DE60313262T2 - Wärmeempfindliche Flachdruckplatte und Bebilderungsverfahren - Google Patents

Wärmeempfindliche Flachdruckplatte und Bebilderungsverfahren Download PDF

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Description

  • HINTERGRUND DER ERFINDUNG
  • Gebiet der Erfindung
  • Die Erfindung betrifft eine wärmeempfindliche lithographische Pressplatte bzw. Pressplatte bzw. Druckplatte, die auf dem Gebiet des Offsetdruckens verwendet wird, und insbesondere eine negativ arbeitende wärmeempfindliche lithographische Pressplatte bzw. Pressplatte bzw. Druckplatte für das Computer-to-plate-Verfahren (CTP), die dazu imstande ist, direkt auf der Basis eines digitalen Signals von einem Computer eine Platte herzustellen.
  • Beschreibung des einschlägigen Standes der Technik
  • Präsensibilisierte Platten (PS-Platten) werden seit langer Zeit als lithographische Pressplatten bzw. Druckplatten beim Offsetdrucken verwendet. Eine PS-Platte umfasst ein Substrat, dessen Oberfläche einer Hydrophilisierungsbehandlung unterworfen worden ist, und eine wärmeempfindliche Harzschicht, die auf dem Substrat gebildet worden ist. Ein Bild wird durch Photolithographie, umfassend die Stufen des Belichtens auf dem Wege über einen Silbermaskierungsfilm und der Entwicklung, gebildet.
  • Mit dem Fortschritt der Computerabbildungs-Prozesstechniken und der Lasertechniken ist neuerdings schon ein Computer-to-plate-System (CTP) der Digitalisierung der Bilderzeugung und der Bestrahlung mit Laserlicht auf der Basis der digitalisierten Bildinformation vorgeschlagen worden, um ein Bild direkt auf einer photoempfindlichen Schicht oder einer wärmeempfindlichen Schicht der lithographischen Pressplatte bzw. Pressplatte bzw. Druckplatte zu erzeugen.
  • Computer-to-plate-Systeme haben daher ein intensives Interesse gefunden.
  • Die lithographische Pressplatte bzw. Pressplatte bzw. Druckplatte, die in dem CTP-System verwendet wird (dieser Typ der Platte wird nachstehend als „CTP-Platte" abgekürzt) kann grob in eine lichtempfindliche CTP-Platte, in der Silber verwendet wird, oder in ein hochempfindliches lichtempfindliches Photopolymermaterial, das gegenüber sichtbarem Licht oder Ultraviolettlicht empfindlich ist, und eine wärmeempfindliche CTP-Platte, in der ein lichtempfindliches Material verwendet worden ist, das gegenüber Hitze empfindlich ist, die durch Absorption von Licht im nahen Infrarotbereich oder von Infrarotlicht in Gegenwart eines Infrarot-Absorptionsmittels erzeugt worden ist, aufgeteilt werden. Im Falle der lichtempfindlichen CTP-Platte kann ein Laserstrahl mit niedriger Energie aufgrund der hohen Empfindlichkeit der Platte zum Einsatz kommen. Jedoch erfordert dies den Betrieb in einem dunklen Raum und weiterhin ist es so, dass die Handhabbarkeit und die Betriebsfähigkeit dieser Platte nicht zufrieden stellend sind. Andererseits hat sie, obgleich die hitzeempfindliche CTP-Platte eine schlechtere Empfindlichkeit als die lichtempfindliche CTP-Platte hat, aus den folgenden Gründen eine rasche Verbreitung gefunden. Das heißt, in neuerer Zeit wurde eine klein dimensionierte Hochenergie-Lasereinrichtung im nahen Infrarotbereich entwickelt und die wärmeempfindliche CTP-Platte kann in belichteten Orten, wie belichteten Räumen, ausgezeichnet betrieben werden, weil sie gegenüber sichtbarem Licht und Ultraviolettlicht nicht empfindlich ist. Schließlich hat sie auch eine hohe Auflösung.
  • Insbesondere ist die Entwicklung von einer negativarbeitenden CTP-Platte deswegen vorangeschritten, weil die Fläche der Bildfläche, die mit Laserlicht bestrahlt werden soll, kleiner sein kann als im Falle einer positiv arbei tenden CTP-Platte. Jedoch muss in einer herkömmlich negativarbeitenden CTP-Platte die Bildfläche nach der Bestrahlung mit Laserlicht vorerhitzt werden.
  • Als negativ-arbeitende CTP-Platte, die keine Vorerhitzung erfordert, ist schon eine wärmeempfindliche CTP-Platte vorgeschlagen worden, die ein Substrat und eine auf dem Substrat gebildete wärmeempfindliche Schicht, enthaltend ein wasserlösliches Ammoniumsalz oder Aminsalz, umfasst, die dadurch erhalten worden ist, dass ein in Wasser unlösliches Harz mit Carboxylgruppen, mit Ammoniak oder Amin und einem photothermischen Umwandlungsmaterial, das Licht absorbiert und Licht zu Hitze umwandelt, als aktive Komponente miteinander umgesetzt werden (vergleiche z.B. die ungeprüfte japanische Patentanmeldung, Erste Publikation Nr. Sho 58-162389). Was die wärmeempfindliche Schicht der wärmeempfindlichen CTP-Platte betrifft, so wird der dem Laserlicht ausgesetzte Teil erhitzt und daher wird das Ammoniumsalz oder das Aminsalz in dem erhitzten Teil zersetzt und es wird Ammoniak oder ein Amin freigesetzt und verflüchtigt. Als Ergebnis wird der belichtete Teil unlöslich gemacht. Jedoch ist eine Pressplatte bzw. Pressplatte bzw. Druckplatte, die dadurch erhalten worden ist, dass die so erhaltene wärmeempfindliche Schicht entwickelt wird, mit einem Problem dahingehend behaftet, dass keine zufrieden stellende Druckbeständigkeit erhalten werden kann, weil die Bildfläche nur eine geringe Wasserbeständigkeit hat.
  • Es ist auch schon eine wärmeempfindliche CTP-Platte, umfassend ein Substrat und eine auf dem Substrat gebildete wärmeempfindliche Schicht, vorgeschlagen worden, die feine Teilchen, hergestellt aus einem in Wasser selbst dispergierenden thermoplastischen Harz, und ein Infrarot-Absorptionsmittel (nachstehend als „IR-Absorptionsmittel" bezeichnet) als aktive Komponente enthält (vergleiche z.B. die ungeprüfte japanische Patentanmeldung, Erste Publika tion Nr. Hei 9-127683). Im Falle der wärmeempfindlichen Schicht der wärmeempfindlichen CTP-Platte wird durch das IR-Absorptionsmittel in dem Teil, der dem Laserlicht ausgesetzt ist, Lichtenergie in Hitze umgewandelt, feine thermoplastische Harzteilchen werden durch Hitze zusammengeschmolzen, um ein latentes Bild zu erzeugen. Da die Löslichkeit des latenten Bildes aus den zusammengeschmolzenen feinen thermoplastischen Harzteilchen in der alkalischen Entwicklungslösung verringert worden ist, kann eine Pressplatte bzw. Pressplatte bzw. Druckplatte nur durch Herauswaschen der wärmeempfindlichen Schicht am nicht-belichteten Teil der wärmeempfindlichen CTP-Platte nach dem Aussetzen an Laserlicht unter Verwendung einer alkalischen Entwicklungslösung erhalten werden, Jedoch ist eine CTP-Platte mit dem Problem behaftet, dass feine Teilchen im unbelichteten Teil nur mit Schwierigkeiten vollständig zusammengeschmolzen werden können, und dass eine Rissbildung, die in dem nicht-zusammengeschmolzenen Teil beginnt, während des Druckens auftritt, so dass keine zufrieden stellende Druckbeständigkeit erhalten werden kann.
  • Es ist auch schon eine wärmeempfindliche CTP-Platte vorgeschlagen worden, die ein Substrat und eine auf dem Substrat gebildete wärmeempfindliche Schicht, enthaltend ein hydrophiles Bindemittel und feine hydrophobe Harzteilchen, dispergiert in dem hydrophilen Bindemittel, als Hauptkomponente umfasst (vergleiche z.B. die ungeprüfte japanische Patentanmeldung, Erste Publikation Nr. Hei 9-171249 und die ungeprüfte japanische Patentanmeldung, Erste Publikation Nr. Hei 11-268225). Jedoch ist diese wärmeempfindliche CTP-Platte mit dem Problem behaftet, dass Pressplatte bzw. Pressplatte bzw. Druckplatte, erhalten durch Belichten mit Laserlicht und durch Entwicklung in der Bildfläche eine nichtausreichende Wasserbeständigkeit aufweist und dass Bilddefekte nach dem Langzeitdrucken unter Verwendung von Dämpfungswasser auftreten, so dass daher in diesem Fall keine zufrieden stellende Druckbeständigkeit erhalten werden kann.
  • KURZE ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
  • Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine negativarbeitende CTP-Platte mit überlegener Auflösung und mit überlegener Druckbeständigkeit der Bildfläche einer Pressplatte bzw. Pressplatte bzw. Druckplatte, erhalten durch Bildung eines latenten Bildes auf einer wärmeempfindlichen Schicht, in einer wärmeempfindlichen lithographischen Pressplatte bzw. Pressplatte bzw. Druckplatte, umfassend ein Substrat mit einer hydrophilen Oberfläche und eine auf der Oberfläche des Substrats gebildete wärmeempfindliche Schicht, hergestellt aus einem alkalilöslichen Polymeren unter Verwendung von Hitze, erzeugt durch Bestrahlung mit Laserlicht, und durch Entwicklung der wärmeempfindlichen Schicht unter Verwendung einer alkalischen Entwicklungslösung zur Verfügung zu stellen.
  • Die benannten Erfinder haben gefunden, dass eine wärmeempfindliche CTP-Platte mit ausgezeichneter Auflösung und mit ausgezeichneter Druckbeständigkeit dadurch erhalten werden kann, dass ein alkalilösliches Polymeres verwendet wird, das eine ausgezeichnete Ausgewogenheit zwischen der Hydrophilizität und der Hydrophobizität als wärmeempfindliche Schicht in der wärmeempfindlichen lithographischen Pressplatte bzw. Pressplatte bzw. Druckplatte besitzt, und dass die Ausgewogenheit zwischen der Hydrophilizität und der Hydrophobizität des alkalilöslichen Polymeren durch den Kontaktwinkel der Oberfläche der wärmeempfindlichen Schicht mit Wasser beurteilt werden kann. Somit ist die vorliegende Erfindung vervollständigt worden.
  • Zur Lösung der oben beschriebenen Aufgabe stellt die vorliegende Erfindung eine wärmeempfindliche lithographische Pressplatte bzw. Pressplatte bzw. Druckplatte, umfassend ein Substrat, das eine hydrophile Oberfläche aufweist, und eine wärmeempfindliche Schicht, hergestellt aus einem alkalilöslichen Polymeren, die auf der Oberfläche des Substrats gebildet worden ist, wobei der Fortschreitrandwinkel (θf1) der Oberfläche der wärmeempfindlichen Schicht mit Wasser von 25°C in einem Bereich von 70° bis 110° liegt, der Rückzugsrandwinkel (θh2) der Oberfläche der wärmeempfindlichen Schicht mit Wasser von 25°C nach dem 3-minütigen Erhitzen auf 150°C größer ist als der Rückzugsrandwinkel (θh1) der Oberfläche der wärmeempfindlichen Schicht mit Wasser von 25°C vor dem Erhitzen und wobei der Unterschied des Rückzugsrandwinkels vor und nach dem Erhitzen (θh2 – θh1) größer als 1° und kleiner als 40° ist, zur Verfügung.
  • Zur Lösung der oben beschriebenen Aufgabe stellt die vorliegende Erfindung auch ein Verfahren zur Erzeugung eines Bildes, umfassend die Erzeugung von einem latenten Bild auf einer wärmeempfindlichen Schicht einer wärmeempfindlichen lithographischen Pressplatte bzw. Pressplatte bzw. Druckplatte unter Verwendung von Hitze, die durch Bestrahlung mit Laserlicht erzeugt worden ist, und die Entwicklung der wärmeempfindlichen Schicht unter Verwendung einer alkalischen Entwicklungslösung mit einem pH-Wert von 9 bis 14 zur Verfügung.
  • Da in der erfindungsgemäßen wärmeempfindlichen lithographischen Pressplatte bzw. Pressplatte bzw. Druckplatte der Fortschreitrandwinkel (θf1) der Oberfläche der wärmeempfindlichen Schicht mit Wasser von 25°C im Bereich von 70° bis 110° liegt, der Rückzugsrandwinkel (θh2) der Oberfläche der wärmeempfindlichen Schicht mit Wasser von 25°C nach dem 3-minütigen Erhitzen auf 150°C größer als der Rückzugsrandwinkel (θh1) der Oberfläche der wärmeempfindlichen Schicht mit Wasser von 25°C vor dem Erhitzen ist und die Differenz des Rückzugsrandwinkels vor und nach dem Erhitzen (θh2 – θh1) größer als 1° und kleiner als 40° ist, hat die Bildfläche der Pressplatte bzw. Pressplatte bzw. Druckplatte, die durch Erzeugung eines latenten Bildes auf einer wärmeempfindlichen Schicht unter Verwendung von Wärme, erzeugt durch Bestrahlung mit Laserlicht, und Entwicklung der wärmeempfindlichen Schicht unter Verwendung einer alkalischen Entwicklungslösung erhalten worden ist, ausgezeichnete Eigenschaften hinsichtlich der Auflösung und der Druckbeständigkeit.
  • Weiterhin hat die wärmeempfindliche lithographische Pressplatte bzw. Pressplatte bzw. Druckplatte gemäß der vorliegenden Erfindung, bei der ein Copolymeres eines Monomeren, das eine Carboxylgruppe aufweist, und eines hydrophoben Monomeren als alkalilösliches Polymeres zur Verwendung in der wärmeempfindlichen Schicht verwendet worden ist, besonders überlegene Eigenschaften hinsichtlich der Auflösung und der Druckbeständigkeit.
  • Weiterhin hat die wärmeempfindliche lithographische Pressplatte bzw. Pressplatte bzw. Druckplatte gemäß der vorliegenden Erfindung, bei der ein Copolymeres von Acrylsäure oder Methacrylsäure und ein hydrophobes Monomeres, ausgewählt aus Styrol, Styrolderivaten und Methylmethacrylat, das als alkalilösliches Polymeres in der wärmeempfindlichen Schicht verwendet worden ist, ausgezeichnete Eigenschaften hinsichtlich der Lagerungsstabilität bei hoher Feuchtigkeit.
  • Durch die erfindungsgemäße wärmeempfindliche lithographische Pressplatte bzw. Pressplatte bzw. Druckplatte ist es möglich gemacht worden, eine Pressplatte bzw. Pressplatte bzw. Druckplatte mit ausgezeichneten Eigenschaften hinsichtlich der Auflösung und der Druckbeständigkeit zu erhalten, indem ein latentes Bild auf einer wärmeempfindlichen Schicht unter Verwendung von Wärme, erzeugt durch Bestrahlung mit Laserlicht, und durch Entwicklung der wärmeempfindlichen Schicht unter Verwendung einer alkalischen Entwicklungslösung mit einem pH-Wert von 9 bis 14 gebildet wird.
  • KURZE BESCHREIBUNG VON MEHREREN ANSICHTEN DER ZEICHNUNGEN
  • Die 1 ist eine schematische Ansicht, die das Messprinzip des Fortschreitrandwinkels nach der Wilhelmy-Platten-Methode zeigt.
  • Die 2 ist eine schematische Ansicht, die das Messprinzip des Rückzugsrandwinkels nach der Wilhelmy-Platten-Methode zeigt.
  • Die 3 ist ein Diagramm, das die Veränderung des Rückzugsrandwinkels im Verlauf der Zeit zeigt, wenn die Oberfläche der wärmeempfindlichen Schicht auf 150°C erhitzt wird.
  • DETAILLIERTE BESCHREIBUNG DER ERFINDUNG
  • Unter dem erfindungsgemäß verwendeten alkalilöslichen Polymeren (nachstehend als „erfindungsgemäß verwendetes Polymeres" abgekürzt) ist ein Polymeres zu verstehen, das saure Gruppen, wie Carboxylgruppen, besitzt und das in einer wässrigen alkalischen Lösung löslich ist.
  • Das erfindungsgemäß verwendete Polymere wird vorzugsweise so gestaltet, dass Wasser als schlechtes Lösungsmittel dient. Bei Verwendung eines wasserlöslichen Harzes, bei dem Wasser als gutes Lösungsmittel dienen kann, beispielsweise von Polyacrylsäure, von Polyethylenglykol oder von Polyvinylalkohol, liegt der Kontaktwinkel nicht innerhalb des erfindungsgemäß definierten Bereichs.
  • Die Menge der sauren Gruppen des erfindungsgemäß verwendeten Polymeren variiert in Abhängigkeit vom Typ des Monomeren, aus dem das Polymere besteht, stellt jedoch vorzugs weise eine Menge dar, die die Säurezahl des Polymeren auf einen Wert im Bereich von 40 bis 500 und besonders bevorzugt 45 bis 300 einstellt.
  • Das erfindungsgemäß verwendete Polymere wird dadurch erhalten, dass eine polymerisierbare Zusammensetzung, enthaltend ein Monomeres, das eine saure Gruppe aufweist, wie eine Carboxylgruppe, als eine Komponente polymerisiert wird. Beispiele für Monomere, die eine saure Gruppe aufweisen, schließen Acrylsäure, Methacrylsäure, Maleinsäure, Maleinsäureanhydrid, Itaconsäure und Itaconsäureanhydrid ein. Bei Verwendung von Acrylsäure oder Methacrylsäure unter diesen Monomeren erfolgt leicht eine Copolymerisation mit dem anderen Monomeren und die Gestaltung des Harzes wird erleichtert.
  • Wie oben beschrieben wurde, ist das erfindungsgemäß verwendete Polymere vorzugsweise ein Copolymeres aus einem Monomeren, das eine saure Gruppe aufweist, und einem hydrophoben Monomeren. Beispiele für das hydrophobe Monomere schließen Acrylatester, wie Methylacrylat, Ethylacrylat und Butylacrylat; Methacrylatester, wie Methylmethacrylat, Butylmethacrylat und 2-Ethylhexylmethacrylat; Styrolderivate, wie Styrol, 2-Methylstyrol, 3-Methylstyrol, 4-Methylstyrol, 4-Ethylstytrol, 2,4-Dimethylstyrol, 4-n-Butylstyrol, 4-tert.-Butylstyrol, 4-n-Hexylstyrol, 4-n-Octylstyrol, 4-n-Nonylstyrol, 4-n-Decylstyrol, 4-Hydroxystyrol, 4-Acetoxystyrol, 4-Chlormethylstyrol, 4-n-Dodecylstyrol, 4-Methoxystyrol, 4-Phenylstyrol, 4-Chlorstyrol und 3,4-Dichlorstyrol; und Acrylnitril und Methacrylnitril ein.
  • Bei Verwendung eines Monomeren, ausgewählt aus Monomeren mit einem aromatischen Ring und einem Methacrylatester mit einer kurzen Alkylkette als hydrophobes Monomeres, kann eine wärmeempfindliche CTP-Platte erhalten werden, die eine ausgezeichnete Lagerungsstabilität besitzt. Unter die sen Monomeren wird vorzugsweise mindestens eine Art von hydrophobem Monomeren, ausgewählt aus Styrol, Styrolderivaten und Methylmethacrylat, eingesetzt.
  • Die Menge des Monomeren, das eine saure Gruppe aufweist, ist vorzugsweise eine Menge, die die Säurezahl des resultierenden Polymeren auf einen Wert im Bereich von 40 bis 500 und besonders bevorzugt 45 bis 300 einstellt.
  • Im Falle, dass das erfindungsgemäß verwendete Polymere ein Copolymeres aus einem Monomeren, das eine saure Gruppe aufweist, und einem hydrophoben Monomeren ist, und dass die Menge der sauren Gruppen in dem Polymeren die gleiche ist, variiert die Löslichkeit des resultierenden Copolymeren in einer wässrigen alkalischen Lösung entsprechend dem Typ des verwendeten Monomeren. Beispielsweise bei Verwendung eines Monomeren mit einer hohen Hydrophobizität, wie Styrol, als Monomeres, das einen Bestandteil des Copolymeren bildet, hat das resultierende Copolymere die Tendenz, dass die Alkalilöslichkeit verringert wird. Bei Verwendung eines Monomeren mit niedriger Hydrophobizität, wie Methylmethacrylat, als Monomeres, das einen Bestandteil des Copolymeren bildet, besteht die Tendenz, dass die Alkalilöslichkeit des resultierenden Copolymeren erhöht wird. Wenn die Löslichkeit des erfindungsgemäß verwendeten Copolymeren in einer wässrigen alkalischen Lösung zu hoch ist, dann ist der Fortschreitrandwinkel (θf1) der Oberfläche der wärmeempfindlichen Schicht mit Wasser von 25°C der resultierenden wärmeempfindlichen lithographischen Pressplatte bzw. Druckplatte kleiner als 70°, so dass daher die Bildfläche in der Entwicklungslösung aufgelöst wird und kein Bild erhalten wird. Wenn die Löslichkeit des erfindungsgemäß verwendeten Copolymeren in einer wässrigen alkalischen Lösung zu niedrig ist, dann ist der Fortschreitrandwinkel (θf1) größer als 110°, wodurch eine schlechte Entwicklung bewirkt wird oder sogar eine Entwicklung unmöglich gemacht wird.
  • Weiterhin wird bei Verwendung eines Monomeren, das eine hohe Hydrophobizität hat, als Monomeres, das einen Bestandteil des Copolymeren bildet, die Menge des Monomeren, das eine saure Gruppe aufweist, vorzugsweise erhöht. Auch wird bei Verwendung eines Monomeren mit niedriger Hydrophobizität als Monomeres, das einen Bestandteil des Copolymeren bildet, die Menge des Monomeren, das eine saure Gruppe aufweist, vorzugsweise verringert.
  • Spezieller wird in einem Copolymeren, das aus zwei Komponenten, beispielsweise Styrol und Acrylsäure, als Monomere besteht, das Gewichtsverhältnis der Styroleinheiten zu den Acrylsäureeinheiten vorzugsweise auf einen Wert im Bereich von 60:40 bis 85:15 kontrolliert. In einem Copolymeren, das aus zwei Komponenten, beispielsweise Methylmethacrylat und Acrylsäure, zusammengesetzt ist, wird das Gewichtsverhältnis von Methylmethacrylateinheiten zu Acrylsäureeinheiten vorzugsweise auf einen Wert im Bereich von 86:14 bis 95:5 eingestellt.
  • Bei Verwendung eines Copolymeren, zusammengesetzt aus einer copolymerisierbaren Zusammensetzung, enthaltend mindestens einen Typ von Monomeren, ausgewählt aus Styrol, Styrolderivaten und Methylmethacrylat, als erfindungsgemäß verwendetes Polymeres, wird eine wärmeempfindliche lithographische Pressplatte bzw. Druckplatte mit ausgezeichneter Lagerungsstabilität erhalten. Bei Verwendung eines Copolymeren, umfassend 60 bis 85 Gew.-% Styrol und 40 bis 15 Gew.-% Acrylsäure oder Methacrylsäure, wird eine wärmeempfindliche lithographische Pressplatte bzw. Druckplatte mit ausgezeichneter Lagerungsstabilität unter hoher Feuchtigkeit erhalten.
  • Das erfindungsgemäß verwendete Polymere hat vorzugsweise eine Glasübergangstemperatur (nachstehend als „Tg" abgekürzt) im Bereich von 40 bis 150°C, mehr bevorzugt 50 bis 140°C und am meisten bevorzugt 60 bis 130°C. Wenn die Tg niedriger als 40°C ist, dann hat die Bildfläche eine nicht ausreichende Härte und sie neigt dazu, eine schlechtere Lagerungsstabilität und Druckbeständigkeit zu haben. Wenn andererseits die Tg über 150°C hinausgeht, dann ist eine große Wärmemenge zur Erzeugung des Bildes erforderlich und das Material ist bei Verwendung von Laserlicht für die praktische Verwendung nicht geeignet. Wenn die Tg im Bereich von 60 bis 150°C und vorzugsweise 60 bis 130°C liegt, dann kann eine wärmeempfindliche lithographische Pressplatte bzw. Druckplatte erhalten werden, die eine ausgezeichnete Lagerungsstabilität bei Raumtemperatur besitzt.
  • Das erfindungsgemäß verwendete Polymere hat vorzugsweise ein gewichtsmittleres Molekulargewicht von nicht weniger als 5000 und nicht mehr als 200.000 und mehr bevorzugt von nicht weniger als 10.000 und nicht mehr als 200.000. Wenn das zahlenmittlere Molekulargewicht kleiner als 5000 ist, dann wird die Druckbeständigkeit verringert. Wenn andererseits das gewichtsmittlere Molekulargewicht über einen Wert von 200.000 hinausgeht, dann wird es schwierig, das Polymere in einer wässrigen alkalischen Lösung aufzulösen.
  • Als Polymerisationsreaktion des oben genannten Monomeren können bekannte Verfahren, wie die Massenpolymerisation und die Lösungspolymerisation angewendet werden. Unter diesen Verfahren ist das einfache Lösungspolymerisationsverfahren zu bevorzugen. Das zu verwendende Lösungsmittel ist vorzugsweise ein organisches Lösungsmittel. Beispiele für das organische Lösungsmittel schließen aromatische Kohlenwasserstoffe, wie Benzol, Toluol und Xylol; Ketone, wie Aceton, Methylethylketon, Methylisobutylketon und Cyclohexanon; Ester, wie Ethylacetat und Butylacetat; und Alkohole, wie Methanol, Ethanol und Isopropylalkohol, ein. Es können zwei oder mehrere Arten dieser organischen Lösungsmittel in Kombination zum Einsatz kommen.
  • Der Polymerisationsinitiator, der bei der Lösungspolymerisation verwendet wird, ist vorzugsweise ein bekannter radikalischer Polymerisationsinitiator. Beispiele hierfür schließen Polymerisationsinitiatoren auf Azobasis, wie 2,2'-Azobisisobutyronitril und 2,2'-Azobis(2,4-dimethylvaleronitril); und Polymerisationsinitiatoren auf Peroxidbasis, wie Benzoylperoxid, Laurylperoxid und tert.-Butylperoxy-2-ethylhexanoat, ein.
  • Das erfindungsgemäß verwendete Polymere kommt für die Erzeugung einer wärmeempfindlichen Schicht nach Auflösung in einer wässrigen alkalischen Lösung, um eine wärmeempfindliche Zusammensetzung zu bilden, zum Einsatz. Das erfindungsgemäß verwendete Polymere wird in der wässrigen alkalischen Lösung in der Weise aufgelöst, dass das Polymere in der wässrigen alkalischen Lösung nach der optionalen Entfernung des organischen Lösungsmittels in dem Polymeren aufgelöst wird. Beispiele für die wässrige alkalische Lösung schließen solche Lösungen ein, die dadurch hergestellt worden sind, dass eine Aminverbindung, wie Ammoniak, Triethylamin oder Dimethylethanolamin, oder eine Alkaliverbindung, wie ein Hydroxid eines Alkalimetalls (z.B. Natriumhydroxid oder Kaliumhydroxid) in Wasser aufgelöst wird. Im Falle der Entwicklung unter Verwendung von Ammoniak oder einer wässrigen Lösung einer Aminverbindung mit niedrigem Molekulargewicht unter diesen wässrigen alkalischen Lösungen wird eine wärmeempfindliche lithographische Pressplatte bzw. Druckplatte erhalten, die eine ausgezeichnete Druckbeständigkeit hat. Insbesondere wird vorzugsweise Ammoniak verwendet, weil der Ammoniak durch die bei der Bestrahlung mit Laserlicht erzeugte Wärme leicht verdampft wird und es sein kann, dass die Oberfläche stärker hydrophob wird.
  • Die Konzentration der wässrigen alkalischen Lösung variiert in Abhängigkeit von der Menge der sauren Gruppen des erfindungsgemäß verwendeten Polymeren und dem Typ des Monomeren, das das Polymere bildet, liegt aber vorzugsweise innerhalb eines Bereichs von 0,1 bis 20 Gew.-%. Die Menge des erfindungsgemäß verwendeten Polymeren wird vorzugsweise so kontrolliert, dass eine Lösung erhalten wird, die einen Trockenfeststoffgehalt von 10 bis 40 Gew.-% besitzt.
  • Bei der erfindungsgemäß verwendeten wärmeempfindlichen Zusammensetzung kann ein latentes Bild unter Verwendung von Laserlicht gebildet werden, wenn eine lichtabsorbierende Substanz zugesetzt wird, um Wärme zu erzeugen. Die Substanz, die Licht zur Erzeugung von Wärme absorbiert, ist eine Substanz, die eine Absorption in einem Bereich zeigt, der Laserwellenlängen einschließt, die für die Bildung eines latenten Bildes verwendet werden. Speziell handelt es sich um eine Verbindung, die eine maximale Absorptionswellenlänge (λmax) im Bereich von 500 nm bis 3000 nm hat. Die Verwendung einer Verbindung mit einer maximalen Absorptionswellenlänge (λmax) im nahen Infrarotbereich bis zu fernen Infrarotbereich von 760 nm bis 3000 nm (nachstehend als „IR-Absorptionsmittel" abgekürzt) ist deswegen stärker zu bevorzugen, weil in diesem Fall eine so hergestellte wärmeempfindliche lithographische Pressplatte bzw. Druckplatte in beleuchteten Räumen behandelt werden kann.
  • Beispiele für das IR-Absorptionsmittel schließen organische oder anorganische Infrarotabsorptionsmittel, z.B. Pigmente und Farbstoffe, wie Ruß, Phthalocyanin, Naphthalocyanin und Cyanin; Polymethinpigmente und -farbstoffe; rote Absorptionsmittel, wie Squariliumpigmente; und feine Teilchen von Zinnoxid, die mit einem Kupfer-Eisen-Komplex oder mit Antimon dotiert sind, ein. Diese Absorptionsmittel können entweder alleine zum Einsatz kommen oder es können zwei oder mehrere Arten von diesen in Kombination eingesetzt werden. Die Menge des zu der erfindungsgemäß zu verwendenden wärmeempfindlichen Zusammensetzung zuzusetzenden IR-Absorptionsmittels wird so kontrolliert, dass die Absorption der wärmeempfindlichen Zusammensetzung in einem Wellenlängenbereich der verwendeten Lichtquelle auf einen Wert im Bereich von etwa 0,5 bis 3 eingestellt wird. Speziell liegt die Menge vorzugsweise innerhalb eines Bereichs von 0,5 bis 50 Gew.-% und mehr bevorzugt von 1 bis 30 Gew.-%, bezogen auf die nicht-flüchtige Komponente. Wenn die Menge weniger als 0,5 Gew.-% ist, dann wird das Bild nicht in einem genügenden Ausmaß erzeugt, weil in diesem Fall weniger Wärme erzeugt wird. Wenn andererseits die Menge größer als 50 Gew.-% ist, dann wird die wärmeempfindliche lithographische Pressplatte bzw. Druckplatte brüchig und es kann sein, dass die Oberfläche leicht verkratzt wird, wodurch die Druckbeständigkeit verringert wird und eine Verunreinigung des Nicht-Bildbereichs hervorgerufen wird.
  • Im Falle, dass das IR-Absorptionsmittel in Wasser löslich ist, kann es direkt zu der wässrigen alkalischen Lösung des Polymeren gegeben werden, gefolgt von einem Vermischen. Im Falle, dass das IR-Absorptionsmittel in Wasser unlöslich ist, kann eine Lösung, zuvor hergestellt durch Auflösen des IR-Absorptionsmittels in einer kleinen Menge eines organischen Lösungsmittels, zu der wässrigen alkalischen Lösung des Polymeren gegeben werden, gefolgt von einem Vermischen. Bekannte Dispergierungsvorrichtungen, wie Ultraschall-Dispergierungsvorrichtungen, Sandmühlen, Kugelmühlen und Anstrichmittel-Konditionierungsvorrichtungen, können zum Zwecke des Vermischens zum Einsatz kommen.
  • Wie oben beschrieben kann die erfindungsgemäß verwendete wärmeempfindliche Zusammensetzung erhalten werden.
  • Wenn die erfindungsgemäß verwendete wärmeempfindliche Zusammensetzung gefärbt ist, dann kann ein nach der Entwicklung erzeugtes Bild visuell beobachtet werden. Beispiele für geeignete Farbmittel schließen Farbstoffe, wie Kristallviolett, Malachitgrün, Victoriablau, Methylenblau, Ethylviolett und Rhodamin B; und Pigmente, wie Phthalocyaninblau, Phthalocyaningrün, Dioxazinviolett und Chinacridonrot ein. Das Farbmittel wird üblicherweise mit einem Gehalt in einem Bereich von 0,1 bis 10 Gew.-%, bezogen auf die nichtflüchtige Komponente der wärmeempfindlichen Zusammensetzung, eingesetzt. Das Farbmittel kann zu der wärmeempfindlichen Zusammensetzung in der gleichen Art und Weise wie im Falle des IR-Absorptionsmittels zugegeben werden.
  • Die erfindungsgemäß verwendete wärmeempfindliche Zusammensetzung kann auf die Oberfläche eines Substrats, das eine hydrophile Oberfläche hat, aufgebracht werden, ohne dass Tenside zum Einsatz kommen, wodurch eine in zufrieden stellender Weise glatte beschichtete Oberfläche erhalten wird. Daher sind keine speziellen Hilfsmittel erforderlich. Erforderlichenfalls können gegebenenfalls natürliche und synthetische wasserlösliche Polymere zur Einstellung der Viskosität; Einebnungsmittel; wasserlösliche organische Lösungsmittel, wie Methanol, Ethanol, Isopropylalkohol und Aceton; hydrophile Bindemittel, wie Homopolymere und Copolymere von Acrylamid, Methylolacrylamid, Methylolmethacrylamid, Acrylsäure, Methacrylsäure, Hydroxyethylacrylat und Hydroxyethylmethacrylat, Maleinsäureanhydrid/Methylvinyletherpolymer und natürliche Polymere, wie Gelatine oder Polysaccharide; vollständig verseifter oder teilweise verseifter Polyvinylalkohol; und verschiedene Tenside zugesetzt werden.
  • Die erfindungsgemäß verwendete wärmeempfindliche Zusammensetzung enthält Wasser als wesentliche Komponente. Die aus dieser wärmeempfindlichen Zusammensetzung erhaltene wärmeempfindliche Schicht wird durch eine alkalische Entwicklungslösung durch 3-minütiges Erhitzen auf 150°C unlöslich gemacht, ohne dass eine chemische Reaktion bewirkt wird. Der Grund hierfür ist noch nicht vollständig ersichtlich, doch kann folgende Annahme gemacht werden. Das heißt, die molekulare Kette des Polymeren bildet eine lockere „fadenknäuelförmig" geformte feine Struktur mit sauren Gruppen auf der Außenseite in einem wässrigen Medium, das Wasser als wesentliche Komponente enthält. Diese feine Struktur wird selbst dann beibehalten, wenn eine wärmeempfindliche Schicht gebildet wird. Wenn jedoch eine Wärmemenge, die dazu imstande ist, eine Braunsche-Mikrobewegung der Molekularkette zu bewirken, an die wärmeempfindliche Schicht angelegt wird, dann tritt ein dynamisches Relaxationsphänomen auf und das „fadenknäuelförmige" Material wird aufgeschmolzen, wodurch eine gleichförmige Diffusion der sauren Gruppen, die an der Außenseite lokalisiert sind, hervorgerufen wird. Daher wird die wärmeempfindliche Zusammensetzung in der alkalischen Entwicklungslösung unlöslich gemacht, um ein Bild zu erzeugen.
  • Daher wird das Polymere, wenn die wärmeempfindliche Zusammensetzung kein Wasser und nur ein organisches Lösungsmittel enthält, gleichförmig aufgelöst, um keine feine Struktur zu bilden und daher ist die resultierende wärmeempfindliche Schicht in der alkalischen Entwicklungslösung unlöslich, ungeachtet des Vorhandenseins oder der Abwesenheit von Erhitzen. Die erfindungsgemäß verwendete wärmeempfindliche Zusammensetzung kann ein organisches Lösungsmittel enthalten, das mit Wasser kompatibel ist, und der Gehalt muss kontrolliert werden, so dass die feine Struktur des Polymeren nicht verschwindet. Sogar wenn die wärmeempfindliche Zusammensetzung Wasser unter Verwendung einer großen Menge von hochsiedendem organischen Lösungsmittel enthält, wird Wasser zuerst verflüchtigt, wenn die wärmeempfindliche Zusammensetzung auf das Substrat aufgetragen und sodann getrocknet wird. Als Ergebnis wird die feine Struktur des Polymeren hergestellt, um durch das restliche organische Lösungsmittel gleichförmig zu sein und es wird schwierig, sie zu entwickeln. Das organische Lösungsmittel, das in der erfindungsgemäß verwendeten wärmeempfindlichen Zusammensetzung verwendet werden kann, ist vorzugsweise ein organisches Lösungsmittel, welches ein organisches Lösungsmittel ist, das einen vergleichsweise niedrigen Siedepunkt hat, und ein Harz kaum auflöst. Beispiele des Lösungsmittels schließen niedrig-siedende Alkohole, wie Methanol, Ethanol, Isopropylalkohol und Propanol, ein. Wenn das organische Lösungsmittel in der erfindungsgemäßen wärmeempfindlichen Zusammensetzung verwendet wird, beträgt der Gehalt 40 Gew.-% oder weniger und vorzugsweise 20% oder weniger, bezogen auf die wärmeempfindliche Zusammensetzung. Es ist bevorzugt, das Lösungsmittel, das in der Lage ist, das Polymer leicht aufzulösen, zu verwenden, beispielsweise Alkohole mit einem vergleichsweise hohen Siedepunkt (z.B. 2-Methoxyethanol), Methylethylketon und Tetrahydrofuran mit einem Gehalt von 10% oder weniger und vorzugsweise 5% oder weniger. Es ist notwendig, den Typ des Lösungsmittels auszuwählen und die Menge zu kontrollieren, so dass die feine Struktur des Polymeren in der wärmeempfindlichen Zusammensetzung nicht gebrochen wird.
  • Die wärmeempfindliche lithographische Pressplatte bzw. Druckplatte wird dadurch erhalten, dass eine erfindungsgemäß verwendete wärmeempfindliche Zusammensetzung so hergestellt wird, dass der Gehalt der nichtflüchtigen Komponente innerhalb eines Bereichs von 1 bis 50 Gew.-% in einem Zustand liegt, dass das Polymer in der wässrigen alkalischen Lösung aufgelöst ist, dass die wärmeempfindliche Zusammensetzung auf ein Substrat mit einer hydrophilen Oberfläche so aufgebracht wird, dass die Dicke des Films nach dem Trocknen innerhalb eines Bereichs von 0,5 bis 10 μm liegt und dass die wärmeempfindliche Zusammensetzung getrocknet wird.
  • Beispiele für die Basismaterialien des Substrats schließen Metallplatten, hergestellt aus Aluminium, Zink, Edelstahl und Eisen; Kunststofffilme, hergestellt aus Polyethylenterephthalat (PET), Polycarbonat, Polyvinylacetal oder Po lyethylen; Verbundsubstrate, wie Papiere, die mit Polymeren beschichtet sind, und Kunststofffilme, die mit einem hydrophilen Metall bedeckt worden sind, wobei ein Vakuumabscheidungs- oder Laminierungsverfahren angewendet worden ist, ein. Diese Basismaterialien werden als Substrat mit einer hydrophilen Oberfläche nach der Bildung einer hydrophilen Schicht auf der Oberfläche oder nach dem Unterwerfen einer Hydrophilisierungsbehandlung eingesetzt. Unter diesen Substraten wird vorzugsweise eine Aluminiumplatte oder ein Verbundsubstrat, bei dem die Oberfläche des Kunststofffilms mit Aluminium beschichtet worden ist, eingesetzt. Im Falle, dass das Substrat eine Aluminiumplatte ist, wird das Substrat vorzugsweise einer Oberflächenbehandlung, beispielsweise einer Kornbildungsbehandlung oder einer Anodisierungsbehandlung, mit dem Zwecke unterworfen, um die Wasserretention der Oberfläche zu steigern und die Adhäsion gegenüber der wärmeempfindlichen Schicht zu verbessern.
  • Beispiele für das Beschichtungsverfahren mit der wärmeempfindlichen Zusammensetzung schließen ein Rotations-Beschichtungsverfahren unter Verwendung einer Spinbeschichtungseinrichtung, ein Tauchbeschichtungsverfahren, ein Walzenbeschichtungsverfahren, ein Vorhangbeschichtungsverfahren, ein Klingenbeschichtungsverfahren und ein Luftrakel-Beschichtungsverfahren, ein Sprühbeschichtungsverfahren und ein Stangenbeschichtungsverfahren ein.
  • Die erfindungsgemäß verwendete wärmeempfindliche Zusammensetzung wird auf die Oberfläche eines Substrats aufgebracht und dann getrocknet, um eine wärmeempfindliche Schicht zu bilden. Beispiele für das Trocknungsverfahren schließen ein Trocknungsverfahren bei normaler Temperatur, ein Verfahren unter Verwendung eines Vakuumtrockners und ein Verfahren unter Verwendung eines Heißlufttrockners oder eines Infrarottrockners ein. Im Falle des Trocknens durch Erhitzen wird die Trocknungstemperatur auf eine Tem peratur eingestellt, die 130°C oder niedriger ist und die 10°C niedriger ist als die Tg-Temperatur des erfindungsgemäß verwendeten Polymeren. Die Zeit, die für die Trocknung erforderlich ist, variiert in Abhängigkeit von der Trocknungstemperatur, beträgt jedoch vorzugsweise 10 Sekunden bei 10 Minuten und mehr bevorzugt 10 Sekunden bis 5 Minuten. Die Trocknungstemperatur kann auf eine Temperatur eingestellt werden, die etwa die Tg-Temperatur des erfindungsgemäß verwendeten Polymeren ist oder die höher ist. In diesem Falle ist es erforderlich, innerhalb einer kürzeren Zeit zu trocknen, so dass die gesamte oder teilweise wärmeempfindliche Schicht in der alkalischen Entwicklungslösung als Ergebnis des Erhitzens unlöslich gemacht wird.
  • Die Ausgewogenheit zwischen der Hydrophilizität und der Hydrophobizität des erfindungsgemäß verwendeten Polymeren kann aus dem Kontaktwinkel der wärmeempfindlichen Schicht der wärmeempfindlichen lithographischen Pressplatte bzw. Druckplatte unter Verwendung des Polymeren mit Wasser ermittelt werden. Im Falle der erfindungsgemäßen wärmeempfindlichen lithographischen Pressplatte bzw. Druckplatte hat im Falle, dass der Fortschreitrandwinkel (θf1) der Oberfläche der wärmeempfindlichen Schicht mit Wasser von 25°C im Bereich von 70° bis 110° liegt, dass der Rückzugsrandwinkel (θh2) der Oberfläche der wärmeempfindlichen Schicht mit Wasser von 25°C nach dem 3-minütigen Erhitzen auf 150°C größer ist als der Rückzugsrandwinkel (θh1) der Oberfläche der wärmeempfindlichen Schicht mit Wasser von 25°C vor dem Erhitzen ist und dass die Differenz des Rückzugsrandwinkels vor und nach dem Erhitzen ((θh2 – θh1) größer als 1° und kleiner als 40° ist, die wärmeempfindliche lithographische Pressplatte bzw. Druckplatte eine ausgezeichnete Lagerungsstabilität und die erhaltene Pressplatte bzw. Druckplatte hat eine ausgezeichnete Druckbeständigkeit.
  • Als eine Methode zur Messung des Kontaktwinkels ist eine Methode der direkten Messung des Kontaktwinkels einer Flüssigkeit, die an der Oberfläche einer festen Platte haftet (beispielsweise eine Tropfmethode oder eine Schaummethode) und eine Methode zur indirekten Messung des dynamischen Kontaktwinkels (z.B. Wilhelmy-Plattenmethode) bekannt. Im Falle der vorliegenden Erfindung wird als der Kontaktwinkel ein Wert genommen, der durch die Messung mittels der Wilhelmy-Plattenmethode erhalten worden ist.
  • Bei der Wilhelmy-Plattenmethode kann, wie in 1 gezeigt wird, der Fortschreitrandwinkel (θf) anhand der folgenden allgemeinen Gleichung (1) durch kontinuierliche Messung der Aufwärtskraft (f) ermittelt werden, die erforderlich ist, um den Probekörper zu unterstützen, während der Probekörper vertikal zu dem Flüssigkeitsniveau eingetaucht wird. Gleichermaßen kann, wie in 2.a gezeigt wird, der Rückzugsrandwinkel (θh) aus der folgenden allgemeinen Gleichung (2) durch kontinuierliche Messung der Aufwärtskraft (f) ermittelt werden, die erforderlich ist, um den Probekörper zu unterstützen, während der Probekörper vertikal zu dem Flüssigkeitsniveau eingetaucht wird. Gemäß dieser Methode kann, weil der Fortschreitrandwinkel oder Rückzugsrandwinkel als Mittelwert der gesamten Oberfläche gemessen werden kann, eine kontinuierliche oder wiederholt durchgeführte Messung in einfacher Weise und mit guter Reproduzierbarkeit durchgeführt werden. f = pγcosθf – Apy + mg (Gleichung 1) f = pγcosθh – Apy + mg (Gleichung 2)darin bedeuten a und b eine lange Seite bzw. eine kurze Seite einer Oberfläche parallel zu dem Flüssigkeitsniveau des Probekörpers, p bedeutet einen horizontalen Umfang entsprechend (a + b) × 2, γ bedeutet die Oberflächenspan nung der Flüssigkeit, θf bedeutet den Fortschreitrandwinkel, θh bedeutet den Rückzugsrandwinkel. A bedeutet einen Querschnittsteil (a × b) der Oberfläche parallel zu dem Flüssigkeitsniveau des Probekörpers. ρ bedeutet die Dichte der Flüssigkeit, y bedeutet die Eintauchtiefe des Probekörpers. m bedeutet das Gewicht des Probekörpers und g bedeutet die Erdbeschleunigung.
  • Erfindungsgemäß sind der Fortschreitrandwinkel und der Rückzugsrandwinkel Werte, die bei einer Eintauchgeschwindigkeit und einer Herausziehungsgeschwindigkeit von 6 mm/min unter Verwendung eines Probekörpers mit den Abmessungen 2 cm × 2 cm gemessen worden sind. Wenn die Messung mit der oben genannten Geschwindigkeit erfolgt, dann variieren die Messwerte nicht und es tritt keine Störung des Flüssigkeitsniveaus auf und weiterhin wird hinsichtlich der Messwerte kein Rauschen erzeugt.
  • Im Falle der Messung des Fortschreitrandwinkels und des Rückzugsrandwinkels nach der Wilhelmy-Plattenmethode wird eine wärmeempfindliche Schicht vorzugsweise auf allen sechs Oberflächen des Probekörpers, die sich in Kontakt mit Wasser befinden, vorgesehen. Im Falle der Messung des Fortschreitrandwinkels und des Rückzugsrandwinkels der erfindungsgemäßen wärmeempfindlichen lithographischen Pressplatte bzw. Druckplatte nach der Wilhelmy-Plattenmethode wird aus dem folgenden Grund ein Probekörper eingesetzt, der nach dem folgenden Verfahren hergestellt worden ist, ohne dass die wärmeempfindliche Schicht auf allen sechs Oberflächen des Probekörpers vorgesehen ist. Im Falle einer wärmeempfindlichen lithographischen Pressplatte bzw. Druckplatte, die mit der wärmeempfindlichen Schicht auf beiden Seiten des Substrats versehen ist, kann der Probekörper durch ein Zuschneiden zu der vorbestimmten Größe hergestellt werden. Im Falle, dass die wärmeempfindliche lithographische Pressplatte bzw. Druckplatte mit der wärmeempfindlichen Schicht auf einer Seite des Substrats ver sehen ist, kann der Probekörper dadurch hergestellt werden, dass zwei wärmeempfindliche lithographische Pressplatten bzw. Druckplatten zu der vorbestimmten Größe zugeschnitten werden, wobei jede Oberfläche des Substrats gegenüber liegend der Oberfläche, auf der die zu laminierende wärmeempfindliche Schicht vorgesehen ist, der wärmeempfindlichen lithographischen Pressplatten bzw. Druckplatten, die laminiert werden sollen, mit einem geeigneten Klebstoff versehen wird.
  • Der so hergestellte Probekörper wird an der Endseite nicht mit der wärmeempfindlichen Schicht versehen und die wärmeempfindliche lithographische Pressplatte bzw. Druckplatte hat im Allgemeinen eine verhältnismäßig kleine Dicke in einem Bereich von 0,1 bis 0,5 mm. Auch ist der horizontale Umfang (p) des Probekörpers 400- bis 2000-mal größer als die Dicke. Es wird daher möglich gemacht, den Einfluss der Abwesenheit der wärmeempfindlichen Schicht auf der partiellen Oberfläche des Probekörpers zu vernachlässigen.
  • Beispiele für Geräte, die dazu imstande sind, den Fortschreitrandwinkel und den Rückzugsrandwinkel auf der Basis des oben genannten Betriebs zu messen, schließen ein Oberflächenspannungs-Kontaktwinkel-Automessgerät mit der Bezeichnung „K12", hergestellt von der Firma Kruss Co. in Deutschland, ein.
  • Beispiele für das Verfahren der 3 Minuten lang erfolgenden Erwärmung der Oberfläche der wärmeempfindlichen Schicht auf eine Temperatur von 150°C schließen ein Verfahren ein, bei dem die wärmeempfindliche lithographische Pressplatte bzw. Druckplatte 3 Minuten lang in einem auf 150°C erhitzten Heißlufttrockner stehengelassen wird. Nach dem Erhitzen wird die wärmeempfindliche lithographische Pressplatte bzw. Druckplatte entweder natürlich abkühlen gelassen oder mit Zwangsluft abgekühlt. Sodann werden der Fortschreitrandwinkel und der Rückzugsrandwinkel nach der Wilhelmy- Plattenmethode gemessen. Die 3 ist ein Diagramm, das die Veränderung des Rückzugsrandwinkels im Verlauf der Zeit der erfindungsgemäßen wärmeempfindlichen lithographischen Pressplatte bzw. Druckplatte mit einer wärmeempfindlichen Schicht zeigt, die zwei Arten von alkalilöslichen Polymeren mit unterschiedlichen Tg-Werten enthält. Wie aus der 3 ersichtlich wird, erfolgt 3 Minuten nach dem Erhitzen der Oberfläche der wärmeempfindlichen Schicht auf eine Temperatur von 150°C fast keine Veränderung des Tg-Werts.
  • Bei der erfindungsgemäßen wärmeempfindlichen lithographischen Pressplatte bzw. Druckplatte liegt der Fortschreitrandwinkel (θf1) der Oberfläche der wärmeempfindlichen Schicht mit Wasser von 25°C im Bereich von 70° bis 110°. Der Rückzugsrandwinkel (θh2) der Oberfläche der wärmeempfindlichen Schicht mit Wasser von 25°C nach 3-minütigem Erhitzen auf 150°C ist größer als der Rückzugsrandwinkel (θh1) der Oberfläche der wärmeempfindlichen Schicht mit Wasser von 25°C vor dem Erhitzen und die Differenz des Rückzugsrandwinkels vor und nach dem Erhitzen (θh2 – θh1) ist größer als 1° und kleiner als 40°. Wenn die Differenz des Rückzugsrandwinkels vor und nach dem Erhitzen (θh2 – θh1) kleiner als 1° ist, dann ist eine Entwicklung unmöglich. Wenn andererseits die Differenz des Rückzugsrandwinkels vor und nach dem Erhitzen (θh2 – θh1) größer als 40° ist, dann hat die wärmeempfindliche Schicht eine raue Oberfläche und eine schlechte Druckbeständigkeit. Es ist besonders zu bevorzugen, dass der Rückzugsrandwinkels (θh1) im Bereich von 5° bis 50° liegt und dass auch der Rückzugsrandwinkel (θh2) im Bereich von 30° bis 60° liegt. Die Differenz des Rückzugsrandwinkels (θh2 – θh1) liegt vorzugsweise im Bereich von 10° bis 30° wegen der ausgezeichneten Druckbeständigkeit in diesem Fall.
  • Die erfindungsgemäße wärmeempfindliche lithographische Pressplatte bzw. Druckplatte, die den Bedingungen hin sichtlich des Kontaktwinkels genügt, hat aus mehreren Gründen eine ausgezeichnete Druckbeständigkeit.
  • Zum Erhalt einer Pressplatte bzw. Druckplatte unter Verwendung der wärmeempfindlichen lithographischen Pressplatte bzw. Druckplatte gemäß der vorliegenden Erfindung wird ein latentes Bild auf der wärmeempfindlichen Schicht der Pressplatte bzw. Druckplatte erzeugt, wobei die durch Bestrahlung mit Laserlicht erzeugte Wärme verwendet wird. Nach der Entwicklung wird der erhitzte Teil der wärmeempfindlichen Schicht in einer Entwicklungslösung unlöslich gemacht, um einen Bildbereich zu erzeugen, während der andere Teil nach dem Auflösen in der Entwicklungslösung entfernt wird. Das latente Bild kann auch dadurch erzeugt werden, dass die wärmeempfindliche Schicht der Pressplatte bzw. Druckplatte unter Verwendung eines Thermokopfes anstelle der Wärme, die durch Bestrahlung mit Laserlicht erzeugt worden ist, erhitzt wird.
  • Die Tatsache, dass der Fortschreitrandwinkel (θf1) der wärmeempfindlichen lithographischen Pressplatte bzw. Druckplatte mit Wasser von 25°C kleiner als 70° ist, bedeutet, dass die wärmeempfindliche Schicht, die in den Bildbereich umgewandelt worden ist, eine hohe Hydrophobizität hat oder dass sie eine hohe Oberflächenrauigkeit hat. Wenn die wärmeempfindliche Schicht eine hohe Hydrophilizität hat, dann wird der Bildbereich mit Dämpfungswasser während des Druckens erodiert, so dass keine zufrieden stellende Druckbeständigkeit erhalten werden kann. Wenn die wärmeempfindliche Schicht eine hohe Oberflächenrauigkeit hat, dann wird periodisch eine große Kraft angelegt, so dass daher keine zufrieden stellende Druckbeständigkeit erhalten werden kann.
  • Die Tatsache, dass der Fortschreitrandwinkel (θf1) der wärmeempfindlichen lithographischen Pressplatte bzw. Druckplatte mit Wasser von 25°C größer als 110° ist, bedeutet, dass die nicht-erhitzte wärmeempfindliche Schicht eine niedrige Hydrophilizität hat. Wenn die wärmeempfindliche Schicht eine niedrige Hydrophilizität hat, dann kann keine Entwicklung durchgeführt werden oder es ist wahrscheinlich, dass eine Oberflächenverunreinigung aufgrund einer schlechten Entwicklung auftritt.
  • Wenn der Fortschreitrandwinkel (θf1) im Bereich von 70° bis 110° liegt, dann kann eine Pressplatte bzw. Druckplatte erhalten werden, bei der die wärmeempfindliche Schicht für die alkalische Behandlung geeignet ist und die eine ausgezeichnete Ausgewogenheit zwischen Hydrophilizität und Hydrophobizität hat und die auch eine niedrige Oberflächenrauigkeit besitzt. Der Fortschreitrandwinkel (θf1) liegt mehr bevorzugt innerhalb eines Bereichs von 75 bis 110° und am meisten bevorzugt innerhalb eines Bereichs von 80 bis 105°.
  • Der Rückzugsrandwinkel θh verändert sich vor und nach dem Erhitzen und der Rückzugsrandwinkel der wärmeempfindlichen Schicht nimmt nach dem 3-minütigen Erhitzen auf 150°C zu.
  • Ein hoher Rückzugsrandwinkel (θh) bedeutet, dass die Oberfläche eine Hydrophobizität hat. Das heißt, die Tatsache, dass durch Erhitzen der Rückzugsrandwinkel ansteigt, bedeutet, dass die Oberfläche der wärmeempfindlichen Schicht hydrophob geworden ist. Die Oberfläche der wärmeempfindlichen Schicht wird aus den folgenden zwei Gründen hydrophob, beispielsweise weil die wärmeempfindliche Schicht glatter wird oder weil die Affinität zwischen der Oberfläche und Wasser erniedrigt wird und die Oberfläche chemisch hydrophob wird.
    • 1. Grund, warum die Oberfläche der wärmeempfindlichen Schicht nach dem Erhitzen glatter wird Bezüglich des erfindungsgemäß verwendeten Polymeren verhält sich Wasser als schlechtes Lösungsmittel. Es wird angenommen, dass, wenn das erfindungsgemäß verwendete Polymere in einer wässrigen alkalischen Lösung aufgelöst wird, dann das Polymere eine lockere „fadenknäuelförmige" feine Struktur mit äußeren sauren Gruppen in Wasser aufweist. Daher behält die wärmeempfindliche Schicht, erhalten durch Auftragung der Polymerlösung auf die Oberfläche des Substrats, und durch Eintrocknen der Lösung auch diese feine Struktur bei. Bei der Inspektion unter Verwendung eines Atomkraftmikroskops (nachstehend als „AFM" abgekürzt) wird eine Ungleichmäßigkeit in Nano-Dimensionen auf der Oberfläche der wärmeempfindlichen Schicht gefunden. Es wird angenommen, dass ein teilweise „Fadenknäuel" der molekularen Ketten auf der Oberfläche auftritt, um eine Ungleichmäßigkeit in Nano-Dimensionen zu bilden. Bei der Beobachtung unter Verwendung eines AFM-Geräts wird eine leicht verringerte Ungleichmäßigkeit der Oberfläche der wärmeempfindlichen Schicht nach dem 3-minütigen Erhitzen der wärmeempfindlichen Schicht auf eine Temperatur von 150°C festgestellt. Dies bedeutet, dass das partielle Fadenknäuel der molekularen Kette als Ergebnis des Erhitzens verschwindet oder sich verringert. Die Erhitzungstemperatur von 150°C ist eine Temperatur von etwa der Tg-Temperatur oder höher des erfindungsgemäß verwendeten Polymeren und sie ist auch eine Temperatur, bei der die molekulare Kette des Polymeren eine Mikro-Braunsche-Bewegung hervorrufen kann. Es ist daher angenommen, dass beim 3-minütigen Erhitzen auf 150°C das Polymere in der wärmeempfindlichen Schicht entspannt wird und dass die „fadenknäuelförmige" molekulare Kette locker wird und sich ausdehnt, so dass die innere feine Struktur gleichförmig wird. Es ist angenommen, dass, weil die partielle „fadenknäuelförmige" feine Struktur verschwindet, die Oberfläche der wärmeempfindlichen Schicht weicher wird, was zu einem hohen Rückzugsrandwinkel führt.
  • Diese Annahme kann auch durch die Tatsache bestätigt werden, dass eine Veränderung des Rückzugsrandwinkels vor und nach dem 3-minütigen Erhitzen auf 150°C in einer wärmeempfindlichen Schicht nicht auftritt, die durch Aufbringen einer Zusammensetzung erzeugt worden ist, welche dadurch hergestellt worden ist, dass das erfindungsgemäß verwendete Polymere in einem organischen Lösungsmittel als gutem Lösungsmittel aufgelöst wird und dass die Zusammensetzung getrocknet worden ist.
  • Als Polymer, das die wärmeempfindliche Schicht der erfindungsgemäßen wärmeempfindlichen lithographischen Pressplatte bzw. Druckplatte bildet, kann keine Polyacrylsäure, kein Polyethylenglykol und kein Polyvinylalkohol verwendet werden. Der Grund, warum diese Polymere nicht verwendet werden können, ist vermutlich wie folgt. Weil Wasser als gutes Lösungsmittel für diese Polymere wirkt, ist die molekulare Kette der wärmeempfindlichen Schicht schon vor dem Erhitzen gleichförmig gewesen und durch das Erhitzen ist kein dynamisches Entspannungsphänomen bewirkt worden.
    • 2. Grund, warum die Oberfläche der wärmeempfindlichen Schicht nach dem Erhitzen hydrophob wird Es wird angenommen, dass das erfindungsgemäß verwendete Polymere eine lockere feine „fadenknäuelförmige" Struktur mit sauren Gruppen außerhalb in einer wässrigen alkalischen Lösung bildet. Es wird angenommen, dass die sauren Gruppen an der Oberfläche der wärmeempfindlichen Schicht lokalisiert sind, die dadurch erhalten worden ist, dass das Polymere auf die Oberfläche des Substrats aufgebracht worden ist und das Polymere getrocknet worden ist. Es wird angenommen, dass beim Erhitzen der wärmeempfindlichen Schicht saure Gruppen, die auf der Oberfläche angeordnet sind, in der wärmeempfindlichen Schicht delokalisiert werden, so dass die Oberfläche hydrophob wird.
  • Es wird auch angenommen, dass basische Verbindungen, wie Ammoniak, die saure Gruppen neutralisieren, durch Erhitzen verdampft werden und dass die Oberfläche hydrophob wird. Mit der erfindungsgemäßen wärmeempfindlichen lithographischen Pressplatte bzw. Druckplatte kann ein Bild dadurch erzeugt werden, dass eine Entwicklung nach der Bildung eines latenten Bildes durch Erwärmen und durch Trocknen im Vakuum selbst dann erzeugt werden kann, wenn eine wärmeempfindliche lithographische Pressplatte bzw. Druckplatte eingesetzt wird, die kaum eine basische Verbindung, wie Ammoniak, in der wärmeempfindlichen Schicht enthält. Diese Tatsache zeigt, dass die Verdampfung von Ammoniak kein direkter Faktor für die Erzeugung eines Bildes ist.
  • Es wird angenommen, dass in der erfindungsgemäßen wärmeempfindlichen lithographischen Pressplatte bzw. Druckplatte das Bild durch einen Mechanismus erzeugt wird, der ziemlich andersartig ist als derjenige der herkömmlichen Verdampfung von Ammoniak oder der Fusion der Teilchen.
  • Die erfindungsgemäße wärmeempfindliche lithographische Pressplatte bzw. Druckplatte ist vorzugsweise eine wärmeempfindliche lithographische Pressplatte bzw. Druckplatte, die festgelegte Fortschreitrand- und Rückzugsrandwinkel aufweist, und die keine Veränderung des Kontaktwinkels hervorruft, selbst dann, wenn die Eintauch- und Herausziehvorgänge bei dem Wilhelmy-Plattenverfahren wiederholt durchgeführt werden.
  • Es ist möglich, vorzugsweise eine wärmeempfindliche lithographische Pressplatte bzw. Druckplatte zu verwenden, bei der eine wiederholte Messung nach dem Wilhelmy-Plattenverfahren durch wiederholte Eintauch- und Herausziehvorgänge durchgeführt worden ist, wobei die beiden gemessenen Werte im Vergleich zu den zuerst gemessenen Werten des Fortschreitrandwinkels und des Rückzugsrandwinkels verringert sind und wobei auch die dritten oder nachfolgenden gemessenen Werte fixierte Werte der erfindungsgemäßen wärmeempfindlichen lithographischen Pressplatte bzw. Druckplatte werden, wenn das Verringerungsverhältnis kleiner als 30% ist. Wenn das Verringerungsverhältnis der zweiten und nachfolgenden gemessenen Werte über einen Wert von 30% hinausgeht, dann besteht die Tendenz, dass die Druckbeständigkeit verschlechtert wird. Wenn das Verringerungsverhältnis der zweiten oder nachfolgenden gemessenen Werte über 50% hinausgeht, dann neigt die wärmeempfindliche Schicht selbst dahingehend Wasser zu absorbieren und sie ist daher als solche nicht zu bevorzugen. Eine wärmeempfindliche lithographische Pressplatte bzw. Druckplatte, bei der die gemessenen Werte bei wiederholter Messung allmählich abnehmen, hat die Neigung, dass sie eine hohe Hydrophilizität und eine schlechte Druckbeständigkeit aufweist.
  • Ein Bild kann dadurch erzeugt werden, dass ein latentes Bild auf einer wärmeempfindlichen Schicht der erfindungsgemäßen wärmeempfindlichen lithographischen Pressplatte bzw. Druckplatte unter Erzeugung von Hitze gebildet wird, die durch Bestrahlung mit Laserlicht erzeugt worden ist, und zwar auf der Basis der Bildinformation sowie durch Entwicklung der Schicht unter Verwendung einer alkalischen Entwicklungslösung mit einem pH-Wert von 9 bis 14.
  • Insbesondere bei Verwendung einer wärmeempfindlichen lithographischen Pressplatte bzw. Druckplatte mit einer wärmeempfindlichen Schicht, die eine Substanz enthält, die Licht absorbiert, um Wärme zu erzeugen, kann ein Bild mit hoher Auflösung durch Bestrahlung mit Laserlicht erhalten werden.
  • Beispiele für die Laserstrahlen, die zur Bildung des latenten Bildes eingesetzt werden, schließen Laserstrahlen mit einer Emissionswellenlänge von 500 nm bis 3000 nm ein. Eine wärmeempfindliche lithographische Pressplatte bzw.
  • Druckplatte, hergestellt unter Verwendung einer Laserlichtquelle mit einer maximalen Intensität im Bereich von nahem Infrarot bis zu fernem Infrarot von 760 nm bis 3000 nm kann in beleuchteten Räumen behandelt werden. Beispiele für die Laser schließen Halbleiterlaser und YAG-Laser ein. Die Emissionswellenlängen dieser Lasergeräte können der Absorptionswellenlänge der Substanz, die Licht unter Erzeugung von Wärme absorbiert, entsprechen.
  • Nach der Bildung des latenten Bildes auf der wärmeempfindlichen Schicht der erfindungsgemäßen wärmeempfindlichen lithographischen Pressplatte bzw. Druckplatte wird der nicht-erhitzte Teil entwickelt, indem eine Einstellungsschicht für die Bildschärfe durch Auflösen unter Verwendung einer alkalischen Entwicklungslösung durchgeführt wird, um eine Pressplatte bzw. Druckplatte bzw. eine Pressplatte zu bilden. Die alkalische Entwicklungslösung ist vorzugsweise eine wässrige Lösung einer alkalischen Substanz. Beispiele für die alkalische Substanz schließen anorganische alkalische Verbindungen, wie Natriumsilicat, Kaliumsilicat, Kaliumhydroxid, Natriumhydroxid, Lithiumhydroxid, Natrium, Kalium- oder Ammoniumsalze von primärer oder tertiärer Phosphorsäure, Natriummetasilicat, Natriumcarbonat und Ammoniak; sowie organische alkalische Verbindungen, wie Monomethylamin, Dimethylamin, Trimethylamin, Monoethylamin, Diethylamin, Triethylamin, Monoisoprpoylamin, Diisopropylamin, n-Butylamin, Di-n-butylamin, Monoethanolamin, Diethanolamin, Triethanolamin, Ethylenimin und Ethylendiamin, ein.
  • Der Gehalt der alkalischen Substanz in der Entwicklungslösungl ist vorzugsweise 0,005 bis 10 Gew.-% und besonders bevorzugt 0,05 bis 5 Gew.-%. Erforderlichenfalls kann die Entwicklungslösung organische Lösungsmittel, wasserlösliche Sulfite, wie Kaliumsulfit und Natriumsulfit, aromatische Hydroxyverbindung, wie alkalisch-lösliche Pyrazolonverbindungen und alkalisch lösliche Thiolverbindungen, Wasser-Weichmacher, wie Polyphosphate und Aminopolycarbonsäuren, und verschiedene Tenside und verschiedene Entschäumer, wie Natriumisopropylnaphthalinsulfonat und Natrium-n-butylnaphthalinsulfonat, enthalten.
  • Als alkalische Entwicklungslösung kann auch eine im Handel erhältliche Entwicklungslösung für negativ-arbeitende PS-Platten oder positiv-arbeitende PS-Platten eingesetzt werden. Die erfindungsgemäße wärmeempfindliche lithographische Pressplatte bzw. Druckplatte kann dadurch entwickelt werden, dass das zu verwendende Harz selbst dann ausgewählt wird, wenn eine im Handel erhältliche Entwicklungslösung mit einem pH-Wert von 13,5 bis 14, die für PS-Platten verwendet wird, oder eine verdünntere Entwicklungslösung mit einem niedrigeren pH-Wert verwendet wird. Die wärmeempfindliche lithographische Pressplatte bzw. Druckplatte, die dazu imstande ist, mit einer verdünnten Entwicklungslösung mit einem pH-Wert von niedriger als 9 entwickelt zu werden, hat eine schlechtere Wasserbeständigkeit und die wärmeempfindliche Schicht wird während des Druckens unter Verwendung von Dämpfungswasser angegriffen, wodurch die Druckbeständigkeit verringert wird.
  • Nach der Bildung eines latenten Bildes durch die oben beschriebene Methode wird die erfindungsgemäße wärmeempfindliche lithographische Pressplatte bzw. Pressplatte bzw. Druckplatte dadurch entwickelt, dass sie in die oben genannte Entwicklungslösung eingetaucht wird, um eine Pressplatte bzw. Druckplatte bilden. Die Temperatur der Entwicklungslösung liegt vorzugsweise im Bereich von 15 bis 40°C und die Eintauchzeit liegt vorzugsweise im Bereich von einer Sekunde bis 2 Minuten. Erforderlichenfalls kann die Oberfläche während der Entwicklung leicht gerieben werden.
  • Nach der Entwicklung wird die Pressplatte bzw. Druckplatte mit Wasser gewaschen und gegebenenfalls wird ein wässriges Desensibilisierungsmittel aufgebracht. Beispiele für das wässrige Desensibilisierungsmittel schließen wässrige Lösungen von natürlichen wasserlöslichen Polymeren, wie Gummi arabicum, Dextrin und Carboxymethylcellulose, und von wasserlöslichen synthetischen Polymeren, wie Polyvinylalkohol, Polyvinylpyrrolidon und Polyacrylsäure, ein. Erforderlichenfalls können Säuren und Tenside zugesetzt werden. Nach der Aufbringung des Desensibilisierungsmittels wird die wärmeempfindliche lithographische Druckplatte getrocknet, wodurch eine Pressplatte bzw. Druckplatte erhalten wird.
  • Diese Stufen können getrennt durchgeführt werden, jedoch werden sie vorzugsweise kontinuierlich durchgeführt, wobei ein Bildbelichtungsgerät oder ein Autoentwicklungsgerät eingesetzt wird. Beispielsweise wird die erfindungsgemäße wärmeempfindliche lithographische Druckplatte in ein Bildbelichtungsgerät eingebaut, das mit einem Laser, wie einem YAG-Laser oder einem Infrarothalbleiterlaser, als Lichtquelle ausgestattet ist. Dann wird die wärmeempfindliche Schicht der Druckplatte direkt mit Laserlicht auf der Basis von digitalisierter Bildinformation von einem Computer bestrahlt, um ein latentes Bild zu erzeugen. Sodann wird die wärmeempfindliche Schicht unter Verwendung des Autoentwicklungsgeräts entwickelt, wodurch eine Pressplatte bzw. Druckplatte erhalten wird.
  • BEISPIELE
  • Die vorliegende Erfindung wird anhand der Beispiele im Detail beschrieben. Die Werte bezüglich der nichtflüchtigen Komponente des gewichtsmittleren Molekulargewichts des Tg-Werts, des Kontaktwinkels, des Stickstoffgehalts und der Druckbeständigkeit wurden nach folgenden Verfahrensweisen gemessen.
  • Messung der nichtflüchtigen Komponente
  • Etwa 1 g Probe wurden in einem Trockner eine Stunde lang bei 130°C getrocknet und nach der Bestimmung der Gewichte der Probe vor und nach dem Trocknen wurde der Gehalt der nichtflüchtigen Komponente in der Probe errechnet.
  • Messung des gewichtsmittleren Molekulargewichts
  • Unter Verwendung eines Geräts für die gelpermeationschromatographische Messung mit der Bezeichnung „610 differential refractometer system" (nachstehend als „GPC" abgekürzt), hergestellt von der Firma Waters Co., wurde das gewichtsmittlere Molekulargewicht gemessen. Polystyrolstandards wurden als Referenz verwendet, um das Molekulargewicht zu bestimmen.
  • Messung des Tg-Werts
  • Unter Verwendung eines Geräts für die Differential-Scanning-Kalorimetrie mit der Bezeichnung „Shimadzu Heat Flux Differential Scanning Calorimetry DSC-50" (nachstehend als „DSC" abgekürzt), hergestellt von der Firma Shimadzu Corporation, wurde eine Probe mit einer Heizgeschwindigkeit von 10°C/min auf 150°C erhitzt, auf 0°C oder niedriger unter Verwendung von flüssigem Stickstoff rasch abgekühlt und erneut mit einer Erhitzungsgeschwindigkeit von 10°/Minute auf 150°C erhitzt. Dann wurde die Temperatur, bei der eine endothermische Veränderung begann, als „Tg-Wert" bezeichnet. Als Kontrollprobe wurde Aluminiumoxid eingesetzt.
  • Messung des mittleren Teilchendurchmessers
  • Unter Verwendung eines Doppler-Teilchengrößenverteilungs-Messgeräts mit der Bezeichnung „Microtrack UPA-150", her gestellt von der Firma Microtrack USA Co., wurde der mittlere Teilchendurchmesser bestimmt.
  • Messung des Kontaktwinkels nach dem Wilhelmy-Plattenverfahren
  • Nach dem Zuschneiden einer wärmeempfindlichen lithographischen Druckplatte zu quadratischen Stücken mit einer Kantenlänge von 10 cm wurden zwei Stücke der wärmeempfindlichen lithographischen Druckplatte unter Verwendung eines Klebstoffs so miteinander laminiert, dass eine wärmeempfindliche Schicht an der Außenseite angeordnet war. Das resultierende Laminat wurde zu quadratischen Probekörpern mit einer Kantenlänge von 2 cm zugeschnitten. Unter Verwendung eines Geräts für die automatische Messung des Oberflächenspannungs-Kontaktwinkels mit der Bezeichnung „K12", hergestellt von der Firma Kruss Co. in Deutschland, wurde der Probekörper mit einer Geschwindigkeit von 6 mm/min so in destilliertes Wasser mit 25°C eingetaucht, dass die zu messende Oberfläche vertikal zu dem Flüssigkeitsniveau angeordnet war. Nach der Messung des Fortschreitrandwinkels wurde der Probekörper mit einer Geschwindigkeit von 6 mm/min herausgezogen und der Rückzugsrandwinkel wurde gemessen.
  • Messung des Stickstoffgehalts
  • Eine wärmeempfindliche lithographische Druckplatte wurde zu Stücken mit den Abmessungen 0,5 cm × 1 cm zugeschnitten und in einem Gasstrom von Argon-Sauerstoff mit 800 bis 900°C verbrannt. Dann wurde die Menge von Chemilumineszenz, die erzeugt wurde, als das gebildete Stickstoffmonoxid mit Ozon unter Bildung von Stickstoffdioxid oxidiert wurde, unter Verwendung eines Geräts für die Bestimmung der Chemilumineszenz mit der Bezeichnung „TOX-100", hergestellt von der Firma Mitsubishi Chemical Co., gemessen. Der Gehalt von Stickstoff in dem Probekörper wurde anhand einer getrennt erstellten Eichkurve bestimmt. Das Gewicht des Probekörpers der wärmeempfindlichen Schicht wurde in der Weise bestimmt, dass die Gewichte des Probekörpers vor und nach dem Verbrennen gemessen wurden. Dann wurde der Stickstoffgehalt der wärmeempfindlichen Schicht berechnet. Der auf diese Weise gemessene Stickstoff rührte von der Alkaliverbindung und dem IR-Absorptionsmittel in der wärmeempfindlichen Schicht her.
  • Herstellung eines Substrats mit hydrophiler Oberfläche
  • Die Oberfläche einer Aluminiumplatte mit A2-Größe mit einer Dicke von 0,3 mm wurde mit einer Nylonbürste unter Verwendung einer wässrigen Suspension von Bimsstein poliert und die Oberfläche wurde einer Körnungsbehandlung unterworfen und dann in einer 20%igen Schwefelsäure-Elektrolytlösung mit einer Stromdichte von 2 A/dm2 anoxidiert, wodurch ein Oxidfilm mit 2,7 g/m2 gebildet wurde. Die so behandelte Aluminiumplatte wurde mit Wasser gewaschen und dann getrocknet, wodurch ein Substrat mit einer hydrophilen Oberfläche erhalten wurde.
  • Methode zur Bestimmung der Auflösung
  • Die zu testende wärmeempfindliche lithographische Druckplatte wurde in ein plattenförmiges Einsatzgerät mit der Bezeichnung „Trend Setter 3244F", hergestellt von der Firma Creo Co, eingebaut und dann mittels eines im Voraus bestimmten Musters bzw. mittels einer im Voraus festgelegten Schablone belichtet. Nach der Entwicklung wurde das Bild mit einem Vergrößerungsglas inspiziert und der Punkt-Reproduktionsbereich wurde aufgezeichnet. Jedoch kann diese Bestimmungsmethode nur für eine wärmeempfindliche lithographische Druckplatte verwendet werden, die eine gefärbte wärmeempfindliche Schicht aufweist.
  • Methode zur Bestimmung der Druckbeständigkeit durch einen beschleunigten Druckbeständigkeitstest
  • Die zu testende Pressplatte bzw. Druckplatte wurde in eine lithographische Druckpresse bzw. Druckplatte mit der Bezeichnung „N-600 rotary press", hergestellt von der Firma TOHAMA Co., eingebaut. Das Drucken erfolgte mit einer Druckgeschwindigkeit von 120.000 Blättern/Stunde und mit einem Bedruckungsdruck von 0,25. Von der Firm CHUETSU PULP & PAPER CO., LTD. hergestelltes Zeitungspapier wurde als Druckpapier verwendet. Eine schwarze Druckfarbe für Zeitungen mit der Bezeichnung „MKHS-EZ", hergestellt von der Firma DAINIPPON INK AND CHEMICALS, INC., wurde als Druckfarbe eingesetzt und eine wässrige 2%ige Lösung eines Produkts mit der Bezeichnung „FST-212", hergestellt von der Firma DAINIPPON INK AND CHEMICALS, INC., wurde als Dämpfungswasser eingesetzt.
  • Synthesebeispiel 1 des Polymeren
  • In einen 1-Liter-Vierhalskolben, der mit einem Rührer, einem Rückflusskondensator, einem Rohr für die Einführung von Stickstoff mit einem Thermometer sowie einem Tropftrichter ausgestattet war, wurden 300 g Propylenglykolmonomethyletheracetat (nachstehend als „PGMEAc" abgekürzt) eingegeben. Nach dem Erhitzen auf 125°C in einer Stickstoffatmosphäre unter Rühren wurde ein Gemisch von 230 g Styrol, 70 g Acrylsäure und 15 g Di-t-butylperoxid tropfenweise im Verlauf von 3 Stunden zugesetzt. Nach Beendigung der tropfenweise erfolgenden Zugabe wurde 6 Stunden lang weitergerührt, wodurch eine PGMEAc-Lösung eines alkalilöslichen Polymeren erhalten wurde, das einen Anteil einer nichtflüchtigen Komponente von 50%, ein gewichtsmittleres Molekulargewicht von 40.000, einen Tg-Wert von 125°C und eine Säurezahl von 173 aufwies (nachstehend als „Polymeres (1)" bezeichnet).
  • Synthesebeispiel 2 des Polymeren
  • In einen 1-Liter-Vierhalskolben, der mit einem Rührer, einem Rückflusskondensator, einem Rohr für die Einführung von Stickstoff mit einem Thermometer sowie einem Tropftrichter ausgestattet war, wurden 300 g PGMEAc eingegeben und nach dem Erhitzen auf 125°C in einer Stickstoffatmosphäre unter Rühren wurde ein Gemisch aus 60 g Styrol, 147 g Methylmethacrylat, 66 g Butylmethacrylat, 27 g Acrylsäure und 15 g Di-t-butylperoxid tropfenweise im Verlauf von 3 Stunden zugegeben. Nach Beendigung der tropfenweise erfolgenden Zugabe wurde 6 Stunden lang weitergerührt, wodurch eine PGMEAc-Lösung eines alkalilöslichen Polymeren erhalten wurde, das einen Anteil einer nichtflüchtigen Komponente von 50%, ein gewichtsmittleres Molekulargewicht von 35.000, einen Tg-Wert von 82°C und eine Säurezahl von 67 aufwies (nachstehend als „Polymeres (2)" bezeichnet).
  • Synthesebeispiel 3 des Polymeren
  • Es wurde in der gleichen Weise wie bei der Synthese des Polymeren (1) mit der Ausnahme vorgegangen, dass 246 g Styrol und 54 g Acrylsäure anstelle der 230 g Styrol und der 70 g Acrylsäure bei der Herstellung des Polymeren (1) eingesetzt wurden. Es wurde eine PGMEAc-Lösung eines alkalilöslichen Polymeren erhalten, das einen Anteil einer nichtflüchtigen Komponente von 50%, ein gewichtsmittleres Molekulargewicht von 35.000, einen Tg-Wert von 108°C und eine Säurezahl von 133 aufwies (nachstehend als „Polymeres (3)" bezeichnet).
  • Synthesebeispiel 4 des Polymeren
  • In einen 1-Liter-Vierhalskolben, der mit einem Rührer, einem Rückflusskondensator, einem Rohr für die Einführung von Stickstoff mit einem Thermometer sowie einem Tropftrichter ausgestattet war, wurden 300 g PGMEAc eingegeben und nach dem Erhitzen auf 125°C unter Rühren wurde ein Gemisch aus 230 g Methylmethacrylat, 30 g Acrylsäure, 40 g Methacrylsäure und 15 g Di-t-butylperoxid tropfenweise im Verlauf von 3 Stunden zugegeben. Nach Beendigung der tropfenweise erfolgenden Zugabe wurde 6 Stunden lang weitergerührt, wodurch eine PGMEAc-Lösung eines alkalilöslichen Polymeren erhalten wurde, das einen Anteil einer nichtflüchtigen Komponente von 50%, ein gewichtsmittleres Molekulargewicht von 35.000, einen Tg-Wert von 126°C und eine Säurezahl von 157 aufwies (nachstehend als „Polymeres (4)" bezeichnet).
  • Synthesebeispiel 5 des Polymeren
  • In einen 1-Liter-Vierhalskolben, der mit einem Rührer, einem Rückflusskondensator, einem Rohr für die Einführung von Stickstoff mit einem Thermometer sowie einem Tropftrichter ausgestattet war, wurden 300 g Methylethylketon (nachstehend als „MEK" abgekürzt) eingegeben und nach dem Erhitzen auf 80°C unter Rühren wurde ein Gemisch aus 230 g Methylmethacrylat, 30 g Acrylsäure, 40 g Methacrylsäure und 12 g t-Butylperoxy-2-ethylhexanoat tropfenweise im Verlauf von 3 Stunden zugegeben. 6 Stunden nach der tropfenweise erfolgenden Zugabe wurden 1,5 g t-Butylperoxy-2-ethylhexanoat zugegeben. Nach 4 Stunden wurden 1,5 g t-Butylperoxy-2-ethylhexanoat zugesetzt und es wurde 4 Stunden lang weitergerührt, wodurch eine MEK-Lösung eines alkalilöslichen Polymeren erhalten wurde, das einen Anteil einer nichtflüchtigen Komponente von 50%, ein gewichtsmittleres Molekulargewicht von 20.000, einen Tg-Wert von 115°C und eine Säurezahl von 157 aufwies (nachstehend als „Polymeres (5)" bezeichnet).
  • Synthesebeispiel 6 des Polymeren
  • Es wurde in der gleichen Weise wie bei der Synthese des Polymeren (1) mit der Ausnahme vorgegangen, dass 260 g Styrol und 40 g Acrylsäure anstelle der 230 g Styrol und der 70 g Acrylsäure bei der Herstellung des Polymeren (1) eingesetzt wurden. Es wurde eine PGMEAc-Lösung eines alkalilöslichen Polymeren erhalten, das einen Anteil einer nichtflüchtigen Komponente von 50%, ein gewichtsmittleres Molekulargewicht von 35.000, einen Tg-Wert von 104°C und eine Säurezahl von 99 aufwies (nachstehend als „Polymeres (6)" bezeichnet).
  • Synthesebeispiel 7 des Polymeren
  • In einen 1-Liter-Vierhalskolben, der mit einem Rührer, einem Rückflusskondensator, einem Rohr für die Einführung von Stickstoff mit einem Thermometer sowie zwei Tropftrichtern ausgestattet war, wurden 150 g destilliertes Wasser, 0,22 g Methylmethacrylat und 0,44 g eines Emulgators mit der Bezeichnung „NEWCOL560SF", hergestellt von der Firma Nippon Nyukazai Co., Ltd., eingegeben. Nach dem Erhitzen auf 80°C unter Rühren in einer Stickstoffatmosphäre wurden 0,44 g Methylmethacrylat zugegeben und es wurde 15 Minuten lang weitergerührt. Dann wurde eine Lösung, hergestellt durch Auflösen von 0,15 g Ammoniumpersulfat in 5 g destilliertem Wasser, zugesetzt und es wurde 15 Minuten lang weitergerührt. Sodann wurde eine Lösung, hergestellt durch Auflösen von 22 g Methylmethacrylat, 1 g eines Emulgators mit der Bezeichnung „NEWCOL560SF" und 0,15 g Ammoniumpersulfat in 50 g destilliertem Wasser im Verlauf von 2 Stunden tropfenweise zugesetzt. Nach Beendigung der tropfenweise erfolgenden Zugabe wurde 3 Stunden lang weitergerührt, wodurch eine wässrige Dispersion von Polymethylmethacrylatteilchen erhalten wurde, die einen Gehalt von nichtflüchtiger Komponente von 50%, einen Tg-Wert von 100°C und einen mittleren Teilchendurchmesser von 100 nm hatten.
  • Herstellung der wärmeempfindlichen Zusammensetzung (A)
  • In einen 500-ml-Vierhalskolben, der mit einem Rührer und einer Einrichtung zur Abdestillation des Lösungsmittels ausgerüstet war, wurden 300 g PGMEAc-Lösung des Polymeren (1), erhalten in Synthesebeispiel 1 des Polymeren, eingegeben und das Gemisch wurde in einer Stickstoffatmosphäre unter normalem Druck und unter Rühren auf 200°C erhitzt. Dann wurde PGMEAc abdestilliert, während allmählich ein Vakuum angelegt wurde. Zu dem Zeitpunkt, bei dem der Druck auf 0,03 MPa verringert worden war und die Abdestillation des Lösungsmittels beendigt war, wurde der Druck auf Normaldruck zurückgestellt. Das Copolymere im geschmolzenen Zustand wurde abgekühlt und vermahlen, wodurch ein Feststoff aus dem Polymeren (1) erhalten wurde. In einen 500-ml-Vierhalskolben, der mit einem Rührer, einem Rückflusskondensator und einem Rohr für die Einführung von Stickstoff mit einem Thermometer ausgestattet war, wurden 50 g des Feststoffs aus dem Polymeren (1), 10 g 25%iges Ammoniakwasser und 218 g Wasser eingegeben. Unter Aufrechterhaltung einer Temperatur von 90°C wurde gerührt, wodurch eine wässrige 18%ige Lösung eines Ammoniumsalzes des Polymeren (1) (nachstehend als wärmeempfindliche Zusammensetzung (A) bezeichnet) erhalten wurde.
  • Herstellung der wärmeempfindlichen Zusammensetzung (B)
  • Zu 20 g der wärmeempfindlichen Zusammensetzung (A) wurde eine Lösung, hergestellt durch Auflösen von 280 mg 4-Methylbenzolsulfonsäure 2-(2-(2-chlor-2-((1,3-dihydro-1,1,3-trimethyl-2H-benz(e)indol-2-yliden)ethyliden)-1-cyclohexen-1-yl)ethenyl)-1,1,3-trimethyl-1H-benz(e)indolium als IR-Absorptionsmittel und 40 mg Kristallviolett als Farbmittel in einem Mischlösungsmittel aus 4 g Ethanol und 1 g 2-Methoxyethanol unter Rühren zugegeben, wodurch eine wärmeempfindliche Zusammensetzung (B) erhalten wurde.
  • Herstellung der wärmeempfindlichen Zusammensetzung (C)
  • Es wurde wie bei der Herstellung der wärmeempfindlichen Zusammensetzung (A) mit der Ausnahme verfahren, dass 13 g Methylethanolamin und 215 g Wasser anstelle von 10 g 25%igem Ammoniakwasser und 218 g Wasser bei der Herstellung der wärmeempfindlichen Zusammensetzung (A) eingesetzt wurden. Es wurde eine wässrige 18%ige Lösung eines Dimethylethanolaminsalzes des Polymeren (1) erhalten. Unter Verwendung von 20 g der wässrigen Lösung wurde in der gleichen Art und Weise wie bei der Herstellung der wärmeempfindlichen Zusammensetzung (B) verfahren, wodurch eine wärmeempfindliche Zusammensetzung (C) erhalten wurde.
  • Herstellung der wärmeempfindlichen Zusammensetzung (D)
  • In einen 500-ml-Vierhalskolben, der mit einem Rührer und einer Einrichtung zur Destillation des Lösungsmittels ausgestattet war, wurden 300 g PGMEAc-Lösung des Polymeren (2), erhalten in Synthesebeispiel 2 des Polymeren, eingegeben und das Gemisch wurde in einer Stickstoffatmosphäre unter normalem Druck und unter Rühren auf 200°C erhitzt. Dann wurde das PGMEAc unter allmählichem Anlegen eines Vakuums abdestilliert. Zu dem Zeitpunkt, als der Druck auf 0,03 MPa verringert worden war und die Abdestillation des Lösungsmittels beendigt war, wurde der Druck auf Normaldruck zurückgestellt. Das Copolymere im geschmolzenen Zustand wurde abgekühlt und vermahlen, wodurch ein Feststoff aus dem Polymeren (2) erhalten wurde.
  • In einen 500-ml-Vierhalskolben, der mit einem Rührer, einem Rückflusskondensator und einem Rohr für die Einführung von Stickstoff mit einem Thermometer ausgestattet war, wurden 50 g des Feststoffs aus dem Polymeren (2) eingegeben. Es wurden 4 g 25%iges Ammoniakwasser und 224 g Wasser zugesetzt und es wurde gerührt, während die Temperatur bei 90°C gehalten wurde. Auf diese Weise wurde eine wässrige 18%ige Lösung eines Ammoniumsalzes des Polymeren (2) erhalten. Zu 20 g der wässrigen Lösung wurden 0,3 g eines IR-Absorptionsmittels mit der Bezeichnung „YKR-3070", hergestellt von der Firma Yamamoto Chemicals Inc., 40 mg Kristallviolett, 4 g Ethanol und 1 g 2-Methoxyethanol zugesetzt und sodann wurde das Gemisch 5 Minuten lang einer Dispergierungsbehandlung unter Verwendung einer Ultraschalldispergierungsvorrichtung unterworfen. Auf diese Weise wurde eine wärmeempfindliche Zusammensetzung (D) erhalten.
  • Herstellung der wärmeempfindlichen Zusammensetzung (E)
  • Es wurde wie im Falle der Herstellung der wärmeempfindlichen Zusammensetzung (A) mit der Ausnahme verfahren, dass 7,5 g 25%iges Ammoniakwasser und 220 g Wasser anstelle von 10 g 25%igem Ammoniakwasser und 218 g Wasser bei der Herstellung der wärmeempfindlichen Zusammensetzung (A) eingesetzt wurden. Es wurde eine wässrige 18%ige Lösung eines Ammoniumsalzes des Polymeren (1) erhalten. Unter Verwendung von 20 g der wässrigen Lösung wurde wie bei der Herstellung der wärmeempfindlichen Zusammensetzung (D) verfahren, wodurch eine wärmeempfindliche Zusammensetzung (E) erhalten wurde.
  • Herstellung der wärmeempfindlichen Zusammensetzung (F)
  • Es wurde wie bei der Herstellung der wärmeempfindlichen Zusammensetzung (A) mit der Ausnahme verfahren, dass 300 g der PGMWAc-Lösung des Polymeren (3) anstelle von 300 g der PGMWAc-Lösung des Polymeren (1) eingesetzt wurden und dass 8,5 g 25%iges Ammoniakwasser und 220 g Wasser anstelle von 10 g 25%igem Ammoniakwasser und 218 g Wasser bei der Herstellung der wärmeempfindlichen Zusammensetzung (A) eingesetzt wurden. Es wurde eine wässrige 18%ige Lösung eines Ammoniumsalzes des Polymeren (3) erhalten. Unter Verwendung von 20 g der wässrigen Lösung wurde in der gleichen Art und Weise wie bei der Herstellung der wärmeempfindlichen Zusammensetzung (D) verfahren, wodurch eine wärmeempfindliche Zusammensetzung (F) erhalten wurde.
  • Herstellung der wärmeempfindlichen Zusammensetzung (G)
  • Es wurde wie bei der Herstellung der wärmeempfindlichen Zusammensetzung (A) mit der Ausnahme verfahren, dass 300 g der PGMWAc-Lösung des Polymeren (4) anstelle von 300 g der PGMWAc-Lösung des Polymeren (1) bei der Herstellung der wärmeempfindlichen Zusammensetzung (A) eingesetzt wurden. Es wurde eine wässrige 18%ige Lösung eines Ammoniumsalzes des Polymeren (4) erhalten. Unter Verwendung von 20 g der wässrigen Lösung wurde wie bei der Herstellung der wärmeempfindlichen Zusammensetzung (D) verfahren, wodurch eine wärmeempfindliche Zusammensetzung (G) erhalten wurde.
  • Herstellung der wärmeempfindlichen Zusammensetzung (H) für ein Vergleichsbeispiel
  • Zu 8 g der PGMEAc-Lösung des Polymeren (1), erhalten in Synthesebeispiel 1 des Polymeren, wurden 19 g PGMEAc zugegeben, wodurch eine wärmeempfindliche Zusammensetzung (H) erhalten wurde.
  • Herstellung der wärmeempfindlichen Zusammensetzung (I) für ein Vergleichsbeispiel
  • In einen 500-ml-Vierhalskolben, der mit einem Rührer, einem Rückflusskondensator, einem Rohr für die Einführung von Stickstoff mit einem Thermometer sowie einem Tropftrichter ausgestattet war, wurden 100 g des Feststoffs aus dem Polymeren (1), erhalten bei der Herstellung der wärmeempfindlichen Zusammensetzung (A), und 100 g MEK gegeben. Das Gemisch wurde 2 Stunden lang bei 80°C gerührt, wodurch eine MEK-Lösung des Polymeren (1) erhalten wurde. Zu 100 g der Lösung wurden 10 g 5%iges Ammoniakwasser gegeben und nach dem langsamen Zugeben von 500 g Wasser unter Rühren wurde die Lösung einer Phaseninversionsemulgierung unterworfen, wodurch eine wässrige Dispersion, enthaltend MEK, erhalten wurde. Überschüssiges Wasser wurde unter Anlegen eines Vakuums abdestilliert, wodurch eine wässrige Dispersion mit einem mittleren Teilchendurchmesser von 200 nm und einem Gehalt an trockenem Feststoff von 18% erhalten wurde. Zu 20 g der wässrigen Dispersion wurden 0,3 g eines IR-Absorptionsmittels mit der Bezeichnung „YKR-3070", hergestellt von der Firma Yamamoto Chemicals Inc., sowie 5 g Ethanol zugegeben. Nach dem gemeinsam erfolgenden Schütteln mit 180 g Zirkondioxidperlen mit einer Teilchengröße von 1 mm über einen Zeitraum von einer Stunde unter Verwendung eines Anstrichmittelkonditionierungsgeräts wurden die Zirkoniumdioxidperlen durch Filtration entfernt, wodurch eine wärmeempfindliche Zusammensetzung (I) erhalten wurde.
  • Herstellung der wärmeempfindlichen Zusammensetzung (J) für ein Vergleichsbeispiel
  • Zu 100 g der MEK-Lösung des Polymeren (5), erhalten in Synthesebeispiel 5 des Polymeren, wurden 7 g 5%iges Ammoniakwasser gegeben und nach dem langsamen Zugeben von 500 g Wasser unter Rühren wurde die Lösung einer Phaseninversionsemulgierung unterworfen, wodurch eine wässrige Dispersion des Polymeren (5), enthaltend MEK, erhalten wurde. Das MEK und überschüssiges Wasser wurden unter Anlegen eines Vakuums abdestilliert, wodurch eine wässrige Dispersion des Polymeren (5) erhalten wurde. Das Polymere (5) hatte einen mittleren Teilchendurchmesser von 200 nm und einen Gehalt an trockenem Feststoff von 18%. Zu 20 g der wässrigen Dispersion wurden 0,3 g eines IR-Absorptionsmittels mit der Bezeichnung „YKR-3070", hergestellt von der Firma Yamamoto Chemicals Inc., sowie 5 g Ethanol zugegeben und nach dem 1-stündigen Schütteln zusammen mit 180 g Zirkondioxidperlen mit einer Teilchengröße von 1 mm un ter Verwendung eines Anstrichmittelkonditionierungsgeräts wurden die Zirkondioxidperlen durch Filtration entfernt, wodurch eine wärmeempfindliche Zusammensetzung (J) erhalten wurde.
  • Herstellung der wärmeempfindlichen Zusammensetzung (K) für ein Vergleichsbeispiel
  • 20 g Polyacrylsäure mit einem mittleren Molekulargewicht von 5000, hergestellt von der Firma Wako Pure Chemicals Industries, Ltd., wurden in 80 g Wasser aufgelöst, wodurch eine wärmeempfindliche Zusammensetzung (K) erhalten wurde.
  • Herstellung der wärmeempfindlichen Zusammensetzung (L) für ein Vergleichsbeispiel
  • Zu 11,25 g der wässrigen Dispersion von Polymethylmethacrylatteilchen, erhalten in Synthesebeispiel 7 des Polymeren, wurden 5,83 g einer 15%igen wässrigen Dispersion von Ruß mit der Bezeichnung „BONJET BLACK CW-1", hergestellt von der Firma Orient Chemical Industry Ltd., 7,9 g destilliertes Wasser und 25 g einer wässrigen 2%igen Lösung von Polyvinylalkohol mit einem Verseifungsgrad von 98% unter Rühren gegeben, wodurch eine wärmeempfindliche Zusammensetzung (L), enthaltend 5% nichtflüchtige Komponente, erhalten wurde.
  • Herstellung der wärmeempfindlichen Zusammensetzung (M) für ein Vergleichsbeispiel
  • Es wurde wie bei der Herstellung der wärmeempfindlichen Zusammensetzung (A) mit der Ausnahme verfahren, dass ein Polymeres (6) anstelle des Polymeren (1) eingesetzt wurde und dass 6,5 g 25%iges Ammoniakwasser und 221 g Wasser anstelle der 10 g 25%igem Ammoniakwasser und 218 g Wasser bei der Herstellung der wärmeempfindlichen Zusammensetzung (A) eingesetzt wurden. Es wurde eine wässrige 18%ige Lö sung eines Ammoniumsalzes des Polymeren (6) erhalten. Unter Verwendung von 20 g der wässrigen Lösung wurde wie bei der Herstellung der wärmeempfindlichen Zusammensetzung (D) verfahren, wodurch eine wärmeempfindliche Zusammensetzung (M) erhalten wurde.
  • Beispiel 1
  • Eine wärmeempfindliche Zusammensetzung (A) wurde unter Verwendung einer Stangenbeschichtungseinrichtung #8 auf ein Substrat aufgetragen und 4 Minuten lang bei 60°C getrocknet, wodurch zwei wärmeempfindliche lithographische Druckplatten (A-1) erhalten wurden, die jeweils eine 2 μm-dicke wärmeempfindliche Schicht hatten. Der Stickstoffgehalt der wärmeempfindlichen Schicht betrug 0,86%.
  • Nachdem eine wärmeempfindliche lithographische Druckplatte (A-1) durch Zerschneiden halbiert worden war, wurde der Kontaktwinkel eines Stücks so wie er war gemessen, während der Kontaktwinkel eines weiteren Stücks nach dem 3-minütigen Erhitzen auf 150°C und dem Abkühlen gemessen wurde. Der Fortschreitrandwinkel (θf1) vor dem Erhitzen betrug 88,2° und der Rückzugsrandwinkel (θh1) betrug 39,8°, während der Rückzugsrandwinkel (θh2) nach dem Erhitzen 55,3° war, was größer war als der Rückzugsrandwinkel (θh1) vor dem Erhitzen. Die Differenz des Rückzugsrandwinkels vor und nach dem erhitzen (θh2 – θh1) betrug 15,5°.
  • Nachdem eine weitere wärmeempfindliche lithographische Druckplatte (A-1) durch Zerschneiden halbiert worden war, wurde ein Stück eine Stunde lang auf 120°C erhitzt. Der Stickstoffgehalt der wärmeempfindlichen Schicht nach dem Erhitzen betrug 0,45. Die wärmeempfindliche lithographische Druckplatte (A-1) wurde nach dem Erhitzen in eine 1:99-Wasser-verdünnte Lösung (pH-Wert 12,3) einer Entwicklungslösung für positive PS-Platten mit der Bezeichnung „PD-1", hergestellt von der Firma Kodak Polychrome Gra phics (nachstehend als „Entwicklungslösung" bezeichnet) mit 30°C 25 Sekunden lang eingetaucht. Als Ergebnis erfolgte keine Quellung der wärmeempfindlichen Schicht, noch ein Abschälen bzw. Abblättern. Eine weitere wärmeempfindliche lithographische Druckplatte (A-1) wurde 25 Sekunden lang in eine 1:99-Wasser-verdünnte Lösung der Entwicklungslösung mit 30°C eingetaucht. Als Ergebnis war die gesamte wärmeempfindliche Schicht aufgelöst worden. Diese Ergebnisse zeigen, dass die wärmeempfindliche Schicht der wärmeempfindlichen lithographischen Druckplatte (A-1) durch einminütiges Erhitzen auf 120°C in der 1:99-Wasserverdünnten Lösung mit der Entwicklungslösung unlöslich gemacht wird.
  • Unter Verwendung der wärmeempfindlichen lithographischen Druckplatte (A-1), eingetaucht in die 1:99-Wasser-verdünnte Lösung der Entwicklungslösung nach dem Erhitzen als eine Pressplatte bzw. Druckplatte, wurde ein beschleunigter Druckbeständigkeitstest (20.000 Blätter) durchgeführt. Als Ergebnis wurde keine Abnormalität hinsichtlich des resultierenden Drucks und der Pressplatte bzw. Druckplatte festgestellt.
  • Beispiel 2
  • Es wurde wie in Beispiel 1 mit der Ausnahme verfahren, dass ein Stehenlassen in einem Vakuumtrockner unter einem Vakuum von 20 Pa über einen Zeitraum von 24 Stunden anstelle des 4-minütigen Trocknens bei 60°C in Beispiel 1 durchgeführt wurde. Es wurden zwei wärmeempfindliche lithographische Druckplatten (A-2) erhalten. Der Stickstoffgehalt der wärmeempfindlichen Schicht betrug 0,46%.
  • Nachdem eine wärmeempfindliche lithographische Druckplatte (A-2) durch Zerschneiden halbiert worden war, wurde der Kontaktwinkel in der gleichen Art und Weise wie in Beispiel 1 gemessen. Als Ergebnis wurde ein Fortschreitrand winkel ((θf1) vor dem Erhitzen von 89,0° und ein Rückzugsrandwinkel ((θh1) von 40,5° ermittelt. Während der Rückzugsrandwinkel (θh2) nach dem Erhitzen 55,6° betrug und größer war als der Rückzugsrandwinkel (θh1) vor dem Erhitzen. Die Differenz des Rückzugsrandwinkels vor und nach dem Erhitzen (θh2 – θh1) betrug 15,1°.
  • Nachdem eine weitere wärmeempfindliche lithographische Druckplatte (A-2) durch Zerschneiden halbiert worden war, wurde ein Stück davon eine Stunde lang auf 120°C erhitzt. Der Stickstoffgehalt der wärmeempfindlichen Schicht nach dem Erhitzen betrug 0,45% und er war fast der gleiche wie derjenige vor dem Erhitzen. Die wärmeempfindliche lithographische Druckplatte (A-2) wurde nach dem Erhitzen 25 Sekunden lang in eine 1:99-Wasser-verdünnte Lösung einer Entwicklungslösung mit 30°C eingetaucht. Als Ergebnis erfolgte kein Quellen, noch ein Abblättern bzw. ein Abschälen. Eine weitere wärmeempfindliche lithographische Druckplatte (A-2) wurde 25 Sekunden lang in eine 1:99-Wasser-verdünnte Lösung der Entwicklungslösung mit 30°C eingetaucht. Als Ergebnis war die gesamte wärmeempfindliche Schicht aufgelöst worden. Diese Ergebnisse zeigen, dass die wärmeempfindliche Schicht der wärmeempfindlichen lithographischen Druckplatte (A-2) in einer Entwicklungslösung durch Erhitzen selbst dann unlöslich gemacht wird, wenn der Stickstoffgehalt in der wärmeempfindlichen Schicht sich nicht verändert.
  • Unter Verwendung der wärmeempfindlichen lithographischen Druckplatte (A-2), die nach dem Erhitzen in die 1:99-Wasser-verdünnte Lösung der Entwicklungslösung als eine Pressplatte bzw. Druckplatte eingetaucht worden war, wurde ein beschleunigter Druckbeständigkeitstest (20.000 Blätter) durchgeführt. Als Ergebnis wurde keine Abnormalität hinsichtlich des resultierenden Drucks und der Pressplatte bzw. Druckplatte beobachtet.
  • Beispiel 3
  • Eine wärmeempfindliche Zusammensetzung (B) wurde auf ein Substrat unter Verwendung einer Stangenbeschichtungseinrichtung #9 aufgebracht und das Material wurde dann 4 Minuten lang bei 60°C getrocknet, wodurch zwei wärmeempfindliche lithographische Druckplatten (B-1) erhalten wurden, die jeweils eine 2 μm-dicke wärmeempfindliche Schicht hatten.
  • Nachdem eine wärmeempfindliche lithographische Druckplatte (B-1) durch Zerschneiden halbiert worden war, wurde der Kontaktwinkel eines Stücks, so wie er war, gemessen, während der Kontaktwinkel eines weiteren Stücks nach dem 3-minütigen Erhitzen auf 150°C und dem Abkühlen gemessen wurde. Der Fortschreitrandwinkel (θf1) vor dem Erhitzen betrug 93,4° und der Rückzugsrandwinkel (θh1) betrug 25,1°, während der Rückzugsrandwinkel (θh2) nach dem Erhitzen 44,2° betrug und somit größer war als der Rückzugsrandwinkel (θh1) vor dem Erhitzen. Die Differenz des Rückzugsrandwinkels (θh2 – θh1) vor und nach dem Erhitzen betrug 19,1°.
  • Eine weitere wärmeempfindliche lithographische Druckplatte (B-1) wurde mit Laserlicht einer Dosis von 180 mJ/cm2 unter Verwendung einer Belichungseinrichtung mit der Bezeichnung „Trend Setter 3244F", ausgestattet mit einem Halbleiterlaser in nahen Infrarotbereich, hergestellt von der Firma Creo Co., bei den Bedingungen einer Energie von 7,2 W und 150 UpM bestrahlt, um ein latentes Bild zu erzeugen. Die wärmeempfindliche lithographische Druckplatte wurde dadurch entwickelt, dass sie in eine 1:99-Wasser-verdünnte Lösung einer Entwicklungslösung mit 30°C 25 Sekunden lang eingetaucht wurde und mit Wasser gewaschen und dann getrocknet wurde, wodurch eine Pressplatte bzw. Druckplatte erhalten wurde. Die resultierende Pressplatte bzw. Druckplatte hatte eine Auflösung von 1 bis 99%. Die Pressplatte bzw. Druckplatte wurde einem beschleunigten Druckbestän digkeitstest (20.000 Blätter) unterworfen. Als Ergebnis wurde keine Abnormalität hinsichtlich des resultierenden Drucks und der Pressplatte bzw. Druckplatte festgestellt.
  • Beispiel 4
  • Eine wärmeempfindliche Zusammensetzung (C) wurde auf ein Substrat unter Verwendung einer Stangenbeschichtungseinrichtung #9 aufgebracht und dann 4 Minuten lang bei 60°C getrocknet, wodurch zwei wärmeempfindliche lithographische Druckplatten (C-1) erhalten wurden, die jeweils eine 2 μm-dicke wärmeempfindliche Schicht aufwiesen.
  • Nachdem eine wärmeempfindliche lithographische Druckplatte (C-1) durch Zerschneiden halbiert worden war, wurde der Kontaktwinkel eines Stücks so wie er war gemessen, während der Kontaktwinkel eines weiteren Stücks nach dem 3-minütigen Erhitzen auf 150°C und dem Abkühlen gemessen wurde. Der Fortschreitrandwinkel (θf1) vor dem Erhitzen betrug 84,5° und der Rückzugsrandwinkel (θh1) betrug 7,8°, während der Rückzugsrandwinkel (θh2) nach dem Erhitzen 33,7° betrug und damit größer war als der Rückzugsrandwinkel (θh1) vor dem Erhitzen. Die Differenz des Rückzugsrandwinkels vor und nach dem Erhitzen (θh2 – θh1) betrug 25,9°.
  • Unter Verwendung einer weiteren wärmeempfindlichen lithographischen Druckplatte (C-1) wurde eine Pressplatte bzw. Druckplatte in der gleichen Art und Weise wie in Beispiel 3 erhalten. Die resultierende Pressplatte bzw. Druckplatte hatte eine Auflösung von 2 bis 98%. Der Stickstoffgehalt des Nicht-Bildbereichs der Pressplatte bzw. Druckplatte betrug 1,65 und war damit fast der gleiche wie der Stickstoffgehalt (1,64) des Bildbereichs. Die Pressplatte bzw. Druckplatte wurde einem beschleunigten Druckbeständigkeitstest (20.000 Blätter) unterworfen. Als Ergebnis wurde keine Abnormalität hinsichtlich des resultierenden Drucks und der Pressplatte bzw. Druckplatte beobachtet.
  • Beispiel 5
  • Eine wärmeempfindliche Zusammensetzung (D) wurde auf ein Substrat unter Verwendung einer Stangenbeschichtungseinrichtung #9 aufgebracht und dann 4 Minuten lang bei 60°C getrocknet, wodurch zwei wärmeempfindliche lithographische Druckplatten (D-1) erhalten wurden, die jeweils eine 2 μm-dicke wärmeempfindliche Schicht hatten.
  • Nachdem eine wärmeempfindliche lithographische Druckplatte (D-1) durch Zerschneiden halbiert worden war, wurde der Kontaktwinkel eines Stücks so wie er war gemessen, während ein Kontaktwinkel eines weiteren Stücks nach dem 3-minütigen Erhitzen auf 150°C und dem Abkühlen gemessen wurde. Der Fortschreitrandwinkel (θf1) vor dem Erhitzen betrug 88,1° und der Rückzugsrandwinkel (θh1) betrug 23,1°, während der Rückzugsrandwinkel (θh2) nach dem Erhitzen 51,9° betrug und damit größer war als der Rückzugsrandwinkel (θh1) vor dem Erhitzen. Die Differenz des Rückzugsrandwinkels vor und nach dem Erhitzen (θh2 – θh1) betrug 28,8°.
  • Unter Verwendung einer weiteren wärmeempfindlichen lithographischen Druckplatte (D-1) wurde ein latentes Bild in der gleichen Art und Weise wie in Beispiel 3 erzeugt. Die wärmeempfindliche lithographische Druckplatte wurde durch 25 Sekunden langes Eintauchen in eine 1:8-Wasser-verdünnte Lösung (pH-Wert 13,6) einer Entwicklungslösung mit 30°C entwickelt, mit Wasser gewaschen und dann getrocknet, wodurch eine Pressplatte bzw. Druckplatte erhalten wurde. Die resultierende Pressplatte bzw. Druckplatte hatte eine Auflösung von 2 bis 98%. Die Pressplatte bzw. Druckplatte wurde einem beschleunigten Druckbeständigkeitstest (20.000 Blätter) unterworfen. Als Ergebnis wurde keine Abnormalität hinsichtlich des resultierenden Drucks und der Pressplatte bzw. Druckplatte beobachtet.
  • Beispiel 6
  • Eine weitere wärmeempfindliche Zusammensetzung (E) wurde auf ein Substrat unter Verwendung einer Stangenbeschichtungseinrichtung #9 aufgebracht und dann 4 Minuten lang bei 60°C getrocknet, wodurch zwei wärmeempfindliche lithographische Druckplatten (E-1) erhalten wurden, die jeweils eine 2 μm-dicke wärmeempfindliche Schicht hatten.
  • Nachdem eine wärmeempfindliche lithographische Druckplatte (E-1) durch Zerschneiden halbiert worden war, wurde der Kontaktwinkel eines Stücks so wie er war gemessen, während der Kontaktwinkel eines weiteren Stücks nach 3-minütigem Erhitzen auf 150°C und Abkühlen gemessen wurde. Der Fortschreitrandwinkel (θf1) vor dem Erhitzen betrug 101,0° und der Rückzugsrandwinkel (θh1) betrug 20,9°, während der Rückzugsrandwinkel (θh2) nach dem Erhitzen 43,6° betrug und somit größer war als der Rückzugsrandwinkel (θh1) vor dem Erhitzen. Die Differenz des Rückzugsrandwinkels vor und nach dem Erhitzen (θh2 – θh1) betrug 22,7°.
  • Unter Verwendung einer weiteren wärmeempfindlichen lithographischen Druckplatte (E-1) wurde eine Pressplatte bzw. Druckplatte in der gleichen Art und Weise wie in Beispiel 3 erhalten. Die resultierende Pressplatte bzw. Druckplatte hatte eine Auflösung von 2 bis 98%. Die Pressplatte bzw. Druckplatte wurde einem beschleunigten Druckbeständigkeitstest (20.000 Blätter) unterworfen. Als Ergebnis wurde keine Abnormalität hinsichtlich des resultierenden Drucks und der Pressplatte bzw. Druckplatte festgestellt.
  • Beispiel 7
  • Eine wärmeempfindliche Zusammensetzung (F) wurde auf ein Substrat unter Verwendung einer Stangenbeschichtungseinrichtung #9 aufgebracht und dann 4 Minuten lang bei 60°C getrocknet, wodurch zwei wärmeempfindliche lithographische Druckplatten (F-1) erhalten wurden, die jeweils eine 2 μm-dicke wärmeempfindliche Schicht hatten.
  • Nachdem eine wärmeempfindliche lithographische Druckplatte (F-1) durch Zerschneiden halbiert worden war, wurde der Kontaktwinkel eines Stücks so wie er war gemessen, während der Kontaktwinkel eines weiteren Stücks nach dem 3-minütigen Erhitzen auf 150°C und dem Abkühlen gemessen wurde. Der Fortschreitrandwinkel (θf1) vor dem Erhitzen war 106,8° und der Rückzugsrandwinkel (θh1) war 26,6°, während der Rückzugsrandwinkel (θh2) nach dem Erhitzen 58,0° betrug und damit größer war als der Rückzugsrandwinkel (θh1) vor dem Erhitzen. Die Differenz des Rückzugsrandwinkels vor und nach dem Erhitzen (θh2 – θh1) betrug 31,4°.
  • Unter Verwendung einer weiteren wärmeempfindlichen lithographischen Druckplatte (F-1) wurde ein latentes Bild in der gleichen Art und Weise wie in Beispiel 3 erzeugt. Die wärmeempfindliche lithographische Druckplatte wurde durch 25 Sekunden langes Eintauchen in eine 1:49-Wasser-verdünnte Lösung (pH 13,1) einer Entwicklungslösung mit 30°C entwickelt, mit Wasser gewaschen und dann getrocknet, wodurch eine Pressplatte bzw. Druckplatte erhalten wurde. Die resultierende Pressplatte bzw. Druckplatte hatte eine Auflösung von 1 bis 98%. Die Pressplatte bzw. Druckplatte wurde einem beschleunigten Druckbeständigkeitstest (20.000 Blätter) unterworfen. Als Ergebnis wurde keine Abnormalität der resultierenden Pressplatte bzw. Druckplatte festgestellt, obgleich in der resultierenden Pressplatte bzw. Druckplatte nach dem Drucken von 15.000 Blättern leichte Kratzer beobachtet wurden.
  • Beispiel 8
  • Eine wärmeempfindliche Zusammensetzung (G) wurde unter Verwendung einer Stangenbeschichtungseinrichtung #9 auf ein Substrat aufgebracht und dann 4 Minuten lang bei 60°C getrocknet, wodurch zwei wärmeempfindliche lithographische Druckplatten (G-1) erhalten wurden, die jeweils eine 2 μm-dicke wärmeempfindliche Schicht hatten.
  • Nachdem eine wärmeempfindliche lithographische Druckplatte (G-1) durch Zerschneiden halbiert worden war, wurde der Kontaktwinkel eines Stücks so wie er war gemessen, während der Kontaktwinkel eines weiteren Stücks nach dem 3-minütigen Erhitzen auf 150°C und dem Abkühlen gemessen wurde. Der Fortschreitrandwinkel (θf1) vor dem Erhitzen betrug 76,9° und der Rückzugsrandwinkel (θh1) betrug 42,7°, während der Rückzugsrandwinkel (θh2) nach dem Erhitzen 45,4° betrug und somit größer war als der Rückzugsrandwinkel (θh1) vor dem Erhitzen. Die Differenz des Rückzugsrandwinkels vor und nach dem Erhitzen (θh2 – θh1) betrug 2,7°.
  • Unter Verwendung einer weiteren wärmeempfindlichen lithographischen Druckplatte (G-1) wurde ein latentes Bild in der gleichen Art und Weise wie in Beispiel 3 erzeugt. Die wärmeempfindliche lithographische Druckplatte wurde durch 25 Sekunden langes Eintauchen in eine 1:99-Wasser-verdünnte Lösung (pH-Wert 11,9) einer Entwicklungslösung mit 30°C entwickelt, mit Wasser gewaschen und dann getrocknet, wodurch eine Pressplatte bzw. Druckplatte erhalten wurde. Die resultierende Pressplatte bzw. Druckplatte hatte eine Auflösung von 2 bis 98%. Die Pressplatte bzw. Druckplatte wurde einem beschleunigten Druckbeständigkeitstest (20.000 Blätter) unterworfen. Als Ergebnis wurde keine Abnormalität der resultierenden Pressplatte bzw. Druckplatte beobachtet, obgleich nach dem Drucken von 15.000 Blättern leichte Kratzer in der resultierenden Pressplatte bzw. Druckplatte beobachtet wurden.
  • Vergleichsbeispiel 1
  • Eine wärmeempfindliche Zusammensetzung (H) wurde auf ein Substrat unter Verwendung einer Stangenbeschichtungsein richtung #8 aufgebracht und dann 4 Minuten lang bei 60°C getrocknet, wodurch zwei wärmeempfindliche lithographische Druckplatten erhalten wurden, die jeweils eine 2 μm-dicke wärmeempfindliche Schicht aufwiesen.
  • Nachdem eine wärmeempfindliche lithographische Druckplatte (H-1) durch Zerschneiden halbiert worden war, wurde der Kontaktwinkel eines Stücks so wie er war gemessen, während der Kontaktwinkel eines weiteren Stücks nach dem 3-minütigen Erhitzen auf 150°C und dem Abkühlen gemessen wurde. Der Fortschreitrandwinkel (θf1) vor dem Erhitzen betrug 91,7° und der Rückzugsrandwinkel (θh1) betrug 49,7°, während der Rückzugsrandwinkel (θh2) nach dem Erhitzen 49,5° betrug und damit größer war als der Rückzugsrandwinkel (θh1) vor dem Erhitzen. Die Differenz des Rückzugsrandwinkels vor und nach dem Erhitzen (θh2 – θh1) betrug 0,2°.
  • Die wärmeempfindlichen lithographischen Druckplatten (H-1) vor und nach dem Erhitzen wurden 25 Sekunden lang in eine 1:99-Wasser-verdünnte Lösung einer Entwicklungslösung mit 30°C eingetaucht. Als Ergebnis war keine Quellung oder kein Abblättern bzw. Abschälen der wärmeempfindlichen Schicht erfolgt. Diese Ergebnisse zeigen, dass die wärmeempfindliche Schicht der wärmeempfindlichen lithographischen Druckplatte (H-1) mit der Entwicklungslösung nicht entwickelt werden kann und dass kein Bild erzeugt werden kann.
  • Vergleichsbeispiel 2
  • Eine wärmeempfindliche Zusammensetzung (I) wurde auf ein Substrat unter Verwendung einer Stangenbeschichtungseinrichtung #9 aufgebracht und 4 Minuten lang bei 60°C getrocknet, wodurch zwei wärmeempfindliche lithographische Druckplatten (I-1) erhalten wurden, die jeweils eine 2 μm-dicke wärmeempfindliche Schicht aufwiesen.
  • Nachdem eine wärmeempfindliche lithographische Druckplatte (I-1) durch Zerschneiden halbiert worden war, wurde ein Stück so wie es war gemessen, während der Kontaktwinkel eines weiteren Stücks nach dem 3-minütigen Erhitzen auf 150°C und dem Abkühlen gemessen wurde. Der Fortschreitrandwinkel (θf1) vor dem Erhitzen betrug 116° und der Rückzugsrandwinkel (θh1) betrug 18,7°, während der Rückzugsrandwinkel (θh2) nach dem Erhitzen 18,0° betrug und damit größer war als der Rückzugsrandwinkel (θh1) vor dem Erhitzen. Die Differenz des Rückzugsrandwinkels vor und nach dem Erhitzen (θh2 – θh1) betrug 0,7°.
  • Unter Verwendung einer weiteren wärmeempfindlichen lithographischen Druckplatte (I-1) wurde eine Pressplatte bzw. Druckplatte in der gleichen Art und Weise wie in Beispiel 3 erhalten. Die resultierende Pressplatte bzw. Druckplatte hatte eine Auflösung von 2 bis 98%. Die Pressplatte bzw. Druckplatte wurde einem beschleunigten Druckbeständigkeitstest unterworfen. Als Ergebnis wurden schwere Bilddefekte auf der Oberfläche der wärmeempfindlichen Schicht nach dem Drucktest (3000 Blätter) beobachtet.
  • Vergleichsbeispiel 3
  • Eine wärmeempfindliche Zusammensetzung (J) wurde auf ein Substrat unter Verwendung einer Stangenbeschichtungseinrichtung #9 aufgebracht und dann 4 Minuten lang bei 60°C getrocknet, wodurch zwei wärmeempfindliche lithographische Druckplatten (J-1) erhalten wurden, die jeweils eine 2 μm-dicke wärmeempfindliche Schicht aufwiesen.
  • Nachdem eine wärmeempfindliche lithographische Druckplatte (J-1) durch Zerschneiden halbiert worden war, wurde der Kontaktwinkel eines Stücks so wie er war gemessen, während der Kontaktwinkel eines weiteren Stücks nach dem 3-minütigen Erhitzen auf 150°C und Abkühlen gemessen wurde. Der Fortschreitrandwinkel (θf1) vor dem Erhitzen betrug 68,8° und der Rückzugsrandwinkel (θh1) betrug 7,4°, während der Rückzugsrandwinkel (θh2) nach dem Erhitzen 12,5° betrug und damit größer war als der Rückzugsrandwinkel (θh1) vor dem Erhitzen. Die Differenz des Rückzugsrandwinkels vor und nach dem Erhitzen (θh2 – θh1) betrug 5,1°.
  • Unter Verwendung einer weiteren wärmeempfindlichen lithographischen Druckplatte (J-1) wurde eine Pressplatte bzw. Druckplatte in der gleichen Art und Weise wie in Beispiel 3 erhalten. Die resultierende Pressplatte bzw. Druckplatte hatte eine Auflösung von 5 bis 98%. Die Pressplatte bzw. Druckplatte wurde einem beschleunigten Druckbeständigkeitstest unterworfen. Als Ergebnis wurden schwere Bilddefekte auf der Oberfläche der wärmeempfindlichen Schicht nach dem Drucktest (5000 Blätter) beobachtet.
  • Vergleichsbeispiel 4
  • Eine wärmeempfindliche Zusammensetzung (K) wurde auf ein Substrat unter Verwendung einer Stangenbeschichtungseinrichtung #8 aufgebracht und 4 Minuten lang bei 60°C getrocknet, wodurch zwei wärmeempfindliche lithographische Druckplatten (K-1) erhalten wurden, die jeweils eine 2 μm-dicke wärmeempfindliche Schicht hatten.
  • Nachdem eine wärmeempfindliche lithographische Druckplatte (K-1) durch Zerschneiden halbiert worden war, wurde der Kontaktwinkel eines Stücks so wie er war gemessen, während der Kontaktwinkel eines weiteren Stücks nach dem 3-minütigen Erhitzen auf 150°C und dem Abkühlen gemessen wurde. Der Fortschreitrandwinkel (θf1) vor dem Erhitzen betrug 14,7° und der Rückzugsrandwinkel (θh1) betrug 6,2°, während der Rückzugsrandwinkel (θh2) nach dem Erhitzen 6,5° betrug und somit größer war als der Rückzugsrandwinkel (θh1) vor dem Erhitzen. Die Differenz des Rückzugsrandwinkels vor und nach dem Erhitzen (θh2 – θh1) betrug 0,3°.
  • Nachdem eine weitere wärmeempfindliche lithographische Druckplatte (K-1) durch Zerschneiden halbiert worden war, wurde ein Stück nicht erhitzt, während ein weiteres Stück 3 Minuten lang auf 150°C erhitzt wurde. Die nichterhitzte wärmeempfindliche lithographische Druckplatte wurde 25 Sekunden lang bei 30°C in eine 1:99-Wasser-verdünnte Lösung einer Entwicklungslösung eingetaucht. Als Ergebnis war die gesamte wärmeempfindliche Schicht aufgelöst worden. Die Ergebnisse zeigen, dass die wärmeempfindliche Schicht der wärmeempfindlichen lithographischen Druckplatte (K-1) nicht dazu imstande ist, durch Erhitzen ein Bild zu erzeugen.
  • Vergleichsbeispiel 5
  • Eine wärmeempfindliche Zusammensetzung (L) wurde auf ein Substrat unter Verwendung einer Stangenbeschichtungseinrichtung #20 aufgebracht und dann 4 Minuten lang bei 60°C getrocknet, wodurch zwei wärmeempfindliche lithographische Druckplatten (L-1), die jeweils eine 2 μm-dicke wärmeempfindliche Schicht aufwiesen, erhalten wurden.
  • Nachdem eine wärmeempfindliche lithographische Druckplatte (L-1) durch Zerschneiden halbiert worden war, wurde der Kontaktwinkel eines Stücks so wie er war gemessen und der Kontaktwinkel eines weiteren Stücks nach dem 3-minütigen Erhitzen auf 150°C und dem Abkühlen gemessen wurde. Der Fortschreitrandwinkel (θf1) vor dem Erhitzen betrug 77,6° und der Rückzugsrandwinkel (θh1) betrug 22,2°, während der Rückzugsrandwinkel (θh2) nach dem Erhitzen 22,3° betrug und damit größer war als der Rückzugsrandwinkel (θh1) vor dem Erhitzen. Die Differenz des Rückzugsrandwinkels vor und nach dem Erhitzen (θh2 – θh1) betrug 0,1°.
  • Unter Verwendung einer weiteren wärmeempfindlichen lithographischen Druckplatte (L-1) wurde eine Pressplatte bzw. Druckplatte in der gleichen Art und Weise wie in Beispiel 2 erhalten. Die Pressplatte bzw. Druckplatte wurde einem beschleunigten Druckbeständigkeitstest unterworfen. Als Ergebnis wurden schwere Bilddefekte auf der Oberfläche der wärmeempfindlichen Schicht nach dem Drucktest (3000 Blätter) beobachtet.
  • Vergleichsbeispiel 6
  • Eine wärmeempfindliche Zusammensetzung (M) wurde auf ein Substrat unter Verwendung einer Stangenbeschichtungseinrichtung #20 aufgebracht und dann 4 Minuten lang bei 60°C getrocknet, wodurch zwei wärmeempfindliche lithographische Druckplatten (M-1) erhalten wurden, die jeweils eine 2 μm-dicke wärmeempfindliche Schicht aufwiesen.
  • Nachdem eine wärmeempfindliche lithographische Druckplatte (M-1) durch Zerschneiden halbiert worden war, wurde der Kontaktwinkel eines Stücks so wie er war gemessen, während der Kontaktwinkel eines weiteren Stücks nach dem 3-minütigen Erhitzen auf 150°C und dem Abkühlen gemessen wurde. Der Fortschreitrandwinkel (θf1) vor dem Erhitzen betrug 117,9° und der Rückzugsrandwinkel (θh1) betrug 29,7°, während der Rückzugsrandwinkel (θh2) nach dem Erhitzen 63,2° betrug und damit größer war als der Rückzugsrandwinkel (θh1) vor dem Erhitzen. Die Differenz des Rückzugsrandwinkels vor und nach dem Erhitzen (gh2 – θh1) betrug 33,5°.
  • Unter Verwendung einer weiteren wärmeempfindlichen lithographischen Druckplatte (M-1) wurde ein latentes Bild in der gleichen Art und Weise wie in Beispiel 3 erzeugt. Die wärmeempfindliche lithographische Druckplatte wurde durch 40 Sekunden langes Eintauchen in eine 1:49-Wasser-verdünnte Lösung (pH-Wert 13,1) einer Entwicklungslösung mit 30°C entwickelt, mit Wasser gewaschen und dann getrocknet, wodurch eine Pressplatte bzw. Druckplatte erhalten wurde. Die resultierende Pressplatte bzw. Druckplatte hatte eine Auflösung von 2 bis 95%. Die Pressplatte bzw.
  • Druckplatte wurde einem beschleunigten Druckbeständigkeitstest unterworfen. Als Ergebnis wurden Bilddefekte auf der Oberfläche der wärmeempfindlichen Schicht nach dem Drucktest (3000 Blätter) beobachtet.
  • Figure 00620001
  • Figure 00630001

Claims (8)

  1. Wärmeempfindliche lithographische Druckplatte, umfassend ein Substrat, das eine hydrophile Oberfläche aufweist und eine wärmeempfindliche Schicht, hergestellt aus einem alkalilöslichen Polymeren, die auf der Oberfläche des Substrats gebildet worden ist, wobei der Fortschreitrandwinkel (θf1) der Oberfläche der wärmeempfindlichen Schicht mit Wasser von 25°C in einem Bereich von 70° bis 110° liegt, der Rückzugsrandwinkel (θh2) der Oberfläche der wärmeempfindlichen Schicht mit Wasser von 25°C nach dem 3-minütigen Erhitzen auf 150°C größer ist als der Rückzugsrandwinkel (θh1) der Oberfläche der wärmeempfindlichen Schicht mit Wasser von 25°C vor dem Erhitzen und wobei der Unterschied des Rückzugsrandwinkels vor und nach dem Erhitzen (θh2 – θh1) größer als 1° und kleiner als 40° ist.
  2. Wärmeempfindliche lithographische Druckplatte nach Anspruch 1, wobei der Rückzugsrandwinkel (θh1) im Bereich von 5° bis 50° liegt und der Rückzugsrandwinkel (θh2) im Bereich von 30° bis 60° liegt.
  3. Wärmeempfindliche lithographische Druckplatte nach Anspruch 1, wobei das alkalilösliche Polymere ein Copolymeres aus einem Monomeren, das eine Carboxylgruppe aufweist, und einem hydrophoben Monomeren ist und wobei die wärmeempfindliche Schicht dadurch gebildet worden ist, dass eine wärmeempfindliche Zusammensetzung, hergestellt durch Auflösen des Copolymeren in einer wässrigen alkalischen Lösung, auf die Oberfläche des Substrats aufgebracht wor den ist und die wärmeempfindliche Zusammensetzung getrocknet worden ist.
  4. Wärmeempfindliche lithographische Druckplatte nach Anspruch 3, wobei das alkalilösliche Polymere eine Säurezahl von 40 bis 500 und ein gewichtsmittleres Molekulargewicht von 5000 bis 200.000 hat.
  5. Wärmeempfindliche lithographische Druckplatte nach Anspruch 3, wobei das Monomere, das eine Carboxylgruppe aufweist, Acrylsäure oder Methacrylsäure ist und wobei das hydrophobe Monomere mindestens ein Monomeres, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus Styrol, Styrolderivaten und Methylmethacrylat, ist.
  6. Wärmeempfindliche lithographische Druckplatte nach Anspruch 3, wobei das Monomere, das eine Carboxylgruppe aufweist, Acrylsäure ist, das hydrophobe Monomere Styrol ist und das Gewichtsverhältnis von Acrylsäure zu Styrol im Bereich von 40:60 bis 15:85 liegt.
  7. Wärmeempfindliche lithographische Druckplatte nach Anspruch 3, wobei das Monomere, das eine Carboxylgruppe aufweist, Acrylsäure ist, das hydrophobe Monomere Methylmethacrylat ist und das Gewichtsverhältnis von Acrylsäure zu Methylmethacrylat im Bereich von 14:86 bis 5:95 liegt.
  8. Verfahren zur Erzeugung eines Bildes, umfassend die Erzeugung von einem latenten Bild auf einer wärmeempfindlichen Schicht der wärmeempfindlichen lithographischen Druckplatte nach Anspruch 1 unter Verwendung von Hitze, die durch Bestrahlung mit Laserlicht erzeugt worden ist, und die Entwicklung der wärmeempfindlichen Schicht unter Verwendung einer alkalischen Entwicklungslösung mit einem pH-Wert von 9 bis 14.
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