DE4035786A1 - Blaskopf einer vorrichtung zum waschen von halbleitermaterialien - Google Patents
Blaskopf einer vorrichtung zum waschen von halbleitermaterialienInfo
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Description
Die Erfindung bezieht sich generell auf eine Vorrichtung zum
Waschen bzw. Reinigen von Halbleitermaterialien und dabei
mehr im speziellen auf einen Blaskopf zur Abgabe und zum
Leiten eines Luftstromes aus sauberer Luft (clean air) über
eine Vielzahl von Waschtanks, die innerhalb eines Gehäuses
bzw. Kompartments vorgesehen sind.
In der bisher üblichen und allgemein verwendeten Technik
erfolgt das Waschen von Halbleitermaterialien in einer
Vorrichtung, wie sie in den Fig. 7-9 als bekannt
dargestellt ist. Diese Wasch- bzw. Reinigungsvorrichtung wird
zum Waschen von Halbleitermaterialien in Form von Halbleiter-
Scheiben bzw. Halbleiter-Wafer verwendet, die in einem Träger
angeordnet ist. Im Träger ist dann jeweils eine geeignete
Anzahl von Halbleiter-Wafer als Gruppe angeordnet. Wie in der
Fig. 7 auch dargestellt ist, werden innerhalb eines Gehäuses
bzw. Kompartments mehrere Waschtanks vorgesehen, und zwar
üblicherweise in zwei Reihen, von denen eine Reihe wenigstens
einen Tank oder aber mehrere Tanks für Wasser mit einem
chemischen Reinigungsmittel aufweist und die andere Reihe aus
wenigstens einem Tank mit reinem Wasser besteht, und zwar für
einen abschließenden Reinigungs- bzw. Waschvorgang. Wenn
Dampf oder Gase in dem wenigstens einen Tank entstehen, der
das chemische Reinigungs- bzw. Behandlungsmittel enthält, und
in den wenigstens einen benachbarten Tank für die ab
schließende Behandlung bzw. Reinigung gelangen, kann dieses
Gas bzw. dieser Dampf den oberen Teil der Halbleiter-Wafer in
dem wenigstens einen Tank für die abschließende Behandlung
nachteilig beeinflussen, d. h. es können zumindest Ober
flächenverunreinigungen am oberen Bereich der Halbleiter-
Wafer auftreten.
Um diesen Nachteil zu vermeiden, ist das Gehäuse der Wasch
vorrichtung mit einem Blaskopf versehen, und zwar an einer
Seite dieses Gehäuses, während an der gegenüberliegenden
Seite des Gehäuses ein Auslaß gebildet ist, so daß ein
Luftstrom aus reiner Luft (clean air) vom Blaskopf über die
Waschtanks an den Auslaß strömt, und zwar derart, daß Dampf
oder Gase, die aus dem wenigstens einen Tank mit den
chemischen Reinigungsmitteln daran gehindert sind, in den
wenigstens einen Tank für den abschließenden Behandlungs
bzw. Waschvorgang zu gelangen. Die reine Luft wird dem
Blaskopf durch einen Ventilator bzw. ein Gebläse über ein
Filter zugeführt.
Weiterhin ist diese Art von Waschvorrichtung in einem
abgeschlossenen, absolut sauberen Raum (clean room) unter
gebracht und auch die reine Luft wird in Strömungsrichtung
nach unten durch die Decke des geschlossenen, reinen Raumes
abgegeben. Dementsprechend dient der Auslaß, der bevorzugt
von einer Absaugeinrichtung bzw. einem Absaugkopf gebildet
ist, sowohl zum Abführen der aus dem Blaskopf ausgetretenen
sauberen Luft als auch zum Abführen der an der Decke des
sauberen Raumes zugeführten sauberen Luft.
Eine Art der bekannten Blasköpfe ist an seinem Ende mit einer
Vielzahl von Öffnungen versehen, wie dies in der Fig. 8
dargestellt ist, wobei dann die saubere Luft durch diese
Öffnung austritt. Eine andere Art von Blasköpfen besitzt, wie
in der Fig. 9 dargestellt ist, ein sich nach oben er
streckendes Rohrstück, dessen oberster Teil gekrümmt ist und
sich zu dem Ende hin etwas verjüngt, um so einen im wesent
lichen horizontalen Luftstrom zu erzeugen.
Da bei dem erstgenannten Stand der Technik die saubere Luft
durch eine Vielzahl von Öffnungen bzw. Löchern austritt,
ergibt sich ein sich erweiternder Luftstrom mit Turbulenzen,
was für den angestrebten Zweck nicht wünschenswert ist. Bei
dem letztgenannten Stand der Technik, bei dem ein sich
verjüngendes Ende für die Abgabe des Luftstromes vorgesehen
ist und ein annähernd laminarer Luftstrom erreicht wird,
besteht allerdings der schwerwiegende Nachteil, daß dann,
wenn die Träger für die Halbleiter-Wafer in die Waschtanks
eingesetzt oder aus diesen entnommen werden, Flüssigkeits
bzw. Wasserspritzer oder -tropfen usw. in das Innere des
Blaskopfes gelangen können. Dies führt dann zu Zerstörungen
des im Rohrstück des Blaskopfes angeordneten Filters durch
derartige Flüssigkeits- oder Wassertropfen usw.
Aufgabe der Erfindung ist es daher, die vorgenannten Probleme
und Nachteile zu vermeiden und einen verbesserten Blaskopf
für eine Vorrichtung zum Reinigen bzw. Waschen von Halb
leiter-Wafer aufzuzeigen, der (Blaskopf) eine sehr wirksame,
laminare Strömung für reine Luft erzeugt und gleichzeitig
aber auch verhindert, daß Flüssigkeits- bzw. Wassertropfen
oder -spritzer in das Innere des Blaskopfes gelangen.
Zur Lösung dieser Aufgabe ist ein Blaskopf innerhalb seines
Rohrstückes mit einer Vielzahl von Durchlässen bzw. Kanälen
versehen, wobei wenigstens am oberen Ende jeder Durchlaß zu
diesem Ende hin konvergierend bzw. sich verjüngend ausge
bildet ist, welches (Ende) einen sich in Querrichtung
erstreckenden Schlitz bildet. Vorzugsweise sind die Schlitze
mit jeweils wenigstens einem oder aber mit mehreren Ver
stärkungselementen oder -klötzchen versehen. Bevorzugt ist
weiterhin eine Ionisiereinrichtung an dem Ende der Durchlässe
vorgesehen, um die vom Blaskopf abgegebene reine Luft zu
ionisieren.
Ein derartiges, mit Schlitzen versehenes Ende des Blaskopfes
stellt einen laminaren Strom an reiner Luft sicher, wobei
dieser Luftstrom, der über die entsprechenden Tanks geführt
ist, diese oben abdeckt, d. h. der Luftstrom verhindert, daß
Gase oder Dämpfe, die von den chemische Reinigungsmittel
enthaltenden Tanks stammen, in die Tanks für die ab
schließende Behandlung bzw. für das abschließende Waschen
oder Reinigen gelangen können.
Die Erfindung wird im Folgenden anhand der Figuren an
Ausführungsbeispielen näher erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 in Seitendarstellung eine Vorrichtung zum Waschen
bzw. Reinigen von Halbleitermaterialien, die
(Vorrichtung) einen Blaskopf gemäß der Erfindung
aufweist;
Fig. 2 eine perspektivische Darstellung des in der Fig. 1
verwendeten Blaskopfes;
Fig. 3 einen Vertikalschnitt des in der Fig. 1 verwendeten
Blaskopfes;
Fig. 4 einen Vertikalschnitt einer weiteren Ausführungsform
des Blaskopfes gemäß der Erfindung;
Fig. 5 in perspektivischer Darstellung eine weitere Aus
führungsform des erfindungsgemäßen Blaskopfes;
Fig. 6 in perspektivischer Darstellung einen Teil einer
Waschvorrichtung, zusammen mit einem dort vorge
sehenen Blaskopf gemäß der Erfindung;
Fig. 7 eine Seitenansicht einer Einrichtung zum Waschen von
Halbleitermaterialien mit einem Blaskopf konven
tioneller Ausbildung;
Fig. 8 eine Seitenansicht des herkömmlichen Blaskopfes gemäß
Fig. 7; und
Fig. 9 in Teildarstellung und in Seitenansicht eine Wasch
vorrichtung mit einem anderen Typ einer herkömmlichen
Blaseinrichtung.
Die Erfindung wird nun nachfolgend unter Bezugnahme auf
bevorzugte Ausführungsbeispielen näher erläutert und be
schrieben. Fig. 1 zeigt eine Ausführungsform einer
Reinigungs- bzw. Wascheinrichtung mit einem erfindungsgemäßen
Blaskopf 10. Dieser Luftaustrittskopf bzw. Blaskopf ist an
einer Seite eines Gehäuses 1 angeordnet und bildet den Auslaß
für gereinigte bzw. saubere Luft, die durch das Gehäuse zu
einem Auslaß oder einer Absaugöffnung 4 geleitet wird, die
dem Blaskopf gegenüberliegend vorgesehen ist. Die Strömung
der sauberen Luft verläuft oberhalb der entsprechenden, im
Gehäuse 1 angeordneten Reinigungs- bzw. Waschtanks 2, um zu
verhindern, daß Dampf aus solchen Tanks, die chemische
Reinigungsmittel enthalten, in die Tanks mit reinem Wasser
gelangt. In der Fig. 1 sind 5 ein Gebläse und 6 ein Filter.
Wie in den Fig. 2 und 3 dargestellt ist, besitzt der
Blaskopf 10 gemäß der Erfindung ein Rohrstück 9, welches
einen rechteckförmigen Querschnitt aufweist sowie eine
Vielzahl von Kanälen bzw. Durchlässen 11, die innerhalb des
Rohrstückes 9 dadurch gebildet sind, daß der Querschnitt des
Rohrstückes durch eine sich parallel zu der Längsseite und
zur größeren Querschnittsseite des Rohrstückes 9 erstreckende
Trennwand 13 oder aber durch mehrere derartige Trennwände
unterteilt ist. Das Rohrstück 9 besitzt einen sich nach oben
erstreckenden Abschnitt und einen oberen Abschnitt, der (in
bezug auf das Gehäuse) nach innen derart gekrümmt ist, daß
aus diesem Abschnitt ein Luftstrom der gereinigten Luft im
wesentlichen in horizontaler Richtung austritt. Jeder
Durchlaß 11, zumindest jedoch der obere Abschnitt hiervon ist
konvergierend, d. h. im Querschnitt sich zum Ende verengend
geformt sowie weiterhin auch so geformt, daß das Ende jedes
Abschnittes 11 einen langgestreckten Schlitz 12 bildet, der
sich in Querrichtung erstreckt, wie dies in der Fig. 2
dargestellt ist. Der obere Abschnitt des jeweiligen Durch
lasses 11 ist leicht nach innen gekrümmt.
Die entsprechenden Schlitze 12 erstrecken sich üblicherweise
parallel zu den Seitenwänden des Gehäuses 1. In vielen Fällen
besitzt das Rohrstück 9 zwei oder drei Durchlässe, wobei die
Breite jedes Schlitzes 12 am Ende des Rohrstückes 9 vorzugs
weise 1-3 mm beträgt. Die jeweiligen Durchlässe 11 sind,
wie in der Fig. 3 gezeigt ist, durch Trennwände oder Wände 13
gebildet, die sich ausgehend von dem unteren Abstand des
Rohrstückes 9 des Blaskopfes bis an das Ende dieses Rohr
stückes erstrecken.
Die saubere bzw. gereinigte Luft in dem Rohrstück 9 wird
daher auf die beiden Durchlässe 11 verteilt und in diesen an
die Schlitze 12 geführt. Das Verhältnis der maximalen Breite
der Durchlässe 11 zu der Breite der Schlitze beträgt etwa 5 : 1
bis etwa 10 : 1.
Wie die Fig. 3 deutlich zeigt, sind die Schlitze 12 an dem
Ende des Blaskopfes 10 so gebildet, daß der obere Schlitz 12
(bezogen auf das Gehäuse 1) weiter nach innen vorsteht als
der untere Schlitz, d. h. von einer die Längserstreckung des
unteren Abschnittes des Rohrstückes, beispielsweise den
dortigen Abschnitt der Trennwand einschließenden vertikalen
Ebene weist der obere Schlitz 12 einen größeren Abstand auf
als der untere Schlitz 12. Wie allerdings in der Fig. 4 bei
einer weiteren Ausführungsform dargestellt ist, können die
Schlitze 12 auch so gebildet sein, daß der untere Schlitz
(bezogen auf das Gehäuse) weiter nach innen vorsteht als der
obere Schlitz. Wie weiterhin in der Fig. 5 dargestellt ist,
ist es auch möglich, daß an den jeweiligen Schlitzen 12 ein
Verstärkungselement oder aber mehrere derartige Verstärkungs
elemente 17 an einer oder aber an mehreren geeigneten
Positionen vorgesehen werden können, falls dies erwünscht
ist. Die Verstärkungselemente 17 wirken einer Verformung der
Schlitze 12 entgegen und stellen somit sicher, daß diese ihre
adequate bzw. gewünschte Form beibehalten. Bevorzugt sind
weiterhin Ionisierungselemente am Ende des Blaskopfes 10
vorgesehen, um eine elektrostatische Aufladung zu verhindern
bzw. zu beseitigen. Solche Ionisierungselemente ionisieren
die saubere Luft bzw. den entsprechenden Luftstrom, der aus
dem Blaskopf 10 austritt, um dadurch eine mögliche elektro
statische Ladung zu neutralisieren, sofern eine solche Ladung
auf den Halbleiter-Wafern auftreten sollte.
Obwohl das Luftfilter 6 bei der Darstellung der Fig. 1
zwischen dem Blaskopf 10 und dem Gebläse 5 zum Zuführen der
sauberen Luft vorgesehen ist, ist es vorteilhaft, das Filter
6 untergebracht in einem Kasten unterhalb des Blaskopfes 10
abnehmbar vorzusehen. Weiterhin sind eine mit dem Filter 6
verbundene Einlaßleitung 6a sowie eine Leitung 9a für die
saubere Luft vorzugsweise mittels einer Rohrkupplung 14
abnehmbar miteinander verbunden, wodurch ein Auswechseln des
Filters leicht durchgeführt werden kann. In der Fig. 6 ist
mit 15 ein Element bzw. ein Anschlag bezeichnet, der ein Ende
des Filters abstützt bzw. trägt.
Wie oben beschrieben wurde, besitzt der Blaskopf 10 an seinem
Ende eine Vielzahl von einander benachbarten bzw. über
einander angeordneten Querschlitzen 12, wobei die saubere
Luft über die Durchlässe an diese Schlitze geführt ist und
durch diese ausströmt. Auf diese Weise ergibt sich eine
laminare Strömung für die saubere Luft über die jeweiligen
Behandlungs- bzw. Waschtanks 2 zu dem gegenüberliegenden
Auslaß 4. Diese laminare Strömung der sauberen Luft ver
hindert, daß evtl. Dämpfe, die in Tanks mit Reinigungschemi
kalien erzeugt werden, nach oben aufsteigen können. Weiterhin
werden auf diese Weise derartige Dämpfe auch daran gehindert,
in diejenigen Tanks zu gelangen, die für die Endbehandlung
bzw. das abschließende Waschen verwendet werden. Da das Ende
des Blaskopfes 10 eine Vielzahl von langen Querschlitzen
bildet, wird durch diese Anordnung auch verhindert, daß
Wasser- bzw. Flüssigkeitsspritzer usw. in den Blaskopf 10
gelangen können, womit auch jede Beschädigung des Luftfilters
6 vermieden wird.
Wie in der Fig. 8 dargestellt ist, besitzt ein Blaskopf 3
herkömmlicher Ausbildung eine Vielzahl von Öffnungen 7 oder
aber entsprechend Fig. 9 nur eine Öffnung einer Rohrleitung.
Hierdurch ergeben sich die oben bereits beschriebenen
Nachteile, die insbes. in Turbulenzen sowie darin bestehen,
daß Wasser- oder Flüssigkeitsspritzer bzw. Teilchen 8 in das
Innere des Blaskopfes gelangen können.
Die Erfindung vermeidet diesen Nachteil des Standes der
Technik. Auf diese Weise kann der erfindungsgemäße Blaskopf
besonders wirksame Einflüsse von Dampf, der aus Tanks mit
chemischen Behandlungs- bzw. Reinigungsmedien stammt, auf
Halbleiter-Wafer vermeiden, die in den Tanks für die ab
schließende Behandlung bzw. Reinigung angeordnet sind, und
zwar durch eine laminare Strömung der sauberen Luft.
Die Erfindung wurde vorstehend an Ausführungsbeispielen
beschrieben. Es versteht sich, daß Änderungen sowie Modi
fikationen möglich sind, ohne daß dadurch der der Erfindung
zugrundeliegende Erfindungsgedanken verlassen wird.
Claims (3)
1. Blaskopf, welcher ein sich nach oben erstreckendes
Rohrstück aufweist und an einer Seite eines Gehäuse bzw.
Kompartment (1) als Element einer Vorrichtung zum Waschen
von Halbleitermaterialien angeordnet werden kann, wobei
die Vorrichtung eine Vielzahl von Waschtanks (2) in dem
Gehäuse bzw. Kompartment aufweist und wobei aus dem
Blaskopf (10) austretende gereinigte Luft über die
Waschtanks (2) an einen Auslaß (4) strömt, der an einer
dem Blaskopf (10) gegenüberliegenden Seite angeordnet
ist, dadurch gekennzeichnet, daß der Blaskopf (10) eine
Vielzahl von Kanälen bzw. Durchlässen (11) innerhalb des
Rohrstückes (9) bildet, und daß wenigstens der obere
Abschnitt jedes Durchlasses (11) konvergierend bzw. sich
verjüngend zum Ende hin ausgebildet ist, welches einen
Querschlitz (12) bildet, um so einen laminaren Luftstrom
zu erreichen.
2. Blaskopf einer Vorrichtung zum Waschen von Halbleiter
materialien nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
die entsprechenden Schlitze (12) am Ende der Durchlässe
(11) eine Vielzahl von Versteifungschips bzw. -elementen
(17) besitzen.
3. Blaskopf eines Gerätes zum Waschen von Halbleitermateria
lien nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß
Ionisierelemente bzw. -einrichtungen am Ende der Durch
lässe (11) vorgesehen sind, um die reine Luft des aus dem
Blaskopf (10) ausströmenden Luftstromes zu ionisieren.
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Family
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8139 | Disposal/non-payment of the annual fee |