JPS6232782A - 変調装置 - Google Patents

変調装置

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Publication number
JPS6232782A
JPS6232782A JP60172805A JP17280585A JPS6232782A JP S6232782 A JPS6232782 A JP S6232782A JP 60172805 A JP60172805 A JP 60172805A JP 17280585 A JP17280585 A JP 17280585A JP S6232782 A JPS6232782 A JP S6232782A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
frequency
modulated wave
amplitude
circuit
level
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP60172805A
Other languages
English (en)
Inventor
Jun Hirai
純 平井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP60172805A priority Critical patent/JPS6232782A/ja
Publication of JPS6232782A publication Critical patent/JPS6232782A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、周波数変調波を伝送するにあたって、サイド
バンドの伝送特性を向上させるべく周波数変調波を振幅
変調する、ビデオテープレコーダの記録系などに用いら
れる、変調装置に関する。
(発明の概要) 本発明は、周波数変調波を伝送するにあたって、サイド
バンドの伝送特性を向上させるべく周波数変調波を振幅
変調する場合において、周波数変調波の振幅変調特性を
非直線的にすることによって、反転現象の発生を抑える
ようにしたものである。
(従来の技術) 周波数変調波を磁気テープに記録する場合に、周波数変
調波を周波数が高いほど振幅が小さくなるように振幅変
調すれば、テープに記録し、テープから再生した際、振
幅変調から位相変調への変換効果により、サイドバンド
が増強されることが知られている。
第5図はこのように周波数変調波を振幅変調してサイド
バンドの伝送特性を向上させる従来の変調装置の例で、
端子11に得られる輝度信号Yがプリ°エンファシス回
路12に供給されて、第4図に示すように高域成分の強
調された輝度信号Yeが得られ、この輝度信号Yeが周
波数変調回路13に供給されて、白レベル側はどキャリ
ア周波数が高くなるように周波数変調され、周波数変調
回路13から輝度信号の一定振幅の周波数変調波Yfが
得られる。そして、この周波数変調波Yfが振幅変調回
路14に供給されて、ブリ・エンファシス回路12から
得られる輝度信号Yeにより、第6同の直線60で示す
ように、輝度信号Yeのレベルが大きく、周波数変調波
Yfの周波数が高いほど、出ツノの周波数変調波Yaの
振幅が小さくなるように、振幅変調される。第6図で、
fwは輝度信号Yeのホワイトピークでの周波数変調波
Yfのキャリア周波数で、例えば5.2MHzにされ、
fsは輝度信号Yeのシンクチップでの周波数変調波Y
fのキャリア周波数で、例えば4.0MHzにされる。
このようにして出力端子15に輝度信号の振幅変調され
た周波数変調波Yaが得られる。
(発明が解決しようとする問題点) しかし、上述のように周波数変調波の振幅変調特性を直
線的にすると、第4図からも明らかなように振幅変調さ
れた出力の周波数変調波Yaは周波数が高いところで振
幅が著しく小さくなるために、記録再生の過程で反転現
象が発生しやすくなる不都合がある。
かかる点に鑑み、本発明は、周波数変調波を伝送するに
あたって、反転現象の発生を抑えながらサイドバンドの
伝送特性を向上させるようにしたものである。
(問題点を解決するための手段) 本発明では、周波数変調波の振幅変調特性を、周波数変
調波の周波数が所定周波数以下のときは、周波数変調波
の周波数が高いほど振幅が小さくなるが、周波数変調波
の周波数が所定周波数以上のときは、逆に周波数変調波
の周波数が高いほど振幅が大きくなり、あるいは周波数
変調波の周波数にかかわらず振幅が一定になるように、
非直線的にする。
(作 用) 上記の構成によれば、振幅変調された出力の周波数変調
波は周波数が高いところで振幅が小さくなりすぎること
がなく、反転余裕を残しながらサイドバンドが増強され
る。
(実施例) 第1図は本発明に係る変調装置の一例で、端子11に得
られる輝度信号Yがブリ・エンファシス回路12に供給
されて、第4図に示すように高域成分の強調された輝度
信号Yeが得られ、この輝度信号Yeが周波数変調回路
13に供給されて、白レベル側はどキャリア周波数が高
くなるように周波数変調されて、周波数変調回路13か
ら輝度信号の一定振幅の周波数変調波Yfが得られ、こ
の周波数変調波Yfが振幅変調回路14に供給される。
一方、ブリ・エンファシス回路12から得られる輝度信
号Yeがレベル調整回路21によりレベル調整されて減
算回路22に供給される。また、輝度信号Yeがスライ
ス回路23に供給されて、第4図の信号Seで示すよう
に輝度信号Yeのホワイトピーク・レベル以上のレベル
の成分がスライスされ、このスライス信号Seがレベル
調整回路24によりレベル調整されて減算回路22に供
給される。そして、減算回路22においてレベル調整回
路21によりレベル調整された輝度信号Yeからレベル
調整回路24によりレベル調整されたスライス信号Se
が減算されて、減算回路22から第4図の曲線1aで示
すように輝度信号Yeのホワイトピーク・レベル以上の
レベルの部分が逆にホワイトピーク・レベル以下のレベ
ルにされた状態の電圧Vcが得られ、この電圧Vcがレ
ベル調整回路25によりレベル調整されて振幅変調回路
14に供給される。
振幅変調回路14は利得制御増幅回路で、レベル調整回
路25によりレベル調整された電圧Vcを利得制御電圧
として、電圧Vcが高いほど利得が小さくなるように利
得が制御され、出力端子15に輝度信号の振幅変調され
た周波数変調波YOが得られる。
従って、輝度信号Yeのレベルがホワイトピーク・レベ
ル以下で、周波数変調波Yfの周波数が所定周波数fw
以下のときは、第3図の実線30で示すように、輝度信
号Yeのレベルが大きく、周波数変調波Yfの周波数が
高いほど、出力の周波数変調波Yoの振幅が小さくなる
が、輝度信号Yeのレベルがホワイトピーク・レベル以
上で、周波数変調波Yfの周波数が所定周波数fw以上
のときは、第3図の実線31で示すように、逆に、輝度
信号Yeのレベルが大きく、周波数変調波Yfの周波数
が高いほど、出力の周波数変調波Y。
の振幅が大きくなる。すなわち、振幅変調された出力の
周波数変調波YOの振幅は、所定周波数fWのところで
最小となり、所定周波数fwを超える周波数のところで
は第4図の曲線1bで示すようにむしろ所定周波数fw
のところでの振幅より大きくなる。
なお、fwは例えば5.2MHzにされる。また、fs
は輝度信号Yeのシンクチップでの周波数変調波Yfの
キャリア周波数で、例えば4.0MHzにされる。
第2図は本発明に係る変調装置の他の例で、この例では
、ブリ・エンファシス回路12がら得られる輝度信号Y
eがリミッタ26に供給されて、リミッタ26から第4
図の直線2aで示すように輝度信号Yeの最大レベルが
ホワイトピーク・レベルに制限された状態の電圧Vcが
得られ、ごの電圧Vcがレベル調整回路27によりレベ
ル調整されて振幅変調回路14に供給されて、利得制御
増幅回路とされた振幅変調回路14の利得が制御される
従って、輝度信号Yeのレベルがホワイトピーク・レベ
ル以下で、周波数変調波Yfの周波数が所定周波数fw
以下のときは、第3図の実線30で示すように、輝度信
号Yeのレベルが大きく、周波数変調波Yfの周波数が
高いほど、出力の周波数変調波Yoの振幅が小さくなる
が、輝度信号Yeのレベルがホワイトピーク・レベル以
上で、周波数変調波Yfの周波数が所定周波数fw以上
のときは、第3図の破線32で示すように、輝度信号Y
eのレベルにかかわらず、すなわち周波数変調波Yfの
周波数にかかわらず、出力の周波数変調波Yoの振幅が
一定になる。すなわち、振幅変調された出力の周波数変
調波Yoの振幅は、所定周波数fwのところで最小とな
り、所定周波数fwを超える周波数のところでも第4図
の直線2bで示すように所定周波数「Wのところでの最
小値を保持する。
(発明の効果) 本発明によれば、周波数変調波の振幅変調特性を、周波
数変調波の周波数が所定周波数以下のときは、周波数変
調波の周波数が高いほど振幅が小さくなるが、周波数変
調波の周波数が所定周波数以上のときは、逆に周波数変
調波の周波数が高いほど振幅が大きくなり、あるいは周
波数変調波の周波数にかかわらず振幅が一定になるよう
に、非直線的にするので、振幅変調された出力の周波数
変調波は周波数が高いところで振幅が小さくなりすぎる
ことがなく、反転余裕を残しながらサイドバンドが増強
され、反転現象の発生が抑えられる状態でサイドバンド
の伝送特性が向上する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る変調装置の一例を示す接続図、第
2図は本発明に係る変調装置の他の例を示す接続図、第
3図は本発明における振幅変調特性を示す図、第4図は
各部の波形を示す図、第5図は従来の変調装置の例を示
す接続図、第6図はその振幅変調特性を示す図である。 図中、11は輝度信号の得られる端子、12はブリ・エ
ンファシス回路、13は周波数変調回路、14は振幅変
調回路、15は出力端子、23はスライス回路、26は
リミッタである。 °、i ¥II)曳施到 第1図 葉芝の束施創 第2図 本物Rpス゛rr1嘉蝙幻彫ヤを 第3図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 信号によりキャリアを周波数変調して上記信号の周波数
    変調波を得る周波数変調回路と、上記周波数変調波を振
    幅変調する振幅変調回路とを備え、上記振幅変調回路で
    の振幅変調特性が、上記周波数変調波の周波数が所定周
    波数以下のときは、上記周波数変調波の周波数が高いほ
    ど振幅が小さくなり、上記周波数変調波の周波数が上記
    所定周波数以上のときは、上記周波数変調波の周波数が
    高いほど振幅が大きくなり、あるいは上記周波数変調波
    の周波数にかかわらず振幅が一定になるように、非直線
    的にされた、 変調装置。
JP60172805A 1985-08-06 1985-08-06 変調装置 Pending JPS6232782A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60172805A JPS6232782A (ja) 1985-08-06 1985-08-06 変調装置

Applications Claiming Priority (1)

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JP60172805A JPS6232782A (ja) 1985-08-06 1985-08-06 変調装置

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JPS6232782A true JPS6232782A (ja) 1987-02-12

Family

ID=15948697

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JP60172805A Pending JPS6232782A (ja) 1985-08-06 1985-08-06 変調装置

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JP (1) JPS6232782A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6503669B2 (en) 2000-02-16 2003-01-07 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Photomask blank, photomask and method of manufacture
US6589699B2 (en) 2000-04-25 2003-07-08 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Photomask blank and photomask
JP2014167650A (ja) * 2005-09-09 2014-09-11 Hoya Corp フォトマスクブランク及びフォトマスクの製造方法、並びに半導体装置の製造方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6503669B2 (en) 2000-02-16 2003-01-07 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Photomask blank, photomask and method of manufacture
US6589699B2 (en) 2000-04-25 2003-07-08 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Photomask blank and photomask
JP2014167650A (ja) * 2005-09-09 2014-09-11 Hoya Corp フォトマスクブランク及びフォトマスクの製造方法、並びに半導体装置の製造方法

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