DE4204485A1 - Weitwinkellinsensystem - Google Patents

Weitwinkellinsensystem

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Description

Die vorliegende Anmeldung beruht auf der japanischen Patentanmeldung Nr. Hei. 3-1 06 953, angemeldet am 15. Februar 1991, deren Offenbarung in die vorliegende Beschreibung durch Bezugnahme aufgenommen ist und deren Priorität in Anspruch genommen wird.
Die Erfindung bezieht sich auf ein Weitwinkellinsensystem des Retrofokustyps zur Verwendung in Kameras, wie beispielsweise Einlinsenreflexkameras. Insbesondere bezieht sich die Erfindung auf ein Weitwinkellinsensystem mit einer asphärischen Oberfläche.
Um über einen passenden Rückfokus zu verfügen, verwenden Einlinsenreflexkameras Weitwinkellinsensysteme mit Retrofokus, die eine vordere Linsengruppe negativer Stärke und eine hintere Linsengruppe positiver Stärke aufweisen. Die Ausdrücke "Gruppe" bzw. "Komponente" werden nachfolgend in gleicher Bedeutung verwendet, um auf mindestens ein einzelnes Linsenelement Bezug zu nehmen. Die ungeprüfte veröffentlichte japanische Patentanmeldung Nr. 12 728/1979 offenbart beispielsweise ein kompaktes Weitwinkellinsensystem mit einer einfachen Fünfelementenkombination, die eine Gesamtbrennweite von F = 2.8 und einen Halbsichtwinkel von 37° besitzt. Gemäß einem anderen Beispiel offenbart die ungeprüfte veröffentlichte japanische Patentanmeldung Nr. 78 520/1987 ein Weitwinkellinsensystem des Retrofokustyps mit einer Fünfelementenkombination, wobei die vordere Linsengruppe eine asphärische Oberfläche aufweist.
Bei den bekannten Weitwinkellinsensystemen treten jedoch einige Probleme auf. So zeigen sich bei dem in der ungeprüften veröffentlichten japanischen Patentanmeldung Nr. 12 728/1979 beschriebenen System eine starke außeraxiale Koma und seitliche chromatische Aberrationen als Folge der einfachen Fünfelementenkombination. Das in der ungeprüften veröffentlichten japanischen Patentanmeldung Nr. 78 520/1987 beschriebene System plaziert eine asphärische Oberfläche in die vordere Linsengruppe, mit Abstand zur Blende, um außeraxiale Aberrationen, Bildfeldwölbungen und Verzerrungen zu korrigieren. Das System ist jedoch nicht in der Lage, den Astigmatismus und seitliche chromatische Aberrationen zu korrigieren.
Es ist ein Ziel der vorliegenden Erfindung, die obengenannten Probleme zu überwinden und eine Linsenstruktur aus fünf Elementen für ein Hochleistungs-Weitwinkellinsensystem des Retrofokustyps durch Verwendung einer passend geformten asphärischen Oberfläche zu schaffen.
Es ist weiter ein Ziel der Erfindung, ein Weitwinkellinsensystem zu schaffen, das von der Objektseite her gesehen eine vordere Linsengruppe mit negativer Stärke und eine hintere Linsengruppe mit positiver Stärke sowie eine Blenden aufweist. Die vordere Gruppe umfaßt ein positives erstes Linsenelement und ein negatives zweites Meniskuslinsenelement mit einer zum Objekt gerichteten konvexen Oberfläche. Die hintere Gruppe weist ein positives drittes Linsenelement und ein negatives viertes Linsenelement mit einer asphärischen Oberfläche auf, wobei die negative Stärke des vierten Linsenelementes zum Rand hin zunimmt. Die hintere Linsengruppe weist weiter ein positives fünftes Linsenelement auf. Das Linsensystem erfüllt die folgenden Bedingungen:
3.5 < [log(ΔX1/ΔX2)/log2] < 4.5
1.0 < |fF/f| < 1.4, fF<0
NRP < 1.65
Es bedeuten: ΔX1 die Versetzung der asphärischen Oberfläche am Rande der effektiven Apertur gegen die paraxiale sphärische Oberfläche entlang der optischen Achse; ΔX2 die Versetzung der asphärischen Oberfläche einer Hälfte der effektiven Apertur gegen die paraxiale sphärische Oberfläche entlang der optischen Achse; fF die Brennweite der vorderen Linsengruppe; f die Brennweite des gesamten Linsensystems; und NRP der Brechungsindex der d-Linie eines positiven Linsenelementes in der hinteren Gruppe.
Die Erfindung geht aus der nachfolgenden Beschreibung in Verbindung mit den beigefügten Zeichnungen deutlicher hervor. Zunächst wird der wesentliche Gegenstand der Figuren kurz beschrieben.
Fig. 1 stellt eine vereinfachte Querschnittsansicht des Weitwinkellinsensystems eines Beispiels 1 dar;
Fig. 2 veranschaulicht die Aberrationskurven für das Linsensystem der Fig. 1;
Fig. 3 stellt eine vereinfachte Querschnittsansicht des Weitwinkellinsensystems eines Beispiels 2 dar;
Fig. 4 veranschaulicht die Aberrationskurven für das Linsensystem der Fig. 3;
Fig. 5 stellt eine vereinfachte Querschnittsansicht des Weitwinkelsystems eines Beispiels 3 dar;
Fig. 6 stellt die Aberrationskurven für das Linsensystem der Fig. 5 dar;
Fig. 7 stellt eine vereinfachte Querschnittsansicht des Weitwinkellinsensystems eines Beispiels 4 dar;
Fig. 8 veranschaulicht die Aberrationskurven für das Linsensystem der Fig. 7;
Fig. 9 stellt eine vereinfachte Querschnittsansicht des Weitwinkellinsensystems eines Beispiels 5 dar;
Fig. 10 veranschaulicht die Aberrationskurven für das Linsensystem der Fig. 9; und
Fig. 11 veranschaulicht das vierte Linsenelement der Fig. 1 im Detail.
Nachfolgend werden bevorzugte Ausführungsformen der Erfindung beschrieben.
Fig. 1 zeigt ein Weitwinkellinsensystem, das eine vordere Linsengruppe 1 mit negativer Lichtstärke und eine hintere Linsengruppe 2 mit positiver Lichtstärke umfaßt. Die hintere Linsengruppe weist eine Blende 3 auf. Die vordere Gruppe umfaßt ein positives erstes Linsenelement 4 und ein negatives zweites Meniskuslinsenelement 5 mit einer zum Objekt gerichteten konvexen Oberfläche. Die hintere Gruppe 2 umfaßt ein positives drittes Linsenelement 6, ein negatives viertes Linsenelement 7 mit einer asphärischen Oberfläche, und ein positives fünftes Linsenelement 8. Die negative Lichtstärke des vierten Linsenelementes 7 nimmt zum Außenrand der Linse hin zu.
Die hintere Linsengruppe 2 besitzt eine große positive Lichtstärke, um diejenigen Lichtstrahlen zu fokkussieren, die beim Durchgang durch die vordere Linsengruppe 1 auseinandergelaufen sind. Die Verwendung einer hinteren Linsengruppe mit starker positiver Lichtstärke vergrößert jedoch die Wahrscheinlichkeit, daß die sphärischen Aberrationen nicht ausreichend korrigiert werden. Um dieses Problem zu vermeiden, besitzt in der hinteren Gruppe das Element 7 (ganz dicht an der Blende 3) eine asphärische Linsenoberfläche S7. Dadurch können sphärische Aberrationen wirksam korrigiert werden, ohne die außeraxialen Lichtstrahlen wesentlich zu beeinflussen.
Die asphärische Oberfläche S7 auf dem vierten Linsenelement kann direkt aus einem optischen Glas herausgearbeitet oder indirekt durch Anbringen einer dünnen synthetischen Kunstharzschicht auf einer sphärischen Linsenoberfläche gebildet werden. Die nachfolgend beschriebenen Beispiele 1 und 2 beziehen sich auf den Fall, daß die asphärische Oberfläche direkt durch Bearbeitung eines optischen Glases erzeugt wird. Die Beispiele 3, 4 und 5 beziehen sich auf den Fall, daß die asphärische Oberfläche durch Aufbringen einer dünnen Kunstharzschicht (in den Tabellen mit S7 bezeichnet) auf einer sphärischen Oberfläche (in den Tabellen mit S8 bezeichnet) gebildet wird.
Bei der bevorzugten Ausführungsform der Erfindung muß das Weitwinkellinsensystem die folgenden drei Bedingungen erfüllen:
3.5 < [log(ΔX1/ΔX2)/log2] < 4.5 (1)
1.0 < |fF/f| < 1.4, fF<0 (2)
NRP < 1.65 (3)
Es bedeuten: Δ X1 die Versetzung der asphärischen Oberfläche am Rande der effektiven Apertur gegen die paraxiale sphärische Oberfläche entlang der optischen Achse; Δ X2 die Versetzung der asphärischen Oberfläche einer Hälfte der effektiven Apertur gegen die paraxiale sphärische Oberfläche entlang der optischen Achse; fF die Brennweite der vorderen Linsengruppe; f die Brennweite des gesamten Linsensystems; und NRP der Brechungsindex der d-Linie eines positiven Linsenelementes in der hinteren Gruppe.
Die sphärische Aberration ist die Aberration einer Wellenfront, die eine geometrische Form besitzt, die proportional zur vierten Potenz der Höhe (h) ist, an der ein einfallender Strahl die asphärsiche Oberfläche berührt (d. h. die Stelle, an der ein Lichtstrahl die optische Achse relativ zum Brennpunkt schneidet . . .).
Dementsprechend kann eine sphärische Aberration durch Verwendung einer asphärischen Oberfläche S7 (Fig. 1) einer Form korrigiert werden, die der vierten Potenz der Höhe (h) proportional ist. Eine positive Wellenfrontaberration einer Form vierter Ordnung kann also durch Anbringen einer asphärischen Oberfläche vierter Ordnung in der Nähe der Blende erzeugt werden, wobei die negative Stärke der Linse mit der asphärischen Oberfläche zum Außenrand hin zunimmt.
Die oben angeführte Bedingung (1) spezifiziert die Form der asphärischen Oberfläche S7 des vierten Linsenelementes 7 in der Weise, daß sie allgemein proportional zur vierten Potenz der Einfallshöhe (h) ist. Falls das vierte Linsenelement eine asphärische Oberfläche besitzt, deren Form den oberen Grenzwert der Gleichung der Bedingung (1) überschreitet, bewirkt das Gesamtsystem eine Überkorrektur der marginalen außeraxialen Lichtstrahlen. Falls die Form der asphärischen Oberfläche des vierten Linsenelementes unter den unteren Grenzwert der Bedingung (1) fällt, bewirkt das Gesamtsystem eine unvollständige Korrektur der sphärischen Aberrationen.
Bedingung (2) muß zur Sicherung des passenden Rückfokusses und der kompakten Größe des Linsensystems erfüllt werden. Falls die negative Stärke der vorderen Linsengruppe größer als die Untergrenze der Bedingung (2) gemacht wird, entwickelt sich an der zweiten Oberfläche S7 des zweiten Linsenelementes 5 eine innere Koma. Weiter werden bei Anwendung einer negativen Stärke über 1 in der vorderen Linsengruppe Lichtstrahlen veranlaßt, stärker zu divergieren. Die verstärkte Divergenz erfordert eine größere positive Lichtstärke in der hinteren Gruppe. Die Steigerung der positiven Stärke in der hinteren Gruppe erhöht jedoch die Wahrscheinlichkeit einer unvollständigen Korrektur der sphärischen Aberrationen.
Andererseits nimmt im Falle, daß die negative Stärke der vorderen Gruppe schwächer als die Obergrenze der Bedingung (2) gemacht wird, die Gesamtgröße des Linsensystems zu, so daß es schwieriger wird, einen weiten Sichtwinkel zu gewährleisten.
Bedingung (3) spezifiziert den Brechungsindex eines positiven Linsenelementes in der hinteren Gruppe. Die positiven Linsenelemente in der hinteren Gruppe bestimmen die Gesamtlichtstärke des Systems und besitzen eine große positive Stärke. Daher kann durch Verwendung eines optischen Glases mit hohem Brechungsindex in diesen Linsenelementen die Petzvalsumme und somit die Bildfeldwölbung reduziert werden. Falls der Brechungsindex der positiven Linsenelemente zu klein ist, um die Bedingung (3) zu befriedigen, wird die Petzvalsumme groß, womit die Wahrscheinlichkeit zunimmt, daß die Bildfeldwölbung an der Objektseite auftreten wird. Darüber hinaus erfordert ein niedriger Brechungsindex eine stärkere Feldkrümmung in der hinteren Gruppe, um sicherzustellen, daß die Stärke der hinteren Gruppe ausreichend ist. Wie jedoch oben bemerkt wurde, vergrößert die Zunahme der Lichtstärke der hinteren Gruppe die sphärischen Aberrationen und die Comawirkungen.
Bei einer anderen Ausführungsform der Erfindung ist das Weitwinkellinsensystem so aufgebaut, daß es die folgenden Bedingungen (4) und (5) erfüllt:
ν1 < 60 (4)
N1 < 1.55 (5);
dabei stellt ν1 die Abbe′sche Zahl des ersten Linsenelementes, und N1 den Brechungsindex des ersten Linsenelementes auf der d-Linie dar.
Die Bedingungen (4) und (5) spezifizieren die Abbe′sche Zahl sowie den Brechungsindex des ersten Linsenelementes. Die Erfüllung der Bedingung (4) trägt zu einer noch wirksameren Korrektur der seitlichen chromatischen Aberration bei, während die Erfüllung der Bedingung (5) zu einer noch wirkungsvolleren Korrektur der Verzerrung beiträgt.
Nachfolgend werden fünf Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung beschrieben, in denen die Form der asphärischen Oberfläche S7 (auch durch ein Sternchen bezeichnet) durch die folgende Gleichung dargestellt werden soll:
es bedeuten: X die Koordinate in Richtung der optischen Achse; h die Koordinate in Richtung senkrecht zur optischen Achse; C die Feldkrümmung (l/r); K eine Konizitätskonstante; und An einen Asphäriekoeffizienten (n = 4, 6, 8, 10).
Fig. 11 veranschaulicht das vierte Element 7 (Fig. 1) etwas deutlicher. Die paraxiale sphärische Oberfläche ist mit 20 bezeichnet und entspricht einer sphärischen Bezugsebene im vierten Linsenelement. Die sphärische Ebene 20 schneidet die optische Achse an der Stelle X = 0, derart, daß der Abstand X zwischen der sphärischen Ebene 20 und der sphärischen Oberfläche S7 durch die oben erläuterte Bedingung (1) bestimmt wird. Der Abstand zwischen der Ebene 20 und der Oberfläche S7 hängt in jedem gegebenen Punkt P auf der Oberfläche S7 von der Höhe h des Punktes P ab.
Beispiel 1
Fig. 1 stellt eine vereinfachte Querschnittsansicht eines Weitwinkellinsensystems gemäß Beispiel 1 der vorliegenden Erfindung dar. Spezifische numerische Daten dieses Linsensystems sind in Tabelle 1 aufgeführt, während die Aberrationskurven des Systems in Fig. 2 dargestellt sind. In Tabelle 1 bezeichnet: r - den Radius der Feldwölbung; d - die Dicke einer einzelnen Linse bzw. des Luftspaltes zwischen den Linsenoberflächen; N - den Brechungsindex; ν - die Abbe′sche Zahl; f - die Brennweite; fB - den Rückfokus; FNo - das Aperturverhältnis; ω - den Halbsichtwinkel; und An - die Asphäriekoeffizienten (n = 4, 6, 8 und 10).
Tabelle 1
Beispiel 2
Fig. 3 stellt eine vereinfachte Querschnittsansicht eines Weitwinkellinsensystems gemäß Beispiel 2 der vorliegenden Erfindung dar. Die spezifischen numerischen Daten dieses Linsensystems sind in Tabelle 2 wiedergegeben, während die Aberrationskurven des Systems in Fig. 4 dargestellt sind.
Tabelle 2
Beispiel 3
Fig. 5 stellt eine vereinfachte Querschnittsansicht eines Weitwinkellinsensystems gemäß Beispiel 3 der vorliegenden Erfindung dar. Die spezifischen numerischen Daten dieses Linsensystems sind in Tabelle 3 wiedergegeben, während die Aberrationskurven des Systems in Fig. 6 dargestellt sind.
Tabelle 3
Beispiel 4
Fig. 7 stellt eine vereinfachte Querschnittsansicht eines Weitwinkellinsensystems gemäß Beispiel 4 der vorliegenden Erfindung dar. Die spezifischen numerischen Daten dieses Linsensystems sind in Tabelle 4 wiedergegeben, während die Aberrationskurven des Systems in Fig. 8 dargestellt sind.
Tabelle 4
Beispiel 5
Fig. 9 stellt eine vereinfachte Querschnittsansicht eines Weitwinkellinsensystems gemäß Beispiel 5 der vorliegenden Erfindung dar. Die spezifischen numerischen Daten dieses Linsensystems sind in Tabelle 5 wiedergegeben, während die Aberrationskurven des Systems in Fig. 10 dargestellt sind.
Tabelle 5
Wie oben beschrieben, wird in einem Weitwinkellinsensystem mit einfacher Fünfelementenzusammenstellung eine passende sphärische Oberfläche geschaffen, wobei gleichzeitig das entstehende Weitwinkellinsensystem kompakt ist und dennoch eine hohe Leistungsfähigkeit erzielt.
Die Erfindung ist nicht auf die beschriebenen bevorzugten Ausführungsbeispiele beschränkt und kann in verschiedener Hinsicht modifiziert werden, ohne vom Erfindungsprinzip abzuweichen und den Rahmen der Erfindung zu überschreiten, wie dieser in den beigefügten Ansprüchen definiert ist.

Claims (18)

1. Weitwinkellinsensystem, das von der Objektseite bis zur Bildseite folgende Komponenten aufweist:
  • - eine vordere Linsenkomponente mit negativer Lichtstärke, die ein positives erstes Linsenelement und ein negatives zweites Meniskuslinsenelement mit einer konvexen Oberfläche aufweist, die zur Objektseite hin gerichtet ist; und
  • - eine hintere Linsenkomponente mit positiver Lichtstärke, die eine Blende sowie weiter ein positives drittes Linsenelement, ein negatives viertes Linsenelement mit einer asphärischen Oberfläche und ein positives fünftes Linsenelement umfaßt, wobei die negative Lichtstärke des vierten Linsenelementes in jedem Punkte entlang des Halbmessers des vierten Linsenelementes vom Abstand zwischen dem betreffenden Punkt und der optischen Achse abhängt, derart, daß die negative Lichtstärke des vierten Elementes radial nach außen hin zunimmt.
2. Weitwinkellinsensystem nach Anspruch 1, bei dem der Abstand zwischen der asphärischen Oberfläche und einer sphärischen Bezugsfläche an jedem beliebigen Punkte entlang der asphärischen Oberfläche vom Abstand zwischen dem betreffenden Punkte und der optischen Achse abhängt.
3. Weitwinkellinsensystem nach Anspruch 2, bei dem die asphärischen Oberfläche so geformt ist, daß der Abstand zwischen der asphärischen Oberfläche an der effektiven Apertur des vierten Linsenelementes eine vorbestimmte Beziehung zum Abstand zwischen der asphärischen Oberfläche und der Bezugsebene an einem Punkte entlang der asphärischen Oberfläche einhält, der sich auf halber Strecke zwischen der wirksamen Apertur und der optischen Achse befindet.
4. Weitwinkellinsensystem nach Anspruch 2, bei dem das Linsensystem die folgenden Bedingungen erfüllt: 3.5 < [log(ΔX1/ΔX2)/log2] < 4.51.0 < |fF/f| < 1.4, fF<0NRP < 1.65dabei ist: Δ X1 der Abstand zwischen einem Punkte auf der asphärischen Oberfläche bei der wirksamen Apertur des vierten Linsenelementes und der sphärischen Bezugsebene; Δ X2 der Abstand zwischen einem Punkte auf der asphärischen Oberfläche bei einer Hälfte der wirksamen Apertur und der sphärischen Bezugsebene; fF die Brennweite der vorderen Linsenkomponente; f die Brennweite des gesamten Linsensystems; und NRP der Brechungsindex auf der d-Linie des positiven Linsenelementes in der hinteren Linsenkomponente.
5. Weitwinkellinsensystem nach Anspruch 1, bei dem das vierte Linsenelement so geformt ist, daß es eine asphärische Oberfläche durch Bilden einer Kunstharzschicht auf einer Glassubstratbasis und Polieren derselben zur Erzeugung einer sphärischen Oberfläche aufweist.
6. Weitwinkellinsensystem nach Anspruch 1, das folgende Bedingungen erfüllt: ν1 < 60N1 < 1.55dabei stellt ν1 die Abbe′sche Zahl des ersten Linsenelementes, und N1 den Brechungsindex des ersten Linsenelementes auf der d-Linie dar.
7. Weitwinkellinsensystem nach Anspruch 2, bei dem das Linsensystem die folgende Bedingung erfüllt: 3.5 < [log(ΔX1/ΔX2)/log2] < 4.5dabei ist: Δ X1 der Abstand zwischen einem Punkte auf der asphärischen Oberfläche bei der wirksamen Apertur des vierten Linsenelementes und der sphärischen Bezugsebene; und Δ X2 der Abstand zwischen einem Punkte auf der asphärischen Oberfläche bei einer Hälfte der wirksamen Apertur und der sphärischen Bezugsebene.
8. Weitwinkellinsensystem nach Anspruch 2, bei dem das Linsensystem die folgende Bedingung erfüllt: 1.0 < |fF/f| < 1.4, fF<0wobei fF die Brennweite der vorderen Linsenkomponente und f die Brennweite des gesamten Linsensystems ist.
9. Weitwinkellinsensystem nach Anspruch 2, bei dem das Linsensystem die folgende Bedingung erfüllt: NRP < 1.65wobei NRP der Brechungsindex auf der d-Linie des positiven Linsenelementes in der hinteren Linsenkomponente ist.
10. Weitwinkellinsensystem, das von der Objektseite bis zur Bildseite folgende Komponenten aufweist:
  • - eine vordere Linsenkomponente mit negativer Lichtstärke, die ein positives erstes Linsenelement und ein negatives zweites Meniskuslinsenelement mit einer konvexen Oberfläche aufweist, die zur Objektseite hin gerichtet ist; und
  • - eine hintere Linsenkomponente mit positiver Lichtstärke, die eine Blende sowie weiter ein positives drittes Linsenelement, ein negatives viertes Linsenelement mit einer asphärischen Oberfläche und ein positives fünftes Linsenelement umfaßt, wobei der Abstand zwischen der asphärischen Oberfläche des vierten Linsenelementes und einer sphärischen Bezugsebene in einem beliebigen Punkte entlang der asphärischen Oberfläche vom Abstand zwischen dem betreffenden Punkte und der optischen Achse abhängt.
11. Weitwinkellinsensystem nach Anspruch 10, bei dem die asphärischen Oberfläche so geformt ist, daß der Abstand zwischen der asphärischen Oberfläche an der effektiven Apertur des vierten Linsenelementes eine vorbestimmte Beziehung zum Abstand zwischen der asphärischen Oberfläche und der Bezugsebene an einem Punkte entlang der asphärischen Oberfläche einhält, der sich auf halber Strecke zwischen der wirksamen Apertur und der optischen Achse befindet.
12. Weitwinkellinsensystem nach Anspruch 10, bei dem die negative Lichtstärke in jedem Punkte entlang des Halbmessers des vierten Linsenelementes vom Abstand zwischen dem betreffenden Punkte und der optischen Achse abhängt, derart, daß die negative Lichtstärke des vierten Linsenelementes radial nach außen hin zunimmt.
13. Weitwinkellinsensystem nach Anspruch 10, bei dem das Linsensystem die folgenden Bedingungen erfüllt: 3.5 < [log(ΔX1/ΔX2)/log2] < 4.51.0 < |fF/f| < 1.4, fF<0NRP < 1.65dabei ist: Δ X1 der Abstand zwischen einem Punkte auf der asphärischen Oberfläche bei der wirksamen Apertur des vierten Linsenelementes und der sphärischen Bezugsebene; Δ X2 der Abstand zwischen einem Punkte auf der asphärischen Oberfläche bei einer Hälfte der wirksamen Apertur und der sphärischen Bezugsebene; fF die Brennweite der vorderen Linsenkomponente; f die Brennweite des gesamten Linsensystems; und NRP der Brechungsindex auf der d-Linie des positiven Linsenelementes in der hinteren Linsenkomponente.
14. Weitwinkellinsensystem nach Anspruch 10, bei dem das vierte Linsenelement so geformt ist, daß es eine asphärische Oberfläche durch Bilden einer Kunstharzschicht auf einer Glassubstratbasis und Polieren derselben zur Erzeugung einer sphärischen Oberfläche aufweist.
15. Weitwinkellinsensystem nach Anspruch 10, das folgende Bedingungen erfüllt: ν1 < 60N1 < 1.55dabei stellt ν1 die Abbe′sche Zahl des ersten Linsenelementes, und N1 den Brechungsindex des ersten Linsenelementes auf der d-Linie dar.
16. Weitwinkellinsensystem nach Anspruch 10, bei dem das Linsensystem die folgende Bedingung erfüllt: 3.5 < [log(ΔX1/ΔX2)/log2] < 4.5dabei ist: Δ X1 der Abstand zwischen einem Punkte auf der asphärischen Oberfläche bei der wirksamen Apertur des vierten Linsenelementes und der sphärischen Bezugsebene; und Δ X2 der Abstand zwischen einem Punkte auf der asphärischen Oberfläche bei einer Hälfte der wirksamen Apertur und der sphärischen Bezugsebene.
17. Weitwinkellinsensystem nach Anspruch 10, bei dem das Linsensystem die folgenden Bedingungen erfüllt: 1.0 < |fF/f| < 1.4, fF<0wobei fF die Brennweite der vorderen Linsenkomponente; und f die Brennweite des gesamten Linsensystems darstellt.
18. Weitwinkellinsensystem nach Anspruch 10, bei dem das Linsensystem die folgenden Bedingungen erfüllt: NRP < 1.65wobei NRP der Brechungsindex auf der d-Linie des positiven Linsenelementes in der hinteren Linsenkomponente ist.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1996003669A1 (en) * 1994-07-25 1996-02-08 Philips Electronics N.V. Wide angle objective system

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3069437B2 (ja) * 1992-06-30 2000-07-24 富士写真光機株式会社 固定焦点距離レンズ
US5546232A (en) * 1993-06-14 1996-08-13 Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha Two-group zoom lens
US5684643A (en) * 1995-08-25 1997-11-04 Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha Fast wide-angle lens system
JP2866035B2 (ja) * 1995-09-11 1999-03-08 スター精密株式会社 広角レンズ
US5745307A (en) * 1995-12-22 1998-04-28 Eastman Kodak Company Cluster lens system such as for use in photographic printers
JPH09179023A (ja) * 1995-12-25 1997-07-11 Asahi Optical Co Ltd 広角ソフトフォーカスレンズ
US5796528A (en) * 1996-02-15 1998-08-18 Olympus Optical Co., Ltd. Wide-angle lens system
JP4416411B2 (ja) * 2003-02-05 2010-02-17 キヤノン株式会社 レンズ系
CN101957492B (zh) * 2009-07-14 2013-03-13 大立光电股份有限公司 摄影镜头
TWI418843B (zh) * 2009-11-27 2013-12-11 Young Optics Inc 投影鏡頭
US7911716B1 (en) 2010-05-14 2011-03-22 Young Optics Inc. Lens module
EP2397880B1 (de) 2010-06-16 2017-04-12 Ricoh Company, Ltd. Bilderzeugungslinse und Kameravorrichtung und tragbare Informationsendgerätevorrichtung mit der Bilderzeugungslinse
JP5622099B2 (ja) 2010-12-13 2014-11-12 株式会社リコー 結像レンズ、撮像装置および情報装置
KR101862451B1 (ko) * 2016-01-27 2018-05-29 삼성전기주식회사 컨버터 광학계
CN113625420B (zh) * 2020-05-06 2022-10-04 华为技术有限公司 光学镜头、镜头模组和终端
CN113970849A (zh) * 2020-07-22 2022-01-25 株式会社理光 传播光学系统和虚像显示装置以及头戴式显示器

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2594020A (en) * 1949-06-25 1952-04-22 Elgeet Optical Company Inc Wide-angle photographic objective
US3023672A (en) * 1958-10-09 1962-03-06 Bell & Howell Co Wide angle objective
CH447644A (de) * 1964-04-25 1967-11-30 Leitz Ernst Gmbh Photographisches Objektiv
DE2114729C3 (de) * 1971-03-26 1980-09-25 Ernst Leitz Wetzlar Gmbh, 6300 Lahn- Wetzlar Weitwinkel-Objektiv
JPS5832683B2 (ja) * 1976-06-17 1983-07-14 オリンパス光学工業株式会社 広角用ズ−ムレンズ
JPS5412728A (en) * 1977-06-29 1979-01-30 Nippon Chemical Ind Retrofocusstype lens
JPS6038687B2 (ja) * 1979-12-25 1985-09-02 キヤノン株式会社 全長の短い広角写真用レンズ
JPS58202414A (ja) * 1982-05-20 1983-11-25 Minolta Camera Co Ltd 逆望遠型写真レンズ
JPS60178419A (ja) * 1984-02-27 1985-09-12 Canon Inc 撮影レンズ
JPS6278520A (ja) * 1985-10-02 1987-04-10 Canon Inc 非球面を有した広角レンズ
JPS62138811A (ja) * 1985-12-11 1987-06-22 Minolta Camera Co Ltd ビデオプロジエクタ−用屈折型光学系
JPS63234211A (ja) * 1987-03-23 1988-09-29 Minolta Camera Co Ltd リアコンバ−タ−レンズ
JPH0198006A (ja) * 1987-10-12 1989-04-17 Aretsukusu Denshi Kogyo Kk 誘導負荷用省電力制御装置
JPH06278520A (ja) * 1993-03-24 1994-10-04 Kansei Corp カップホルダ装置の引き出しフレーム開閉構造

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1996003669A1 (en) * 1994-07-25 1996-02-08 Philips Electronics N.V. Wide angle objective system

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Publication number Publication date
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GB2253494A (en) 1992-09-09

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