DE528498C

DE528498C - Verfahren zur Erzeugung von Wasserstoffgas aus Silicium, AEtznatron und Wasser

Info

Publication number: DE528498C
Application number: DE1930528498D
Authority: DE
Original assignee: ELEK ZITAETS AKT GES VORM SCHU
Current assignee: ELEK ZITAETS AKT GES VORM SCHU
Priority date: 1930-05-18
Filing date: 1930-05-18
Publication date: 1931-06-30

Description

Verfahren zur Erzeugung von Wasserstoffgas aus Silicium, Ätznatron und Wasser Zur Erzeugung von Wasserstoffgas durch Zusammenbringen von Silicium, Ätznatron und Wasser wird gewöhnlich Siliciumgrieß nach und nach in kleinen Mengen in Natronlauge eingetragen, um eine allzu stürmische Entwicklung des Wasserstoffgases zu vermeiden und die Temperatur der Lauge nahe unter der Siedetemperatur des Wassers zu halten, bei Gleichgewicht zwischen den Wärmemengen, die die Lauge aus der chemischen Reaktion aufnimmt und an die Wände des Reaktionsgefäßes, an das abziehende, mit Wasserdampf gemischte Wasserstoffgas und an das Nachfüllwasser abgibt.
Wesentlich derselbe günstige Ablauf des Vorganges läßt sich aber gemäß vorliegender Erfindung auf einfachere Weise dadurch erreichen, daß man Silicium nicht als grießiges Pulver, sondern in Stücken von Haselnußgröße bis Walnußgröße anwendet. Man kann dann die ganze Menge Silicium, die zu einer bestimmten Ätznatronladung (Charge) des Reaktionsgefäßes gehört, auf einmal eintragen und die Gasentwicklung, bis auf das etwa notwendig werdende Nachfüllen von Wasser, sich selbst überlassen.
Die Erfindung bietet den Vorteil, daß der Gasentwicklungsapparat wegen -des FehIens einer Vorrichtung. für allmähliches Eintragen des Siliciums einfacher ausfällt und auch einfacher zu bedienen ist.
Auf der Zeichnung ist in schematischer Weise .eine Einrichtung zur Durchführung des Verfahrens dargestellt; dabei ist das Reaktionsgefäß im Schnitt gezeichnet.
Das zylindrische Reaktionsgefäß i ist durch einen abnehmbaren, durch Flügelschrauben 2 gehaltenen Deckel 3 verschlossen. Auf dem Deckel 3 ist der mit einer Haube q. abgedeckte Wasserbehälter 5 auf dem Abfiußrohr 6 gelagert, das nahezu bis zum Boden des Reaktionsgefäßes i herabreicht und über dem Deckel 3 einen Hahn 7 enthält. Es ist eine Anordnung nach Art des bekannten Kippechen Apparats.
Zur Aufnahme des Si iciums und Ätzratrons ist in das Gefäß i ein doppelwandiger Drahtkorb 8 eingesetzt. Er ruht auf einem Winkelring 9 an der Innenwand des Gefäßes i und umgibt mit seiner rohrförmigen inneren Wand i o das Wasserabflußrohr 6.
Der Korb wird bis zu einer gewissen Höhe, die durch einen Ring i i an der Außenwand 12 des Korbes angezeigt wird, mit nußgroßen Stücken Silicium angefüllt. Darüber wird die erforderliche Menge Ätznatron aufgegeben. Das. Gewichtsverhältnis der beiden Stoffewird so gewählt, daß etwa 1,5 bis 2 kg Silicium auf je i,2 kg Ätznatron treffen. Das erzeugte Wasserstoffgas wird durch eine Rohrleitung 13, in die zwei Laugeabscheider 14, 15, eine in einem Wassergefäß liegende Kühlschlange 16 und ein Wasserdampfabscheider 17 eingeschaltet sind, zur Verwendungsstelle 18 geleitet. Der zweite Laugeabscheider 15 ist an das Reaktionsgefäß i noch durch eine zweite Leitung 19 angeschlossen, durch die die abgeschiedene Lauge zurückfließt.
Eine solche Einrichtung, ortsfest angeordnet oder unter Beigabe von Vorratsbehältern für Silicium, Ätznatron und gegebenenfalls auch Wasser auf einem Fahrzeug zusammengebaut, kann mit Vorteil zur Füllung von Pilotenballons für Zwecke der Meteorologie und Luftfahrt Verwendung finden. An diese Verwendung ist bei der gezeichneten Ausführung gedacht. Die Gasleitung 13 endet hier in einem Rohrstück 2o, auf das die Rohransätze der Ballonhüllen aufgesteckt werden.
Zur Durchführung des Verfahrens wird der Korb 8 außerhalb des Reaktionsgefäßes mit Silicium und Ätznatron beschickt. Nach seiner Einführung in das Gefäß i wird der Deckel 3 mit den von ihm getragenen Teilen 4, 5, 6, 7 aufgesetzt und mittels der Schrauben z befestigt. In den Behälter 5 wird so viel Wasser eingefüllt, als zur Bereitung der Ätznatronlösung erforderlich ist, und dieses Lösungswasser wird durch Öffnen des Hahnes 7 auf einmal in das Gefäß i eingelassen; dadurch wird die Gasentwicklung in Gang gesetzt.
Der Hahn 7 wird während der Gaserzeugung offengelassen, damit bei zu starkem Gasdruck die Lösung in den Behälter 5 zurückweichen kann. Während der Füllung eines Ballons wird der Hahn geschlossen.
Die beschriebene Art der Einführung des Siliciums in einer unteren Schicht und des Ätznatrons in einer oberen Schicht hat sich als vorteilhaft erwiesen. Sie braucht aber nicht unbedingt angewendet zu werden; vielmehr können die Stoffe auch in anderer Weise eingeführt werden, beispielsweise einfach als Gemenge.

Claims

PATENTANSPRÜCHE: i. Verfahren zur Erzeugung von Wasserstoffgas aus Silicium, Ätznatron und Wasser, dadurch gekennzeichnet, daß die zu einer Ätznatronladung des Reaktionsgefäßes gehörende Menge Silicium in Stücken von Haselnußgröße bis- Walnußgröße auf einmal in das Reaktionsgefäß eingebracht wird. z. Verfahren nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß eine Menge von 1,5 bis a kg Silicium auf je 1,2 kg Ätznatron gegeben wird.