DE529834C - Verfahren zur Reinigung der Abschmelzstellen von Entladungsgefaessen - Google Patents

Description

DEUTSCHES REICH

AUSGEGEBEN AM
17. JULI 1931

REICHSPATENTAMT

PATENTSCHRIFT

M 529834 KLASSE 21 g GRUPPE

A 60026 VIIIaJ2ig Tag der Bekanntmachung über die Erteilung des Patents: g. Juli

Allgemeine Elektricitäts-Gesellschaft in Berlin*)

Verfahren zur Reinigung der Abschmelzstellen von Entladungsgefäßen

Patentiert im Deutschen Reiche vom 17. Dezember 1929 ab

Beim Abschmelzen von Entladungsgefäßen werden durch die Erhitzung der Abschmelzstelle geringe Mengen von Restgasen, insbesondere Wasserdampf, frei. Diese Gasreste beeinflussen die Entladungsbedingungen in höchst nachteiliger Weise. So tritt z. B. bei Photozellen eine Minderung der lichtelektrischen Empfindlichkeit ein, die durch Veränderung der Gasfüllung oder der lichtelektrisehen Schicht zu erklären ist. Da das Gasvolumen einer Photozelle im Verhältnis zur Fläche der Abschmelzstelle klein ist, wirken auch geringe, bei der Abschtnekung frei werdende Gasmengen bereits erheblich störend.

Bei Glühkathodenhochvakuumröhren verursachen derartige Gasednbrüche schnellen Abbau der Kathode. Bei Quecksilberdampfgleichrichtern können diese Gaisinengen Anlaß zu Rückzündungen geben. Die Aushei-

ao zung der Entladungsgefäße während des Evakuierungsprozesses vertreibt die an der Glaswand sitzende Gashaut nicht vollständig. Ein Erhitzen der Abschmelzstelle auf die beim Abschmelzen erreichten Temperaturen ist während des Eviakuierens nicht möglich, da hierbei ein Abschmelzen des Entladungsgefäßes und somit Unterbrechung des Evakuierungsvorganges eintreten würde.

Es ist nun bekannt, die Elektroden von Entladungsgefäßen dadurch von Gasresten zu befreien, daß zwischen den Elektroden eine Glimmentladung in der Röhre erzeugt wird. Dazu ist es erforderlich, ein den Elektroden gegenüber indifferentes Gas, z.B. ein Edelgas, unter einem geeigneten Druck in das Entladungsgefäß zu füllen und nach erfolgter Entgasung der Elektroden wieder abzupumpen. Erfindungsgemäß wird nach einem analogen Verfahren eine gute Reinigung der Wandung der Abschmelzstellen dadurch erreicht, daß durch die Abschmelzstelle eine Gasentladung geleitet wird. In besonderen Fällen ist es zweckmäßig, die Apparatur mit einem geeigneten Gas zu füllen, z. B. Wasserstoff von geeignetem Druck. Bs ist dabei notwendig, die Elektroden dieser Entladung innerhalb oder außerhalb des abzuschmelzenden Gefäßes so zu wählen, daß die Abschmelzstelle einen Teil der Entladungsstrecke bildet. Die an dieser Stelle vorhan- dene große Stromdichte übt dann die erfindungsgemäße Wirkung'der Entgasung aus. Zweckmäßig wird man diese Reinigung nach dem Ausheizen des Gefäßes vornehmen. Sind mehrere derartige Entladungsgefäße zu einer Vakuumapparatur vereinigt, so erübrigt es sich häufig, eine besondere Elektrode außerhalb der Entladungsgefäße vorzusehen, da man dann die Gasentladung zwischen den Elektroden zweier Gefäße der Vakuumappa-

*) Von dem Patentsucher sind als die Erfinder angegeben worden:

Dr. Werner Kluge in Berlin~Hernisdorf und Dr. Wolf gang Harries in Jena

ratur übergehen läßt. Dabei tritt im besonderen der- Vorteil ein, daß zwei Abschmelzstellen zugleich ,gereinigt werden. Benutzt man einen Hochfrequenzgenerator, etwa einen Teslatransformator, zum Erzeugen der Entladungsspannung, so erübrigt sich in vielen Fällen das Anbringen von Elektroden für die Gasentladung.

Ein Ausführungbeispiel der Erfindung ist

ίο in Abb. ι dargestellt.

In Abb. ι ist ι die Wandung eines lichtelektrischen Vakuumgefäßes, das durch die Abschmelzstelle 2 und das Rohr 3 mit einer Vakuumpumpe in Verbindung steht. Um die Abschmelzstelle 2 von Restgasen zu reinigen, fet an dem Rohr 3 oberhalb der zu reinigenden Stelle 2 eine besondere Elektrode 5 angebracht. Zwischen dieser Elektrode 5 und der im Innern des Vakuumgefäßes 1 vorhandenen Anode 4 wird von der Stromquelle 6 eine Gasentladung erzeugt, welche durch die Abschmelzstelle 2 hindurchgeht und deren Wandung von Gasresten reinigt. In vielen Fällen füllt man zweckmäßig das Vakuumgefäß mit Wasserstoffgas. Als Stromquelle 6 kann auch ein Hochfrequenzgenerator benutzt werden, um die Gasentladung durch die Abschmelzstelle 2 zu erzeugen. In diesem Fall kann die besondere Elektrode 5, wie in Abb. 1 dargestellt, außerhalb des Vakuumgefäßes angeordnet werden oder unter Umständen in Fortfall kommen.

Abb. 2 zeigt ein Ausführungsbeispiel für eine Anordnung, in der zwei Vakuumgefäße 1 und 7 durch das Rohr 3 an-dieselbe Vakuumpumpe angeschlossen sind. Die Stromquelleö erzeugt Gasentladungen zwischen den innerhalb .der Vakuumgefäße 1 und 7 angeordneten Elektroden 4 und 8. Diese Entladungen gehen durch die Abschmelzstellen' 2 und 9 beider Vakuumgefäße und reinigen dabei die Wandungen beider Abschmelzstellen von Restgasen.

Claims (8)

Patentansprüche:

1. Verfahren zur Reinigung der Abschmelzstellen von Entladungsgefäßen, dadurch gekennzeichnet, daß durch die Abschmelzstelle eine Gasentladung geleitet wird.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Reinigung nach dem Ausheizen vorgenommen wird.

3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß für die Entladung besondere Gase in die Vakuumapparatur eingeleitet und nach Beendigung der Reinigung abgepumpt werden.

4. Verfahren nach Anspruch 1 oder folgenden, dadurch gekennzeichnet, daß die Entladung im Wasserstoff erzeugt wird.

5. Verfahren nach Anspruch 1, 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß bei Gefäßen mit Quecksilberfüllung die Entladung in Quecksilberdampf erzeugt wird.

6. Verfahren nach Anspruch 1 oder folgenden, dadurch gekennzeichnet, daß für die Entladung Elektroden außerhalb des abzuschmelzenden Entlädungsgefäßes angeordnet werden.

7. Verfahren nach Anspruch 1 oder folgenden, dadurch gekennzeichnet, daß die Entladung erzeugt wird zwischen den .-Elektroden zweier an der gleichen Apparatur befindlichen, späterhin abzuschmelzenden Entladungsgefäße.

8. Verfahren nach Anspruch 1 oder folgenden, dadurch gekennzeichnet, daß zur Reinigung eine Hochfrequenzentladung verwendet wird.

Hierzu 1 Blatt Zeichnungen