DE60120282D1 - Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung eines Artikels und damit hergestellter Artikel - Google Patents

Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung eines Artikels und damit hergestellter Artikel

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Families Citing this family (41)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6563567B1 (en) * 1998-12-17 2003-05-13 Nikon Corporation Method and apparatus for illuminating a surface using a projection imaging apparatus
KR20010085493A (ko) * 2000-02-25 2001-09-07 시마무라 기로 노광장치, 그 조정방법, 및 상기 노광장치를 이용한디바이스 제조방법
DE10108254A1 (de) * 2001-02-21 2002-08-22 Leica Microsystems Optische Betrachtungseinrichtung mit Vorrichtung zur partiellen Reduktion der Intensität der Beleuchtung
TW554411B (en) * 2001-08-23 2003-09-21 Nikon Corp Exposure apparatus
US7006295B2 (en) * 2001-10-18 2006-02-28 Asml Holding N.V. Illumination system and method for efficiently illuminating a pattern generator
US6813003B2 (en) * 2002-06-11 2004-11-02 Mark Oskotsky Advanced illumination system for use in microlithography
US7079321B2 (en) * 2001-10-18 2006-07-18 Asml Holding N.V. Illumination system and method allowing for varying of both field height and pupil
KR100431883B1 (ko) * 2001-11-05 2004-05-17 삼성전자주식회사 노광방법 및 투영 노광 장치
TW567406B (en) * 2001-12-12 2003-12-21 Nikon Corp Diffraction optical device, refraction optical device, illuminating optical device, exposure system and exposure method
US7170587B2 (en) * 2002-03-18 2007-01-30 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7333178B2 (en) * 2002-03-18 2008-02-19 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US6963390B1 (en) * 2002-07-19 2005-11-08 Litel Instruments In-situ interferometer arrangement
JP4307041B2 (ja) * 2002-09-20 2009-08-05 株式会社 液晶先端技術開発センター 結晶化装置および結晶化方法
JP4230187B2 (ja) 2002-09-25 2009-02-25 シャープ株式会社 マイクロレンズアレイの製造方法およびマイクロレンズアレイの製造装置
US7511886B2 (en) * 2003-05-13 2009-03-31 Carl Zeiss Smt Ag Optical beam transformation system and illumination system comprising an optical beam transformation system
SG118283A1 (en) * 2003-06-20 2006-01-27 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method
US8064730B2 (en) * 2003-09-22 2011-11-22 Asml Netherlands B.V. Device manufacturing method, orientation determination method and lithographic apparatus
JP4599936B2 (ja) * 2004-08-17 2010-12-15 株式会社ニコン 照明光学装置、照明光学装置の調整方法、露光装置、および露光方法
US7642037B2 (en) 2004-08-27 2010-01-05 Searete, Llc Integrated circuit lithography
US7315351B2 (en) * 2004-10-28 2008-01-01 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured therewith
DE102005004216A1 (de) * 2005-01-29 2006-08-03 Carl Zeiss Smt Ag Beleuchtungssystem, insbesondere für eine Projektionsbelichtungsanlage in der Halbleiterlithographie
WO2006097135A1 (en) * 2005-03-15 2006-09-21 Carl Zeiss Smt Ag Projection exposure method and projection exposure system therefor
US7535644B2 (en) * 2005-08-12 2009-05-19 Asml Netherlands B.V. Lens element, lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby
US7332733B2 (en) * 2005-10-05 2008-02-19 Asml Netherlands B.V. System and method to correct for field curvature of multi lens array
EP1941313B1 (de) * 2005-10-27 2014-12-03 Yale University Optisches system zur beleuchtung eines abklingenden felds
CN102314096B (zh) * 2006-02-17 2014-05-21 卡尔蔡司Smt有限责任公司 制造长的微透镜阵列的方法
TWI545352B (zh) 2006-02-17 2016-08-11 卡爾蔡司Ｓｍｔ有限公司 用於微影投射曝光設備之照明系統
US8071136B2 (en) 2006-04-21 2011-12-06 Bioactives, Inc. Water-soluble pharmaceutical compositions of hops resins
JP5550805B2 (ja) 2006-07-18 2014-07-16 エルジー・ケム・リミテッド 安定した電極リード−電極タブ結合部を有する電極組立体及びこれを備えた電気化学セル
DE102007049133A1 (de) * 2007-02-13 2008-08-21 Vistec Semiconductor Systems Gmbh Vorrichtung zur Bestimmung der Position mindestens einer Struktur auf einem Objekt, Verwendung einer Beleuchtungseinrichtung für die Vorrichtung und Verwendung von Schutzgas für die Vorrichtung
US8582113B2 (en) 2007-02-13 2013-11-12 Kla-Tencor Mie Gmbh Device for determining the position of at least one structure on an object, use of an illumination apparatus with the device and use of protective gas with the device
JP5035747B2 (ja) * 2007-03-16 2012-09-26 株式会社ニコン オプティカルインテグレータ、照明光学装置、露光装置、およびデバイス製造方法
US7843549B2 (en) * 2007-05-23 2010-11-30 Asml Holding N.V. Light attenuating filter for correcting field dependent ellipticity and uniformity
DE102008040742A1 (de) * 2007-08-02 2009-02-05 Carl Zeiss Smt Ag Verfahren und Vorrichtung zur Überwachung von Mehrfachspiegelanordnungen, optische Anordnung mit einer derartigen Vorrichtung sowie mit einer zweiten Mehrfachspiegelanordnung zum Ein- und Ausschalten einer ersten Mehrfachspiegelanordnung sowie Beleuchtungsoptik für eine Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen Vorrichtung
DE102008011501A1 (de) 2008-02-25 2009-08-27 Carl Zeiss Smt Ag Verfahren zum Betreiben eines Beleuchtungssystems einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
US8045250B1 (en) * 2008-11-18 2011-10-25 Kla-Tencor Corporation Optical scanning using rotating parallel plate
JP5473350B2 (ja) * 2009-02-13 2014-04-16 キヤノン株式会社 照明光学系、露光装置及びデバイスの製造方法
WO2011012148A1 (en) * 2009-07-31 2011-02-03 Carl Zeiss Smt Gmbh Optical beam deflecting element and method of adjustment
JP5853343B2 (ja) * 2011-07-29 2016-02-09 株式会社ブイ・テクノロジー マイクロレンズアレイを使用したスキャン露光装置
US9476520B2 (en) 2013-03-14 2016-10-25 Hanon Systems HVAC door with intersecting surface configurations
JP6703612B2 (ja) * 2016-02-26 2020-06-03 エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． 構造を測定する方法、検査装置、リソグラフィシステム、およびデバイス製造方法

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3209218B2 (ja) * 1991-12-27 2001-09-17 株式会社ニコン 投影露光装置及び方法、並びに素子製造方法
JPH05231817A (ja) * 1992-02-25 1993-09-07 Nikon Corp 露光装置
JP3295956B2 (ja) * 1992-03-05 2002-06-24 株式会社ニコン 露光装置及び半導体素子の製造方法
DE69418131D1 (de) * 1993-03-01 1999-06-02 Gen Signal Corp Vorrichtung zur erzeugung einer einstellbaren ringförmigen beleuchtung für einen photolithograpischen projektionsapparat
EP0658810B1 (de) * 1993-12-13 1998-11-25 Carl Zeiss Beleuchtungseinrichtung für ein optisches System mit einem Reticle-Maskierungssystem
US6285443B1 (en) * 1993-12-13 2001-09-04 Carl-Zeiss-Stiftung Illuminating arrangement for a projection microlithographic apparatus
DE19520563A1 (de) 1995-06-06 1996-12-12 Zeiss Carl Fa Beleuchtungseinrichtung für ein Projektions-Mikrolithographie-Gerät
EP0687956B2 (de) 1994-06-17 2005-11-23 Carl Zeiss SMT AG Beleuchtungseinrichtung
KR960008501A (ko) * 1994-08-02 1996-03-22 신동율 수첩형 골프 정보 데이타 베이스 및 화면 표시장치
US5631721A (en) * 1995-05-24 1997-05-20 Svg Lithography Systems, Inc. Hybrid illumination system for use in photolithography
JPH09223661A (ja) * 1996-02-15 1997-08-26 Nikon Corp 露光装置
WO1997031298A1 (en) * 1996-02-23 1997-08-28 Asm Lithography B.V. Illumination unit for an optical apparatus
JP3262039B2 (ja) * 1997-07-18 2002-03-04 キヤノン株式会社 露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法
DE19809395A1 (de) * 1998-03-05 1999-09-09 Zeiss Carl Fa Beleuchtungssystem und REMA-Objektiv mit Linsenverschiebung und Betriebsverfahren dafür
JP4051473B2 (ja) * 1998-12-17 2008-02-27 株式会社ニコン 照明光学装置および該照明光学装置を備えた露光装置
US6392742B1 (en) * 1999-06-01 2002-05-21 Canon Kabushiki Kaisha Illumination system and projection exposure apparatus
US6476905B1 (en) * 2000-01-20 2002-11-05 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Step and scan exposure system equipped with a plurality of attenuator blades for exposure control
DE10043315C1 (de) * 2000-09-02 2002-06-20 Zeiss Carl Projektionsbelichtungsanlage

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US6583855B2 (en) 2003-06-24
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KR100554253B1 (ko) 2006-02-24
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