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Hintergrund
der Erfindung
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Die
vorliegende Erfindung bezieht sich auf einen Unterdrücker bzw.
Supressor von elektromagnetischer Interferenz zum Verhindern, daß unerwünschte elektromagnetische
Wellen aus elektronischen Geräten herauslecken,
oder daß Interferenzen
zwischen internen Schaltungen auftreten und Fehloperationen, die durch äußere elektromagnetische
Wellen verursacht werden, beeinflußt werden. Die vorliegende
Erfindung bezieht sich insbesondere auf einen Supressor elektromagnetischer
Interferenz, der durch einen Komposit-Magnetkörper (Magnetisierer) gebildet
ist, der aus organischem Bindemittel mit darin dispergiertem, weichmagnetischem
Pulver besteht.
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Seit
kurzem wird zunehmend die Bedeutung einer Maßnahme erkannt, die sich mit
dem Umgang von elektromagnetischen Umweltproblemen in elektronischen
Geräten
befaßt.
Dies wird durch den Umstand verstärkt, bei dem viele Arten elektronischer
Geräte
Schaltungen mit höherer
Dichte als zuvor bereitgestellt werden und zunehmend mit sowohl
aktiven als auch passiven Elementen, die jeweils aus einer Halbleitervorrichtung
und dergleichen bestehen, die induktives Rauschen abstrahlen, vollgestopft
werden. Dies deshalb, weil im Stand der Technik elektronische Vorrichtungen
wie digital-elektronische Geräte
und dergleichen darauf abzielen, den Erfordernissen von beschleunigter
Schaltungssignalverarbeitungsgeschwindigkeit, höherer Frequenz, höherem Multifunktions-Leistungsvermögen, Verkleinerung
und feinerer Produktkonfigurationen zu genügen.
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Als
einem Ergebnis tritt es häufig
auf, daß der
normale Betrieb der Geräte
gestört
ist. Dies wird verursacht durch eine Erhöhung der Linie-zu-Linie-Kopplung
aufgrund elektrostatischer Kopplung und elektromagnetischer Kopplungen
sowie ferner durch die Interferenz des Strahlungsrauschens. In einigen
Fällen
kann das Rauschen andere externe Geräte beeinträchtigen.
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Als
Gegenmaßnahme
gegen das Rauschen, welches durch elektronische Geräte mit höherer Prozessiergeschwindigkeit,
weiter gesteigerter Funktion und höherer Dichte verursacht wird,
insbesondere als eine Gegenmaßnahme
gegen im Quasi-Mikrowellen-Band verursachtem Rauschen, kann die
Einrichtung eines Niedrigpaßfilters,
einer Abschirmung und dergleichen unternommen werden. Eine Gegenmaßnahme durch Komponenten
erfordert jedoch zur Einrichtung in der elektronischen Vorrichtung
Raum und erfordert in der Phase der Gestaltung eine Betrachtung
der Verkleinerung und feineren Profilierung bzw. Formgebung. Eine Gegenmaßnahme mittels
Komponenten ist deshalb für
eine dringende Maßnahme
nicht geeignet. Ferner trägt eine
Induktionskomponente zum wirklichen Anteil der magnetischen Permeabilität μ' bei und ist für die Induktivität im laufenden
Quasi-Mikrowellen-Band unzureichend. Ferner kann im Fall der Ausführung einer
unachtsamen Abschirmung eine sekundäre elektromagnetische Kopplung.
induziert werden.
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Als
Antwort auf diese Probleme ist die oben bezeichnete Komposit-Magnetkörper-Lage
zur Unterdrückung
elektromagnetischer Interferenz als eine von Gegenmaßnahmen
gegen Rauschen im Quasi-Mikrowellen-Band
vorgeschlagen worden. Zum Beispiel sind in der Japanischen Patentanmeldung
Nr. Hei 6-4864 und der Japanischen Patentanmeldung Nr. Hei 7-183911
Vorschläge
gemacht worden zu Komposit-Magnetkörper-Lagen, die zur Unterdrückung von
elektromagnetischer Interferenz in der Lage sind.
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Die
oben bezeichneten Komposit-Magnetkörper-Lagen entsprechen dem
Quasi-Mikrowellen-Band und sind in der Lage, Strahlungsrauschen
und sekundäre
elektromagnetische Kupplung zu reduzieren als Wellenabsorber unter
Ausnutzung eines hohen wirklichen Anteils der magnetischen Permeabilität μ' und des Imaginärteils der
magnetischen Permeabilität μ'' in einem weiten Frequenzband.
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Folglich
ist es möglich,
die Last einer Gegenmaßnahme
gegen Rauschen und die Produktentwicklung zu erleichtern und Hindernisse
zum Erzielen einer Verkleinerung und einer höheren Dichte bei einer Schaltung zu
vermeiden.
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Auf
dem Markt ist ferner eine Komponente einer Gegenmaßnahme gegen
Rauschen erforderlich, die ähnlich
zu dem oben bezeichneten Komposit-Magnetkörper leicht zu verwenden ist
und dazu in der Lage ist, mit Komponenten übereinstimmend eingepaßt zu werden.
Die Komponente einer Gegenmaßnahme
gegen Rauschen sollte vorzugsweise ein Frequenzband haben, welches
zur Übereinstimmung
mit Komponenten befähigt
ist, das heißt
eine niedrige Frequenz (bei ungefähr 10 bis 100 MHz) im Quasi-Mikrowellen-Band.
Ferner wird im Hinblick auf den Umstand, daß die Verkleinerung von. elektronischen
Geräten
voranschreitet, von der Komposit-Magnetkörper-Lage
verlangt, eine geringere Profilierung aufzuweisen, die dem oben
angegebenen Quasi-Mikrowellen-Band entspricht.
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Die
für das
Quasi-Mikrowellen-Band genutzte, oben bezeichnete Komposit-Magnetkörper-Lage
vermag eine geringere magnetische Permeabilität bereitstellen, wenn die Frequenz
niedriger wird. Folglich ist die Bereitstellung einer geringeren
Profilierung bei der Konfiguration begrenzt und die Wirkung des
Unterdrückens der
elektromagnetischen Interferenz reduziert, was aus dem Anstieg in
der Frequenz von μ'' verständlich wird. Als eine andere
Gegenmaßnahme
gegen Rauschen, die für
kleine elektronische Geräte
wie Geräte
der mobilen Kommunikation und dergleichen unternommen werden kann,
mag das Einbringen von Ferrit oder Kautschuk-Ferrit eine passende
Idee sein. In den meisten Fällen
kann jedoch Ferrit nicht eingebaut werden aufgrund von Problemen
einer Möglichkeit,
daß es
bricht, oder der Schwierigkeit der Plazierung. Andererseits vermag
Kautschuk-Ferrit, welches eine geringere Wahrscheinlichkeit des
Brechens aufweist, ein Rauschen nicht ausreichend zu unterdrücken, selbst
wenn Raum zur Einrichtung reserviert wird.
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Komponenten
wie Spulen, Filter und dergleichen sind in Frequenzen auf der niedrigeren
Seite und der höheren
Seite als der Frequenz um etwa 10 bis 100 MHz verwendbar. Bis jetzt
ist jedoch keine Gegenmaßnahme
gegen Rauschen gefunden worden, die im oben bezeichneten Frequenzband
leicht zu verwenden ist. Selbst wenn eine Komponente gefunden ist,
die eine solche Gegenmaßnahme
gegen Rauschen erfüllt,
erfordert die Gestaltung eines Substrats und dergleichen einen großen Betrag
an Kosten und Mannstunden.
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Um
diese Probleme zu lösen
wird es nötig,
eine Komposit-Magnetkörper-Lage
bereitzustellen, die auf die niedrige Frequenz (bei etwa 10 bis
100 MHz) adaptierbar ist und selbst bei einer geringeren Profilierung derselben
zum Ausdruck einer Unterdrückungswirkung
der elektromagnetischen Interferenz in der Lage ist.
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Um
eine solche Komposit-Magnetkörper-Lage
bereitzustellen, wird es unumgänglich,
die magnetische Permeabilität μ' und μ'' zu verstärken und die Resonanzfrequenz
zu erniedrigen. Als Antwort auf diese Erfordernisse ist zum Beispiel
ein Vorschlag gemacht worden zu einer Komposit-Magnetkörper-Lage,
bei der die Unterdrückungswirkung
im FM-Band (bei ungefähr
10 bis 100 MHz) verbessert ist und die auf eine geringere Profilierung
angepaßt
ist, und zwar in der Japanischen Patentanmeldung Nr. Hei 10-168273.
Die Verbesserung der Unterdrückungswirkung
in Bezug auf die elektromagnetische Interferenz und die geringere
Profilierung in der Konfiguration ist durch Verwendung der in der
vorbezeichneten Japanischen Patentanmeldung offenbarten Technologien
erzielt worden.
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Nun
erfolgt eine Beschreibung über
ein Beispiel von Verfahren zum Bilden des oben bezeichneten Komposit-Magnetkörpers. Als
Verfahren zum Bilden der oben bezeichneten Quasi-Mikrowellenband-Komposit-Magnetkörper-Lage
gibt es einen Naßprozeß, bei dem
eine vermischte und in Bewegung versetzte Aufschlämmungsmischung aus
flachem, weichmagnetischem Pulver, Bindemittel und Lösungsmittel
zum Auflösen
des Bindemittels durch Verwendung eines Rakelmessers und dergleichen
zu einem Film gebildet wird, sowie einen Trockenprozeß, bei dem
eine Mischung aus flachem, weichmagnetischem Pulver und Bindemittel durch
einen Kneter und dergleichen geknetet wird und durch eine Rolle
und dergleichen geformt wird.
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Ferner
wird bei einem Verfahren zur Herstellung eines Komposit-Magnetkörpers, offenbart
in der oben angegebenen Japanischen Patentanmeldung Nr. Hei 10-168273,
flaches, weichmagnetisches Pulver, in dem eine Spannung bzw. Belastung
eliminiert wurde, durch einen Naßprozeß zu Lagen geformt, um im Formungsprozeß keine
Belastung im flachen, weichmagnetischen Pulver zu verursachen, und
es wird durch eine Presse auf die Oberflächen der Lage Druck in vertikaler
Richtung auferlegt, wodurch eine hohe Dichte erzielt wird. Folglich
ist es möglich,
die Unterdrückungswirkung
der elektromagnetischen Interferenz im FM-Band zu verstärken und
einer niedrigeren Profilierung zu entsprechen.
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Obgleich
die Wirkung des Unterdrückens
des Rauschens bei Frequenzen bei ungefähr 10 bis 100 MHz verstärkt wird
und die Profilierung der Konfiguration erniedrigt wird durch das
in der Japanischen Patentanmeldung Nr. Hei 10-168273 offenbarte
Verfahren, ist es möglich,
einen Komposit-Magnetkörper
zu erhalten, bei dem die Wirkung der Unterdrückung von elektromagnetischer
Frequenz darin aufrechterhalten wird. Der durch das oben angegebene
Verfahren erhaltene Komposit-Magnetkörper stellt jedoch nur eine
unzureichende Flammbeständigkeit
zur Verfügung.
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Wenn
genügend
Eigenschaft der magnetischen Permeabilität lediglich durch Beschichtung
nicht ausreichend erhalten werden kann, und im Fall, daß zur Erhöhung der
Packungsdichte zur Aufrechterhaltung einer hohen magnetischen Permeabilität das flache,
weichmagnetische Pulver gepreßt
wird, erfährt
das flache, weichmagnetische Pulver im Ergebnis eine Belastung,
und das Erhalten der erforderlichen Eigenschaft ist schwierig.
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Ferner
ist die Komposit-Magnetkörper-Lage,
die in der Japanischen Patentanmeldung Nr. Hei 10-168273 offenbart
ist, bei einer Dicke von mehr als 0,3 mm schwach in Bezug auf die
Flexibilität
und liefert eine geringe mechanische Festigkeit, wenn die Dicke
beim Beschichtungsprozeß geringer
wird, so daß die Handhabung
bei der Nachbearbeitung schwierig wird.
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Darüber hinaus
wird bei dem oben bezeichneten Komposit-Magnetkörper ein Phänomen von Sekundärveränderungen
gefunden, die durch eine Feuchtigkeitspenetrierung nach innen, konkret
eine Erniedrigung der Dichte verursacht wird, und unabhängig von
der Dicke ist ein Beschichten durch Bindemittel auf der Oberfläche zur
Verbesserung der Hochtemperatur/Hochluftfeuchtigkeits-Beständigkeit
erforderlich. Ferner wird gemäß dem oben
angegebenen Trockenprozeß dem
flachen, weichmagnetischen Pulver, aus dem eine Belastung entfernt
wurde, wieder eine Belastung verliehen. Es ist deshalb schwierig,
erwünschte
Eigenschaften zu erhalten.
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Die
EP 0866649A1 offenbart einen Komposit-Magnetkörper mit einem flachen, weichmagnetischen Pulver,
welches einem Annealingprozeß unterworfen
wurde, sowie einem wärmeleitfähigen Pulver,
dispergiert in einem organischen Bindemittel. Als organischem Bindemittel
kann ein thermoplastisches Harz verwendet werden, wobei unter den
Harzarten Polyvinylchloridharz erwähnt ist. Das thermoplastische
Harz besitzt vorzugsweise eine Glasumwandlungstemperatur von nicht
weniger als 120°C.
Der Komposit-Magnetkörper
wird durch einen Knet- und Rollformungs-Prozeß erhalten.
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Zusammenfassung
der Erfindung
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Es
ist deshalb eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, einen Komposit-Magnetkörper zur
Unterdrückung
elektromagnetischer Interferenz und ein Verfahren zur Herstellung
des Komposit- Magnetkörpers bereitzustellen,
bei dem Festigkeit und der Unterdrückungseffekt elektromagnetischer
Interferenz erhalten bleiben und bei dem die Flammbeständigkeit
und die mechanische Festigkeit darin ausreichend bereitgestellt
werden durch Füllen
von flachem, weichmagnetischem Pulver, aus dem eine Belastung entfernt
wurde, mit hoher Dichte.
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Andere
Aufgaben der vorliegenden Erfindung werden im Verlauf der Beschreibung
deutlich.
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Gemäß eines
Gegenstands der vorliegenden Erfindung nach Anspruch 1 wird ein
Verfahren der Herstellung eines Komposit-Magnetkörpers bereitgestellt, bei dem
flaches, weichmagnetisches Pulver, aus dem eine Belastung entfernt
wurde, und ein Bindemittel vermengt und geknetet werden, um eine
Mischung zu erhalten, wobei die Mischung durch ein Formungsmittel,
welches aus der aus Rollformung, Einspritzformung und Extrusionsformung
bestehenden Gruppe ausgewählt
wird, zu einer Lage geformt wird, dadurch gekennzeichnet, daß das Bindemittel
eine Mischung von chloriniertem Polyethylen und Vinylchloridharz
einer Glasumwandlungstemperatur von nicht weniger als 50°C einschließt.
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Der
Gehalt von Vinylchloridmonomer im Vinylchloridharz kann 75–90 Mol-%
sein.
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Das
Mischungsverhältnis
des chlorinierten Polyethylens und des Vinylchloridharzes kann 4
: 1 bis 1 : 4 in Bezug auf das Gewicht sein.
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Das
flache, weichmagnetische Pulver kann orientiert und in der Ebenenrichtung
der Komposit-Magnetkörper-Lage
angeordnet sein, und die Packungsdichte des flachen, weichmagnetischen
Pulvers kann durch Anwendung einer Rollbearbeitung auf die Komposit-Magnetkörper-Lage
unter Verwendung einer Vorrichtung, die aus der aus einer Reduzierrollvorrichtung,
einer Kalenderwalzenvor richtung und einer Druckvorrichtung bestehenden
Gruppe ausgewählt
wird, verstärkt
sein.
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Die
Reduzierrollvorrichtung und die Kalenderwalzenvorrichtung können mit
einer Rolle versehen sein, die aus einem Material gefertigt ist,
welches aus der aus einem Kautschuk mit einer Kautschukhärte von
nicht weniger als 90 und einem Polymermaterial bestehenden Gruppe
ausgewählt
ist.
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Ein
Komposit-Magnetkörper
oder eine Komposit-Magnetkörper-Lage
kann durch das Verfahren hergestellt werden.
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Gemäß eines
weiteren Gegenstands der vorliegenden Erfindung wird ebenfalls ein
Verfahren der Herstellung eines Komposit-Magnetkörpers nach Anspruch 2 bereitgestellt,
bei dem flaches, weichmagnetisches Pulver, aus dem eine Belastung
entfernt wurde, und eine magnetische Beschichtung einer Aufschlämmung, die
aus einem in einem Lösungsmittel
aufgelösten
Bindemittel besteht, durch ein Beschichtungsmittel, welches aus
der aus Druck- bzw. Formbeschichtung, Gravurbeschichtung und Umkehrbeschichtung
bestehenden Gruppe ausgewählt
wird, zu einer Lage gebildet werden, dadurch gekennzeichnet, daß das Bindemittel
ein Vinylchloridharz mit einer Glasumwandlungstemperatur von nicht
weniger als 50°C
einschließt.
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Das
Bindemittel kann eine Mischung aus chloriertem Polyethylen und Vinylchloridharz
einer Glasumwandlungstemperatur von nicht weniger als 50°C sein.
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Der
Gehalt des Vinylchloridmonomers im Vinylchloridharz kann 75–90 Mol-%
sein.
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Das
Mischungsverhältnis
des chlorinierten Polyethylens und des Vinylchloridharzes kann 4
: 1 bis 1 : 4 in Bezug auf das Gewicht sein.
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Das
flache, weichmagnetische Pulver kann orientiert und in einer Ebenenrichtung
der Komposit-Magnetkörper-Lage
angeordnet sein, und die Packungsdichte des flachen, weichmagnetischen
Pulvers kann durch Anwenden einer Rollbearbeitung der Komposit-Magnetkörper-Lage
unter Verwendung einer Vorrichtung, die aus der aus einer Reduzierrollvorrichtung,
einer Kalenderrollvorrichtung und einer Druckvorrichtung bestehenden
Gruppe ausgewählt
wird, verstärkt
werden.
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Die
Reduzierrollvorrichtung und die Kalenderwalzenvorrichtung können mit
einer Rolle versehen sein, die aus einem Material gefertigt ist,
welches aus der aus einem Kautschuk mit Kautschukhärte von
nicht weniger als 90 und einem Polymermaterial bestehenden Gruppe
ausgewählt
ist.
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Der
Komposit-Magnetkörper
bzw. die Komposit-Magnetkörper-Lage
können
durch das Verfahren hergestellt werden.
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Das
in der vorliegenden Erfindung verwendete flache, weichmagnetische
Pulver kann in einer flach gemachten Gestalt erhalten werden durch
Anwenden einer mechanischen Zerkleinerung bzw. Schleifung gegenüber sphärischem
oder undefiniert geformtem, grobem Pulver. Beim Prozeß des Zerkleinerns
bzw. Schleifens wird im flachen, weichmagnetischen Pulver eine Belastung
erzeugt, die die Eigenschaften des Pulvers verschlechtert. Die oben
erwähnte
Belastung kann jedoch durch Anwenden eines Annealingprozesses entfernt werden.
Es ist notwendig, den Annealingprozeß so auszuführen, daß ein flaches, weichmagnetisches
Pulver mit den erwünschten
Eigenschaften erhalten wird. Die Bedingungen des Annealingprozesses
werden bestimmt je nach Eignung in Abhängigkeit von den Materialien
des weichmagnetischen Pulvers.
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Wie
oben erwähnt
gibt es einen Trockenprozeß und
einen Naßprozeß zur Formung
der Mischung des flachen, weichmagnetischen Pulvers und des Bindemittels
zu einer Lage. Der Naßprozeß wird zur
Verminderung der Belastung von äußeren Kräften gegenüber dem
fla chen, weichmagnetischen Pulver stärker bevorzugt. In der vorliegenden
Erfindung kann ein Komposit-Magnetkörper, bei dem eine flache Ausrichtung
des weichmagnetischen Pulvers in der Ebenenrichtung einer Lage orientiert
ist, durch die Bildung eines Films mittels Druck- bzw. Formungsbeschichtung,
Gravurbeschichtung oder Umkehrbeschichtung erhalten werden.
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In
der vorliegenden Erfindung wird Vinylchloridharz mit einer Glasumwandlungstemperatur
von 50°C oder
mehr als einem Bindemittel verwendet. Deshalb ist die Festigkeit
des Bindemittels bei Raumtemperatur erhöht. Es wird einfacher, den
Komposit-Magnetkörper im
Bearbeitungsprozeß zu
handhaben.
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Der
Gehalt des Chlors im Bindemittel wird durch Verwendung von Vinylchloridharz
erhöht.
Deshalb ist die Flammbeständigkeit
verstärkt.
Ferner kann die Haltbarkeit gegenüber hoher Temperatur und hoher
Luftfeuchtigkeit des Komposit-Magnetkörpers verbessert werden, da
Polyvinylchlorid eine geringere Wasserdampfpermeabilität aufweist
als Polyethylen.
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In
der vorliegenden Erfindung beträgt
der am meisten bevorzugte Wert des Gehalts des Vinylchloridmonomers
im Vinylchloridharz zum genügenden
Ausdruck der oben erwähnten
Wirkung 75–90
Mol-%, und das Mischungsverhältnis
in Gewicht des chlorinierten Polyethylens und des Vinylchloridharzes
beträgt
4 : 1 bis 1 : 4.
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Es
ist sehr effektiv, die Dichte des Komposit-Magnetkörpers zum
Erhalten des Komposit-Magnetkörpers
mit hoher magnetischer Permeabilität zu verstärken. Die hohe Dichte kann
erreicht werden durch Anwenden einer Rollbearbeitung gegenüber der
Lage nach der Formung zu einem Film und dem Entfernen des Lösungsmittels.
Deshalb wird im Verfahren der Herstellung der Komposit-Magnetkörper-Lage
der vorliegenden Erfindung eine Oberfläche der Komposit-Magnetkörper-Lage
vertikal durch eine Rollvorrichtung, die eine Presse oder eine Rolle
verwendet, gepreßt.
Das Pressen führt
als einem Sekundäreffekt
zu einem verstärkten
Orientierungsmaß des
flachen, weichmagnetischen Pulvers.
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Während des
oben erwähnten
Prozesses wird, wenn die Druckbearbeitung unachtsam auf den Komposit-Magnetkörper angewandt
wird, wiederum eine Belastung bzw. eine Spannung im flachen, weichmagnetischen
Pulver erzeugt. Deshalb wird in der vorliegenden Erfindung eine
Rollvorrichtung verwendet, die mit einer Rolle versehen ist, die
aus Kautschuk mit einer Kautschukkarte von nicht weniger als 90
besteht oder aus einem Polymermaterial besteht.
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Kurzbeschreibung
der Zeichnungen
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1 ist ein Diagramm, um das
Ergebnis der Beurteilung der relativen magnetischen Permeabilität eines
Komposit-Magnetkörpers
gemäß einer
bevorzugten Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung zu zeigen;
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2 ist ein schematisches
Diagramm, um eine Dualachsenreduzierrolle zu zeigen, die in einem
Rollprozeß bei
einer bevorzugten Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung verwendet wird;
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3 ist ein schematisches
Diagramm, um die im Rollprozeß verwendete
Dualachsen-Reduzierrolle zu zeigen, bei der die Dualachsen-Reduzierrolle
mittels Druck zusammengefügt
und deformiert ist; und
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4 ist ein schematisches
Diagramm, um eine Vorrichtung zu zeigen zum Beurteilen der Unterdrückungswirkung
elektromagnetischer Differenz bei dem Komposit-Magnetkörper gemäß der bevorzugten
Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung.
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Detaillierte Beschreibung
der bevorzugten Ausführungsformen
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Unter
Bezugnahme auf 1 bis 4 wird die Beschreibung fortgesetzt über einen
Komposit-Magnetkörper,
eine Komposit-Magnetkörper-Lage
sowie ein Verfahren der Herstellung des Kompo sit-Magnetkörpers und
der Komposit-Magnetkörper-Lage
gemäß einer
bevorzugten Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung.
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Zunächst wird
ein Fe-Al-Si-Legierungspulver mit einem durchschnittlichen Durchmesser
von 35 μm und
einem Länge-zu-Breite-Verhältnis von
nicht weniger als 5 als einem flachen, weichmagnetischen Pulver hergestellt.
Das flache, weichmagnetische Pulver wird für zwei Stunden einer Hitzbehandlung
unterzogen bei der Bedingung, daß die Temperatur bei 650°C gehalten
wird, um die Belastung bzw. die Spannung darin zu entfernen.
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85
Gew.-% des flachen, weichmagnetischen Pulvers, 40 Gew.-% des Bindemittels,
in dem chlorinierten Polyethylen und Vinylchloridharz mit einem
Gewichtsverhältnis
von 4 : 1 vermengt sind, 1 Gew.-% Titan-Kupplungsmittel und 200
Gew.-% Toluol als Lösungsmittel
werden jeweils ausgewogen.
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Durch
Einbringen aller oben erwähnter
Materialien in einen Mischer, um darin bewegt zu werden, wird das
flache, weichmagnetische Pulver durch das Kupplungsmittel einer
Oberflächenbehandlung
unterzogen. Zusätzlich
wird das Bindemittel im Lösungsmittel
aufgelöst.
Eine Aufschlämmung
zum Bilden des Komposit-Magnetkörpers wird
dadurch erhalten. Bei dieser Ausführungsform der vorliegenden
Erfindung wird das Bindemittel im Lösungsmittel zum Mischen mit
den anderen Materialien aufgelöst,
so daß dem
flachen, weichmagnetischen Pulver keine Belastung zugefügt wird.
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Im übrigen weist
das in der vorliegenden Ausführungsform
verwendete Vinylchloridharz einen Gehalt des Vinylchloridmonomers
von 75 bis 90 Gew.-% auf und besitzt eine Glasumwandlungstemperatur
von nicht weniger als 50°C.
Das Vinylchloridharz trägt
nicht nur zur Verstärkung
der Flammbeständigkeit
des Komposit-Magnetkörpers bei,
sondern auch zur Verbesserung der Bearbeitbarkeit durch Rollformung.
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Als
nächstes
wird die oben erwähnte
Aufschlämmung
durch Druck- bzw.
Formungsbeschichtung zu einem Film gebildet, wobei die flache Oberfläche des
flachen, weichmagnetischen Pulvers in der Ebenenrichtung orientiert
ist, so daß eine
Komposit-Magnetkörper-Lage
hergestellt wird. Die durch die oben erwähnte Arbeitsweise hergestellte
Komposit-Magnetkörper-Lage
besitzt eine Dicke von 0,08 mm. Es kann eine Magnetfeldorientierung
ausgeführt
werden, um das flache, weichmagnetische Pulver in einem stärkeren Maß zu orientieren,
bevor das Lösungsmittel
im Prozeß eliminiert
wird: Eine Beschichtung durch Gravurbeschichtung oder Umkehrbeschichtung
ist ebenso akzeptabel.
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Die
Zusammensetzung des oben erwähnten
Bindemittels ist zusätzlich
bestimmt unter Berücksichtigung
der Flexibilität
des Komposit-Magnetkörpers.
Wenn der Komposit-Magnetkörper
steifer sein kann, kann das Mischungsverhältnis in Bezug auf das Gewicht
des chlorinierten Polyethylens und des Vinylchloridharzes 1 : 4
sein. Es ist möglich,
durch Einstellen des Verhältnisses
zwischen 1 : 4 und 4 : 1 einen Komposit-Magnetkörper zu erhalten, der eine
erwünschte
bzw. freiwillige mechanische Festigkeit und Flexibilität bereitstellt. Folglich
wird die Konfigurationsmöglichkeit
der Produkte vielfältig.
Wenn zum Beispiel ein sehr dünner
Komposit-Magnetkörper
mit einer Dicke von nicht mehr als 0,1 mm hergestellt wird, ist
die Vermengung einer größeren Menge
an Vinylchloridharz im Hinblick auf die Bearbeitbarkeit im späteren Prozeß bevorzugt.
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Im übrigen wird
das Auftreten von unerwünschten
Effekten verursacht, wenn das Mischungsverhältnis von chloriniertem Polyethylen
und Vinylchloridharz den oben erwähnten Bereich übersteigt.
Wenn Vinylchloridharz nämlich
zu viel vorliegt, wird die Flexibilität schlecht. Wenn andererseits
vom chlorinierten Polyethylen zu viel vorliegt, wird nicht nur die
mechanische Festigkeit des Komposit-Magnetkörpers schlecht, sondern es wird
auch die Flammbeständigkeit
geringer.
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Dann
wird die oben erwähnte
Komposit-Magnetkörper-Lage
einer Rollbearbeitung durch Verwendung der in 2 veranschaulichten Dualachsen-Reduzierrolle
unterzogen. Das Rollen wird bei Bedingungen ausgeführt, daß die Rollzwischenräume so bestimmt
sind, im wesentlichen Null zu sein und daß die Temperatur bei 50°C gehalten
wird. Eine Schicht 22, die aus einem Kautschuk mit Kautschukhärte von
nicht weniger als 90 oder aus einem Polymermaterial besteht, ist
um die Oberfläche
der metallischen Rolle 23 herum in der in 2 veranschaulichten Rolle geformt. Die
so bezeichnete Kautschukhärte
ist dabei der Wert der internationalen Kautschukhärte, der
durch das im JIS, K6253 standardisierten Kautschukhärte-Testverfahren
gemessen wurde.
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3 ist eine Ansicht, die
zeigt, daß die
in 2 veranschaulichte
Schicht 22 aus Kautschuk oder Polymermaterial unter Druck
zusammen verschmolzen ist. Da dieser Abschnitt elastisch deformiert
ist, wird ein Kontaktabschnitt 31 eines bestimmten Flächenausmaßes durch
die in 3 gezeigte Deformierung
gebildet. Folglich wird die in diesem Abschnitt gerollte Komposit-Magnetkörper-Lage
gleichmäßig gerollt,
ohne lokal einen hohen Druck zu bekommen. Folglich wird dem flachen,
weichmagnetischen Pulver keine Belastung bzw. Spannung zugefügt.
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Deshalb
ist es möglich,
die Komposit-Magnetkörper-Lage
rollen zu lassen, ohne daß die
Magnetresonanzfrequenz fr zu einer höheren Frequenzseite verschoben
wird und die Verminderung der relativen magnetischen Permeabilität μ' und μ'' induziert wird. Durch die Rollbearbeitung
wird die Dichte der Komposit-Magnetkörper-Lage auf das 1,5-fache
der Dichte vor dem Rollen gebracht.
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In 1 ist ein Ergebnis der Messung
der relativen magnetischen Permeabilitätseigenschaften der Komposit-Magnetkörper-Lage
veranschaulicht. In 1 zeigen
die Bezugsziffern 11 und 12 jeweils μ' und μ'' nach der Rollbearbeitung durch das
Rollen der oben erwähnten
Komposit-Magnetkörper-Lage.
Die Bezugsziffern 13 und 14 andererseits zeigen
jeweils μ' und μ'' vor der Rollbear beitung durch das Rollen
der oben erwähnten
Komposit-Magnetkörper-Lage.
Ferner zeigen die Bezugsziffern 15 und 16 jeweils μ' und μ'' der mittels einem Trockenprozeß hergestellten
Komposit-Magnetkörper-Lage.
Die Bezugsziffern 15 und 16 werden zum Vergleich
beschrieben.
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Wie
in 1 deutlich gezeigt,
wird die Verstärkung
der relativen magnetischen Permeabilitätseigenschaften durch die Rollbearbeitung
bestätigt.
Bei der Komposit-Magnetkörper-Lage,
die durch einen Trockenprozeß hergestellt
wurde, wird andererseits eine Verschlechterung der magnetischen
Permeabilitätseigenschaften
bestätigt,
was daraus verständlich
wird, daß dem
flachen, weichmagnetischen Pulver eine Belastung zugefügt wird.
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Obgleich
hier eine Beschreibung über
eine Rollvorrichtung mit der Dualachsenrolle gemacht wurde, ist
ferner als eine Rollvorrichtung auch eine Kalenderwalzenvorrichtung
oder eine Druckvorrichtung geeignet. In diesem Fall ist es nötig, eine
Schicht aus einem Kautschuk mit einer Kautschukhärte von nicht weniger als 90
oder einem Polymermaterial bei einer Rolle zu formen, die mit der
oben erwähnten
Kalenderwalzenvorrichtung bereitgestellt wird. Es ist möglich, Komposit-Magnetkörper-Lagen
herzustellen, die durch Übereinanderstapeln
einer größeren Anzahl
der Lagen durch Verwendung einer Druckvorrichtung dicker gemacht
sind als im Fall der Verwendung einer Rollvorrichtung mit Rollen
darin.
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Als
nächstes
wird unter Bezugnahme auf 4 die
Beschreibung fortgesetzt bezüglich
einem Unterdrückungseffekt
elektromagnetischer Interferenz der Komposit-Magnetkörper-Lage
gemäß dieser
Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung im Vergleich zu der, die durch einen
Trockenprozeß hergestellt
wurde. 4 ist eine Ansicht,
um das Prinzip der zur Beurteilung des Unterdrückungseffekts der elektromagnetischen Interferenz
verwendeten Vorrichtung zeigt. Die Meßvorrichtung umfaßt einen
Generator elektromagnetischer Wellen 42, ein Meßinstrument
elektromagnetischer Interferenz (Spektrumanalysator) 43,
eine Mikroschleifenantenne 44 zur Ausstrahlung elektromagnetischer
Wellen, und eine Mikroschleifenantenne 45 zum Empfang elektromagnetischer
Wellen, die jeweils einen Durchmesser von nicht mehr als 2 mm aufweisen.
Dort befindet sich die Komposit-Magnetkörper-Lage 41 dieser
Ausführungsform
zwischen den beiden Mikroschleifenantennen. Die Transmissionsdämpfung wird
gemessen, bezogen auf den Fall ohne die Komposit-Magnetkörper-Lage.
In diesen Fällen
werden Komposit-Magnetkörper-Lagen
mit einer Dicke von 0,3 mm und 0,5 mm verwendet. Das Ergebnis ist
in der nachfolgenden Tabelle gezeigt.
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Wie
in der obigen Tabelle gezeigt ist ein Unterdrückungseffekt elektromagnetischer
Interferenz, der bei der Komposit-Magnetkörper-Lage dieser Ausführungsform
mit der Dicke von 0,3 mm erhalten wurde, nahezu gleich dem Wert,
der durch die Komposit-Magnetkörper-Lage
mit der Dicke von 0,5 mm geliefert wurde, welche durch einen Trockenprozeß hergestellt
wurde.
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Hier
wurde lediglich eine Beschreibung des durch den sogenannten Naßprozeß hergestellten
Komposit-Magnetkörper
gemacht. Die Flammresistenz und die mechanische Festigkeit kann
jedoch in ausreichendem Maße
bei dem durch einen Trockenprozeß hergestellten Komposit-Magnetkörper erzielt
werden, ähnlich zu
jenen der durch den Naßprozeß hergestellten
Komposit-Magnetkörper.
Selbst die relativen Magnetpermeabilitätseigenschaften werden beim
Anwenden des Rollverfahrens der vorliegenden Erfindung verbessert.
Die relativen Magnetpermeabilitätseigenschaften
vor und nach dem Rollen sind jedoch bei den Werten schlechter als
jene der durch den Naßprozeß hergestellten
Komposit-Magnetkörper.
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Wie
oben im einzelnen beschrieben kann gemäß der vorliegenden Erfindung
ein Komposit-Magnetkörper,
in dem flaches, weichmagnetisches Pulver mit entfernter Belastung
stark befüllt
ist, erhalten werden, ohne daß eine
Belastung bzw. Spannung dem flachen, weichmagnetischen Pulver beim
Herstellungsprozeß wieder
zugefügt
wird. Folglich kann eine kleinere Profilierung des Komposit-Magnetkörpers erzielt
werden. Ferner kann bei dem Komposit-Magnetkörper der Unterdrückungseffekt
der elektromagnetischen Interferenz im Frequenzband um 10 MHz bis
100 MHz herum verbessert werden.
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Darüber hinaus
besitzt der gemäß der Erfindung
erhaltene Komposit-Magnetkörper
eine Flammbeständigkeit
und eine hohe mechanische Festigkeit. Deshalb braucht der Komposit-Magnetkörper gemäß der vorliegenden
Erfindung kein Verstärkungsmittel
zur Beschichtung der Oberfläche.
Selbst ein Komposit-Magnetkörper
mit einer geringen Dicke kann leicht gehandhabt werden.