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2016-11-08 |
2018-09-18 |
Lam Research Corporation |
Ceramic electrostatic chuck including embedded Faraday cage for RF delivery and associated methods for operation, monitoring, and control
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JP6955904B2
(ja)
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2017-05-26 |
2021-10-27 |
東京エレクトロン株式会社 |
基板処理装置
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US11289355B2
(en)
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2017-06-02 |
2022-03-29 |
Lam Research Corporation |
Electrostatic chuck for use in semiconductor processing
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CN116581081A
(zh)
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2017-09-29 |
2023-08-11 |
住友大阪水泥股份有限公司 |
静电卡盘装置
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TWI735364B
(zh)
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2018-07-30 |
2021-08-01 |
日商Toto股份有限公司 |
靜電吸盤
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US11410867B2
(en)
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2018-07-30 |
2022-08-09 |
Toto Ltd. |
Electrostatic chuck
|
JP6587223B1
(ja)
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2018-07-30 |
2019-10-09 |
Toto株式会社 |
静電チャック
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US11328906B2
(en)
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2018-07-30 |
2022-05-10 |
Toto Ltd. |
Electrostatic chuck
|
CN110783162B
(zh)
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2018-07-30 |
2024-02-13 |
Toto株式会社 |
静电吸盘
|
TWI819046B
(zh)
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2018-08-02 |
2023-10-21 |
日商創意科技股份有限公司 |
靜電吸附體
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DE102019101657A1
(de)
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2019-01-23 |
2020-07-23 |
Berliner Glas Kgaa Herbert Kubatz Gmbh & Co |
Haltevorrichtung zur elektrostatischen Halterung eines Bauteils mit einem durch Diffusionsbonden gefügten Grundkörper und Verfahren zu deren Herstellung
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JP7110482B2
(ja)
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2019-03-18 |
2022-08-01 |
日本碍子株式会社 |
静電チャック
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JP6705550B1
(ja)
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2019-03-22 |
2020-06-03 |
Toto株式会社 |
静電チャック
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JP6873178B2
(ja)
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2019-03-26 |
2021-05-19 |
日本碍子株式会社 |
半導体製造装置用部材、その製法及び成形型
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US20210159048A1
(en)
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2019-11-25 |
2021-05-27 |
Applied Materials, Inc. |
Dual rf for controllable film deposition
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