DE60104765D1 - Photomaskenrohling und Photomaske - Google Patents

Photomaskenrohling und Photomaske

Info

Publication number
DE60104765D1
DE60104765D1 DE60104765T DE60104765T DE60104765D1 DE 60104765 D1 DE60104765 D1 DE 60104765D1 DE 60104765 T DE60104765 T DE 60104765T DE 60104765 T DE60104765 T DE 60104765T DE 60104765 D1 DE60104765 D1 DE 60104765D1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
photomask
blank
photomask blank
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
DE60104765T
Other languages
English (en)
Other versions
DE60104765T2 (de
Inventor
Hideo Kaneko
Yukio Inazuki
Satoshi Okazaki
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Publication of DE60104765D1 publication Critical patent/DE60104765D1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE60104765T2 publication Critical patent/DE60104765T2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/50—Mask blanks not covered by G03F1/20 - G03F1/34; Preparation thereof
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/38—Masks having auxiliary features, e.g. special coatings or marks for alignment or testing; Preparation thereof
    • G03F1/46—Antireflective coatings
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/54—Absorbers, e.g. of opaque materials

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
DE60104765T 2000-04-25 2001-04-23 Photomaskenrohling und Photomaske Expired - Lifetime DE60104765T2 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000124276 2000-04-25
JP2000124276A JP2001305713A (ja) 2000-04-25 2000-04-25 フォトマスク用ブランクス及びフォトマスク

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE60104765D1 true DE60104765D1 (de) 2004-09-16
DE60104765T2 DE60104765T2 (de) 2005-09-15

Family

ID=18634427

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE60104765T Expired - Lifetime DE60104765T2 (de) 2000-04-25 2001-04-23 Photomaskenrohling und Photomaske

Country Status (6)

Country Link
US (1) US6589699B2 (de)
EP (1) EP1152291B1 (de)
JP (1) JP2001305713A (de)
KR (1) KR100596110B1 (de)
DE (1) DE60104765T2 (de)
TW (1) TW509819B (de)

Families Citing this family (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002244274A (ja) 2001-02-13 2002-08-30 Shin Etsu Chem Co Ltd フォトマスクブランク、フォトマスク及びこれらの製造方法
JP3645882B2 (ja) * 2002-03-01 2005-05-11 Ｈｏｙａ株式会社 ハーフトーン型位相シフトマスクブランクの製造方法
JP4917156B2 (ja) * 2002-03-29 2012-04-18 Ｈｏｙａ株式会社 マスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法
JPWO2004083961A1 (ja) * 2003-03-20 2006-06-22 Hoya株式会社 レチクル用基板およびその製造方法、並びにマスクブランクおよびその製造方法
US7264908B2 (en) * 2003-05-16 2007-09-04 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Photo mask blank and photo mask
CN1983028B (zh) 2003-09-29 2012-07-25 Hoya株式会社 掩膜坯及变换掩膜的制造方法
US6974652B1 (en) 2003-11-03 2005-12-13 Advanced Micro Devices, Inc. Lithographic photomask and method of manufacture to improve photomask test measurement
TW200609666A (en) * 2004-07-09 2006-03-16 Hoya Corp Photomask blank, photomask manufacturing method and semiconductor device manufacturing method
JP2006078825A (ja) 2004-09-10 2006-03-23 Shin Etsu Chem Co Ltd フォトマスクブランクおよびフォトマスクならびにこれらの製造方法
KR100848815B1 (ko) * 2004-11-08 2008-07-28 엘지마이크론 주식회사 하프톤 마스크 및 그 제조방법 및 이를 이용한평판패널디스플레이
JP4933754B2 (ja) * 2005-07-21 2012-05-16 信越化学工業株式会社 フォトマスクブランクおよびフォトマスクならびにこれらの製造方法
JP4933753B2 (ja) * 2005-07-21 2012-05-16 信越化学工業株式会社 位相シフトマスクブランクおよび位相シフトマスクならびにこれらの製造方法
DE602006021102D1 (de) 2005-07-21 2011-05-19 Shinetsu Chemical Co Photomaskenrohling, Photomaske und deren Herstellungsverfahren
JP5009590B2 (ja) * 2006-11-01 2012-08-22 Ｈｏｙａ株式会社 マスクブランクの製造方法及びマスクの製造方法
JP4372178B2 (ja) * 2007-04-27 2009-11-25 株式会社東芝 光反射型マスクと光反射型マスクの作製方法及び半導体装置の製造方法
TWI497190B (zh) * 2008-03-31 2015-08-21 Hoya Corp 空白光罩、光罩及空白光罩之製造方法
JP5562835B2 (ja) 2008-03-31 2014-07-30 Ｈｏｙａ株式会社 フォトマスクブランク、フォトマスクおよびフォトマスクブランクの製造方法
US8968972B2 (en) 2010-11-22 2015-03-03 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Photomask blank, process for production of photomask, and chromium-containing material film
WO2012086744A1 (ja) * 2010-12-24 2012-06-28 Hoya株式会社 マスクブランク及びその製造方法、並びに転写用マスク及びその製造方法
JP5916447B2 (ja) * 2012-03-14 2016-05-11 Hoya株式会社 マスクブランクの製造方法及び転写用マスクの製造方法
KR20140129295A (ko) * 2012-03-27 2014-11-06 후지필름 가부시키가이샤 감활성 광선성 또는 감방사선성 조성물, 그것을 사용한 레지스트막, 레지스트 도포 마스크 블랭크스, 레지스트 패턴 형성 방법, 및 포토마스크
JP2012159855A (ja) * 2012-04-23 2012-08-23 Hoya Corp マスクブランクの製造方法及びマスクの製造方法
JP6544964B2 (ja) * 2015-03-31 2019-07-17 Hoya株式会社 マスクブランク、位相シフトマスクの製造方法、及び、半導体デバイスの製造方法
JP6158460B1 (ja) 2015-11-06 2017-07-05 Hoya株式会社 マスクブランク、位相シフトマスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法
JP6396611B2 (ja) 2016-02-15 2018-09-26 Hoya株式会社 マスクブランク、位相シフトマスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法
JP6998181B2 (ja) * 2017-11-14 2022-02-04 アルバック成膜株式会社 マスクブランク、位相シフトマスクおよびその製造方法
JP6528877B2 (ja) * 2018-03-14 2019-06-12 信越化学工業株式会社 フォトマスクブランクの製造方法
JP6988697B2 (ja) * 2018-05-31 2022-01-05 信越化学工業株式会社 フォトマスクブランク、フォトマスクの製造方法及びフォトマスク
JP7356857B2 (ja) * 2019-09-30 2023-10-05 アルバック成膜株式会社 マスクブランクス及びフォトマスク
JP7280171B2 (ja) * 2019-12-05 2023-05-23 信越化学工業株式会社 フォトマスクブランク、フォトマスクの製造方法及びフォトマスク
CN116783548A (zh) 2021-01-26 2023-09-19 豪雅株式会社 掩模坯料、转印用掩模的制造方法以及半导体器件的制造方法

Family Cites Families (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57104141A (en) 1980-12-22 1982-06-29 Dainippon Printing Co Ltd Photomask and photomask substrate
JPS57151945A (en) 1981-03-17 1982-09-20 Hoya Corp Photomask blank and its manufacture
US4657648A (en) 1981-03-17 1987-04-14 Osamu Nagarekawa Method of manufacturing a mask blank including a modified chromium compound
US4374912A (en) 1981-03-31 1983-02-22 Dai Nippon Insatsu Kabushiki Kaisha Photomask and photomask blank
JPS58195846A (ja) * 1982-05-10 1983-11-15 Konishiroku Photo Ind Co Ltd クロムマスク素材
US4563407A (en) 1982-11-16 1986-01-07 Hoya Corporation Photo-mask blank comprising a shading layer having a variable etch rate
JPS6146821A (ja) 1984-08-10 1986-03-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd 電気スト−ブ
JPS6227386A (ja) 1985-07-24 1987-02-05 日本セメント株式会社 プレキヤスト角型製品のひびわれ防止方法
JPS6227387A (ja) 1985-07-24 1987-02-05 ダイセル化学工業株式会社 スレ−ト用被覆樹脂組成物
JPS6232782A (ja) 1985-08-06 1987-02-12 Sony Corp 変調装置
JPS6237385A (ja) 1985-08-09 1987-02-18 Sumitomo Heavy Ind Ltd 連続酸洗ラインにおける酸洗槽
JPS62163053A (ja) * 1986-01-14 1987-07-18 Asahi Glass Co Ltd フオトマスクブランクおよびフオトマスク
JPH02212843A (ja) * 1989-02-14 1990-08-24 Toppan Printing Co Ltd フオトマスクブランク、フオトマスクおよびその製法
JP3041802B2 (ja) * 1990-04-27 2000-05-15 ホーヤ株式会社 フォトマスクブランク及びフォトマスク
JPH0463349A (ja) * 1990-07-03 1992-02-28 Toppan Printing Co Ltd フォトマスクブランクおよびフォトマスク
JPH04125643A (ja) * 1990-09-18 1992-04-27 Toppan Printing Co Ltd フォトマスクおよびフォトマスクブランク
JPH04371955A (ja) * 1991-06-20 1992-12-24 Toppan Printing Co Ltd フォトマスクブランク及びフォトマスク
JPH05289305A (ja) * 1992-04-08 1993-11-05 Dainippon Printing Co Ltd 位相シフトフォトマスク
JPH0695362A (ja) * 1992-09-10 1994-04-08 Toppan Printing Co Ltd フォトマスクブランク
JP3262302B2 (ja) * 1993-04-09 2002-03-04 大日本印刷株式会社 位相シフトフォトマスク、位相シフトフォトマスク用ブランクス及びそれらの製造方法
KR100295385B1 (ko) * 1993-04-09 2001-09-17 기타지마 요시토시 하프톤위상쉬프트포토마스크,하프톤위상쉬프트포토마스크용블랭크스및이들의제조방법
KR100311704B1 (ko) * 1993-08-17 2001-12-15 기타오카 다카시 하프톤위상쉬프트포토마스크,하프톤위상쉬프트포토마스크용블랭크스및그블랭크스의제조방법
JPH07220992A (ja) * 1994-01-28 1995-08-18 Toppan Printing Co Ltd Ｘ線露光用マスク及びその製造に用いるｘ線露光用マスクブランク
JPH09146259A (ja) * 1995-08-29 1997-06-06 Ricoh Opt Ind Co Ltd グラデーションマスクとその製造方法およびグラデーションマスクを用いた特殊表面形状の創成方法
US6899979B1 (en) * 1998-07-31 2005-05-31 Hoyo Corporation Photomask blank, photomask, methods of manufacturing the same, and method of forming micropattern
US6511778B2 (en) * 2000-01-05 2003-01-28 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Phase shift mask blank, phase shift mask and method of manufacture
ATE257251T1 (de) * 2000-01-12 2004-01-15 Shinetsu Chemical Co Rohling für phasenschiebermaske, phasenschiebermaske, und herstellungsverfahren
TW480367B (en) * 2000-02-16 2002-03-21 Shinetsu Chemical Co Photomask blank, photomask and method of manufacture

Also Published As

Publication number Publication date
KR20010098810A (ko) 2001-11-08
EP1152291B1 (de) 2004-08-11
US20010044054A1 (en) 2001-11-22
US6589699B2 (en) 2003-07-08
EP1152291A2 (de) 2001-11-07
KR100596110B1 (ko) 2006-07-05
TW509819B (en) 2002-11-11
JP2001305713A (ja) 2001-11-02
DE60104765T2 (de) 2005-09-15
EP1152291A3 (de) 2002-05-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE60104765D1 (de) Photomaskenrohling und Photomaske
DE60106186D1 (de) Photomaskenrohling und Photomaske
DE50112013D1 (de) Deodorantien und antiperspirantien
DE60233192D1 (de) Hydrophobe und lipophobe zusammensetzung
DE60139930D1 (de) Desinfizieruns- und desodorierungsverfahren
DE60121132D1 (de) Vollsperrendes momentabhängiges differential
DE60038110D1 (de) Dämpfer und herstellungsmethode dafür
DE60143113D1 (de) Toner und herstellungsverfahren
DE60140315D1 (de) Flexible matrize und herstellungsverfahren dafür
DE60216881D1 (de) Schlupfbegrenztes Differential
DE60144553D1 (de) Tuner und Abstimmgerät
DE60120608D1 (de) Behälteranordnung und Behälter
DE60117096D1 (de) Dihydroindol- und tetrahydrochinolinderivate
FI20000432A (fi) Putkiliitos
FI20000433A0 (fi) Putkiliitos
DE60105146D1 (de) Ausgleichsgetriebe
DE60219418D1 (de) Silanylphenole und -naphthole
DE60017876D1 (de) Müllverbrennungsofen
ES1049942Y (es) Pareja de zocalo y portalamparas.
DE60042847D1 (de) Photovervielfacherröhre und herstellungsverfahren dafür
SE0003308D0 (sv) Styrt differential
UA4543S (uk) Монограма
DE60026547D1 (de) Lötverfahren und lötstelle
UA4014S (uk) Емблема
UA4358S (uk) Емблема

Legal Events

Date Code Title Description
8364 No opposition during term of opposition