DE3910345A1 - Verfahren und vorrichtung zur analyse von fluor enthaltenden gasen - Google Patents
Verfahren und vorrichtung zur analyse von fluor enthaltenden gasenInfo
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Description
Die Erfindung betrifft die Analyse von Gasen, welche mole
kulares Fluor enthalten, und insbesondere ein Verfahren
zur Bestimmung wenigstens der Konzentration von Fluor
in einem Fluor enthaltenden Mischgas sowie eine Vorrich
tung zur Durchführung des Verfahrens. Das Verfahren und
die Vorrichtung gemäß der Erfindung sind zur Analyse von
Fluor enthaltenden Excimerlasergasen besonders geeignet.
Bekannte Verfahrensweisen zur Bestimmung der Konzentration
von Fluor in einem Mischgas umfassen Naßverfahren und
Trockenverfahren.
Ein typisches Beispiel für Naßverfahren ist eine Elektro
analysenmethode unter Verwendung einer LiCl-Lösungszelle,
in welcher Chlorionen durch Absorption von Fluorgas oxi
diert werden (Anal. Chem., 40 (1968) 2217). Bei dieser
Verfahrensweise ist es wesentlich, eine vollständige Ab
sorption des Probengases in der LiCl-Lösung durchzuführen,
bei industriellen Anwendungen ist es jedoch schwierig,
optimale Bedingungen zum Einblasen des Gases in die Lösung
aufrechtzuerhalten, und die Analyse bedingt komplizierte
Instrumente und Arbeitsvorgänge.
Ein Beispiel für Trockenverfahren umfaßt die Stufen des
Durchleitens eines Fluor enthaltenden Gases durch eine
Säule aus NaCl zur Bildung von Chlorgas, zwangsweise Ab
sorption des Chlorgases in einer NaOH-Lösung und Bestim
mung des in der Lösung gebildeten Hypochlorits durch iodo
metrische Titration (A.M.G. Macdonald et al, "Fluorine",
Encyclopedia of Industrial Chemical Analysis, Vol. 13,
New York-London-Sydney-Toronto, 1971). Da sich diese Methode
zweier aufeinanderfolgender Reaktionen bedient, werden die
Instrumente kompliziert und es ist schwierig, exakte Ergeb
nisse zu erreichen. Ebenfalls ist es bekannt, ein Fluor ent
haltendes Gas direkt durch Gaschromatographie bei Beachtung
korrosionsverhindernder Maßnahmen wie der Verwendung von
Nickel oder einem alternativen speziellen Material für die
mit dem Probengas in Kontakt kommenden Teile und die Ab
deckung der Wärmeleitfähigkeitszellen mit PTFE zu analysie
ren. Solche Maßnahmen erhöhen jedoch die Kosten der Appara
turen und setzen die Empfindlichkeit herab.
Einige Excimerlaser benutzen ein Fluor enthaltendes Gas
wie eine Mischung von Ar, F2 und He oder Ne oder eine
Mischung von Kr, F2 und He oder Ne. Bei einem solchen
Lasergas beträgt der Gehalt an F2 üblicherweise etwa 0,1-1
Vol.-%. Beim Betrieb eines Excimerlasers dieser Kate
gorie kommt es nicht selten vor, daß die Laserausgangs
leistung allmählich niedriger wird, hauptsächlich wegen
der Erniedrigung der Konzentration an Fluor in dem Laser
gas und/oder der Bildung von Verunreinigungsgasen. Obwohl
in einem Excimerlasergas gebildete Verunreinigungsgase
durch einen Adsorptionsprozeß oder ein Kältfallenverfahren
periodisch oder kontinuierlich entfernt werden können, ist
die Überwachung der Fluorkonzentration in dem Lasergas
als Folge der Kompliziertheit der Analysenvorgänge und der
Schwierigkeit der Handhabung des Probengases derzeit bei
nahe undurchführbar.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist die Bereitstellung
eines durchführbaren Verfahrens zur genauen und raschen
Bestimmung der Fluorkonzentration in einem Mischgas, vor
zugsweise zusammen mit der Bestimmung der Konzentration
oder der Konzentrationen von einem anderen Bestandteil
oder mehreren anderen Bestandteilen, wobei das Verfahren
zur Analyse eines Fluor enthaltenden Excimerlasergases wäh
rend des Betriebs des Lasers brauchbar sein soll, ferner
hin die Bereitstellung einer Vorrichtung zur Analyse eines
Fluor enthaltenden Gases nach einem solchen Verfahren,
wobei das Verfahren und die Vorrichtung in der Lage sein
sollen, die Konzentration von Fluor in einem Excimerlaser
gas durch Anwendung einer Gasanalysenmethode zu steuern,
um auf diese Weise die Laserausgangsleistung zu stabili
sieren.
Zur Lösung dieser Aufgabe dient das Verfahren zur Analyse
eines Fluorgas enthaltenden Mischgases zur Bestimmung wenig
stens der Konzentration des Fluorgases, wobei das Verfah
ren dadurch gekennzeichnet ist, daß es folgende Stufen um
faßt:
- a) Durchleiten des Mischgases durch eine gepackte Säu le, welche eine kein Halogenatom enthaltende und mit Fluorgas unter Bildung eines festen Fluorids und wenigstens einer Substanz in Form von moleku larem Sauerstoff oder Kohlendioxid reagierende Verbindung umfaßt,
- b) Messen der Konzentration eines der vorbestimmten Gase molekularer Sauerstoff oder Kohlendioxid in einem aus der gepackten Kolonne austretenden Gas, und
- c) Umwandlung der in Stufe (b) gemessenen Konzentra tion an molekularem Sauerstoff oder Kohlendioxid in die Konzentration von Fluorgas in dem Mischgas.
Das Hauptmerkmal der Erfindung liegt darin, daß Fluorgas
in dem durch die zuvorgenannte gepackte Säule durchgelei
tetem Probengas - in einem bildlichen Sinn - in ein ande
res gasförmiges Element oder eine gasförmige Verbindung
"umgewandelt" wird, welches/welche kein Fluoratom aufweist,
während Fluor in der gepackten Säule als festes Fluorid
fixiert wird, so daß die Fluorkonzentration in dem Proben
gas dadurch bestimmt wird, daß die Konzentration dieses
gasförmigen Elementes oder dieser gasförmigen Verbindung
gemessen wird. Daher werden die Schwierigkeiten und Unbe
quemlichkeiten bei der direkten Messung der Menge an Fluor
oder eines Fluorids vollständig ausgeschaltet.
Üblicherweise wird ein Hydroxid, Oxid, Carbonat, Hydrogen
carbonat, Sulfat oder Nitrat eines Alkalimetalls oder
eines Erdalkalimetalls in der gepackten Säule eingesetzt.
Beispielsweise wird die Reaktion von Fluor mit Calcium
hydroxid durch die Gleichung (1) wiedergegeben:
F₂ + Ca(OH)₂ → CaF₂ + H₂O + 1/2 O₂ (1)
Dies bedeutet, daß 1 mol F2 exakt in 1/2 mol O2 "umgewan
delt" wird. Diese Beziehung gilt ebenfalls, wenn ein hier
von verschiedenes Salz eines Alkalimetalls oder Erdalkali
metalls verwendet wird. Die Konzentration von Sauerstoff
in dem aus der gepackten Säule ausströmenden Gas kann
leicht und genau und rasch gemessen werden, und die Fluor
konzentration in dem zu Beginn eingeführten Probengas
kann aus der gemessenen Konzentration des Sauerstoffs
durch sehr einfache Umrechnung bestimmt werden. Die Kon
zentration an Sauerstoff kann bequem mittels eines konven
tionellen Sauerstoffsensors bzw. einer Sauerstoffmeßein
richtung, bei welcher stabilisiertes Zirkoniumdioxid ver
wendet wird, gemessen werden.
Wenn ein Carbonat oder Hydrocarbonat eines Alkalimetalls
oder eines Erdalkalimetalls in der gepackten Säule verwen
det wird, wird die Reaktion durch die Gleichung (2) wieder
gegeben:
F₂ + CaCO₃ → CaF₂ + CO₂ + 1/2 O₂ (2)
In diesem Fall (und ebenso bei Verwendung eines hiervon
verschiedenen Carbonates oder Hydrogencarbonates) werden
1 mol CO2 und 1/2 mol O2 aus 1 mol F2 gebildet. Daher ist
es möglich, die Fluorkonzentration in dem zu Beginn einge
führten Probengas durch Messung der Konzentration von
Kohlendioxid in dem aus der gepackten Säule ausströmenden
Gas zu messen. Die Konzentration an Kohlendioxid wird z.B.
durch Gaschromatographie oder durch IR-Absorptionsspektral
analyse gemessen.
Falls das Fluor enthaltende Probengas O2 oder CO2 enthält
oder möglicherweise enthält, die nach Durchleiten des Gases
durch die zuvorgenannte gepackte Säule gemessen werden müs
sen, ist die Notwendigkeit der Bestimmung der Anfangskon
zentration von O2 oder CO2 in dem Mischgas gegeben. In ei
nem solchen Fall umfaßt das erfindungsgemäße Verfahren wei
terhin die Stufen (d) des Durchleitens des Mischgases durch
eine weitere gepackte Säule, welche ein mit Fluorgas unter
Bildung eines Fluorids reagierendes Element umfaßt, und der
Stufe (e) der Messung der Konzentration an Sauerstoff oder
Kohlendioxid in dem aus dieser weiteren gepackten Säule aus
strömenden Gas, und die zuvor beschriebene Stufe (c) umfaßt
die Unterstufen des Vergleichs der in Stufe (b) gemessenen
Konzentration mit der in Stufe (e) gemessenen Konzentration.
Der Zweck der Stufe (d) liegt in der Vermeidung des Kontak
tes von Fluor mit der Einrichtung zur Messung der Konzen
tration von Sauerstoff oder Kohlendioxid. Daher ist die
Verwendung eines Elementes, z.B. Fe, geeignet, welches
mit Fluor unter Bildung eines festen Fluorides reagiert,
um auf diese Weise Fluor innerhalb der Säule von Fe oder
eines alternativen Elementes zu fixieren. Die Verwendung
eines Elementes, z.B. von Si, welches mit Fluor unter
Bildung eines gasförmigen Fluorides reagiert, ist jedoch
ebenfalls möglich. In diesem Fall wird das das gasförmige
Fluorid enthaltende Gas durch eine zusätzliche Säule ge
leitet, welche mit einer Alkalimetall- oder Erdalkalimetall
verbindung gepackt ist, die mit dem gasförmigen Fluorid
unter Bildung eines festen Fluorides reagiert, wie dies
durch die Gleichung (3) wiedergegeben wird:
SiF₄ (g) + 2 Ca(OH)₂ → 2 CaF₂ (f) + SiO₂ + 2 H₂O (3)
(g)=gasförmig
(f)=fest
(f)=fest
Die Erfindung betrifft weiterhin eine Vorrichtung zur
Analyse eines Fluorgas enthaltenden Mischgases, um wenig
stens die Konzentration des Fluorgases zu bestimmen, wo
bei die Vorrichtung umfaßt:
eine gepackte Säule, welche eine kein Halogenatom enthaltende und mit Fluorgas unter Bildung eines festen Halogenids und wenigstens einer Substanz in Form von molekularem Sauerstoff oder Kohlendioxid reagierende Verbindung umfaßt,
Einrichtungen zum Durchleiten des Fluor enthaltenden Mischgases durch diese gepackte Säule; und
eine Gasnachweiseinrichtung zur Messung der Konzentra tion eines der vorbestimmten Gase molekularer Sauer stoff oder Kohlendioxid in einem aus dieser gepack ten Säule austretenden Gas.
eine gepackte Säule, welche eine kein Halogenatom enthaltende und mit Fluorgas unter Bildung eines festen Halogenids und wenigstens einer Substanz in Form von molekularem Sauerstoff oder Kohlendioxid reagierende Verbindung umfaßt,
Einrichtungen zum Durchleiten des Fluor enthaltenden Mischgases durch diese gepackte Säule; und
eine Gasnachweiseinrichtung zur Messung der Konzentra tion eines der vorbestimmten Gase molekularer Sauer stoff oder Kohlendioxid in einem aus dieser gepack ten Säule austretenden Gas.
Wahlweise kann die Vorrichtung weiterhin eine weitere
Säule umfassen, welche mit einem mit Fluorgas unter Bil
dung eines Fluorides reagierendes Element gepackt ist,
und falls dieses Fluorid ein gasförmiges Fluorid ist,
kann die Vorrichtung ferner noch eine zusätzlichen Säule
umfassen, welche mit dieser weiteren Säule verbunden ist
und mit einer Alkalimetallverbindung oder einer Erdalkali
metallverbindung gepackt ist, die mit dem gasförmigen
Fluorid unter Bildung eines festen Fluorids reagiert.
Bei Anwendung des erfindungsgemäßen Verfahrens kann die
Konzentration von Fluor in verschiedenen Arten von Misch
gasen rasch und genau mittels einer einfachen Apparatur
und einfacher Arbeitsvorgänge bestimmt werden. Es ist
möglich, selbst Fluorkonzentrationen in der Größenordnung
von ppm (ppm=Teile pro Million) zu bestimmen. Neben
der Fluorkonzentration kann die Konzentration einer be
liebigen anderen Komponente des Mischgases einfach mittels
einer geeigneten Analysenvorrichtung gemessen werden, da
in den meisten Fällen die "Umwandlung" von Fluor zu Sauer
stoff oder Kohlendioxid ohne Beeinflussung einer anderen
Komponente oder anderer Komponenten des Mischgases erreicht
wird. Das Verfahren und die Vorrichtung gemäß der Erfindung
sind zur Anwendung bei Excimerlasern, welche ein Fluor
enthaltendes Lasergas benutzen, geeignet, da Veränderungen
in der Fluorkonzentration in dem Lasergas leicht während
des Betriebs des Lasers nachgewiesen werden können und
weil die Konzentrationen von Edelgasen ebenfalls unter
Einsatz einer geeigneten Nachweiseinrichtung gemessen
werden können.
Weiterhin betrifft die Erfindung ein Verfahren und ein
System zur Steuerung der Konzentration von Fluor in einem
Excimerlasergas während des Betriebs des Lasers zur Sta
bilisierung der Laserausgangsleistung. Das Steuerverfah
ren umfaßt die Stufen der Bestimmung der Konzentration
von Fluor in dem Excimerlasergas durch Analyse von Laser
gasproben nach dem zuvor beschriebenen, die Stufen (a),
(b) und (c) umfassenden Verfahren, die Erzeugung eines
elektrischen Signals, welches die vorbestimmte Konzentra
tion an Fluor in dem Lasergas wiedergibt, die Durchführung
eines Rechenvorganges unter Benutzung dieses elektrischen
Signals zum Auffinden einer Abweichung der Konzentration
von Fluor in dem Lasergas von einer vorbestimmten Konzen
tration und die Erzeugung eines Steuersignals, welches
eine geeignete Menge der Zuführung von Fluorgas zu dem
Lasergas in dem Laser zur Aufhebung dieser Abweichung
wiedergibt, und die Einregulierung der Fluorzufuhr zu
dem Lasergas in dem Laser auf Basis des Steuersignals.
Das Steuersystem umfaßt Einrichtungen zur Durchführung
der jeweiligen Stufen des Steuerverfahrens.
Auf diese Weise kann die Fluorkonzentration in einem Ex
cimerlasergas während des Betriebs des Lasers genau nach
gewiesen werden, und durch Rückkopplung der nachgewiesenen
Fluorkonzentration zu dem Fluorzuführungssystem wird die
Fluorkonzentration automatisch auf die gewünschte Konzen
tration eingeregelt. Daher kann der Excimerlaser konti
nuierlich für viele Stunden bei sehr stabiler Ausgangs
leistung betrieben werden.
Die Erfindung wird unter Bezugnahme auf die Zeichnung
näher erläutert; in der Zeichnung sind:
Fig. 1 eine schematische Erläuterung einer erfindungs
gemäßen Vorrichtung zur Bestimmung der Fluorkon
zentration in einem Excimerlasergas;
Fig. 2 ein Diagramm mit dem Ergebnis eines Tests auf
Genauigkeit eines Sauerstoffsensors, wie er in
der Vorrichtung von Fig. 1 verwendet wird;
Fig. 3 ein Diagramm mit dem Ergebnis eines Versuchs zur
Bestimmung der Fluorkonzentration in einer bekann
ten Gasmischung durch Umsetzung von Fluor mit
Natriumchlorid unter Bildung von Chlorgas und
Messung des Chlorgases durch Gaschromatographie;
Fig. 4 eine schematische Erläuterung einer anderen Vor
richtung gemäß der Erfindung zur Analyse eines
Fluor enthaltenden Mischgases, und
Fig. 5 eine schematische Erläuterung einer Vorrichtung
gemäß der Erfindung zur Steuerung der Fluorkon
zentration in einem Lasergas eines Excimerlasers.
Die Erfindung wird anhand bevorzugter Ausführungsformen
näher erläutert:
Als eine Ausführungsform der Erfindung zeigt die Fig. 1
eine Vorrichtung zur Bestimmung der Fluorkonzentration
in einer Gasmischung durch Messung der Menge an Sauerstoff
gas, welche durch Reaktion von Fluor mit einem ausgewähl
ten Reaktionsteilnehmer gebildet wurde. Die Bezugsziffer
10 bedeutet eine Quelle eines Fluor enthaltenden Misch
gases. Beispielsweise ist die Gasquelle 10 ein Excimer
laser. Das Mischgas wird als Probengas bezeichnet. Über
die Leitung 12 ist die Gasquelle 10 mit einer ersten ge
packten Säule 20 und einer zweiten gepackten Säule 30,
welche parallel angeordnet sind, verbunden. Die Leitung
schließt Ventile 14, 16 und 18 ein, um das Probengas ent
weder in die erste gepackte Säule 20 oder die zweite ge
packte Säule 30 einzuführen.
Die Packung der ersten Säule 20 enthält wenigstens eine
Art einer Alkalimetallverbindung oder Erdalkalimetallver
bindung, welche mit molekularem Fluor unter Bildung von
Sauerstoffgas und einem Metallfluorid reagiert. Vorteil
hafterweise wird ein Hydroxid wie Lithiumhydroxid, Natrium
hydroxid, Kaliumhydroxid, Calciumhydroxid, Magnesiumhydro
xid, Strontiumhydroxid oder Bariumhydroxid oder ein Oxid
wie Lithiumoxid, Natriumoxid, Kaliumoxid, Calciumoxid,
Magnesiumoxid oder Bariumoxid, oder ein Carbonat wie Lithium
carbonat, Natriumcarbonat, Kaliumcarbonat, Magnesiumcarbo
nat, Calciumcarbonat, Strontiumcarbonat oder Bariumcarbo
nat verwendet. Ebenfalls ist es möglich, ein Hydrogencarbo
nat, Sulfat oder Nitrat eines Alkalimetalls oder eines
Erdalkalimetalls zu verwenden. Bevorzugt wird Natronkalk
verwendet, welches im wesentlichen eine Mischung aus Cal
ciumhydroxid, Calciumoxid und Natriumhydroxid ist, da
Natronkalk leicht mit Fluor unter Bildung von Sauerstoff
gas in einer exakt proportionalen Menge zu der Menge des
hiermit in Kontakt gebrachten Fluorgases reagiert. In
jedem Fall ist es vorteilhaft, ein feines Pulver der aus
gewählten Verbindung oder einer Mischung einzusetzen.
Die gepackte Säule 20 kann bei Zimmertemperatur betrieben
werden, vorzugsweise wird diese Säule jedoch auf Tempera
turen oberhalb von 100°C für eine effiziente Reaktion
der Packung mit Fluor gehalten. Die gepackte Säule 20
in Fig. 1 ist mit einer Heizeinrichtung 22 und einer Tempera
turkontrolleinheit 24 versehen.
Für das Konstruktionsmaterial der Säule 20 gibt es inso
fern keine Beschränkungen, solange es gegenüber Fluorgas
beständig ist. Für praktische Zwecke wird die Säule 20
aus rostfreiem Stahl oder Monelmetall hergestellt, und
vor einem tatsächlichen Gebrauch wird die Säulenoberfläche
durch Überleiten von Fluorgas durch die leere Säule passi
viert. Üblicherweise hat die Säule 20 einen Durchmesser
von etwa 10 mm und eine Länge von etwa 100 mm. Eine geeig
nete Menge der Packung der Säule 20 hängt von dem Wert
der Fluorkonzentration in dem zu analysierenden Gas ab.
Für praktische Zwecke ist es wünschenswert, daß die Gas
analyse wenigstens 2000 mal ohne Ersatz der Packung durch
geführt werden kann. Zum Zweck der Messung der Fluorkon
zentration in einem Excimerlasergas reicht es z.B. aus,
die Säule 20 mit etwa 10 g Natronkalk zu packen bzw.
füllen.
Eine Leitung einschließlich der Ventile 26 und 28 verbin
det den Austritt der ersten gepackten Säule 20 mit einem
Sauerstoffsensor 40 unter Zwischenschaltung eines Strö
mungsmessers 38.
Der Sauerstoffsensor 40 stellt den Detektor bei dieser
Gasanalysenvorrichtung dar. Vorteilhafterweise wird ein
Sauerstoffsensor vom Konzentrationszellentyp verwendet,
der eine Sauerstoffionen leitende, feste Elektrolytschicht
aufweist. Ein der Messung unterzogenes Gas wird mit einer
Seite der Elektrolytschicht in Kontakt gebracht, während
die entgegengesetzte Seite einem Referenzgas, in welchem
die Sauerstoffkonzentration bekannt ist, ausgesetzt wird.
Als Sauerstoffionen leitender Elektrolyt wird bevorzugt
ein stabilisiertes Zirkoniumdioxid verwendet, wobei dies
ein gesintertes Keramikmaterial ist, das durch Einführung
eines stabilisierenden Oxids wie Calciumoxid oder Yttrium
oxid in das Zirkoniumdioxid unter Bildung einer festen
Lösung erhalten wurde. Beim Betrieb des Zirkoniumdioxid-
Sauerstoffsensors bei ausreichend hohen Temperaturen ist
es möglich, die Sauerstoffkonzentration in einem unbekann
ten Probengas in weniger als einer Minute genau zu messen.
Vorteilhafterweise wird der Zirkoniumdioxid-Sauerstoff
sensor 40 auf eine Temperatur oberhalb 500°C erhitzt gehal
ten, und atmosphärische Luft kann als Referenzgas verwen
det werden. Der Zirkoniumdioxid-Sauerstoffsensor besitzt
einen breiten dynamischen Bereich und kann selbst zur
Messung von sehr niedrigen Sauerstoffkonzentrationen in
der Größenordnung von ppm (ppm=Teile pro Million) ver
wendet werden, da die Ausgangsspannung dieses Sensors
proportional dem Logarithmus des Partialdruckes des Sauer
stoffs in dem der Messung unterzogenen Gas ist.
Die zweite Säule 30 ist mit einem Element gepackt bzw.
gefüllt, welches mit Fluorgas unter Bildung eines Fluorides
reagiert. Dies bedeutet, daß die Packung unter verschiede
nen Elementen wie z.B. Fe, Cr, Mn, Co, Zn, Ti, Zr, Sn
und Pb ausgewählt werden kann, wovon jedes ein festes
Fluorid (beispielsweise FeF3) durch direkte Reaktion mit
Fluor bildet, sowie Si, Ge, P, Sb, S, Se, Te, W, Mo und V,
wovon jedes ein gasförmiges Fluorid (beispielsweise SiF4)
durch direkte Reaktion mit Fluor bildet. In jedem Fall
ist es vorteilhaft, ein feines Pulver des ausgewählten
Elementes zu verwenden.
Der Zweck der zweiten gepackten Säule 30 ist die Entfer
nung von Fluor aus dem Probengas ohne Veränderung der
Konzentration des Sauerstoffs in dem Gas. Wenn die Säule
30 mit einem Element, das ein festes Fluorid bildet, ge
packt ist, wird in dem Probengas enthaltenes Fluor inner
halb dieser Säule 30 fixiert. In diesem Fall ist die in
der Fig. 1 gezeigte Säule 32 nicht erforderlich, und der
Auslaß der zweiten gepackten Säule 30 ist mit dem Sauer
stoffsensor 40 über die Ventile 36 und 28 sowie den Strö
mungsmesser 38 verbunden. Wenn die Säule 30 mit einem Ele
ment, das ein gasförmiges Fluorid bildet, gepackt ist,
umfaßt die Vorrichtung eine dritte gepackte Säule 32,
welche anschließend an und in Serie mit der zweiten Säule
30 geschaltet ist. Die dritte Säule 32 ist mit einer Ver
bindung gepackt, welche mit dem in der zweiten Säule 30
gebildeten, gasförmigen Fluorid unter Bildung eines festen
Fluorides reagiert. Als Packung der dritten Säule 32 wird
vorteilhafterweise eine Alkalimetallverbindung oder eine
Erdalkalimetallverbindung verwendet, wobei dies ein Hydro
xid, Oxid, Carbonat, Hydrogencarbonat, Sulfat oder Nitrat
sein kann. Dies bedeutet, daß die Packung der dritten
Säule 32 analog zu derjenigen der ersten Säule 20 ist.
Der Zweck der Fixierung von Fluor in der zweiten oder
dritten gepackten Säule 30, 32 ist die Verhütung einer
Schädigung des Sauerstoffsensors 40 durch Fluor. Die zwei
te und die dritte Säule 30 bzw. 32 können bei Zimmertempera
tur betrieben werden, bevorzugt werden diese Säulen 30, 32
jedoch bei Temperaturen oberhalb 100°C unter Einsatz von
(nicht gezeigten) Heizeinrichtungen gehalten. Das Konstruk
tionsmaterial und die Abmessungen der zweiten und dritten
Säule 30 bzw. 32 sind dieselben, wie sie zuvor mit Bezug
auf die erste Säule 20 genannt wurden.
Zur Weiterverarbeitung der Ausgangsspannung des Sauerstoff
sensors 40 umfaßt die Gasanalysenapparatur den Verstärker
42, die Linearisierungsvorrichtung 44 und den A/D-Konverter
46. Unter Verwendung des behandelten Signals zeigt eine
Anzeige 48 die Sauerstoffkonzentration in dem durch den
Sauerstoffsensor 40 geleiteten Gas an.
Durch Verwendung der Vorrichtung gemäß Fig. 1 wird die
Fluorkonzentration im Probengas in folgender Weise bestimmt:
Zuerst werden die Ventile 14, 16, 26 und 28 geöffnet,
um das Probengas durch die erste gepackte Säule 20 bei
konstanter Strömungsrate für eine geeignete Zeitspanne
zu leiten, wobei diese von mehreren zehn Sekunden bis
zu mehreren Minuten reicht. Dann stellt die Ausgangsspan
nung des Sauerstoffsensors 40 eine Sauerstoffkonzentration
P 1 dar, wobei dies die Summe der Konzentration an Sauer
stoff, herrührend von in dem Probengas enthaltenem Fluor,
und der Konzentration an Sauerstoff, welche anfänglich
in dem Probengas enthalten ist, darstellt. Als nächstes
werden die Ventile 14, 18, 36 und 28 geöffnet (die Ventile
16 und 26 werden geschlossen), um das Probengas durch
die zweite und die dritte gepackte Säule 30 bzw. 32 bei
der zuvorgenannten konstanten Strömungsrate zu schicken.
Dann gibt die Ausgangsspannung des Sauerstoffsensors 40
eine Sauerstoffkonzentration P 2 wieder, wobei dies die
Konzentration von anfänglich in dem Probengas enthaltenem
Sauerstoff ist. Dies bedeutet, daß P 1-P 2 eine Sauerstoff
konzentration ist, welche eine Anzeige für die Fluorkonzen
tration in dem Probengas darstellt.
Aus den Sauerstoffkonzentrationen P 1 und P 2, wie sie durch
die Anzeige 48 angegeben werden, kann die Konzentration
an Fluor in dem Probengas sofort gefunden werden, wenn
zuvor der Sauerstoffsensor 40 entweder mit einem Fluorgas
mit bekannter Konzentration oder einem Sauerstoffgas einer
bekannten Konzentration geeicht wurde. Da 1 mol F2-Gas in
in 1/2 mol O2-Gas in der ersten Säule 20 umgewandelt wird,
wie dies zuvor mit Bezug auf die Gleichung (1) erläutert
wurde, wird die Konzentration an Fluor in dem Probengas
durch die Beziehung 2K(P 1-P 2) gefunden, wobei K ein
Korrekturfaktor ist.
Falls bekannt ist, daß das Probengas kein Sauerstoffgas
enthält, ist es nicht erforderlich, den zuvor beschriebe
nen Wert P 2 durch Verwendung der zweiten Säule 30 oder
der Kombination von zweiter und dritter Säule 30 und 32
zu messen.
Die Bestimmung von Fluor mittels der zuvor beschriebenen
Apparatur und des zuvor beschriebenen Verfahrens kann
unabhängig vom Druck des Probengases durchgeführt werden,
sofern die von Fluor befreiten Gase zu dem Sauerstoffsen
sor 40 mit konstanter Strömungsrate geführt werden, wobei
diese von etwa 10 ml/min bis etwa 1000 ml/min reichen
kann.
In der Apparatur von Fig. 1 wurde die Leitung 12 aus rost
freiem Stahl (SUS 316) hergestellt, und die erste Säule
20 war eine Monelmetallsäule mit einem Innendurchmesser
von 8 mm und einer Länge von 100 mm. In Abschnitten, in
denen Fluor enthaltende Gase strömten, wurde die Leitung
zuvor durch Durchleiten von Fluorgas hierdurch passiviert.
Die erste Säule 20 wurde mit 8 g Natronkalkpulver gefüllt.
Zur Bestätigung des Leistungsvermögens der ersten Säule 20
wurde Heliumgas mit einem Gehalt von 0,5 Vol.-% Fluorgas
durch die erste Säule 20 unter verschiedenen Bedingungen,
wie sie in der Tabelle 1 gezeigt sind, durchgeleitet,
und das durch die Säule 20 geführte Gas wurde in eine
(nicht dargestellte) Säule, welche mit Kaliumjodidpulver
gefüllt war, eingeführt. Falls das Gas immer noch Fluor
enthält, verändert das Kaliumjodidpulver seine Farbe.
Durch vorhergehende Untersuchung wurde bewiesen, daß diese
Methode in der Lage ist, Fluor nachzuweisen, selbst wenn
die Fluorkonzentration so niedrig wie 100 ppb (ppb=Teile
pro Milliarde) ist.
Bei jedem Versuch wurde das Gas kontinuierlich durch die
Natronkalksäule und die Kaliumjodidsäule für 5 min gelei
tet, und bei jedem Versuch wurde keine Veränderung der
Farbe des Kaliumjodidpulvers beobachtet. Hierdurch wird
bewiesen, daß eine vollständige Reaktion des Fluors mit
dem Natronkalk in der Säule 20 erfolgt, selbst wenn die
Strömungsrate des durch die Säule durchtretenden Gases
weit höher als übliche Strömungsraten (etwa 100 ml/min)
bei tatsächlichen Gasanalysevorgängen liegt.
In der Vorrichtung von Fig. 1 war die zweite Säule 30
eine Monelmetallsäule mit einem Innendurchmesser von 10 mm
und einer Länge von 100 mm. Nach Passivierung mit Fluorgas
wurde die zweite Säule mit 5 g Si-Pulver gepackt. Die
dritte Säule 32 war mit der ersten Säule (gepackt mit
Natronkalk) im Vergleichsbeispiel 1 identisch.
Unter Verwendung eines Heliumgases mit einem Gehalt von
0,5 Vol.-% Fluorgas wurde das Leistungsvermögen zur Fixie
rung von Fluor für die zweite und dritte Säule 30 bzw. 32
nach derselben Methode wie im Vergleichsbeispiel 1 getestet.
Die Testbedingungen entsprachen den in Tabelle 2 angegebe
nen Werten.
Bei jedem Versuch wurde das Gas kontinuierlich durch die
Si-Pulversäule 30, die Natronkalksäule 32 und die (nicht
gezeigte) Kaliumjodidsäule für 5 min durchgeleitet, und
bei jedem Versuch zeigte das Kaliumjodidpulver keine Farb
veränderung. Hierdurch wird gezeigt, daß eine vollständige
Fixierung von Fluor in den geeignet erhitzten zweiten
und dritten Säulen 30 und 32 erreicht werden kann, wenn
die Strömungsrate des Probengases übliche Werte besitzt,
und sogar auch dann, wenn die Strömungsrate beträchtlich
höher liegt.
Unter Verwendung der Vorrichtung von Fig. 1 und einer
Gasbombe anstelle des Excimerlasers 10 wurde ein Helium
gas, das eine bekannte Menge an Fluorgas enthielt, ana
lysiert. Die Fluorkonzentration in dem Probengas wurde
sorgfältig auf 0,1 Vol.-%, 0,2 Vol.-%, 0,3 Vol.-%, 0,4
Vol.-% oder 0,5 Vol.-% einreguliert. Die erste Säule 20
war eine Monelmetallsäule mit einem Durchmesser von 8 mm
und einer Länge von 100 mm, und sie war mit 8 g Natron
kalkpulver (identisch mit der Säule im Vergleichsbeispiel 1)
gepackt. Die zweite und die dritte Säule 30 und 32 wurde
nicht verwendet, da jedes Probengas frei von Sauerstoff
war. Die gepackte Säule 20 wurde auf etwa 150°C erhitzt
gehalten. Der Sauerstoffsensor 40 war vom Konzentrations
zellentyp unter Verwendung von stabilisiertem Zirkonium
dioxid. Bei jedem Versuch betrug die Strömungsrate des
Probengases 100 ml/min.
Die Ergebnisse sind in den Tabellen 3 und der Fig. 2 darge
stellt.
Wie aus der Tabelle 3 und der Fig. 2 ersichtlich ist,
stimmten die durch den Zirkoniumdioxid-Sauerstoffsensor
angezeigten Konzentrationswerte annähernd mit den theoreti
schen Werten überein, und es bestand eine lineare Bezie
hung zwischen den angezeigten und den theoretischen Wer
ten. Dies zeigt, daß eine einfache Umwandlung der angezeig
ten Sauerstoffkonzentration in die Fluorkonzentration
als tatsächlicher Konzentration von Fluor in dem Proben
gas durchgeführt werden kann.
Der Meßvorgang von Beispiel 1 wurde mit der Ausnahme wie
derholt, daß die Probengase weiter mit Heliumgas verdünnt
wurden. Bei den Versuchen 1, 2 und 3 dieses Beispiels
betrugen die Fluorkonzentrationen in den Probengasen 50 ppm,
den Zirkoniumdioxid-Sauerstoffsensor angezeigten Sauerstoff
konzentrationen waren 46 ppm, 110 ppm bzw. 150 ppm. Die
Messungen können als ziemlich exakt im Hinblick auf die
geringen Werte der Fluorkonzentrationen in den Probengasen
angesehen werden.
Der Meßvorgang von Beispiel 1 wurde in folgenden Punkten
modifiziert:
Etwa 0,05 Vol.-% Sauerstoff wurden zu jedem Probengas
zugegeben. Neben der Bestimmung von Fluor unter Verwen
dung der ersten gepackten Säule 20 wurde eine Messung
der anfänglichen Sauerstoffkonzentration in jedem Proben
gas unter Verwendung der zweiten und dritten gepackten
Säulen 30 und 32 durchgeführt. Die zweite Säule 30 war
eine passivierte Monelmetallsäule mit einem Innendurchmes
ser von 10 mm und einer Länge von 100 mm, und sie war
mit 5 g Si-Pulver gepackt. Die dritte Säule 32 war iden
tisch mit der ersten Säule 20 (mit der Packung aus Natron
kalk). Die zweiten und die dritten Säulen 30 bzw. 32 wur
den auf etwa 150°C erhitzt gehalten. Die Ergebnisse sind
in der Tabelle 4 zusammengestellt.
Diese Ergebnisse zeigen, daß selbst im Fall des Proben
gases mit einem Gehalt an Sauerstoff die Bestimmung der
Fluorkonzentration ohne Problem durchgeführt werden kann.
Als beliebiger Versuch wurde die Konzentration von Fluor
in einer bekannten Gasprobe dadurch gemessen, daß das
Probengas durch eine mit Natriumchlorid gepackte Säule
geleitet wurde und die Menge des durch die Reaktion in
der gepackten Säule gebildeten Chlorgases mittels eines
korrosionsbeständigen Gaschromatographen unter Verwendung
einer HID gemessen wurde. Ein Nickelrohr mit einem Innen
durchmesser von 10 mm und einer Länge von 200 mm wurde
mit NaCl gefüllt und zwischen einem Gasprobennehmer und
der Gaschromatographieapparatur zwischengeschaltet. Eine
variable Menge an Heliumgas mit einem Gehalt von 0,5 Vol.-%
Fluor wurde in den Gasprobennehmer überführt, und ein
Trägergas wurde durch den Gasprobennehmer, die Natrium
chloridsäule und die Gaschromatographieapparatur geschickt,
um die integrale Intensität der Spitze für Chlor zu mes
sen. Die Fig. 3 zeigt die Beziehung zwischen dem Volumen
des Fluor enthaltenen Heliumgases, das in den Gasproben
nehmer übernommen wurde (umgewandelt auf Volumen unter
Normaldruck) und der integralen Intensität des Gaschro
matographen. Offensichtlich ist diese Methode hinsicht
lich der Genauigkeit und Reproduzierbarkeit problematisch,
wenn nur eine kleine Menge an Fluor der Messung unterwor
fen wird.
Die Fig. 4 zeigt eine Modifizierung der Vorrichtung von
Fig. 1 hinsichtlich der Einrichtungen zur Messung der Kon
zentration an Sauerstoff in dem aus der ersten gepackten
Säule 20 oder der dritten gepackten Säule 32 (oder der
zweiten gepackten Säule 30, falls die dritte Säule 32
weggelassen wird) ausströmenden Gas. Die Vorrichtung von
Fig. 4 bedient sich einer Gaschromatographieapparatur 50
anstelle des Sauerstoffsensors und der Baueinheiten von
Fig. 1 zur Behandlung des elektrischen Signals. Die Gas
chromatographieapparatur 50 ist mit einem Gasprobennehmer
52 versehen und es ist in üblicher Weise eine Kieselgel
säule 54 zwischen dem Strömungsmesser 38 und dem Gasproben
nehmer 52 zwischengeschaltet. Die Bezugsziffer 56 zeigt
eine gegebenenfalls vorhandene Heizeinrichtung für die
zweiten und dritten Säulen 30 und 32, und die Bezugsziffer
58 stellt eine Temperatursteuereinheit dar.
Gemäß der Erfindung enthalten die mit der Gaschromatographie
vorrichtung 50 zu analysierenden Gase kein Fluor, welches
für den Detektor schädlich wäre. Daher gibt es kein Problem
bei Verwendung einer gewöhnlichen Gaschromatographieappara
tur, falls nicht das Probengas ein anderes korrodierendes
Gas als Fluor enthält. Die Erfindung ist jedoch hauptsach
lich anwendbar auf Gase, welche Fluor als einziges korro
dierendes Gas enthalten.
Ein Vorteil der Anwendung der Gaschromatographie liegt
darin, daß nicht nur Fluor, sondern auch andere Bestand
teile des Probengases rasch bestimmt werden können. Ver
schiedene Arten von Gasmischungen können nach dieser Methode
analysiert werden, und für fast jeden Bestandteil eines
Fluor enthaltenden Probengases ist eine genaue Bestimmung
über einen weiten Konzentrationsbereich von etwa 1 ppm
bis zu mehreren zehn Prozent möglich. Die Konzentrationen
der Bestandteile des Probengases können sofort aus dem
Gaschromatogramm durch vorherige Messung der Rententionszeit
für jeden Bestandteil und Auftragen einer Eichkurve, welche
die Beziehung zwischen der Spitzenfläche und der Konzentra
tion wiedergibt, gefunden werden.
Diese Verfahrensweise ist zur Analyse eines Excimerlaser
gases sehr vorteilhaft, da die Konzentration des oder
der wichtigen Edelgas/Edelgase wie Kr, Xe, Ar und/oder
Ne zusammen mit der Konzentration an F2 gemessen werden
können. Als Packung für die Gaschromatographiesäule zur
Bestimmung der wichtigen Bestandteile der Excimerlaser
gase wird vorteilhafterweise ein sog. poröses Polymeres,
welches aus einem Copolymeren aus Styrol und Divinylbenzol
gebildet wird, verwendet. Für die Packung aus porösem
Polymerem ist die Retentionszeit für jeden Bestandteil
der Excimerlasergase bekannt.
Je nach Notwendigkeit ist es möglich, gemeinsam einen
Sauerstoffsensor und eine Gaschromatographieapparatur in
der erfindungsgemäßen Gasanalysevorrichtung zu verwenden.
In der Vorrichtung von Fig. 4 war die erste Säule 20 mit
Natronkalkpulver wie in Beispiel 1 gefüllt. Bei der Gas
chromatographieapparatur 50 hatte die Säule einen Durchmes
ser von 3 mm und eine Länge von 3 m und war mit einem
porösen Polymeren (Handelsbezeichnung Porapak Q von Waters
Co.) gefüllt, wobei dies ein Styrol/Divinylbenzolcopoly
meres ist. Die Säulentemperatur betrug 30°C. Das Träger
gas war Heliumgas und seine Strömungsrate betrug 50 ml/min.
Zuerst wurde Heliumgas, das bekannte Mengen an Sauerstoff
gas und Kryptongas enthielt, durch die erste gepackte
Säule 20 für mehr als 30 Sekunden bei konstanter Rate
von 50 ml/min durchgeschickt. Aus dem strömenden Gas wur
den mittels des Probennehmers 52 Proben genommen und in
der Gaschromatographieapparatur 50 analysiert, um eine
Eichkurve zu erhalten, welche die Beziehung zwischen der
Spitzenfläche und der Konzentration (Vol.-%) für jeden
Gehalt an O2 und Kr anzeigte.
Dann wurden speziell hergestellte Probengase unter densel
ben Bedingungen analysiert. Jedes Probengas war ein Helium
gas, das bekannte Mengen an F2 und Kr, wie dies in Tabel
le 5 gezeigt ist, enthielt. Da jedes in die Natronkalk
säule 20 eingeführtes Probengas frei von Sauerstoff war,
wurden die zweite und die dritte Säule 30 und 32 von Fig. 4
nicht benutzt. Die Konzentrationen an O2 und Kr in dem
in die Gaschromatographieapparatur eingeführten Gas wurden
aus den Flächen unter den Spitzen der jeweiligen Elemente
unter Anwendung der Eichkurven bestimmt, und die Konzentra
tionen an F2 wurden durch Verdopplung der bestimmten Kon
zentrationen von O2 bestimmt. Die Ergebnisse sind in Ta
belle 5 aufgeführt, wobei sie zeigen, daß das getestete
Verfahren und die Vorrichtung voll für die Praxis geeig
net sind.
In diesem Beispiel wurden bekannte Mischungen aus Neongas,
Argongas und Fluorgas als Probengase eingesetzt, und die
Analyse wurde nach derselben Verfahrensweise wie in Bei
spiel 4, jedoch mit folgenden Abänderungen der Gaschromato
graphieapparatur durchgeführt.
Die Packung der Säule war ein poröses Polymeres (Handels
bezeichnung Gaskuropack 54 von Gasukuro Kogyo Co.), wobei
dies ein Styrol/Divinylbenzolcopolymeres war. Die Säule
hatte einen Durchmesser von 3 mm und eine Länge von 6 m
und wurde auf -72°C mittels eines Bades aus Trockeneis/
Aceton gehalten. Die Strömungsrate des Trägergases (Helium
gas) betrug 30 ml/min.
Die Zusammensetzungen der Probengase und die Analysenergeb
nisse sind in Tabelle 6 zusammengestellt.
Eine Gasprobe aus 5,00 Vol.-% Kr, 0,200 Vol.-% F2 0,050
Vol.-% O2 und 94,75 Vol.-% He wurde mit der Vorrichtung
von Fig. 4 analysiert.
Die erste Säule 20 und die dritte Säule 32 waren mit Natron
kalkpulver gefüllt, und die zweite Säule 30 war mit Sili
ziumpulver gefüllt. Diese drei Säulen 20, 30, 32 wurden
auf 150°C erhitzt gehalten. Die Besonderheiten der Gas
chromatographieapparatur 50 waren dieselben wie in Bei
spiel 4.
Beim Durchleiten des Probengases durch die erste gepackte
Säule 20 ohne Benutzung der zweiten und dritten Säulen
30 und 32 zeigte der Gaschromatograph, daß die Konzentra
tion an Kr 5,05 Vol.-% und die Konzentration von O2 0,143
Vol.-% waren. Beim Durchleiten des Probengases durch die
zweite und dritte gepackte Säule 30 und 32 ohne Benutzung
der ersten Säule 20 zeigte der Gaschromatograph, daß die
Konzentration von Kr 4,96 Vol.-% und die Konzentration
von O2 0,047 Vol.-% betrugen. Daher wurde die Zusammen
setzung des Probengases bestimmt zu: 5,01 Vol.-% Kr,
0,192 Vol.-% {2×(0,143-0,047) Vol.-%} F2, 0,047 Vol.-%
O2 und 94,75 Vol.-% He.
Die Vorrichtung gemäß Fig. 4 ist ebenfalls im Fall der
Umwandlung von Fluor in dem Probengas zu Kohlendioxid
durch Reaktion in der ersten gepackten Säule 20 brauchbar.
In diesem Fall wird die erste Säule 20 mit einem Carbonat
oder Hydrogencarbonat eines Alkalimetalls oder eines Erd
alkalimetalls gefüllt, z.B. mit Natrium(hydrogen)carbonat,
Kalium(hydrogen)carbonat, Lithium(hydrogen)carbonat, Cal
cium(hydrogen)carbonat, Barium(hydrogen)carbonat oder
Magnesium(hydrogen)carbonat. Vorteilhafterweise wird ein
feines Pulver des ausgewählten Carbonates oder Hydrogen
carbonates verwendet, und bevorzugt wird die gepackte
Säule 20 bei Temperaturen oberhalb 100°C benutzt. Wie
zuvor beschrieben, ergibt die Reaktion von 1 mol F2 mit
einem Alkalimetall- oder Erdalkalimetall-carbonat oder
-hydrogencarbonat 1 mol CO2.
Wenn das Fluor enthaltende Probengas ein Excimerlasergas
ist, wird ein aus einem Styrol/Divinylbenzolcopolymeren
gebildetes, poröses Polymeres vorteilhafterweise als Packung
für die Gaschromatographiesäule zur Messung der Konzentra
tionen an Kohlendioxid und Edelgasen in dem aus der ersten
gepackten Säule 20 ausströmenden Gas verwendet.
Die zweite gepackte Säule 30 wird entweder für sich alleine
oder zusammen mit der dritten gepackten Säule 32 bei der
Messung der Konzentration an Kohlendioxid, welches zu
Beginn in dem das Fluor enthaltenden Probengas enthalten
ist, benutzt. Dies bedeutet, daß die Packung der zweiten
Säule 30 eine Substanz ist, welche Fluorgas in dem Proben
gas in ein Fluorid ohne Veränderung der Konzentration
an Kohlendioxid in dem Probengas umwandeln kann. Daher
können die zweite gepackte Säule 30 und die dritte gepackte
Säule 32 ähnlich mit den entsprechenden Gegenteilen im
Fall der Umwandlung von Fluor in Sauerstoff in der ersten
gepackten Säule 20 sein.
Beispielsweise ist die zweite Säule 30 mit Fe-Pulver zur
Fixierung von Fluor als festes FeF3 gepackt, wodurch die
dritte Säule 32 weggelassen werden kann, oder die zweite
Säule 30 ist mit Si gefüllt und die dritte Säule 32 mit
Calciumhydroxidpulver, um das in der zweiten Säule gebil
dete SiF4-Gas in festes CaF2 umzuwandeln, gefüllt. Eben
falls ist es möglich, die zweite Säule 30 mit einer Alkali
metall- oder Erdalkalimetallverbindung wie einem Hydroxid,
Oxid, Sulfat oder Nitrat oder einer geeigneten Mischung
wie Natronkalk zu füllen, welche mit Fluor unter Bildung
eines Metallfluorides reagiert. In diesem Fall ist die
dritte Säule 32 nicht erforderlich.
Wenn das Fluor enthaltende Probengas durch die erste ge
packte Säule 20 geleitet wird, wird die Konzentration
an CO2 in dem in die Gaschromatographieapparatur 50 ein
geführten Gas als Wert P 1 bestimmt. Wenn dasselbe Proben
gas durch die zweite und gegebenenfalls auch durch die
dritte gepackte Säule 30 bzw. 32 geführt wird, werden
die Anfangskonzentration von CO2 in dem Probengas als
Werte P 2 bestimmt. Dann wird die Konzentration an F2 in
dem Probengas gegeben durch K(P 1-P 2), worin K ein Korrek
turfaktor ist, da 1 mol F2 in 1 mol CO2 in der ersten
gepackten Säule 20 umgewandelt wird.
Alternativ zu der Gaschromatographieapparatur 50 kann
auch eine IR-Absorptionsspektralanalysen-Vorrichtung (im
folgenden als IR-Analysator bezeichnet) eingesetzt wer
den. In diesem Fall wird ein IR-Analysator einschließlich
einer IR-Zelle im Anschluß an die Kieselgelsäule 54 in
Fig. 4 geschaltet, oder es wird nur eine IR-Zelle dort
angeordnet und nach vollständigem Austausch im Inneren
der Zelle durch das Kohlendioxid enthaltende Gas wird
diese von der gezeigten Vorrichtung abgenommen und an
einen IR-Analysator angekoppelt.
Im Fall der Verwendung eines IR-Analysators kann die Fluor
konzentration im Probengas durch vorheriges Auftragen
einer Kurve, welche die Beziehung zwischen Kohlendioxid
konzentration und Intensität der IR-Absorption wiedergibt,
bestimmt werden. Mit einem IR-Analysator ist die Bestim
mung der Konzentration jedes Bestandteiles des Probengases
schwierig, und es ist erforderlich, daß andere Probengas
bestandteile als Kohlendioxid nicht stark variieren. Wenn
das zu analysierende Gas eine hohe Konzentration an Koh
lendioxid aufweist, muß das Gas mit einem bekannten Ver
dünnungsverhältnis verdünnt werden, da eine nahezu lineare
Beziehung zwischen Konzentration und Intensität der IR
Absorption nur gegeben ist, wenn die Konzentration unter
halb mehreren Prozent liegt.
Als noch andere Möglichkeit kann die erste Säule 20 in
Fig. 4 mit einem Element gepackt sein, welches mit Fluor
gas unter Bildung eines gasförmigen Fluorides reagiert.
Beispielsweise kann ein solches Element ausgewählt wer
den unter: Si, Ge, P, Sb, Se, Te, W, Mo, V und B. Im Fall
von Si oder Ge werden 2 mol F2 in 1 mol eines gasförmigen
Fluorids umgewandelt. Im Fall von B werden 3 mol F2 in
2 mol eines Borfluoridgases umgewandelt. Im Fall von P,
Sb oder V werden 5 mol F2 in 2 mol eines gasförmigen
Fluorids umgewandelt. Im Fall von Se, Te, W oder Mo wer
den 3 mol F2 in 1 mol gasförmiges Fluorid umgewandelt.
Durch Messung der Konzentration des gasförmigen Fluorids
in dem aus der gepackten Säule 20 ausströmenden Gas ent
weder gaschromatographisch oder durch IR-Absorptionsspek
tralanalyse kann die Konzentration des Fluors in dem Pro
bengas bestimmt werden. In diesem Fall sind die zweite
und die dritte Säule 30 und 32 nicht erforderlich, sofern
das Probengas nicht ein gasförmiges Fluorid neben mole
kularem Fluor enthält. Diese Verfahrensweise ist jedoch
ziemlich unbequem, da gasförmige Fluoride im allgemeinen
korrodierend und toxisch sind.
In der Vorrichtung von Fig. 4 war die erste Säule 20 eine
Monelmetallsäule mit einem Durchmesser von 8 mm und einer
Länge von 100 mm, wobei diese mit 10 g Natriumcarbonatpul
ver gefüllt war. Die zweite und die dritte Säule 30 und
32 wurden nicht benutzt.
In der Gaschromatographieapparatur 50 bestand die Füllung
der Säule aus einem der zuvorgenannten porösen Polymeren
(Porapak Q). Die Säule besaß einen Durchmesser von 2,3 mm
und eine Länge von 1 m und wurde auf 30°C gehalten. Das
Trägergas war Heliumgas und seine Strömungsrate betrug
25 ml/min. Unter diesen Bedingungen betrug die Retentions
zeit 0,24 min für O2 und 0,65 min für CO2.
Zu Beginn wurde Heliumgas mit unterschiedlichen Gehalten
an bekannten Mengen von F2 und Kr durch die erste gepack
te Säule 20 für mehr als 30 sec bei einer Rate von 50 ml/
min geleitet, und das aus der gepackten Säule ausströmen
de Gas wurde in die Gaschromatographieapparatur 50 mit
tels des Gasprobennehmers 52 überführt, um eine Eichkurve
jeweils für CO2 und Kr aufzuzeichnen, welche die Bezie
hung zwischen der Konzentration des Gasbestandteiles und
der Fläche unter der Spitze wiedergab.
Dann wurden speziell hergestellte Probengase unter densel
ben Bedingungen analysiert. Jedes Probengas war ein Helium
gas mit einem Gehalt an bekannten Mengen an F2 und Kr,
wie dies in Tabelle 7 gezeigt ist. Die Konzentrationen
der Bestandteile des in die Gaschromatographieapparatur
überführten Gases wurden aus den Flächen unter den Spitzen
der jeweiligen Bestandteile unter Benutzung der Eichkur
ven bestimmt, und die bestimmten Konzentrationen des CO2
wurden als Konzentration des F2 in dem in die erste ge
packte Säule 20 eingeführten Probengas genommen.
Die Ergebnisse sind in Tabelle 7 zusammengestellt, wobei
diese zeigen, daß das getestete Verfahren und die Vorrich
tung voll für die Praxis geeignet waren.
In diesem Beispiel wurden bekannte Mischungen aus Neongas,
Argongas und Fluorgas als Probengase verwendet, und die
Analyse wurde nach derselben Arbeitsweise wie in Beispiel 7
jedoch unter folgenden Modifikationen in der Gaschromato
graphieapparatur durchgeführt.
Die Packung der Säule bestand aus einem der zuvorgenann
ten porösen Polymeren (Gaskuropack 54). Die Säule hatte
einen Durchmesser von 3 mm und eine Länge von 6 m und
wurde auf -72°C mittels eines Bades aus Trockeneis/Aceton
gehalten. Die Strömungsrate des Trägergases (Heliumgas)
betrug 30 ml/min.
Die Zusammensetzungen der Probengase und die Analysenergeb
nisse sind in Tabelle 8 zusammengestellt.
Ein Probengas aus 5,00 Vol.-% Kr, 0,200 Vol.-% F2, 0,050
Vol.-% CO2 und 94,75 Vol.-% He wurde mit der Vorrichtung
von Fig. 4 analysiert.
Die erste Säule 20 war mit Natriumhydrogencarbonatpulver
gefüllt. Die zweite Säule 30 war mit Siliziumpulver und
die dritte Säule 32 mit Natronkalkpulver gefüllt. Jede
dieser Säulen 20, 30 und 32 waren Säulen aus rostfreiem
Stahl mit einem Durchmesser von 10 mm und einer Länge
von 100 mm, wobei sie mit Fluorgas passiviert worden waren.
Diese drei Säulen 20, 30, 32 wurden auf 150°C erhitzt
gehalten. Die Besonderheiten der Gaschromatographieappara
tur entsprachen derjenigen von Beispiel 7.
Beim Durchleiten des Probengases durch die erste gepackte
Säule 20 ohne Benutzung der zweiten und dritten Säulen
30 und 32 zeigte der Gaschromatograph, daß die Konzentra
tion des Kr 5,08 Vol.-% und die Konzentration des CO2
0,255 Vol.-% betrugen. Beim Durchleiten des Probengases
durch die zweite und die dritte gepackte Säule 30 und
32 ohne Benutzung der ersten Säule 20 zeigte der Gaschro
matograph, daß die Konzentration des Kr 4,96 Vol.-% und
die Konzentration des CO2 0,053 Vol.-% betrugen. Infolge
dessen wurde die Zusammensetzung des Probengases bestimmt
zu: 5,08 Vol.-% Kr, 0,202 (0,255-0,053) Vol.-% F2,
0,053 Vol.-% CO2 und 94,67 Vol.-% He.
Die Fig. 5 zeigt ein Steuersystem gemäß der Erfindung
zur Stabilisierung der Ausgangsleistung eines Excimerlasers
10 durch Steuerung der Konzentration des Fluors in dem
Lasergas. Das Steuersystem bzw. Regelsystem umfaßt eine
Gasanalysevorrichtung gemäß der Erfindung.
In diesem Steuersystem wird die mit Bezug auf die Fig.
1 und 4 beschriebene, gepackte Säule 20 zur Umwandlung
von Fluor in dem aus dem Excimerlaser 10 abgezogenen Pro
bengas in entweder Sauerstoff oder Kohlendioxid verwen
det. Die gepackte Säule 20 ist mit einer Heizeinrichtung
22 und einer Temperatursteuereinheit 24 ausgerüstet. Der
Ausgang der gepackten Säule 20 ist mit einer Gasmeßeinrich
tung 60 verbunden, wobei diese einen Sauerstoffsensor
oder einen Kohlendioxidsensor einschließt und ein elektri
sches Signal erzeugt, das die Konzentration von O2 oder
CO2 in dem aus der gepackten Säule 20 ausströmenden Gas
angibt. Im Fall des Nachweises von Sauerstoff ist die
Verwendung eines Sauerstoffsensors vom Konzentrationszel
lentyp unter Benutzung von stabilisiertem Zirkoniumdioxid
vorteilhaft. Im Fall des Nachweises von Kohlendioxid kann
beispielsweise ein IR-Gasanalysator verwendet werden.
Das Probengas kann in die gepackte Säule 20 durch ein
faches Öffnen eines (nicht gezeigten) Ventiles eingeführt
werden, das mit dem Excimerlaser 10 verbunden ist, da
der Gasdruck in dem Excimerlaser 10 üblicherweise um mehr
als 0,98 bar (1 kg/cm2) über atmosphärischem Druck liegt.
Zur Bestimmung der Konzentration an Fluor reicht es aus,
das Ventil für wenige Minuten offenzuhalten. Zur Korrek
tur des Ausgangswertes des Gassensors 60 kann eine Eich
kurve zuvor durch Analyse von bekannten Gasmischungen
aufgetragen werden.
Der Ausgangswert des Gassensors 60, nämlich ein elektri
sches Signal S a , welches die Konzentration von O2 oder
CO2 in dem tatsächlich analysierten Gas wiederspiegelt
und damit die Konzentration von F 2 in dem Lasergas wird
zu einer Anzeige 62 und ebenfalls zu einer arithmetischen
Einheit bzw. Recheneinheit 64 geführt. Beispielsweise
benutzt die Recheneinheit 64 einen programmierbaren Kon
troller zur Berechnung der Größe der Abweichung der durch
das Eingangssignal S a angezeigten Fluorkonzentration von
der gewünschten Konzentration und erzeugt ein Steuersignal
S c , das eine geeignete Menge der Zuführung von Fluor in
den Excimerlaser 10 zur Aufhebung der berechneten Abwei
chung anzeigt. Das Steuersignal S c wird zu einer Gasein
speiseinrichtung 66 übermittelt, wobei diese eine Strö
mungssteuereinrichtung wie eine Massenströmungssteuerung
mit einem Ventil, dessen Öffnungsgrad steuerbar ist, einen
Strömungsraten-Detektor und eine Einstelleinrichtung für
die Strömungsrate umfaßt. Durch die Gaseinspeiseinrichtung
66 kann Fluorgas in den Excimerlaser 10 aus einer Fluor
gasquelle 68 in einer gewünschten Menge oder mit einer
gewünschten Strömungsrate eingeführt werden.
Zur Aufhebung der Abweichung der nachgewiesenen Fluorkon
zentration P d (%) in dem Lasergas von der gewünschten
Fluorkonzentration P a (%) wird in der Recheneinheit 64
eine geeignete Strömungsrate R (ml/min) für Fluor durch
die Gaseinspeiseinrichtung 66 berechnet, beispielsweise
nach folgender Gleichung:
worin V das Gasvolumen in dem Excimerlaser 10, M die Zeit
spanne, in welcher die gewünschte Fluorkonzentration P a
erreicht werden soll, und K ein Korrekturfaktor sind.
Die gemeinsame Verwendung eines Steuersystems des zuvor
beschriebenen Typs und eines Systems zur Reinigung eines
Excimerlasergases, z.B. des in der US-Patentschrift
47 40 982 beschriebenen Typs, ist möglich.
Es wurde ein Excimerlaser mit einem Lasergas, bestehend
aus 4,8 Vol.-% Kr, 0,2 Vol.-% F2 und 95 Vol.-% He, betrie
ben, und das Steuersystem gemäß Fig. 5 wurde zur geeigne
ten Wiederauffrischung des Lasers mit Fluorgas benutzt.
Eine programmierbare Steuereinrichtung in der Rechenein
heit 64 wurde so eingestellt, daß die vorbestimmte Kon
zentration von 0,2 Vol.-% F2 in dem Lasergas unter Durch
führung der Rechnung bei Benutzung der zuvorgenannten
Gleichung aufrechterhalten wurde. Eine Massenströmungs
steuereinrichtung wurde als Gaseinspeiseinrichtung 66 be
nutzt.
Die Säule 20 war eine Monelmetallsäule mit einem Durchmes
ser von 8 mm und einer Länge von 100 mm, wobei diese mit
8 g Natronkalkpulver gefüllt war. Das Leitungsmaterial
war rostfreier Stahl (SUS 316) und sowohl die Säule 20
als auch die Leitung waren zuvor durch Fluorgas passiviert
worden. Als Gasmeßeinrichtung 60 wurde ein Zirkoniumdioxid-
Sauerstoffsensor benutzt.
Der Excimerlaser 10 wurde kontinuierlich derart betrie
ben, daß Laseroszillationen mit vorbestimmter Rate erfolg
ten, und ein (nicht gezeigtes) automatisches Ventil, das
zwischen dem Laser 10 und der gepackten Säule 20 angeord
net war, wurde für 2 min bei Intervallen von 30 min zur
Bestimmung der Konzentration des F2 in dem Lasergas und
automatische Einspeisung einer geeigneten Menge an Fluor
gas in den Laser 10 durch Betrieb der Massenströmungsraten
steuerung 66, um auf diese Weise die nachgewiesene Ernie
drigung der Fluorkonzentration aufzuheben, geöffnet.
Die Ausgangsleistung des Lasers blieb sehr stabil, während
der Excimerlaser und das Steuersystem kontinuierlich wäh
rend 5 h betrieben wurden.
Der Betrieb des Excimerlasers in Beispiel 10 wurde unter
Verwendung desselben Lasergases und unter denselben Be
dingungen wiederholt. In diesem Fall wurde der Betrieb
des Lasers jedoch ohne Überwachung der Fluorkonzentration
in dem Lasergas und ohne Wiederauffrischung des Lasergases
mit Fluorgas fortgeführt. Die Ausgangsleistung des Lasers
erniedrigte sich fortlaufend und betrug nach 4 h etwa
50% des Anfangswertes.
Claims (30)
1. Verfahren zur Analyse eines Mischgases, welches Fluor
gas enthält, zur Bestimmung wenigstens der Konzentra
tion des Fluorgases, dadurch gekennzeichnet, daß es
folgende Stufen umfaßt:
- a) Durchleiten des Mischgases durch eine gepackte Säu le, welche eine kein Halogenatom enthaltende und mit Fluorgas unter Bildung eines festen Fluorids und wenigstens einer Substanz in Form von moleku larem Sauerstoff oder Kohlendioxid reagierende Verbindung umfaßt,
- b) Messen der Konzentration eines der vorbestimmten Gase molekularer Sauerstoff oder Kohlendioxid in einem aus der gepackten Kolonne austretenden Gas, und
- c) Umwandlung der in Stufe (b) gemessenen Konzentra tion an molekularem Sauerstoff oder Kohlendioxid in die Konzentration von Fluorgas in dem Mischgas.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß als Verbindung ein Hydroxid, Oxid, Carbonat, Hydro
gencarbonat, Sulfat oder Nitrat von Alkalimetallen
oder Erdalkalimetallen verwendet wird, wobei in Stufe
(b) die Konzentration an molekularem Sauerstoff gemes
sen wird.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet,
daß eine mit Natronkalk gepackte Säule verwendet wird.
4. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet,
daß die Messung in Stufe (b) unter Verwendung eines
Sauerstoffsensors vom Konzentrationszellentyp, welcher
stabilisiertes Zirkoniumdioxid umfaßt, durchgeführt
wird.
5. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet,
daß die Messung in Stufe (b) mittels Gaschromatographie
durchgeführt wird.
6. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß eine Verbindung in Form von Carbonaten oder Hydro
gencarbonaten von Alkalimetallen oder Erdalkalimetallen
verwendet wird, wobei in Stufe (b) die Konzentration
von Kohlendioxid gemessen wird.
7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet,
daß die Messung in Stufe (b) mittels Gaschromatographie
durchgeführt wird.
8. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet,
daß die Messung in Stufe (b) durch IR-Absorptionsspek
tralanalyse durchgeführt wird.
9. Verfahren nach Anspruch 1, bei welchem das Mischgas
sicher oder möglicherweise eines der vorbestimmten
Gase molekularer Sauerstoff oder Kohlendioxid enthält,
dadurch gekennzeichnet, daß das Verfahren folgende
weitere Stufen umfaßt:
- (d) Durchleiten des Mischgases durch eine weitere ge packte Säule, welche ein mit Fluorgas unter Bil dung eines Fluorides reagierendes Element umfaßt, und
- (e) Messung der Konzentration eines der vorbestimmten Gase molekularer Sauerstoff oder Kohlendioxid in einem aus dieser anderen gepackten Säule ausströ menden Gas zur Bestimmung der Konzentration die ses einen vorbestimmten Gases molekularer Sauer stoff oder Kohlendioxid in dem Mischgas,
wobei die Stufe (c) die Unterstufe des Vergleichs der
in Stufe (b) gemessenen Konzentration mit der in Stu
fe (e) gemessenen Konzentration umfaßt.
10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet,
daß als Element Fe, Cr, Mn, Co, Zn, Ti, Zr, Sn oder
Pb verwendet wird, wobei das in Stufe (d) gebildete
Fluorid ein festes Fluorid ist.
11. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet,
daß als Element Si, Ge, P, Sb, S, Se, Te, W, Mo oder
V verwendet wird, wobei das in Stufe (d) gebildete
Fluorid ein gasförmiges Fluorid ist.
12. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet,
daß es weiterhin die der Stufe (e) vorgeschaltete
Stufe (f) umfaßt, in welcher das aus dieser weiteren
gepackten Säule austretende Gas durch eine zusätzliche
gepackte Säule geleitet wird, welche eine Alkalimetall
oder Erdalkalimetallverbindung umfaßt, die mit diesem
gasförmigen Fluorid unter Bildung eines festen Fluorids
reagiert.
13. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß das Mischgas ein Excimerlasergas ist, das Fluor
gas und wenigstens ein Edelgas umfaßt.
14. Vorrichtung zur Analyse eines Fluorgas enthaltenden
Mischgases zur Bestimmung wenigstens der Konzentra
tion des Fluorgases, dadurch gekennzeichnet, daß sie
umfaßt:
eine gepackte Säule, welche eine kein Halogenatom enthaltende und mit Fluorgas unter Bildung eines festen Halogenids und wenigstens einer Substanz in Form von molekularem Sauerstoff oder Kohlendioxid reagierende Verbindung umfaßt,
Einrichtungen zum Durchleiten des Fluor enthaltenden Mischgases durch diese gepackte Säule; und
eine Gasnachweiseinrichtung zur Messung der Konzentra tion eines der vorbestimmten Gase molekularer Sauer stoff oder Kohlendioxid in einem aus dieser gepack ten Säule austretenden Gas.
eine gepackte Säule, welche eine kein Halogenatom enthaltende und mit Fluorgas unter Bildung eines festen Halogenids und wenigstens einer Substanz in Form von molekularem Sauerstoff oder Kohlendioxid reagierende Verbindung umfaßt,
Einrichtungen zum Durchleiten des Fluor enthaltenden Mischgases durch diese gepackte Säule; und
eine Gasnachweiseinrichtung zur Messung der Konzentra tion eines der vorbestimmten Gase molekularer Sauer stoff oder Kohlendioxid in einem aus dieser gepack ten Säule austretenden Gas.
15. Vorrichtung nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet,
daß sie eine gepackte Säule umfaßt, in welcher die
Verbindung ein Hydroxid, Oxid, Carbonat, Hydrogencar
bonat, Sulfat oder Nitrat von Alkalimetallen oder
Erdalkalimetallen ist.
16. Vorrichtung nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet,
daß sie eine gepackte Säule umfaßt, welche mit Natron
kalk gefüllt ist.
17. Vorrichtung nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet,
daß die Gasnachweiseinrichtung einen Sauerstoffsensor
vom Konzentrationszellentyp unter Verwendung von stabi
lisiertem Zirkoniumdioxid als Sauerstoffionen leiten
den, festen Elektrolyt umfaßt.
18. Vorrichtung nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet,
daß die Gasnachweiseinrichtung eine Gaschromatographie
apparatur umfaßt.
19. Vorrichtung nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet,
daß sie eine gepackte Säule umfaßt, welche als Verbin
dung ein Carbonat oder Hydrogencarbonat von Alkali
metallen oder Erdalkalimetallen enthält.
20. Vorrichtung nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet,
daß die Gasnachweiseinrichtung eine Gaschromatographie
apparatur umfaßt.
21. Vorrichtung nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet,
daß die Gasnachweiseinrichtung einen IR-Absorptions
spektralanalysator umfaßt.
22. Vorrichtung nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet,
daß sie zusätzlich eine weitere gepackte Säule, die
ein mit Fluorgas unter Bildung eines Fluorids reagie
rendes Element umfaßt, Einrichtungen zum Durchleiten
des Fluor enthaltenden Mischgases durch diese weitere
gepackte Säule ohne Durchleiten durch die gepackte
Säule und zum Leiten eines aus dieser weiteren gepack
ten Säule austretenden Gases zu der Gasnachweiseinrich
tung umfaßt.
23. Vorrichtung nach Anspruch 22, dadurch gekennzeichnet,
daß sie eine weitere gepackte Säule umfaßt, mit welcher
das Element Fe, Cr, Mn, Co, Zn, Ti, Zr, Sn oder Pb ist.
24. Vorrichtung nach Anspruch 22, dadurch gekennzeichnet,
daß sie eine weitere gepackte Säule umfaßt, in welcher
das Element Si, Ge, P, Sb, S, Se, Te, W, Mo oder V ist,
wobei die Vorrichtung weiterhin eine zusätzliche gepack
te Säule umfaßt, die zwischen dieser weiteren gepack
ten Säule und der Gasnachweiseinrichtung angeordnet
ist und eine Alkalimetall- oder Erdalkalimetallverbin
dung umfaßt, welche mit einem gasförmigen Fluorid, wel
ches in einem aus dieser weiteren gepackten Säule aus
strömenden Gas enthalten ist, unter Bildung eines festen
Fluorids reagiert.
25. Vorrichtung nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet,
daß das Mischgas ein Excimerlasergas ist, welches
Fluorgas und wenigstens ein Edelgas umfaßt.
26. Verfahren zur Kontrolle der Konzentration von Fluor
in einem Excimerlasergas während des Betriebes eines
Excimerlasers zur Stabilisierung der Ausgangsleistung
des Lasers, dadurch gekennzeichnet, daß es folgende
Stufen umfaßt:
- a) Durchleiten einer aus dem Excimerlaser abgezogenen Lasergasprobe durch eine gepackte Säule, welche eine kein Halogenatom aufweisende und mit dem Fluor gas unter Bildung eines festen Fluorides und wenig stens einem Gas in Form von molekularem Sauerstoff oder Kohlendioxid reagierende Verbindung umfaßt,
- b) Messen der Konzentration eines der vorbestimmten Gase molekularer Sauerstoff oder Kohlendioxid in einem aus dieser gepackten Säule ausströmenden Gas und Erzeugung eines die gemessene Konzentration von molekularem Sauerstoff oder Kohlendioxid wieder gebenden elektrischen Signals als Anzeige der Kon zentration von Fluor in dem Lasergas;
- c) Durchführung einer Rechenoperation unter Benutzung dieses elektrischen Signals zum Auffinden einer Abweichung der Fluorkonzentration in dem Lasergas von einer vorbestimmten Konzentration und Erzeugung eines Steuersignals, welches eine geeignete Zufüh rungsmenge von Fluor zu dem Lasergas in dem Laser zur Aufhebung dieser Abweichung wiedergibt, und
- d) Einregulieren der Fluorzufuhr zu dem Lasergas in dem Laser auf Grundlage dieses Steuersignals.
27. System zur Steuerung der Konzentration von Fluor in
einem Excimerlasergas während des Betriebes eines
Excimerlasers zur Stabilisierung der Ausgangsleistung
des Lasers, dadurch gekennzeichnet, daß es umfaßt:
eine gepackte Säule, welche eine kein Halogenatom enthaltende und mit Fluorgas unter Bildung eines festen Halogenids und wenigstens einer Substanz in Form von molekularem Sauerstoff oder Kohlendioxid reagierende Verbindung umfaßt,
Einrichtungen zum Durchleiten einer Probe des aus dem Excimerlaser abgezogenen Lasergases durch diese gepackte Säule,
eine Gasnachweiseinrichtung zur Messung der Konzentra tion eines der vorbestimmten Gase in Form von moleku larem Sauerstoff oder Kohlendioxid in einem aus dieser gepackten Säule ausströmenden Gas und zur Erzeugung ei nes elektrischen Signals, welches die gemessene Konzen tration an molekularem Sauerstoff oder Kohlendioxid als Anzeige der Konzentration des Fluors in dem Lasergas wiedergibt,
Recheneinrichtungen zur Durchführung eines Rechenvor ganges unter Benutzung dieses elektrischen Signals zum Auffinden einer Abweichung der Fluorkonzentration in dem Lasergas von einer vorbestimmten Konzentration und zur Erzeugung eines Steuersignals, welches eine geeignete Zuführmenge für Fluor zu dem Lasergas in dem Laser zur Aufhebung dieser Abweichung wiedergibt, und
Steuereinrichtungen für die Strömungsrate zur Regulie rung der Fluorzufuhr zu dem Lasergas in dem Laser, die auf diesem Steuersignal basieren.
eine gepackte Säule, welche eine kein Halogenatom enthaltende und mit Fluorgas unter Bildung eines festen Halogenids und wenigstens einer Substanz in Form von molekularem Sauerstoff oder Kohlendioxid reagierende Verbindung umfaßt,
Einrichtungen zum Durchleiten einer Probe des aus dem Excimerlaser abgezogenen Lasergases durch diese gepackte Säule,
eine Gasnachweiseinrichtung zur Messung der Konzentra tion eines der vorbestimmten Gase in Form von moleku larem Sauerstoff oder Kohlendioxid in einem aus dieser gepackten Säule ausströmenden Gas und zur Erzeugung ei nes elektrischen Signals, welches die gemessene Konzen tration an molekularem Sauerstoff oder Kohlendioxid als Anzeige der Konzentration des Fluors in dem Lasergas wiedergibt,
Recheneinrichtungen zur Durchführung eines Rechenvor ganges unter Benutzung dieses elektrischen Signals zum Auffinden einer Abweichung der Fluorkonzentration in dem Lasergas von einer vorbestimmten Konzentration und zur Erzeugung eines Steuersignals, welches eine geeignete Zuführmenge für Fluor zu dem Lasergas in dem Laser zur Aufhebung dieser Abweichung wiedergibt, und
Steuereinrichtungen für die Strömungsrate zur Regulie rung der Fluorzufuhr zu dem Lasergas in dem Laser, die auf diesem Steuersignal basieren.
28. System nach Anspruch 27, dadurch gekennzeichnet, daß
die Gasnachweiseinrichtung einen Sauerstoffsensor
vom Konzentrationszellentyp unter Verwendung von stabi
lisiertem Zirkoniumdioxid als Sauerstoffionen leiten
den festen Elektrolyt umfaßt.
29. System nach Anspruch 27, dadurch gekennzeichnet, daß
die Gasnachweiseinrichtung einen IR-Absorptionsspek
tralanalysator umfaßt.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7908888 | 1988-03-31 | ||
JP31765888A JPH0797106B2 (ja) | 1988-12-16 | 1988-12-16 | 含フッ素ガス成分濃度測定方法およびその装置 |
JP33011588A JPH0718862B2 (ja) | 1988-03-31 | 1988-12-27 | フッ素濃度測定方法およびその装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3910345A1 true DE3910345A1 (de) | 1989-10-26 |
DE3910345C2 DE3910345C2 (de) | 1991-04-18 |
Family
ID=27302920
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3910345A Granted DE3910345A1 (de) | 1988-03-31 | 1989-03-30 | Verfahren und vorrichtung zur analyse von fluor enthaltenden gasen |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US5017499A (de) |
DE (1) | DE3910345A1 (de) |
FR (1) | FR2627863B1 (de) |
GB (1) | GB2217842B (de) |
IT (1) | IT1229210B (de) |
Families Citing this family (49)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
IT1229210B (it) * | 1988-03-31 | 1991-07-25 | Central Glass Co Ltd | Metodo e dispositivo per analizzare gas contenenti fluoro. |
JPH02112292A (ja) * | 1988-10-20 | 1990-04-24 | Mitsubishi Electric Corp | ハロゲンガスレーザのガス制御装置 |
GB8927209D0 (en) * | 1989-12-01 | 1990-01-31 | British Aerospace | Apparatus for controlling the composition of a laser gas or gas mixture |
US5214658A (en) * | 1990-07-27 | 1993-05-25 | Ion Laser Technology | Mixed gas ion laser |
US5377215A (en) * | 1992-11-13 | 1994-12-27 | Cymer Laser Technologies | Excimer laser |
KR100387455B1 (ko) * | 1995-01-18 | 2003-11-28 | 소니 가부시끼 가이샤 | 화상데이터의색변환장치및화상데이터의색변환방법 |
US6331994B1 (en) * | 1996-07-19 | 2001-12-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Excimer laser oscillation apparatus and method, excimer laser exposure apparatus, and laser tube |
JP3815578B2 (ja) * | 1996-07-19 | 2006-08-30 | 忠弘 大見 | エキシマレーザー発振装置 |
US6282013B1 (en) | 1997-04-30 | 2001-08-28 | Lasermed, Inc. | System for curing polymeric materials, such as those used in dentistry, and for tailoring the post-cure properties of polymeric materials through the use of light source power modulation |
US6008264A (en) | 1997-04-30 | 1999-12-28 | Laser Med, Inc. | Method for curing polymeric materials, such as those used in dentistry, and for tailoring the post-cure properties of polymeric materials through the use of light source power modulation |
WO1999021505A1 (en) | 1997-10-29 | 1999-05-06 | Bisco, Inc. | Dental composite light curing system |
US6116900A (en) * | 1997-11-17 | 2000-09-12 | Lumachem, Inc. | Binary energizer and peroxide delivery system for dental bleaching |
US6200134B1 (en) | 1998-01-20 | 2001-03-13 | Kerr Corporation | Apparatus and method for curing materials with radiation |
US6240117B1 (en) | 1998-01-30 | 2001-05-29 | Cymer, Inc. | Fluorine control system with fluorine monitor |
WO1999039414A1 (en) * | 1998-01-30 | 1999-08-05 | Cymer, Inc. | Fluorine control system with fluorine monitor |
US5978406A (en) * | 1998-01-30 | 1999-11-02 | Cymer, Inc. | Fluorine control system for excimer lasers |
US6526085B2 (en) * | 1998-10-05 | 2003-02-25 | Lambda Physik Ag | Performance control system and method for gas discharge lasers |
US6490307B1 (en) | 1999-03-17 | 2002-12-03 | Lambda Physik Ag | Method and procedure to automatically stabilize excimer laser output parameters |
US6212214B1 (en) * | 1998-10-05 | 2001-04-03 | Lambda Physik Ag | Performance control system and method for gas discharge lasers |
DE19942455A1 (de) | 1998-10-05 | 2000-04-06 | Lambda Physik Gmbh | Leistungssteuersystem und -verfahren für Gasentladungslaser |
US6804285B2 (en) | 1998-10-29 | 2004-10-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Gas supply path structure for a gas laser |
US6389052B2 (en) | 1999-03-17 | 2002-05-14 | Lambda Physik Ag | Laser gas replenishment method |
US6965624B2 (en) * | 1999-03-17 | 2005-11-15 | Lambda Physik Ag | Laser gas replenishment method |
US6727731B1 (en) | 1999-03-12 | 2004-04-27 | Lambda Physik Ag | Energy control for an excimer or molecular fluorine laser |
US6243406B1 (en) | 1999-03-12 | 2001-06-05 | Peter Heist | Gas performance control system for gas discharge lasers |
US6714577B1 (en) | 1999-03-17 | 2004-03-30 | Lambda Physik Ag | Energy stabilized gas discharge laser |
JP3377183B2 (ja) * | 1999-04-09 | 2003-02-17 | セントラル硝子株式会社 | Nf3の処理方法 |
US6157661A (en) * | 1999-05-12 | 2000-12-05 | Laserphysics, Inc. | System for producing a pulsed, varied and modulated laser output |
US7179653B2 (en) * | 2000-03-31 | 2007-02-20 | Showa Denko K.K. | Measuring method for concentration of halogen and fluorine compound, measuring equipment thereof and manufacturing method of halogen compound |
US6721345B2 (en) | 2000-07-14 | 2004-04-13 | Lambda Physik Ag | Electrostatic precipitator corona discharge ignition voltage probe for gas status detection and control system for gas discharge lasers |
ATE505434T1 (de) * | 2001-06-29 | 2011-04-15 | Showa Denko Kk | Herstellung eines hochreinen fluorgases und methode zur analyse von spuren in einem hochreinen fluorgas |
JP2003021619A (ja) * | 2001-07-05 | 2003-01-24 | Canon Inc | 蛍石及びその分析法、製造法、光学特性評価法 |
US7830934B2 (en) * | 2001-08-29 | 2010-11-09 | Cymer, Inc. | Multi-chamber gas discharge laser bandwidth control through discharge timing |
US7209507B2 (en) * | 2003-07-30 | 2007-04-24 | Cymer, Inc. | Method and apparatus for controlling the output of a gas discharge MOPA laser system |
US7317179B2 (en) * | 2005-10-28 | 2008-01-08 | Cymer, Inc. | Systems and methods to shape laser light as a homogeneous line beam for interaction with a film deposited on a substrate |
US7679029B2 (en) * | 2005-10-28 | 2010-03-16 | Cymer, Inc. | Systems and methods to shape laser light as a line beam for interaction with a substrate having surface variations |
US9072572B2 (en) | 2009-04-02 | 2015-07-07 | Kerr Corporation | Dental light device |
US9066777B2 (en) | 2009-04-02 | 2015-06-30 | Kerr Corporation | Curing light device |
US8444935B2 (en) * | 2009-06-12 | 2013-05-21 | Bose Corporation | Multiple-specimen device testing with particle measurement |
WO2011045338A1 (en) * | 2009-10-16 | 2011-04-21 | Solvay Fluor Gmbh | High-purity fluorine gas, the production and use thereof, and a method for monitoring impurities in a fluorine gas |
CN105353057B (zh) * | 2015-12-17 | 2017-02-01 | 中国原子能科学研究院 | 一种用于在线分析Ne中微量He、H2和杂质组分的气相色谱检测系统及方法 |
CN106896179B (zh) * | 2015-12-21 | 2019-01-22 | 中昊晨光化工研究院有限公司 | 一种氟化工行业的环境在线监测系统和在线监测方法 |
CN105548075A (zh) * | 2016-01-08 | 2016-05-04 | 楚天科技股份有限公司 | 一种玻璃药瓶内氧气含量的检测装置与方法 |
KR102366148B1 (ko) * | 2017-09-25 | 2022-02-23 | 사이머 엘엘씨 | 가스 방전 광원에서의 불소 검출 방법 |
CN108287157A (zh) * | 2017-12-29 | 2018-07-17 | 和立气体(上海)有限公司 | 一种氟气分析转化装置 |
TWI770568B (zh) * | 2019-08-29 | 2022-07-11 | 美商希瑪有限責任公司 | 氣體放電光源中之氟偵測 |
JP7511744B2 (ja) * | 2020-09-10 | 2024-07-05 | サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニー | フッ素測定装置及びフッ素測定方法 |
CN113917075A (zh) * | 2021-09-14 | 2022-01-11 | 苏州金宏气体股份有限公司 | 含氟混合气体中氟含量测试装置及方法 |
CN114813448A (zh) * | 2022-04-18 | 2022-07-29 | 浙江博瑞中硝科技有限公司 | 一种氟氮混合气中氟含量自动化测试的方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3644819A1 (de) * | 1986-12-31 | 1988-09-22 | Gyulai Maria Dobosne | Anordnung und verfahren zur quantitaiven bestimmung von fluor-, chlor- und bromgas und anderen stark oxydierenden gasen |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2925327A (en) * | 1958-03-13 | 1960-02-16 | Katz Sidney | Continuous gas analyzer |
US3579305A (en) * | 1968-07-25 | 1971-05-18 | Beckman Instruments Inc | Scrubber apparatus |
US3915645A (en) * | 1973-04-24 | 1975-10-28 | Us Army | Chemical reaction transducers for use with flueric gas concentration sensing systems |
US3847552A (en) * | 1973-11-23 | 1974-11-12 | Ibm | Environmental monitoring device and method |
US4147513A (en) * | 1977-09-26 | 1979-04-03 | Bendix Autolite Corporation | Method and apparatus for measuring the O2 content of a gas |
US4298347A (en) * | 1980-02-25 | 1981-11-03 | Kor Incorporated | 13 CO2 Breath test |
JPS60152519A (ja) * | 1984-01-23 | 1985-08-10 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 変性エチレン・α−オレフイン系共重合ゴムの製造方法 |
US4637987A (en) * | 1984-05-07 | 1987-01-20 | Gould Inc. | Gas monitoring device and method |
JPS61101231A (ja) * | 1984-10-23 | 1986-05-20 | Central Glass Co Ltd | フツ素ガスの除去方法 |
CA1298959C (en) * | 1985-09-28 | 1992-04-21 | Kohzo Hakuta | Method of refining rare gas halide excimer laser gas |
IT1229210B (it) * | 1988-03-31 | 1991-07-25 | Central Glass Co Ltd | Metodo e dispositivo per analizzare gas contenenti fluoro. |
-
1989
- 1989-03-24 IT IT8919907A patent/IT1229210B/it active
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1991
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Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3644819A1 (de) * | 1986-12-31 | 1988-09-22 | Gyulai Maria Dobosne | Anordnung und verfahren zur quantitaiven bestimmung von fluor-, chlor- und bromgas und anderen stark oxydierenden gasen |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
A.M.G. Macdonald et al.: "Fluorine" in Encyclopedia of Industrial Chemical Analysis, Bd. 13(1971), New York, London, Sydney, Toronto * |
Analytical Chemistry Bd. 40 (1968) S. 2217 ff * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB2217842B (en) | 1991-10-09 |
GB2217842A (en) | 1989-11-01 |
FR2627863A1 (fr) | 1989-09-01 |
DE3910345C2 (de) | 1991-04-18 |
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IT1229210B (it) | 1991-07-25 |
GB8907052D0 (en) | 1989-05-10 |
FR2627863B1 (fr) | 1991-05-24 |
US5017499A (en) | 1991-05-21 |
US5149659A (en) | 1992-09-22 |
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