwicklung einer bildmäßig belichteten strahlungsempfindlichen Beschichtung auf einem Substrat mit einer hydrophilen Oberfläche offenbart, wobei das Entwicklungsgerät die wie oben offenbarte Vorrichtung zum Einbrennen eines Bildes umfasst. Das Einbrenngerät kann bevorzugt fest in einem Entwicklungsgerät eingebaut sein. In dieser Konfiguration wird die belichtete strahlungsempfindliche Beschichtung zunächst entwickelt und anschließend relativ zur Infrarotstrahlungsquelle weiter gefördert. Der Einbrennprozess erfolgt in einer statischen oder dynamischen Konfiguration, bevorzugt wird allerdings die dynamische Konfiguration. Der Einbrennprozess erfolgt innerhalb einer Verweilzeit von weniger als 1 Minute. In einer dynamischen Konfiguration erfolgt der Einbrennprozess je nach Geschwindigkeit des Entwicklungsgeräts und Typ des (der) eingesetzten Strahler(s) innerhalb einer Verweilzeit zwischen 1 und 50 Sekunden.
Der Einbrennprozess kann ebenfalls in einer statischen Konfiguration mit einem oder mehreren Strahlern durchgeführt werden. In einer bevorzugten Konfiguration ist (sind) der (die) Strahler oberhalb der Plattenbeschichtung angeordnet. Die Spezifikationen und Konfiguration jedes Strahlers werden auf die zur homogenen Erwärmung der Platte benötigte Strahlungsintensität abgestimmt, die genügend hoch sein muss, um der Beschichtung eine hohe chemische Beständigkeit zu verleihen. In der statischen Konfiguration wird die effektive Plattenbestrahlungszeit als Verweilzeit definiert.
In einer weiteren erfindungsgemäßen Ausführungsform wird die Druckplatte im Einbrennschritt mittels einer Kombination einer Infrarot strahlungsquelle und einer Ultraviolett strahlungsquelle belichtet. Als Ultraviolettstrahlungsquelle wird bevorzugt eine Ultraviolettlampe eingesetzt. Die Infrarotlampe im Einbrennprozess kann mit einer UV-Lampe kombiniert werden, um die Effizienz des Einbrennprozesses noch weiter zu verbessern. Unter dieser Kombination versteht sich jegliche Konfiguration, in der die Druckplatte gleichzeitig oder nacheinander durch eine Infrarotstrahlungsquelle und eine Ultraviolettstrahlungsquelle belichtet wird.
Als nutzbare Typen von Ultraviolettstrahlungsquelle zur Verwendung in diesen Kombinationen sind Quecksilberdampf-Mitteldruckbogenlampen mit einem Leistungsbereich von 1 kW bis 31 kW, mit Gallium dotierte Metallhalogenlampen, mit Eisen dotierte Metallhalogenlampen oder Excimer-UV-Lampen zu nennen. Beispiele für solche Ultraviolettstrahlungsquellen sind die im Handel durch HERAEUS NOBLELIGHT GmbH, Reinhard-Heraeus-Ring 7, Kleinostheim, Deutschland, erhältlichen AMBA UV-Härtungslampen.
Diese chemische Beständigkeit der Beschichtung kann nach dem in den Beispielen beschriebenen Test gemessen werden.
Die lithografische Druckplattenvorstufe kann eine strahlungsempfindliche Beschichtung auf einem Substrat mit einer hydrophilen Oberfläche umfassen. Die strahlungsempfindliche Beschichtung kann zumindest eine bildempfindliche, gegenüber UV-Licht, Violettlicht, sichtbarem Licht oder Infrarotlicht empfindliche Schicht enthalten. Die bildempfindliche Schicht der strahlungsempfindlichen Beschichtung kann zumindest eine lichtabsorbierende Verbindung enthalten, deren Typ je nach Wellenlänge des für die bildmäßige Bildaufzeichnung verwendeten Lichts gewählt wird. Wahlweise kann die strahlungsempfindliche Beschichtung außer dieser lichtabsorbierenden Verbindung ferner eine zur Absorption von Infrarotstrahlung während der Einbrennphase geeignete Infrarotlicht absorbierende Verbindung enthalten. Diese Infrarotlicht absorbierende Verbindung kann die Effizienz des Einbrennprozesses steigern.
Die strahlungsempfindliche Beschichtung kann ebenfalls wärmeempfindlich sein. Ein typisches Kennzeichen für eine solche wärmeempfindliche Beschichtung ist, dass die bildempfindliche Schicht eine Infrarotlicht absorbierende Verbindung, die bei bildmäßiger Belichtung mit Infrarotlicht das absorbierte Infrarotlicht in Wärme umzuwandeln vermag, enthält. Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform ist die strahlungsempfindliche Beschichtung empfindlich gegenüber Infrarotlicht oder Wärme und enthält diese Beschichtung vorzugsweise eine Infrarotlicht absorbierende Verbindung.
Die strahlungsempfindliche Beschichtung auf dem hydrophilen Träger ist vorzugsweise empfindlich gegenüber Infrarotlicht oder Wärme und kann vorzugsweise mehrere Stunden lang unter normalen Arbeitsbeleuchtungsbedingungen (Tageslicht, Fluoreszenzlicht) gehandhabt werden. Die Beschichtung enthält vorzugsweise keine UV-empfindlichen Verbindungen, die ein Absorptionsmaximum im Wellenlängenbereich zwischen 200 nm und 400 nm aufweisen, wie Diazoverbindungen, Fotosäuren, Fotoinitiatoren, Chinondiazide oder Sensibilisatoren. Vorzugsweise enthält die Beschichtung auch keine Verbindungen mit einem Absorptionsmaximum im Wellenlängenbereich des sichtbaren Blau- und Grünlichts zwischen 400 und 600 nm.
Die strahlungsempfindliche Beschichtung kann aus zumindest einer bildempfindlichen Schicht, im Nachstehenden ebenfalls als „Bildaufzeichnungsschicht" bezeichnet, zusammengesetzt sein. Die Beschichtung kann allerdings ferner eine oder mehrere zusätzliche, an die Bildaufzeichnungsschicht grenzende Schichten umfassen. Außer den im Folgenden besprochenen Schichten kann die Beschichtung ferner z. B. eine Haftschicht, die die Haftung der Beschichtung am Träger verbessert, eine die Beschichtung gegen Verunreinigungen oder mechanische Beschädigung schützende Deckschicht und/oder eine Licht in Wärme umwandelnde Schicht, die eine Infrarotlicht absorbierende Verbindung enthält, enthalten.
Nach Belichtung wird das Material entwickelt. In der vorliegenden Erfindung werden die Begriffe „Entwicklung" und „Verarbeitung" als Synonyme verwendet. Für die Entwicklung kann auf die Beschichtung eine eine hydrophile Phase enthaltende Flüssigkeit, welche die Beschichtung im Falle einer positivarbeitenden Platte in den belichteten Bereichen oder im Falle einer negativarbeitenden Platte in den nicht-belichteten Bereichen vom Träger entfernt, angebracht werden. Als solche Flüssigkeit kommen Wasser, eine wässrige Flüssigkeit, eine Gummierung, Feuchtwasser und eine Single-Fluid-Druckfarbe in Frage. Für die Entwicklung des Materials kann (können) Feuchtwasser und/oder Druckfarbe auf das Material angebracht werden, vorzugsweise zunächst das Feuchtwasser und dann die Druckfarbe. Dieses Verfahren wird vorzugsweise mit einem On-Press-Belichtungsschritt kombiniert. In einem weiteren Entwicklungsverfahren, das ebenfalls für On-Press-Entwicklung geeignet ist, insbesondere auf driografischen Druckmaschinen, wird nur Single-Fluid-Druckfarbe auf das Material angebracht. Zur Verwendung im erfindungsgemäßen Verfahren geeignete Single-Fluid-Druckfarben sind beschrieben in US 4 045 232 und US 4 981 517 . Eine geeignete Single-Fluid-Druckfarbe enthält eine Farbenphase, ebenfalls als hydrophobe oder oleophile Phase bezeichnet, und eine Polyolphase, wie beschrieben in WO 00/32705 . Genaueres über die Entwicklung mit Single-Fluid-Druckfarbe findet sich in der am 15.11.2001 eingereichten EP-A Nr. 01000633 .
Nach Belichtung in einem Off-Press-Plattenbelichter kann das Material dann entweder auf der Presse („on press") durch Einfärbung mit Druckfarbe und/oder Benetzung mit Feuchtwasser, wie schon oben erwähnt, oder aber „off press", z. B. durch Auftrag von Wasser, einer wässrigen Flüssigkeit oder einer Gummierlösung, entwickelt werden.
Nach der Entwicklung oder gleichzeitig mit der Entwicklung kann wahlweise eine Gummierung der Platte vorgenommen werden. Eine Gummierlösung ist in der Regel eine wässrige Flüssigkeit, die eine oder mehrere oberflächenschützende Verbindungen, die das lithografische Bild einer Druckplatte vor Verschmutzung oder Beschädigung schützen, enthält. Geeignete Beispiele für solche Verbindungen sind filmbildende hydrophile Polymere oder Tenside. Genaueres über die Entwicklung mit einer Gummierlösung findet sich in der am 06.03.2002 eingereichten EP-A Nr. 02100226 .
Nach Entwicklung oder Gummierung kann die Platte entweder vor Beginn des Einbrennprozesses oder aber während des Einbrennprozesses getrocknet werden.
In einem Beispiel für eine geeignete negativarbeitende, in alkalischem Medium entwickelbare Druckplatte enthält die Beschichtung ein Phenolharz und eine latente Brönsted-Säure, die bei Erwärmung oder IR-Bestrahlung eine Säure bildet. Diese Säuren katalysieren die Vernetzung der Beschichtung in einem an den Belichtungsschritt anschließenden Erwärmungsschritt und somit die Aushärtung der belichteten Bereiche. Demgemäß können die nichtbelichteten Bereiche durch einen Entwickler weggewaschen werden und kommt das darunter liegende hydrophile Substrat freizuliegen. Für eine genauere Beschreibung einer solchen negativarbeitenden Druckplattenvorstufe sei auf US 6 255 042 und US 6 063 544 und die in diesen Dokumenten erwähnten Verweisungen verwiesen.
In einem Beispiel für eine positivarbeitende lithografische Druckplattenvorstufe kann die Beschichtung durch Erwärmung löslich gemacht werden, d. h. die Beschichtung ist vor ihrer Belichtung beständig gegen den Entwickler und farbanziehend, wird aber durch die bildmäßige Belichtung löslich im Entwickler gemacht und zwar solchermaßen, dass dabei die hydrophile Oberfläche des Trägers freigelegt wird.
Die Beschichtung kann zumindest ein polymeres, in wässrigalkalischem Entwickler lösliches Bindemittel enthalten. Bevorzugte Polymere sind Phenolharze, z. B. Novolak, Resole, Polyvinylphenol und carboxylsubstituierte Polymere. Typische Beispiele für solche Polymere sind beschrieben in DE-A 4 007 428 , DE-A 4 027 301 und DE-A 4 445 820 .
Bei einer bevorzugten positivarbeitenden lithografischen Druckplattenvorstufe enthält die Beschichtung ferner einen oder mehrere Lösungshemmer (Lösungsinhibitoren). Lösungshemmer sind Verbindungen, die die Lösungsgeschwindigkeit des hydrophoben Polymers im wässrig-alkalischen Entwickler in den nicht-belichteten Bereichen der Beschichtung verringern. Diese Verringerung der Lösungsgeschwindigkeit wird durch die während der Belichtung erzeugte Wärme zunichte gemacht, wodurch sich die Beschichtung in den belichteten Bereichen zügig im Entwickler löst. Der Lösungshemmer weist einen wesentlichen Spielraum in Lösungsgeschwindigkeit zwischen den belichteten Bereichen und den nicht-belichteten Bereichen auf. Vorzugsweise weist der Lösungshemmer einen guten Spielraum in Lösungsgeschwindigkeit auf, so dass die belichteten Bereiche der Beschichtung schon völlig im Entwickler gelöst sind, ehe die nicht-belichteten Bereiche solchermaßen durch den Entwickler angegriffen werden, dass das Farbanziehungsvermögen der Beschichtung abgeschwächt wird. Der (die) Lösungshemmer kann (können) der das oben besprochene hydrophobe Polymer enthaltenden Schicht zugesetzt werden.
Die Verringerung der Lösungsgeschwindigkeit der nichtbelichteten Bereiche der Beschichtung im Entwickler wird vorzugsweise durch die Wechselwirkung zwischen dem hydrophoben Polymer und dem Hemmer, der zum Beispiel die Bildung einer Wasserstoffbrücke zwischen beiden Verbindungen zugrunde liegt, hervorgerufen. Geeignete Lösungshemmer sind vorzugsweise organische Verbindungen, die zumindest eine aromatische Gruppe und eine Wasserstoffbrückenbindungsstelle enthalten, z. B. ein Carbonylgruppe, eine Sulfonylgruppe oder ein Stickstoffatom, das quaterniert und Teil eines heterocyclischen Ringes oder eines Aminsubstituenten der organischen Verbindung sein kann. Geeignete Lösungsinhibitoren dieses Typs sind beschrieben in z. B. EP-A 825 927 und EP-A 823 327 .
Wasserabstoßende Polymere sind ein anderer Typ von geeigneten Lösungsinhibitoren. Solche Polymere scheinen die Beständigkeit der Beschichtung gegen den Entwickler zu verbessern, indem sie den wässrigen Entwickler von der Beschichtung abstoßen. Die wasserabstoßenden Polymere können der das hydrophobe Polymer enthaltenden Schicht und/oder einer gesonderten, auf die das hydrophobe Polymer enthaltende Schicht aufgetragenen Schicht zugesetzt werden. In letzterer Ausführungsform bildet das wasserabstoßende Polymer eine die Beschichtung gegen den Entwickler schützende Sperrschicht und kann die Löslichkeit der Sperrschicht im Entwickler oder die Durchdringbarkeit des Entwicklers in die Sperrschicht durch Beaufschlagung mit Wärme oder Belichtung mit Infrarotlicht erhöht werden, wie beschrieben in z. B. EP-A 864 420 , EP-A 950 517 und WO 99/21725 . Bevorzugte Beispiele für die wasserabstoßenden Polymere sind Polymere mit Siloxan- und/oder Perfluoralkyleinheiten. In einer Ausführungsform enthält die Beschichtung ein solches wasserabstoßendes Polymer in einer Menge zwischen 0,5 und 25 mg/m², vorzugsweise zwischen 0,5 und 15 mg/m² und ganz besonders bevorzugt zwischen 0,5 und 10 mg/m². Ist das verwendete wasserabstoßende Polymer auch farbabstoßend, z. B. im Falle von Polysiloxanen, so besteht die Gefahr, dass Mengen über 25 mg/m² eine schwache Farbanziehung der nicht-erwärmten bzw. nichtbelichteten Bereiche verursachen. Eine Menge unter 0,5 mg/m² kann andererseits zu einer unbefriedigenden Beständigkeit gegen den Entwickler führen. Das Polysiloxan kann ein lineares, cyclisches oder komplexes vernetztes Polymer oder Copolymer sein. Der Begriff „Polysiloxanverbindung" umfasst jegliche Verbindung, die mehr als eine Siloxangruppe -Si(R,R')-O-, in der R und R' eine gegebenenfalls substituierte Alkyl- oder Arylgruppe darstellen, enthält. Bevorzugte Siloxane sind Phenylalkylsiloxane und Dialkylsiloxane. Die Anzahl der Siloxangruppen im (Co)polymer beträgt zumindest 2, vorzugsweise zumindest 10, besonders bevorzugt zumindest 20. Sie kann unter 100, vorzugsweise unter 60 liegen. In einer anderen Ausführungsform ist das wasserabstoßende Polymer ein Blockcopolymer oder Pfropfcopolymer eines Poly(alkylenoxid)-Blocks und eines Blocks eines Polymers mit Siloxan- und/oder Perfluoralkyleinheiten. Ein geeignetes Copolymer enthält etwa 15 bis 25 Siloxaneinheiten und 50 bis 70 Alkylenoxideinheiten. Zu bevorzugten Beispielen zählen Copolymere mit Phenylmethylsiloxan und/oder Dimethylsiloxan sowie Ethylenoxid und/oder Propylenoxid, wie Tego Glide 410, Tego Wet 265, Tego Protect 5001 oder Silikophen P50/X, die alle durch Tego Chemie, Essen, Deutschland, vertrieben werden. Infolge seiner bifunktionellen Struktur wirkt ein solches Copolymer während der Beschichtung als Tensid, positioniert sich dabei selbst automatisch an der Grenzfläche zwischen der Beschichtung und der Luft und bildet dabei eine separate Deckschicht, sogar wenn die Gesamtbeschichtung aus einer einzelnen Gießlösung vorgenommen wird. Zugleich wirken solche Tenside als Spreitungsmittel, das die Beschichtungsqualität verbessert. Das wasserabstoßende Polymer kann ebenfalls aus einer zweiten Lösung auf die das hydrophobe Polymer enthaltende Schicht angebracht werden. In dieser Ausführungsform kann es von Vorteil sein, in der zweiten Gießlösung ein Lösungsmittel zu verwenden, das nicht in der Lage ist, die in der ersten Schicht enthaltenen Inhaltsstoffe zu lösen, wodurch auf der Beschichtung eine stark konzentrierte wasserabstoßende Phase erhalten wird.
Die Beschichtung enthält vorzugsweise ebenfalls einen oder mehrere Entwicklungsbeschleuniger, d. h. Verbindungen, die die Lösung deshalb fördern, weil sie die Lösungsgeschwindigkeit der nichterwärmten bzw. nicht-belichteten Beschichtungsbereiche im Entwickler zu steigern vermögen. Der gleichzeitige Einsatz von Lösungsinhibitoren und Lösungsbeschleunigern erlaubt eine präzise Feineinstellung des Lösungsverhaltens der Beschichtung. Geeignete Lösungsbeschleuniger sind cyclische Säureanhydride, Phenole oder organische Säuren. Zu Beispielen für das cyclische Säureanhydrid zählen Phthalsäureanhydrid, Tetrahydrophthalsäureanhydrid, Hexahydrophthalsäureanhydrid, Tetrachlorphthalsäureanhydrid, Maleinsäureanhydrid, Chlormaleinsäureanhydrid, α-Phenylmaleinsäureanhydrid, Bernsteinsäureanhydrid und Pyromellitsäureanhydrid, wie beschrieben in US-P 4 115 128 . Zu Beispielen für die Phenole zählen Bisphenol A, p-Nitrophenol, p-Ethoxyphenol, 2,4,4'-Trihydroxybenzophenon, 2,3,4-Trihydroxybenzophenon, 4-Hydroxybenzophenon, 4,4',4''-Trihydroxytriphenylmethan und 4,4',3'',4''-Tetrahydroxy-3,5,3',5'-tetramethyltriphenylmethan und dergleichen. Zu Beispielen für die organischen Säuren zählen Sulfonsäuren, Sulfinsäuren, Alkylschwefelsäuren, Phosphonsäuren, Phosphate und Carbonsäuren, wie zum Beispiel beschrieben in JP-A 60-88 942 und JP-A 2-96 755 . Zu typischen Beispielen für diese organischen Säuren zählen p-Toluolsulfonsäure, Dodecylbenzolsulfonsäure, p-Toluolsulfinsäure, Ethylschwefelsäure, Phenylphosphonsäure, Phenylphosphinsäure, Phenylphosphat, Diphenylphosphat, Benzoesäure, Isophthalsäure, Adipinsäure, p-Toluylsäure, 3,4-Dimethoxybenzoesäure, Phthalsäure, Terephthalsäure, 4-Cyclohexen-1,2-dicarbonsäure, Erucasäure, Laurinsäure, n-Undecansäure und Ascorbinsäure. Die Menge cyclisches Säureanhydrid, Phenol oder organische Säure in der Beschichtung liegt vorzugsweise zwischen 0,05 und 20 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Beschichtung.
Bei einer weiteren bevorzugten negativarbeitenden lithografischen Druckplattenvorstufe enthält die Beschichtung ferner hydrophobe thermoplastische Polymerteilchen. Spezifische Beispiele für geeignete hydrophobe Polymere sind z. B. Polyethylen, Poly(vinylchlorid), Poly(methyl(meth)acrylat), Poly(ethyl(meth)acrylat), Poly(vinylidenchlorid), Poly(meth)acrylnitril, Poly(vinylcarbazol), Polystyrol oder Copolymere derselben. Nach bevorzugten Ausführungsformen enthält das thermoplastische Polymer zumindest 50 Gew.-% Polystyrol, besonders bevorzugt zumindest 60 Gew.-% Polystyrol. Zum Erzielen einer zulänglichen Beständigkeit gegen mechanische Beschädigung und Druckmaschinenchemikalien, wie die in Plattenreinigern verwendeten Kohlenwasserstoffe, enthält das thermoplastische Copolymer vorzugsweise zumindest 5 Gew.-%, besonders bevorzugt zumindest 30 Gew.-% Einheiten eines stickstoffhaltigen Monomers oder Einheiten, die als Monomere mit einem Löslichkeitsparameter von mehr als 20 gekennzeichnet sind, wie (Meth)acrylnitril, oder monomere Einheiten, die seitenständige Sulfonamid- und/oder Phthalimidgruppen enthalten. Weitere geeignete Beispiele für solche Einheiten eines stickstoffhaltigen Monomers sind beschrieben in der am 23.11.2001 eingereichten europäischen Patentanmeldung Nr. 01000657 . Eine spezifische Ausführungsform des hydrophoben thermoplastischen Polymers ist ein Homopolymer oder Copolymer von (Meth)acrylnitril und/oder Styrol, z. B. ein Copolymer aus Styrol- und Acrylnitrileinheiten in einem Gewichtsverhältnis zwischen 1:1 und 5:1 (Styrol:Acrylnitril). Mit einem Verhältnis von 2:1 oder 3:2 werden hervorragende Ergebnisse erhalten.
Das Gewichtsmittel des Molekulargewichts der thermoplastischen Polymerteilchen kann zwischen 5.000 und 1.000.000 g/Mol variieren. Das Zahlenmittel des Teilchendurchmessers der hydrophoben Teilchen liegt vorzugsweise unter 200 nm, besonders bevorzugt zwischen 10 und 100 nm. Die Menge hydrophober thermoplastischer Polymerteilchen in der Bildaufzeichnungsschicht liegt vorzugsweise zwischen 20 Gew.-% und 65 Gew.-%, besonders bevorzugt zwischen 25 Gew.-% und 55 Gew.-% und ganz besonders bevorzugt zwischen 30 Gew.-% und 45 Gew.-%.
Die hydrophoben thermoplastischen Polymerteilchen sind als Dispersion in einer wässrigen Beschichtungsflüssigkeit der Bildaufzeichnungsschicht enthalten und können nach den in US 3 476 937 beschriebenen Verfahren angefertigt werden. In einem weiteren, für die Anfertigung einer wässrigen Dispersion der thermoplastischen Polymerteilchen besonders geeigneten Verfahren:

– wird das hydrophobe thermoplastische Polymer in einem organischen wasserunmischbaren Lösungsmittel gelöst,
– wird die so erhaltene Lösung in Wasser oder einem wässrigen Medium dispergiert und
– wird das organische Lösungsmittel abgedampft.

Die Bildaufzeichnungsschicht kann ferner ein hydrophiles Bindemittel enthalten, z. B. Homopolymere und Copolymere von Vinylalkohol, Acrylamid, Methylolacrylamid, Methylolmethacrylamid, Acrylsäure, Methacrylsäure, Hydroxyethylacrylat, Hydroxyethylmethacrylat oder Maleinsäureanhydrid-Vinylmethylether-Copolymere. Die Hydrophilie des benutzten (Co)polymers oder (Co)polymergemisches ist vorzugsweise höher oder gleich der Hydrophilie von zu wenigstens 60 Gew.-%, vorzugsweise zu 80 Gew.-% hydrolysiertem Polyvinylacetat. Bevorzugt werden Bindemittel mit seitenständigen Carbonsäuregruppen, z. B. Poly(meth)acrylsäure.
Unter Einwirkung der während des Belichtungsschritts erzeugten Wärme schmelzen oder koagulieren die hydrophoben thermoplastischen Polymerteilchen und bilden dadurch eine hydrophobe Phase, die die druckenden Bereiche der Druckplatte bilden wird. Koagulation kann dann eintreten, wenn die thermoplastischen Polymerteilchen unter Einwirkung von Wärme zusammenfließen (koaleszieren), erweichen oder schmelzen. Die Koagulationstemperatur der hydrophoben thermoplastischen Polymerteilchen unterliegt zwar keiner spezifischen oberen Grenze, soll jedoch genügend unter der Zersetzungstemperatur der Polymerteilchen liegen. Die Koagulationstemperatur liegt vorzugsweise zumindest 10°C unter der Temperatur, bei der Zersetzung der Polymerteilchen eintritt. Die Koagulationstemperatur beträgt vorzugsweise mehr als 50°C, besonders bevorzugt mehr als 100°C.
Nach Entwicklung und eventueller Gummierung kann die Platte getrocknet und eingebrannt werden. Das Einbrennen kann bei einer Temperatur über der Koagulationstemperatur des thermoplastischen Polymers erfolgen.
Die Bildaufzeichnungsschicht kann noch andere Inhaltsstoffe enthalten, wie zusätzliche Bindemittel, Tenside, Farbmittel und Entwicklungshemmer oder Entwicklungsbeschleuniger, und insbesondere eine oder mehrere Verbindungen, die Infrarotlicht in Wärme umzuwandeln vermögen.
Nach einer besonders bevorzugten Ausführungsform wird die lithografische Druckplattenvorstufe bildmäßig mit Infrarotlicht belichtet, das durch ein Infrarotlicht absorbierendes Mittel, das ein Farbstoff oder Pigment mit einem Absorptionsmaximum im Infrarotwellenlängenbereich sein kann, in Wärme umgesetzt wird. Das Verhältnis des Sensibilisierungsfarbstoffes oder -Pigments in der Beschichtung liegt in der Regel zwischen 0,25 und 10,0 Gew.-%, besonders bevorzugt zwischen 0,5 und 7,5 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Beschichtung. Bevorzugte Infrarotlicht absorbierende Verbindungen sind Farbstoffe, wie Cyaninfarbstoffe oder Merocyaninfarbstoffe, oder Pigmente, wie Russ. Eine geeignete Verbindung ist folgender Infrarot-Farbstoff:
Die Beschichtung kann ferner einen organischen Farbstoff enthalten, der sichtbares Licht absorbiert, wodurch nach bildmäßiger Belichtung und anschließender Entwicklung ein sichtbares Bild erhalten wird. Ein solcher Farbstoff wird oft als Kontrastfarbstoff oder Indikatorfarbstoff bezeichnet. Bevorzugt wird ein Blaufarbstoff mit einem Absorptionsmaximum im Wellenlängenbereich zwischen 600 nm und 750 nm. Obgleich der Farbstoff sichtbares Licht absorbiert, sensibilisiert er vorzugsweise die Druckplattenvorstufe nicht, d. h. macht die Beschichtung während der Belichtung mit sichtbarem Licht nicht löslicher im Entwickler. Geeignete Beispiele für einen solchen Kontrastfarbstoff sind die quaternierten Triarylmethanfarbstoffe. Eine weitere geeignete Verbindung ist folgender Farbstoff:
Die Infrarotlicht absorbierende Verbindung und der Kontrastfarbstoff können in der das hydrophobe Polymer enthaltenden Schicht und/oder in der oben besprochenen Sperrschicht und/oder in einer eventuellen anderen Schicht enthalten sein. Nach einer ganz besonders bevorzugten Ausführungsform ist die Infrarotlicht absorbierende Verbindung in oder in der Nähe der Sperrschicht konzentriert, z. B. in einer Zwischenschicht zwischen der das hydrophobe Polymer enthaltenden Schicht und der Sperrschicht.
Der Träger weist eine hydrophile Oberfläche auf oder ist mit einer hydrophilen Schicht versehen. Der Träger kann ein bogenartiges Material sein, wie eine Platte, oder aber ein zylindrisches Element, wie eine hülsenförmige Platte, die um eine Drucktrommel einer Druckpresse geschoben werden kann. Vorzugsweise ist der Träger ein Metallträger, wie ein Träger aus Aluminium oder rostfreiem Stahl.
Ein besonders bevorzugter lithografischer Träger ist ein elektrochemisch angerauter und anodisierter Aluminiumträger.
Das Anrauen und Anodisieren von lithografischen Aluminiumträgern ist ein allgemein bekannter Prozess. Der im erfindungsgemäßen Material verwendete angeraute Aluminiumträger ist vorzugsweise ein elektrochemisch angerauter Träger. Als Säure für das Anrauen kann zum Beispiel Salpetersäure verwendet werden. Die Säure für das Anrauen enthält vorzugsweise Chlorwasserstoff. Auch Gemische aus z. B. Chlorwasserstoff und Essigsäure kommen in Frage.
Der angeraute und anodisierte Aluminiumträger kann einer Nachverarbeitung zur Verbesserung der hydrophilen Eigenschaften der Trägeroberfläche unterzogen werden. So kann der Aluminiumträger zum Beispiel durch Verarbeitung der Trägeroberfläche mit einer Natriumsilikatlösung bei erhöhter Temperatur, z. B. 95°C, silikatiert werden. Als Alternative kann eine Phosphatverarbeitung vorgenommen werden, wobei die Aluminiumoxidoberfläche mit einer wahlweise ferner ein anorganisches Fluorid enthaltenden Phosphatlösung verarbeitet wird. Ferner kann die Aluminiumoxidoberfläche mit einer organischen Säure und/oder einem Salz einer organischen Säure, z. B. Carbonsäuren, Hydroxycarbonsäuren, Sulfonsäuren oder Phosphonsäuren, oder deren Salzen, z. B. Succinaten, Phosphaten, Phosphonaten, Sulfaten und Sulfonaten, gespült werden. Bevorzugt wird eine Zitronensäure- oder Citratlösung. Diese Behandlung kann bei Zimmertemperatur oder bei leicht erhöhter Temperatur zwischen etwa 30°C und 50°C erfolgen. Eine weitere Nachverarbeitung besteht in einer Spülung der Aluminiumoxidoberfläche mit einer Bicarbonatlösung. Ferner kann die Aluminiumoxidoberfläche mit Polyvinylphosphonsäure, Polyvinylmethylphosphonsäure, Phosphorsäureestern von Polyvinylalkohol, Polyvinylsulfonsäure, Polyvinylbenzolsulfonsäure, Schwefelsäureestern von Polyvinylalkohol und Acetalen von Polyvinylalkoholen, die durch Reaktion mit einem sulfonierten alifatischen Aldehyd gebildet sind, verarbeitet werden. Ferner liegt es nahe, dass eine oder mehrere dieser Nachbehandlungen separat oder kombiniert vorgenommen werden können. Genauere Beschreibungen dieser Behandlungen finden sich in GB-A 1 084 070 , DE-A 4 423 140 , DE-A 4 417 907 , EP-A 659 909 , EP-A 537 633 , DE-A 4 001 466 , EP-A 292 801 , EP-A 291 760 und US-P 4 458 005 .
Nach einer weiteren Ausführungsform kann der Träger ebenfalls ein biegsamer Träger sein, der mit einer hydrophilen Schicht, im Folgenden als „Grundierschicht" bezeichnet, überzogen ist. Der biegsame Träger ist z. B. Papier, eine Kunststofffolie, ein dünner Aluminiumträger oder ein Laminat aus diesen Materialien. Bevorzugte Beispiele für Kunststofffolien sind eine Folie aus Polyethylenterephthalat, Polyethylennaphthalat, Celluloseacetat, Polystyrol, Polycarbonat usw. Der Kunststofffolienträger kann lichtundurchlässig oder lichtdurchlässig sein.
Die Grundierschicht ist vorzugsweise eine vernetzte hydrophile Schicht, die aus einem hydrophilen, mit einem Härter wie Formaldehyd, Glyoxal, Polyisocyanat oder einem hydrolysierten Tetraalkylorthosilikat vernetzten Bindemittel erhalten ist. Letzteres Vernetzungsmittel wird besonders bevorzugt. Die Stärke der hydrophilen Grundierschicht kann zwischen 0,2 und 25 μm variieren und liegt vorzugsweise zwischen 1 und 10 μm.
Das hydrophile Bindemittel zur Verwendung in der Grundierschicht ist z. B. ein hydrophiles (Co)polymer, wie Homopolymere und Copolymere von Vinylalkohol, Acrylamid, Methylolacrylamid, Methylolmethacrylamid, Acrylsäure, Methacrylsäure, Hydroxyethylacrylat, Hydroxyethylmethacrylat oder Maleinsäureanhydrid-Vinylmethylether-Copolymere. Die Hydrophilie des benutzten (Co)polymers oder (Co)polymergemisches ist vorzugsweise höher oder gleich der Hydrophilie von zu wenigstens 60 Gew.-%, vorzugsweise zu 80 Gew.-% hydrolysiertem Polyvinylacetat.
Die Menge Härter, insbesondere Tetraalkylorthosilikat, beträgt vorzugsweise wenigstens 0,2 Gewichtsteile je Gewichtsteil hydrophiles Bindemittel, liegt besonders bevorzugt zwischen 0,5 und 5 Gewichtsteilen, ganz besonders bevorzugt zwischen 1 Gewichtsteil und 3 Gewichtsteilen je Gewichtsteil hydrophiles Bindemittel.
Die hydrophile Grundierschicht kann ebenfalls Substanzen, die die mechanische Festigkeit und Porosität der Schicht verbessern, enthalten. Zu diesem Zweck kann kolloidale Kieselsäure benutzt werden. Die kolloidale Kieselsäure kann in Form einer beliebigen handelsüblichen Wasserdispersion von kolloidaler Kieselsäure mit zum Beispiel einer mittleren Teilchengröße bis zu 40 nm, z. B. 20 nm, benutzt werden. Daneben können inerte Teilchen mit einer größeren Korngröße als die kolloidale Kieselsäure zugesetzt werden, z. B. Kieselsäure, die wie in J. Colloid and Interface Sci., Band 26, 1968, Seiten 62 bis 69, von Stöber beschrieben angefertigt ist, oder Tonerdeteilchen oder Teilchen mit einem mittleren Durchmesser von zumindest 100 nm, wobei es sich um Teilchen von Titandioxid oder anderen Schwermetalloxiden handelt. Durch Einbettung dieser Teilchen erhält die Oberfläche der hydrophilen Grundierschicht eine gleichmäßige raue Beschaffenheit mit mikroskopischen Spitzen und Tälern, die als Lagerstellen für Wasser in Hintergrundbereichen dienen.
Besondere Beispiele für geeignete hydrophile Grundierschichten zum Einsatz in der vorliegenden Erfindung sind offenbart in EP-A 601 240 , GB-P 1 419 512 , FR-P 2 300 354 , US-P 3 971 660 und US-P 4 284 705 .
Besonders bevorzugt wird ein Filmträger, der mit einer ebenfalls als Trägerschicht bezeichneten haftungsfördernden Schicht versehen ist. Besonders geeignete haftungsfördernde Schichten zur Verwendung in der vorliegenden Erfindung enthalten ein hydrophiles Bindemittel und kolloidale Kieselsäure, wie beschrieben in EP-A 619 524 , EP-A 620 502 und EP-A 619 525 . Die Menge Kieselsäure in der haftungsfördernden Schicht liegt vorzugsweise zwischen 200 mg/m² und 750 mg/m². Ferner beträgt das Verhältnis von Kieselsäure zu hydrophilem Bindemittel vorzugsweise mehr als 1 und beträgt die spezifische Oberfläche der kolloidalen Kieselsäure vorzugsweise zumindest 300 m²/g, besonders bevorzugt zumindest 500 m²/g.
Die erfindungsgemäße Druckplattenvorstufe kann mittels einer LED oder eines Lasers mit Infrarotlicht belichtet werden. Bevorzugt für die Belichtung wird ein nahes Infrarotlicht mit einer Wellenlänge zwischen etwa 750 nm und etwa 1.500 nm emittierender Laser, z. B. eine Halbleiterlaserdiode, ein Nd:YAG-Laser oder ein Nd:YLF-Laser. Die erforderliche Laserleistung ist abhängig von der Empfindlichkeit der Bildaufzeichnungsschicht, der Pixelverweilzeit des Laserstrahls, die durch die Strahlbreite bestimmt wird (ein typischer Wert bei 1/e² der Höchstintensität liegt bei modernen Plattenbelichtern zwischen 10 und 25 μm), der Abtastgeschwindigkeit und der Auflösung des Gelichters (d. h. der Anzahl adressierbarer Pixel pro Längeneinheit, oft ausgedrückt in Punkten pro Zoll oder dpi/typische Werte liegen zwischen 1.000 und 4.000 dpi).
Es gibt zwei Typen üblicher Laserbelichter, d. h. ein Innentrommelplattenbelichter (ITD-Plattenbelichter) und ein Außentrommelplattenbelichter (XTD-Plattenbelichter). ITD-Plattenbelichter für Thermoplatten kennzeichnen sich in der Regel durch sehr hohe Abtastgeschwindigkeiten bis 1.500 m/s und benötigen manchmal eine Laserleistung von mehreren Watt. Der Agfa Galileo T ist ein typisches Beispiel für einen Plattenbelichter der ITD-Technologie. XTD-Plattenbelichter arbeiten bei einer niedrigeren Abtastgeschwindigkeit, die in der Regel zwischen 0,1 m/s und 10 m/s liegt, und weisen eine typische Laserleistung pro Laserstrahl zwischen 20 mW und 500 mW auf. Die Familie der Creo Trendsetter-Plattenbelichter und die Familie der Agfa Excalibur-Plattenbelichter arbeiten beide auf der Grundlage der XTD-Technologie.
Die bekannten Plattenbelichter sind geeignet als Off-Press-Belichter, was den Vorteil bietet, dass dadurch die Druckmaschinenstillstandzeit verringert wird. XTD-Plattenbelichterkonfigurationen sind auch geeignet für On-Press-Belichtung, was den Vorteil einer sofortigen registerhaltigen Einpassung der Platte in eine Mehrfarbenpresse beinhaltet. Genauere technische Angaben über On-Press-Belichter sind z. B. in US 5 174 205 und US 5 163 368 beschrieben.
Im Entwicklungsschritt können die Nicht-Bildbereiche der Beschichtung durch Eintauchen in einen wässrig-alkalischen Entwickler entfernt werden, gegebenenfalls in Kombination mit mechanischem Wischen, z. B. mittels einer Bürstenwalze. Der pH des Entwicklers liegt vorzugsweise über 10, besonders bevorzugt über 12. An den Entwicklungsschritt kann (können) ein Spülschritt, ein Gummierschritt, ein Trocknungsschritt und/oder ein Nacheinbrennschritt anschließen.
Die so erhaltene Druckplatte eignet sich für herkömmlichen, sogenannten Nassoffsetdruck, bei dem Druckfarbe und Feuchtwasser auf die Platte aufgebracht werden. Bei einem weiteren geeigneten Druckverfahren wird sogenannte Single-Fluid-Druckfarbe ohne Feuchtwasser verwendet. Single-Fluid-Druckfarbe ist aus einer Druckfarbenphase, ebenfalls hydrophobe oder oleophile Phase genannt, und einer polaren Phase, die das bei herkömmlichem Nassoffsetdruck verwendete Feuchtwasser ersetzt, zusammengesetzt. Geeignete Beispiele für Single-Fluid-Druckfarben sind beschrieben in US 4 045 232 , US 4 981 517 und US 6 140 392 . In einer ganz besonders bevorzugten Ausführungsform enthält die Single-Fluid-Druckfarbe eine Farbenphase und eine Polyolphase, wie beschrieben in WO 00/32705 .
BEISPIELE
Herstellung der lithografischen Druckplattenvorstufe TG, einer gegenüber einer Wellenlänge von 830 nm sensibilisierten negativarbeitenden Thermoplatte:
Auf eine elektrochemisch angeraute und anodisierte Aluminiumfolie mit einer durch Behandlung mit einer wässrigen Polyvinylphosphonsäurelösung hydrophil gemachten Oberfläche (Oxidgewicht 3 g/m²) wird aus einer wässrigen Beschichtungslösung in einer Nassschichtstärke von 30 g/m² eine Bildaufzeichnungsschicht aufgetragen.
Nach Trocknung enthält die Bildaufzeichnungsschicht:

– 600 mg/m² Teilchen eines mit einem anionischen Netzmittel stabilisierten Copolymers aus Styrol und Acrylnitril (Gewichtsverhältnis 60/40) mit einer mittleren Teilchengröße von 65 nm,
– 60 mg/m² des Infrarot-Farbstoffes I und
– 120 mg/m² Polyacrylsäure (Glascol D15 von Allied Colloids, Molekulargewicht 2,7 × 10⁷ g/Mol).

IR-Farbstoff 1 entspricht folgender Formel:
Die so erhaltene Druckplattenvorstufe wird auf einem CREO TRENDSETTER (Plattenbelichter von Creo, Burnaby, Kanada) bei 330 mJ/cm² und 150 TpM belichtet. Anschließend an die Belichtung wird die Platte mit einer (durch Agfa erhältlichen) RC520-Gummierlösung entwickelt.
Herstellung der lithografischen Druckplattenvorstufe TB-1, einer gegenüber einer Wellenlänge von 830 nm sensibilisierten positivarbeitenden Thermoplatte:
Es wird eine Beschichtungslösung angesetzt, indem folgende Inhaltsstoffe vermischt werden:

– 209,20 g Tetrahydrofuran,
– 103,25 g einer 40,4 gew.-%igen Lösung des Phenolpolymers ALNOVOL SPN452 in Dowanol PM, erhältlich durch CLARIANT GmbH,
– 410,80 g Dowanol PM,
– 266,03 g Methylethylketon,
– 2,103 g des IR-Farbstoffes S0094, erhältlich durch Wolfen GmbH,
– 0,53 g einer Lösung von Basonyl Blue 640, erhältlich durch BASF,
– 2,12 g einer Lösung von Tego Glide 410 in einem Verhältnis von 10 Gew.-% in Dowanol PM,
– 0,85 g einer Lösung von Tego Wet 265 in einem Verhältnis von 10 Gew.-% in Dowanol PM und
– 5,34 g 3,4,5-Trimethoxyzimtsäure.

Dowanol PM ist Propylenglycolmonomethylether, ein Warenzeichen der Dow Chemical Company.

Die chemische Struktur von S0094 entspricht Formel IR-1.
Basonyl Blue 640 ist ein quaternierter Triarylmethanfarbstoff.
TegeGlide 410 ist ein durch Tego Chemie Service GmbH erhältliches Copolymer aus Polysiloxan und Poly(alkylenoxid).
TegoWet 265 ist ein durch Tego Chemie Service GmbH erhältliches Copolymer aus Polysiloxan und Poly(alkylenoxid).

Die Beschichtungslösung wird in einer Nassschichtstärke von 26 μm auf ein elektrochemisch angerautes und anodisiertes Aluminiumsubstrat aufgetragen und bei einer Temperatur von 130°C getrocknet.
Belichtung:
Die Druckplattenvorstufe wird bei einer Energiedichte von 150 mJ/cm² auf einem CreoScitex Trendsetter 3244 belichtet.
Entwicklung:
Die bildmäßig belichtete Druckplattenvorstufe wird unter Verwendung von Agfa TD5000 als Entwickler und RC510 (erhältlich durch AGFA) als Gummierlösung in einem bei einer Geschwindigkeit von 0,96 m/Min. und einer Temperatur von 25°C arbeitenden Agfa Autolith T-Entwicklungsgerät entwickelt und gummiert.
Herstellung der lithografischen Druckplattenvorstufe TS-2, einer gegenüber einer Wellenlänge von 1.060 nm sensibilisierten positivarbeitenden Thermoplatte:
Es wird eine Beschichtungslösung angesetzt, indem folgende Inhaltsstoffe vermischt werden:

– 209,19 g Tetrahydrofuran,
– 103,32 g einer 40,4 gew.-%igen Lösung des Phenolpolymers ALNOVOL SPN452 in Dowanol PM, erhältlich durch CLARIANT GmbH,
– 385,60 g Dowanol PM,
– 266,24 g Methylethylketon,
– 0,614 g des IR-Farbstoffes 2,
– 1,41 g einer Lösung von Basonyl Blue 640, erhältlich durch BASF,
– 20,15 g einer Lösung von Tego Glide 410 in einem Verhältnis von 1 Gew.-% in Dowanol PM,
– 7,86 g einer Lösung von Tego Wet 265 in einem Verhältnis von 1 Gew.-% in Dowanol PM und
– 5,61 g 3,4,5-Trimethoxyzimtsäure.

IR-Farbstoff 2 entspricht folgender Formel:
Die Beschichtungslösung wird in einer Nassschichtstärke von 26 μm auf ein elektrochemisch angerautes und anodisiertes Aluminiumsubstrat aufgetragen und bei einer Temperatur von 130°C getrocknet.
Belichtung:
Die Druckplattenvorstufe wird bei einer Energiedichte von 50 mJ/cm² auf einem Agfa Galileo T belichtet.
Entwicklung:
Die bildmäßig belichtete Druckplattenvorstufe wird unter Verwendung von Agfa TD5000 als Entwickler und RC510 (erhältlich durch AGFA) als Gummierlösung in einem bei einer Geschwindigkeit von 0,96 m/Min. und einer Temperatur von 25°C arbeitenden Agfa Autolith T-Entwicklungsgerät entwickelt und gummiert.
Herstellung der lithografischen Druckplattenvorstufe VPP, einer gegenüber einer Wellenlänge von 390 nm–420 nm sensibilisierten negativarbeitenden, für Violettbelichtung geeigneten Fotopolymerplatte:
Anfertigung der strahlungsempfindlichen Beschichtung:
Durch Vermischen der in Tabelle 1 angegebenen Inhaltsstoffe wird eine Beschichtungszusammensetzung angesetzt (GT = Gewichtsteile, Gew.-% = Gewichtsprozentsatz).

Diese Zusammensetzung wird auf eine elektrochemisch angeraute und anodisierte Aluminiumfolie mit einer durch Behandlung mit einer wässrigen Polyvinylphosphonsäurelösung hydrophil gemachten Oberfläche (Oxidgewicht 3 g/m²) aufgetragen und bei 105°C getrocknet. Die Stärke der so erhaltenen Schicht beträgt 1,5 g/m². Tabelle 1: Zusammensetzung der strahlungsempfindlichen Beschichtungslösung:

Bestandteil	Gewichtsteile (g)
eine 32,4 gew.-%ige Lösung eines Copolymers aus Methacrylat und Methacrylsäure (Gewichtsverhältnis Methylmethacrylat:Methacrylsäure: 4:1, Säurezahl: 110 mg KOH/g) in 2-Butanon (Viskosität: 105 mm²/s bei 25°C).	8,620
eine 88,2 gew.-%ige Lösung eines Umsetzungsprodukts von 1 Mol 2,2,4-Trimethylhexamethylendiisocyanat und 2 Mol Hyroxyethymethacrylat (Viskosität: 3,30 mm²/s bei 25°C)	5,440
1,4-Distyryl-3,4,5-trimethoxybenzol	0,320
Dispersion von Heliogene Blue D 7490^® (9,9 Gew.-%, Viskosität 7,0 mm²/s bei 25°C), Warenzeichen von BASF AG	7,200
2,2'-Bis-(2-chlorphenyl)-4,4',5,5'-tetraphenyl-1,2-bisimidazol	0,320
2-Mercaptobenzthiazol	0,027
Edaplan LA 411^® (1% in Dowanol PM^®, Warenzeichen der Dow Chemical Company)	0,900
2-Butanon	47,84
Propylenglycolmonomethylether (Dowanol PM^®, Warenzeichen der Dow Chemical Company)	79,33

Herstellung der Schutzdeckschicht:
Auf die strahlungsempfindliche Schicht wird eine wässrige, 4,9 Gew.-% der nachstehenden Zusammensetzung enthaltende Lösung aufgetragen und bei 120°C getrocknet:
1,0 GT teilweise hydrolysierter Polyvinylalkohol (Hydrolysegrad 88%, Viskosität 8 mPa·s in einer Lösung von 4 Gew.-% bei 20°C).
1,0 GT vollhydrolysierter Polyvinylalkohol (Hydrolysegrad 98%, Viskosität 4 mPa·s in einer Lösung von 4 Gew.-% bei 20°C).
0,5 GT Polyvinylpyrrolidon (k-Wert 30).
Die Trockenschichtstärke der Deckschicht beträgt 2,0 g/m².
Belichtung:
Die Belichtung der Druckplattenvorstufe erfolgt mittels eines experimentellen, mit einer bei einer Wellenlänge zwischen 392 nm und 417 nm emittierenden Violettlaserdiode ausgestatteten Violettlaser-Plattenbelichters (Flachbettbelichter).
Die Bebilderung erfolgt bei folgenden Belichtungsbedingungen:

– Abtastgeschwindigkeit: 1.000 m/s
– Energiedichte: 50 μJ/cm²
– Strahlbreite: 20 μm
– Addressierbarkeit (Auflösung): 1.270 dpi

Entwicklung:
Anschließend an die Bebilderung wird die Platte bei einer Geschwindigkeit von 1,2 m/Min. in einem Agfa VSP85-Entwicklungsgerät entwickelt. Während der Entwicklung wird die Platte zunächst in einem Vorwärmschritt erhitzt (Rückseitenerwärmung auf 104°C), wonach die Schutzdeckschicht mit Wasser abgewaschen und die Fotoschicht bei 28°C in einem wässrig-alkalischen Entwickler (Agfa EN 231C) entwickelt wird. Nach Spülung mit Wasser und Gummierung mit RC510 ist die Druckplatte druckfertig.
Verfahrensweise für das Einbrennen mit dynamischer IR-Belichtung, im Folgenden als "dynam. IR" bezeichnet:
Die wie oben beschrieben hergestellten Druckplattenvorstufen TG, TS-1, TS-2 und VPP werden mit einem MICOR-KIR-KASSETTE 36 kW erhitzt. Spezifikationen und Konfiguration des Strahlers:

– Brennbandlänge: 310 mm,
– Leistung: 100%, d. h. 36 kW,
– Abstand vom Strahler zur Plattenbeschichtung: 50 mm,
– Fördergeschwindigkeit der Platte: zwischen 5 und 3 m/Minute, wie in den Tabellen 2, 3, 4 und 5 angegeben.

Verfahrensweise für das Einbrennen mit statischer Ofenerwärmung, im Folgenden als "statischer Ofen" bezeichnet:
Die wie oben beschrieben hergestellten Druckplattenvorstufen TG, TS-1, TS-2 und VPP werden 5 Minuten lang bei 235°C in einem Ofen erhitzt.
Verfahrensweise für das Einbrennen mit dynamischer Ofenerwärmung, im Folgenden als "dynamischer Ofen" bezeichnet:
Die wie oben beschrieben hergestellten Druckplattenvorstufen TG, TS-1, TS-2 und VPP werden in einem Haase OG15O-Ofen erhitzt und zwar bei 270°C und einer Fördergeschwindigkeit von 0,7 m/Minute, was einer Einbrennverweilzeit von 150 Sekunden entspricht.
Chemischer Beständigkeitstest
Zur Messung der chemischen Beständigkeit werden folgende Korrekturlösungen verwendet:

– KP273: Testkorrekturlösung für die negativen und positiven Thermodruckplattenvorstufen TG, TS-1 und TS-2,
– KN250: Testkorrekturlösung für die negative Druckplattenvorstufe mit für Violettbelichtung empfindlicher Fotopolymerschicht VPP.

Zur Prüfung der chemischen Beständigkeit wird je ein Tröpfchen der Testkorrekturlösung auf die eingebrannten Platten angebracht. Nach 3 Minuten wird das Tröpfchen mittels eines Baumwolltupfers von der Beschichtung abgewischt. Das Ausmaß, in dem jede Testkorrekturlösung die Beschichtung angegriffen hat, wird visuell nach folgender Skala ausgewertet:

0: kein Angriff,
1: geänderter Glanz der Beschichtungsoberfläche,
2: beschränkter Angriff der Beschichtung (Abnahme der Stärke),
3: erheblicher Angriff der Beschichtung,
4: völlig gelöste Beschichtung.

Je höher die Auswertungsziffer, umso niedriger die chemische Beständigkeit der Beschichtung. Die mit den Testkorrekturlösungen (im Nachstehenden als "TKL" bezeichnet) auf der Beschichtung jeder Druckplattenvorstufe erhaltenen Ergebnisse sind in den Tabellen 2, 3, 4 und 5 zusammengesetzt. Die Tabellen enthalten ebenfalls Angaben über den Druckplattenvorstufentyp, den Einbrennprozesstyp, die Geschwindigkeit des IR-Einbrennprozesses und die Verweilzeit des Einbrennprozesses. Tabelle 2:

Beispiel Nummer	Druckplattenvorstufe Typ	Einbrenschritt Typ	GS* IR-Nacheinbrennen (m/Min.)	Verweilzeit (s)	chemische Beständigkeit (für TKL KP273)
vergl. Beispiel 1	TG	nein		-	4
vergl. Beispiel 2	TG	statischer Ofen	-	300	0
vergl. Beispiel 3	TG	dynamischer Ofen	-	150	0
Beispiel 1	TG	dynam. IR	5,0	3,7	0
Beispiel 2	TG	dynam. IR	4,0	4,6	0
Beispiel 3	TG	dynam. IR	3,5	5,3	0
Beispiel 4	TG	dynam. IR	3,7	5,0	0
Beispiel 5	TG	dynam. IR	3,8	4,9	0
Beispiel 6	TG	dynam. IR	3,0	6,2	0

* GS: Geschwindigkeit

Die Beispiele in Tabelle 2 zeigen, dass durch den mit einer Verweilzeit von weniger als 7 Sekonden mit einer Vorrichtung für dynamische IR-Belichtung vorgenommenen Einbrennschritt eine TG-Druckplatte mit hervorragender chemischer Beständigkeit erhalten werden kann. Tabelle 3:

Beispiel Nummer	Druckplattenvorstufe Typ	Einbrenschritt Typ	GS* IR-Nacheinbrennen (m/Min.)	Verweilzeit (s)	chemische Beständigkeit (für TKL KP273)
vergl. Beispiel 4	TS-1	nein		-	4
vergl. Beispiel 5	TS-1	statischer Ofen	-	300	0
vergl. Beispiel 6	TB-1	dynamischer Ofen	-	150	0
Beispiel 7	TB-1	dynam. IR	5,0	3,7	0
Beispiel 8	TS-1	dynam. IR	4,0	4,6	0
Beispiel 9	TB-1	dynam. IR	3,5	5,3	0
Beispiel 10	TB-1	dynam. IR	3,7	5,0	0
Beispiel 11	TB-1	dynam. IR	3,8	4,9	0
Beispiel 12	TB-1	dynam. IR	3,0	6,2	0

* GS: Geschwindigkeit

Die Beispiele in Tabelle 3 zeigen, dass durch den mit einer Verweilzeit von weniger als 7 Sekonden mit einer Vorrichtung für dynamische IR-Belichtung vorgenommenen Einbrennschritt eine TS-1-Druckplatte mit hervorragender chemischer Beständigkeit erhalten werden kann. Tabelle 4:

Beispiel Nummer	Druckplattenvorstufe Typ	Einbrenschritt Typ	GS* IR-Nacheinbrennen (m/Min.)	Verweilzeit (s)	chemische Beständigkeit (für TKL KP273)
vergl. Beispiel 7	TS-2	nein		-	4
vergl. Beispiel 8	TS-2	statischer Ofen	-	300	0
vergl. Beispiel 9	TS-2	dynamischer Ofen	-	150	0
Beispiel 13	TS-2	dynam. IR	5,0	3,7	0
Beispiel 14	TS-2	dynam. IR	4,0	4,6	0
Beispiel 15	TS-2	dynam. IR	3,5	5,3	0
Beispiel 16	TS-2	dynam. IR	3,7	5,0	0
Beispiel 17	TS-2	dynam. IR	3,8	4,9	0
Beispiel 18	TS-2	dynam. IR	3,0	6,2	0

* GS: Geschwindigkeit

Die Beispiele in Tabelle 4 zeigen, dass durch den mit einer Verweilzeit von weniger als 7 Sekonden mit einer Vorrichtung für dynamische IR-Belichtung vorgenommenen Einbrennschritt eine TS-2-Druckplatte mit hervorragender chemischer Beständigkeit erhalten werden kann. Tabelle 5:

Beispiel Nummer	Druckplattenvorstufe Typ	Einbrenschritt Typ	GS* IR-Nacheinbrennen (m/Min.)	Verweilzeit (s)	chemische Beständigkeit (für TKL KN250)
vergl. Beispiel 9	VPP	nein		-	4
vergl. Beispiel 10	VPP	statischer Ofen	-	300	0
vergl. Beispiel 11	VPP	dynamischer Ofen	-	150	0
Beispiel 13	VPP	dynam. IR	5,0	3,7	0
Beispiel 14	VPP	dynam. IR	4,0	4,6	0
Beispiel 15	VPP	dynam. IR	3,5	5,3	0
Beispiel 16	VPP	dynam. IR	3,7	5,0	0
Beispiel 17	VPP	dynam. IR	3,8	4,9	0
Beispiel 18	VPP	dynam. IR	3,0	6,2	0

* GS: Geschwindigkeit

Die Beispiele in Tabelle 5 zeigen, dass durch den mit einer Verweilzeit von weniger als 7 Sekonden mit einer Vorrichtung für dynamische IR-Belichtung vorgenommenen Einbrennschritt eine VPP-Druckplatte mit hervorragender chemischer Beständigkeit erhalten werden kann.

Claims

Ein die nachstehenden Schritte umfassendes Verfahren zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte: – Bereitstellen einer lithografischen Druckplattenvorstufe mit einer auf einem Substrat mit einer hydrophilen Oberfläche angebrachten strahlungsempfindlichen Beschichtung, – bildmäßige Belichtung der strahlungsempfindlichen Beschichtung, – Entwicklung der belichteten Beschichtung zur Erzeugung eines Bildes auf dem Substrat und eventuelles Gummieren der Platte und – Einbrennen des Bildes auf der Platte, dadurch gekennzeichnet, dass der Einbrennschritt innerhalb einer Verweilzeit von weniger als 10 Sekunden durchgeführt wird.
Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Einbrennschritt eine Belichtung der Druckplatte mit einer Infrarotstrahlungsquelle beinhaltet.
Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Infrarotstrahlungsquelle eine nahe Infrarotlampe oder mittelwellige Infrarotlampe ist.
Verfahren nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, dass der Einbrennschritt folgende Schritte umfasst: – Bestrahlung mit einer Infrarotstrahlungsquelle und – relativ zur Strahlungsquelle Fördern der Druckplatte.
Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die strahlungsempfindliche Beschichtung eine Infrarotlicht absorbierende Verbindung enthält.
Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Infrarotlicht absorbierende Verbindung ein Absorptionsmaximum zwischen 750 nm und 3.000 nm aufweist.
Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die strahlungsempfindliche Beschichtung eine IR-empfindliche Beschichtung ist.
Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Druckplatte isoliert ist, um Wärmeableitung zur Umgebung zu verhindern.
Verfahren nach einem der Ansprüche 2 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass der Einbrennschritt eine Belichtung der Druckplatte mittels einer Kombination einer Infrarot strahlungsquelle und einer Ultraviolett strahlungsquelle beinhaltet.
Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Substrat mit einer hydrophilen Oberfläche eine anodisierte Aluminiumplatte ist.