DE3830775A1 - Thermisches mimeograph-schablonenpapier - Google Patents

Thermisches mimeograph-schablonenpapier

Info

Publication number
DE3830775A1
DE3830775A1 DE3830775A DE3830775A DE3830775A1 DE 3830775 A1 DE3830775 A1 DE 3830775A1 DE 3830775 A DE3830775 A DE 3830775A DE 3830775 A DE3830775 A DE 3830775A DE 3830775 A1 DE3830775 A1 DE 3830775A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
silicone
mimeograph
stencil paper
polymer
thermal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE3830775A
Other languages
English (en)
Other versions
DE3830775C2 (de
Inventor
Fumiaki Arai
Masaru Kimura
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ricoh Co Ltd
Gen Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
Gen Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP62228151A external-priority patent/JP2729251B2/ja
Application filed by Ricoh Co Ltd, Gen Co Ltd filed Critical Ricoh Co Ltd
Publication of DE3830775A1 publication Critical patent/DE3830775A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE3830775C2 publication Critical patent/DE3830775C2/de
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41NPRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
    • B41N1/00Printing plates or foils; Materials therefor
    • B41N1/24Stencils; Stencil materials; Carriers therefor
    • B41N1/245Stencils; Stencil materials; Carriers therefor characterised by the thermo-perforable polymeric film heat absorbing means or release coating therefor
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/26Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
    • Y10T428/263Coating layer not in excess of 5 mils thick or equivalent
    • Y10T428/264Up to 3 mils
    • Y10T428/2651 mil or less
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/3154Of fluorinated addition polymer from unsaturated monomers
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31652Of asbestos
    • Y10T428/31663As siloxane, silicone or silane
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31855Of addition polymer from unsaturated monomers
    • Y10T428/3188Next to cellulosic
    • Y10T428/31895Paper or wood
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31971Of carbohydrate
    • Y10T428/31993Of paper
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T442/00Fabric [woven, knitted, or nonwoven textile or cloth, etc.]
    • Y10T442/20Coated or impregnated woven, knit, or nonwoven fabric which is not [a] associated with another preformed layer or fiber layer or, [b] with respect to woven and knit, characterized, respectively, by a particular or differential weave or knit, wherein the coating or impregnation is neither a foamed material nor a free metal or alloy layer
    • Y10T442/2738Coating or impregnation intended to function as an adhesive to solid surfaces subsequently associated therewith

Landscapes

  • Laminated Bodies (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft ein thermisches Mimeograph- Schablonenpapier, das einen auf einen porösen Schichtträger laminierten Kunststoffilm umfaßt. Insbesondere betrifft die vorliegende Erfindung ein Mimeograph-Schablonenpapier von dem Typ, der mit einem thermischen Element, wie z. B. einem Thermo­ kopf, verarbeitet wird.
Zwei Typen von thermischen Mimeograph-Schablonenpapieren sind bekannt: Das eine ist vom "Infrarot-Bestrahlungs-Typ", bei dem ein Blatt aus thermischem Schablonenpapier in engen Kontakt mit einem Original gebracht wird, gefolgt von Bestrahlung mit Infrarotlicht unter Bildung einer Originalplatte für den Mimeographen; das andere ist vom "thermischen Element-Typ", wobei eine Originalplatte für den Mimeographen durch Inkontakt­ bringen eines Blattes aus thermischem Schablonenpapier mit einem thermischen Element, wie z. B. einem Thermokopf, das da­ durch Energie auf das Papier überträgt, gebildet wird.
Thermisches Schablonenpapier vom Infrarot-Bestrahlungs-Typ umfaßt im allgemeinen einen porösen Schichtträger, einen Kleb­ stoff, einen Film und eine haftungsverhindernde Schicht. Ver­ schiedene haftungsverhindernde Schichten sind vorgeschlagen worden, um den Film daran zu hindern, während der Verarbeitung zur Bildung einer Originalplatte am Original zu haften und so zu brechen, wenn das Original vom Film entfernt wird. Zum Bei­ spiel beschreibt die japanische Patentveröffentlichung (KOKOKU) Nr. 10093/1968 eine Schicht, die Natriumstearat um­ faßt; die japanische Patentveröffentlichung (KOKOKU) Nr. 1531/1972 beschreibt eine Schicht, die ein Öl-Aminsulfonat enthält; und die japanische Patentveröffentlichung (KOKOKU) Nr. 5139/1972 beschreibt eine Schicht aus Pulver mit einer Teilchengröße von 0,2 mm oder darunter und einem Schmelzpunkt von 200°C oder darüber. Bei diesem Verfahren wird eine derar­ tige Schicht auf der Oberfläche des Films angebracht.
Obwohl diese Verfahren für den Infrarot-Bestrahlungs-Typ wirk­ sam sind, können sie Probleme verursachen, wenn sie auf den thermischen Element-Typ übertragen werden: z. B. kann in eini­ gen Fällen keine Kopfbewegung durchgeführt werden; und/oder, wenn die Zahl der Bewegungsvorgänge hoch ist, kann sich auf dem Kopf Abfall abscheiden und scharfe Bilder können nicht hergestellt werden.
Es wurde auch vorgeschlagen, als haftungsverhindernde Schicht, die auf dem Film vorgesehen ist, eine Trennschicht zu verwen­ den, die ein Silikon mit ausgezeichneten Trenneigenschaften umfaßt; z. B. verwendet die japanische Patentveröffentlichung (KOKOKU) Nr. 30570/1973 eine Trennschicht, die 0,05 bis 2,0 g/cm² Silikon umfaßt; die japanische Patentanmeldungs-Offen­ legungsveröffentlichung (KOKAI) Nr. 92595/1983 verwendet eine Schicht aus einem waserlöslichen Silikonöl; und die japani­ sche Patentanmeldungs-Offenlegungs-Veröffentlichung (KOKAI) Nr. 153697/1983 verwendet eine Schicht aus bei Raumtemperatur vulkanisierbarem Silikon.
Wenn jedoch ein Silikonöl, das bei Normaltemperatur eine Flüs­ sigkeit ist, auf den Film aufgetragen wird, kann das Öl während der Lagerung des Films in Rollen- oder Blattform in den porö­ sen Schichtträger wandern, was eine Verminderung seiner Haf­ tungs-verhindernden Eigenschaften verursacht. Andererseits müssen die bei Raumtemperatur vulkanisierbaren Silikone, die auf den thermoplastischen Film aufgetragen werden, drei Tage oder länger stehengelassen werden, bis sie getrocknet sind, was zu einer geringen Arbeitseffizienz bei der Herstellung von Schablonenpapier führt.
Thermisches Mimeograph-Schablonenpapier wird im allgemeinen hergestellt durch Laminierung eines thermoplastischen Films in Form einer Rolle und eines porösen Schichtträgers in Form einer Rolle durch eine Haftschicht, Auftragen eines Trennmit­ tels und Aufwickeln des resultierenden Laminats zu einer Rol­ le. Wenn die bei Raumtemperatur vulkanisierbaren Silikone als Trennmittel verwendet werden, kann das Silikon während der Lagerungszeit auf der aufgewickelten Rolle, die 3 Tage oder mehr betragen muß, um eine Trocknung und Härtung des Mittels sicherzustellen, auf dem porösen Schichtträger übertragen werden.
Um die im Stand der Technik anzutreffenden Probleme zu lösen, ist vorgeschlagen worden, ein thermisch härtbares oder mit ultra­ violettem Licht härtbares Silikonharz (japanische Patentanmel­ dungs-Offenlegung (KOKAI) Nr. 295098/1986) oder ein Fluor­ kohlenstoff-Harz zu verwenden (japanische Patentanmeldungs- Offenlegungen (KOKAI) Nr. 19 591/1985 und 97 891/1985).
Wenn jedoch eine Trennschicht aus dem hitzehärtbaren Silikon­ harz auf dem thermoplastischen Film angebracht wird, sollte ein Erhitzen auf über 100°C erforderlich sein, um das Harz zu härten. Während der Erhitzung wird eine beträchtliche Wärme­ menge auf den thermoplastischen Film von 2 bis 20 µm Dicke übertragen, was zur Bildung von Falten in dem Film und/oder zu einer starken Wellung des hergestellten thermischen Mimeograph- Schablonenpapiers führen kann. Andererseits erfordert die Ver­ wendung eines mit ultraviolettem Licht härtbaren Silikonharzes eine spezielle Ausrüstung für die Herstellung von Schablonen­ papier. Weiterhin kann, wenn das unter Verwendung des hitze­ härtbaren oder UV-härtbaren Silikonharzes hegestellte ther­ mische Mimeograph-Schablonenpapier mit einem Thermokopf bear­ beitet wird, nur eine geringe Perforation des Papiers erreicht werden, selbst wenn ein Kopflauf (head running) möglich ist, so daß kein klar gedrucktes Erzeugnis erhalten werden kann. Schließlich kann durch die Verwendung eines Fluorkohlenstoff- Harzes die Abscheidung von Abfall auf dem Kopf nicht wirksam verhindert werden.
Somit zeigen alle bisher vorgeschlagenen Verfahren Nachteile und es gibt kein zufriedenstellendes Verfahren zur Herstellung von thermischem Mimeograph-Schablonenpapier.
Ein Hauptziel der vorliegenden Erfindung ist die Schaffung eines neuen thermischem Mimeograph-Schablonenpapiers, das im Unterschied zu üblichen Schablonenpapieren des Standes der Technik in geeigneter Weise mit einem Thermokopf verarbeitet werden kann, ausgezeichnete Kopflaufeigenschaften aufweist, keine Abscheidung von Abfall auf dem Kopf verursacht und zu klaren und scharfen gedruckten Bildern führt.
Erfindungsgemäß wird ein thermisches Mimeograph-Schablonen­ papier vom laminierten Typ zur Verfügung gestellt, das einen aus einem thermoplastischen Harz bestehenden Kunststoffilm umfaßt, der auf einen porösen Schichtträger laminiert ist, das dadurch gekennzeichnet ist, daß auf der Oberfläche dieses Films eine Schicht vorgesehen ist, die im wesentlichen aus einem Pfropfpolymeren besteht, dessen Zweigpolymeres ein Fluorkohlenstoff- oder Silikonharz umfaßt.
In der vorliegenden Erfindung wird ein Pfropfpolymeres mit einem Zweigpolymeren, das ein Fluorkohlenstoff- oder Silikon­ harz umfaßt, als eine Hauptkomponente der Schicht verwendet, die auf der Oberfläche des Kunststoffilms vorgesehen wird.
Solche Pfropfpolymere können synthetisiert werden durch Copo­ lymerisation eines Fluorkohlenstoff- oder Siliconharzes mit einer polymerisierbaren funktionellen Gruppe an einem Ende der Molekülkette, also dem späteren Zweigpolymeren, mit einem oder mehreren Monomeren, die später das Grundpolymere aufbauen.
Das Fluorkohlenstoff- oder Silkonharzgerüst, das das Zweig­ polymere darstellt, kann irgendein geeignetes Harz sein. Ins­ besonders werden Fluorkohlenstoffharze mit Polytetrafluor­ ethyleneinheiten, die durch die Formel -(CF₂)- dargestellt werden, und Siliconharze mit Polydimethylsiloxaneinheiten, die durch die Formel -(Si(CH₃)₂-O)- dargestellt werden, be­ vorzugt eingesetzt.
Die polymerisierbaren funktionellen Gruppen, die mit einem Ende des Fluorkohlenstoff- oder Silikonharzgrundgerüstes ver­ bunden sein können, sind z. B. diejenigen vom Vinylpolymerisa­ tions-Typ mit (Meth)acryloyloxy, Allyloxy, Glycidylmethacry­ lat und dergl.; und jene vom Polykondensationstyp mit Dihydro­ xy, Dicarboxy und dergl.
Die Zweigpolymeren können hergestellt werden durch verschiede­ ne Verfahren, wie z. B. die in K. Ito, N. Usami und Y. Yamashita, Macromolecules, 13, 216 (1980) und Y. Yamashita, Y. Chujo, H. Kobayashi und Y. Kawakami, Polym. Bull., 5, 361 (1981) be­ schriebenen.
Unter diesen Verfahren ist das Verfahren bevorzugt, bei dem ein Präpolymeres mit einer terminalen Carbonsäure- oder Alko­ holgruppe durch radikalische Polymerisation unter Verwendung eines Kettenübertragungsmittels synthetisiert wird und durch Endgruppenaustausch eine Doppelbindung in das Polymere einge­ führt wird.
Die Dicarbonsäure- oder Diolgruppe kann auch durch Verwendung eines Kettenübertragungsmittels mit einer Dicarboxy- oder Di­ hydroxygruppe in ein Ende des Grundgerüst-Polymeren eingeführt werden.
Ein bevorzugtes Verfahren zur Herstellung der Zweigpolymeren mit einem Silikonharz-Grundgerüst ist eine Umsetzung eines lebenden Polymeren, das aus einem cyclischen Siloxan anionisch polymerisiert wurde, das durch die allgemeine Formel (a):
dargestellt wird, in welcher die Gruppen R₁ unabhängig von­ einander Methyl, Ethyl oder Phenyl bedeuten und p 3 oder 4 ist, mit einer radikalisch polymerisierbaren Siliconverbin­ dung, die durch die allgemeine Formel (b) dargestellt wird:
oder
in welchen R₂ ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe dar­ stellt, m 0 oder 1 ist, R₃ und R₄ unabhängig voneinander Methyl, Ethyl- oder Phenylgruppen sind, n eine ganze Zahl mit einem Wert von 1 bis 3 ist, l eine ganze Zahl mit einem Wert von 0 bis 2 darstellt, falls m = l oder l 2 ist, falls m = 1. Siehe japanische Patentanmeldungs-Offenlegung (KOKAI) Nr. 126478/1984.
Die anionische Polymerisation der cyclischen Siloxane (a) kann durch übliche Massen- oder Lösungspolymerisation unter Verwendung irgendeines bekannten anionischen Initiators durchgeführt werden.
Veranschaulichende Beispiele für cyclische Siloxane, die durch die allgemeine Formel (a) dargestellt werden, sind Hexamethylcyclotrisiloxan, Octamethylcyclotetrasiloxan, Hexaethylcyclotrisiloxan, Octaethylcyclotetrasiloxan, Hexa­ phenylcyclotrisiloxan und Octaphenylcyclotetrasiloxan. Wegen der Kosten und der Eignung für die anionische Polymerisation werden hier Hexamethylcyclotrisiloxan und Octamethylcyclo­ tetrasiloxan besonders bevorzugt.
Die in der vorliegenden Erfindung eingesetzten anionischen Initiatoren können irgendwelche bekannte anionische Initia­ toren sein, wie z. B. organische Lithiumverbindungen, Alkali­ metallhydroxide, Alkalimetallalkoxide und Alkalimetallsilano­ late. Unter diesen werden hier organische Lithiumverbindungen besonders bevorzugt.
Die Molekulargewichte der radikalisch polymerisierbaren Sili­ kon-Zweigpolymeren, die aus der Reaktion der durch anionische Polymerisation erhaltenen lebenden Polymeren mit den radika­ lisch polymerisierbaren Siliconverbindungen (b) resultieren sollen, werden durch die Molekulargewichte der lebenden Poly­ meren bestimmt, die wiederum durch das Molverhältnis von Ini­ tiator zu cyclischem Siloxan reguliert werden können. Vorzugs­ weise liegt das Molverhältnis von Initiator zu cyclischem Siloxan im Bereich von 0,01 bis 0,2. Bei Molverhältnissen von unter 0,01 haben die resultierenden radikalisch poly­ merisierbaren Silicon-Zweigpolymeren sehr hohe Molekularge­ wichte, die 20 000 überschreiten; andererseits führen Molver­ hältnisse von mehr als 0,2 oft zu Silicon-Zweigpolymeren mit sehr geringen Molekulargewichten. Im allgemeinen weisen die radikalisch polymerisierbaren Silicon-Zweigpolymeren ein Zahlenmittel des Molekulargewichts im Bereich von 500 bis 40 000 auf. Falls das Molekulargewicht unter 500 liegt, kön­ nen die vorteilhaften Wirkungen des Silicons, wie z. B. gerin­ ge Reibung und Trenneigenschaften verschlechtert werden. Auf der anderen Seite sind die resultierenden Beschichtungsharze oft ölig, wenn die Silicon-Zweigpolymeren Molekulargewichte über 40 000 besitzen.
Die radikalisch polymerisierbaren Silicon-Zweigpolymeren kön­ nen erhalten werden durch Abbruchsreaktion der lebenden Poly­ merisation des lebenden Polymeren mit der radikalisch polyme­ risierbaren Siliconverbindung der allgemeinen Formel (b). Die Reaktion kann leicht dadurch bewirkt werden, daß man die bei­ den Reaktanten einfach zusammen mischt.
Die radikalisch polymerisierbaren Silicon-Verbindungen, die durch die allgemeine Formel (b) dargestellt werden, können leicht durch bekannte Verfahren hergestellt werden.
Zum Beispiel können Verbindungen der Formel
in welcher R₂, l, m, R₃ und n wie oben definiert sind, herge­ stellt werden durch die Hydrosilylierungsreaktion eines unge­ sättigten Acrylats und/oder Methacrylats (im folgenden als "(Meth)acrylat" bezeichnet) der Formel
in welcher R₂, l und m wie oben definiert sind, mit einer Verbindung der Formel:
HSi(R₃)3-n Cl n
in welcher R₃ und n wie oben definiert sind.
Vorzugsweise wird die radikalisch polymerisierbare Silicon­ verbindung in einer solchen Menge eingesetzt, daß 1 bis 5 Äquivalente der SiCl-Bindung pro Äquivalent (Mol) des lebenden Ausgangs-Polymeren in der Verbindung der allgemeinen Formel (b) bei der Abbruchsreaktion der lebenden Polymerisation vor­ handen sind.
Ein weiteres bevorzugtes Verfahren zur Herstellung der radi­ kalisch polymerisierbaren Silicon-Polymeren umfaßt die Reak­ tion von 1 Mol eines Silicons, das durch die allgemeine For­ mel (a)′ dargestellt wird:
in welcher R¹ und R² einwertige aliphatische Kohlenwasser­ stoffgruppen mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen, Phenylgruppen oder einwertige halogenierte Kohlenwasserstoffgruppen dar­ stellen und n eine positive Zahl, die gleich oder größer 1 ist, bedeutet, mit von 0,25 bis 1 Mol einer Acrylverbindung, die durch die folgende allgemeine Formel (b)′ dargestellt wird:
in welcher R³ ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe be­ deutet, R⁴ eine Methyl-, Ethyl- oder Phenylgruppe ist und X ein Chloratom oder eine Methoxy- oder Ethoxygruppe ist. Die Kondensationsreaktion ist in der japanischen Patentanmeldungs- Offenlegung (KOKAI) Nr. 154766/1983 beschrieben. Die Einzel­ heiten dieses Verfahrens sind in der KOKAI-Patentschrift be­ schrieben.
Verschiedene Silicone, die durch die allgemeine Formel (a)′ dargestellt werden, sind zugänglich, unter denen irgendeine Verbindung, die für die Ziele der vorliegenden Erfindung ge­ eignet ist, ausgewählt werden kann. Insbesondere werden hier Silicone der Formel (a)′, in welcher R¹ und R² Methylgruppen darstellen, bevorzugt eingesetzt. Das "n" in der allgemeinen Formel (a)′ ist ein Faktor, der das Molekulargewicht der Sili­ cone direkt beeinflußt und vorzugsweise im Bereich von 1 bis 500, noch bevorzugter im Bereich von 10 bis 300, liegt. Wenn "n" kleiner als 1 ist, können die vorteilhaften Wirkungen des Silicons, wie z. B. geringe Reibung und gute Trenneigenschaften, nicht erreicht werden, während, wenn "n" über 500 liegt, ölige Silicon-Pfropfcopolymere resultieren, die schwierig zu reini­ gen sind.
Die durch die allgemeine Formel (b)′ repräsentierten Acryl­ verbindungen sind z. B. γ-Methacryloxypropylmethyldichlorsilan, γ-Methacryloxypropylmethyldiethoxysilan, γ-Methacryloxypropyl­ phenyldichlorsilan, γ-Methacryloxypropylethyldichlorsilan, γ-Acryloxypropylmethyldichlorsilan, usw. Diese Acrylverbindungen sind bekannt und können leicht hergestellt werden durch Um­ setzung einer Siliconverbindung mit einer Verbindung mit einer aliphatischen Mehrfachbindung in Anwesenheit von Chlorplatin­ säure.
Die Reaktion der Silicone, die durch die allemeine Formel (a)′ dargestellt werden, mit den Acrylverbindungen, die durch die allgemeine Formel (b)′ dargestellt werden, verläuft gut in irgendeiner üblichen Art und Weise unter Herstellung der ra­ dikalisch polymerisierbaren Silicon-Zweigpolymeren. Die Re­ aktion ist die Dehydrochlorierung, wenn X in der Formel (b)′, die die Acrylverbindung darstellt, ein Chloratom ist, oder ist eine dealkoholisierende Kondensation, wenn X eine Methoxy- oder eine Ethoxygruppe bedeutet.
Die Acrylverbindung wird in einer Menge von 0,25 bis 1 Mol pro Mol des Silicons eingesetzt. Wenn die Menge unter 0,25 Mol liegt, bleibt möglicherweise eine große Menge von unreagier­ tem Silicon nach der Herstellung der Beschichtungsharze zu­ rück. Im Gegensatz dazu tritt bei der Herstellung der Beschich­ tungsharze leicht eine Gelierung ein, wenn mehr als 1 Mol Acrylverbindung verwendet wird.
Ein noch weiteres Verfahren zur Herstellung der Silicon-Zweig­ polymeren, das in der vorliegenden Erfindung bevorzugt einge­ setzt wird, ist in der japanischen Patentanmeldungs-Offenle­ gung (KOKAI) Nr. 20360/1984 beschrieben, bei dem ein radika­ lisch polymerisierbares Silicon-Zweigpolymer unter denselben Reaktionsbedingungen hergestellt wird, wie sie in der oben erwähnten japanischen Patentanmeldungs-Offenlegung (KOKAI) Nr. 154766/1983 beschrieben sind, außer daß die Acrylverbin­ dungen, die durch die allgemeine Formel (b)′ repräsentiert werden, durch Acrylverbindungen ersetzt werden, die durch die folgende allgemeine Formel (b)′′ dargestellt werden:
in welcher n eine ganze Zahl mit einem Wert von 1 bis 3 ist und R³, R⁴ und X dieselben Bedeutungen wie in der obigen allgemeinen Formel (b)′ besitzen.
Die Produkte (radikalisch polymerisierbare Silikon-Zweigpoly­ mere) die durch die Verfahren erhalten werden, die in den oben erwähnten japanischen Patentanmeldungs-Offenlegungen (KOKAI) Nr. 154766/1983 und 20360/1984 beschrieben sind, ent­ halten als Hauptbestandteile die Verbindungen, in welchen ein Molekül der Acrylverbindung (b)′ oder (b)′′ mit einem Mo­ lekül des Silikons (a)′ vereinigt wird, und als Nebenbestand­ teile nicht umgesetztes Silikon und Nebenprodukt, Polyacryl­ funktionelle Silikone, in denen zwei oder mehr Moleküle Acrylverbindung mit einem Molekül Silikon vereinigt sind. Vor­ teilhafterweise können diese Produkte direkt als die radika­ lisch polymerisierbaren Silicon-Zweigpolymeren in der vorlie­ genden Erfindung eingesetzt werden.
Vorzugsweise wird das radikalisch polymerisierbare Silikon- Zweigpolymere hier in einer Menge von 3 bis 60 Gewichtspro­ zent, insbesondere 5 bis 50 Gew.-%, bezogen auf das Grund­ polymere, verwendet. Falls die Menge des verwendeten radika­ lisch polymerisierbaren Silikon-Zweigpolymeren unter 3 Gew.-% liegt, können die gewünschten Pfropfpolymeren mit ausgezeich­ neten Trenneigenschaften nicht erhalten werden. Andererseits kann, wenn die Menge des eingesetzten radikalisch polymeri­ sierbaren Silikon-Zweigpolymeren 60 Gew.-% übersteigt, die radikalische Polymerisation derselben nicht gut voranschrei­ ten, die resultierenden Beschichtungen haben eine verminder­ te mechanische Festigkeit und die Produktionskosten für sol­ che Beschichtungen sind hoch.
Die Zweigpolymeren der vorliegenden Erfindung haben im all­ gemeinen ein Zahlenmittel des Molekulargewichts im Bereich von 500 bis 40 000, vorzugsweise von 1000 bis 20 000, be­ stimmt durch Gelpermeationschromatographie (GPC) bezogen auf Polystyrol.
Das Grundpolymere im Pfropfpolymeren der vorliegenden Erfin­ dung umfaßt ein oder mehrere radikalisch polymerisierbare Monomere. Veranschaulichende Beispiele von olefinischen Ver­ bindungen, die als radikalisch polymerisierbare Monomere in der vorliegenden Erfindung eingesetzt werden können, schlie­ ßen z. B. ein niedrigmolekulare ungesättigte Kohlenwasserstof­ fe, wie z. B. Ethylen und Propylen; Vinylhalogenide, wie z. B. Vinylchlorid und Vinylfluorid; Vinylester von organischen Säuren, wie z. B. Vinylacetat; vinylaromatische Verbindungen, wie z. B. Styrol, substituierte Styrole, Vinylpyridin und Vinylnaphthalin; Acrylsäure, Methacrylsäure und Derivate da­ von, wie z. B. Methylacrylat, Methylmethacrylat, Ethylacrylat, Ethylmethacrylat, Butylacrylat, Hydroxyethylmethacrylat, 2-Ethylhexylacrylat, Fluoralkylacrylate und Fluoralkylmeth­ acrylate; Acrolein; Acrylnitril; N-Vinylverbindungen, wie z. B. N-Vinylpyrrolidon und N-Vinylcaprolactam; disubstituier­ te Ethylene, wie z. B. Vinylidenchlorid und Vinylidenfluorid; Maleinsäureanhydrid; Maleinsäureester; Fumarsäureester; usw. Diese radikalisch polymerisierbaren Monomeren können entweder unabhängig voneinander oder in Kombination verwendet werden.
Bevorzugte Monomere, die die Einheiten des Grundpolymeren der erfindungsgemäßen Pfropfpolymeren darstellen, sind ein oder mehrere Verbindungen, die ausgewählt sind aus Methylacrylat (MA), Methylmethacrylat (MMA), Ethylacrylat (EA), Ethyl­ methacrylat (EMA), Butylacrylat (BA), Vinylchlorid (VC), Hydroxyethylmethacrylat (HEMA), 2-Ethylhexylacrylat (HA) und Styrol (St).
Weiterhin können die erfindungsgemäßen Pfropfpolymeren auch andere radikalisch polymerisierbare Monomere mit einer hydro­ lysierbaren funktionellen Gruppe, die mit dem Silikonatom verbunden sind, oder einer Hydroxygruppe unfassen. Diese ra­ dikalisch polymerisierbaren Monomeren werden im folgenden ein­ fach als "vernetzbare Monomere" bezeichnet. Solche Pfropf­ polymere können erhalten werden durch Polymerisation von einem oder mehreren vernetzbaren Monomeren mit dem (den) radikalisch polymerisierbaren Silikon-Zweigpolymeren und dem (den) radika­ lisch polymerisierbaren Monomeren.
Das in der vorliegenden Erfindung verwendete vernetzbare Mo­ nomere sollte eine hydrolysierbare funktionelle Gruppe oder eine Hydroxygruppe im Molekül aufweisen, um den engen Kontakt des Pfropfpolymeren mit einer zu beschichtenden Oberfläche, die Wasser- und Feuchtigkeitsbeständigkeit der resultierenden Beschichtungen und die Festigkeit des Pfropfpolymeren selbst zu verbessern.
Die hydrolysierbaren funktionellen Gruppen, die erfindungsge­ mäß in Betracht gezogen werden, schließen ein Alkoxygruppen, Acetoxygruppen und Gruppen, die durch die folgende allgemeine Formel dargestellt werden; (OC₂H₄) p OR, in welcher R Wasser­ stoff, Methyl oder Ethyl ist und p eine ganze Zahl von 1 bis 5 darstellt.
Die vernetzbaren Monomeren mit einer hydrolysierbaren funktio­ nellen Gruppe können einschließen acrylische und/oder methacry­ lische Silane, repräsentiert durch die folgende allgemeine Formel:
und ethylenische Silane, dargestellt durch die folgende Formel:
In diesen Formeln ist R₁ ein Wasserstoffatom oder eine Methyl­ gruppe, R₂ und R₃ sind unabhängig voneinander Methyl-, Ethyl- oder Phenylgruppen, n ist eine ganze Zahl mit einem Wert von 1 bis 3, m ist 0 oder 1, l ist eine ganze Zahl von 0 bis 2, falls m = 0 oder l =2, falls m = 1, und X ist eine Alkoxy- oder Acetoxygruppe oder eine Gruppe der allgemeinen Formel:
(OC₂H₄) p OR₄
in welcher R₄ ein Wasserstoffatom oder eine Methyl- oder Ethylgruppe darstellt und p eine ganze Zahl von 1 bis 5 ist.
Veranschaulichende Beispiele für die vernetzbaren Silane mit einer hydrolysierbaren funktionellen Gruppe sind z. B.
gamma-(Meth)acryloyloxypropyltrimethoxysilan,
gamma-(Meth)acryloyloxypropylmethyldimethoxysilan;
gamma-(Meth)acryloyloxypropyldimethylmethoxysilan;
3-(2-(Meth)acryloyloxyethoxy)propyltrimethoxysilan;
3-(2-(Meth)acryloyloxyethoxy)propylmethyldimethoxysilan;
3-(2-(Meth)acryloyloxyethoxy)propyldimethylmethoxysilan;
5-((Meth)acryloyloxy)pentyltrimethoxysilan;
5-((Meth)acryloyloxy)pentylmethyldimethoxysilan;
5-((Meth)acryloyloxy)pentyldimethylmethoxysilan;
p-Vinylphenyltrimethoxysilan;
p-Vinylphenylmethyldimethoxysilan;
p-Vinylphenyldimethylmethoxysilan;
gamma-(Meth)acryloyloxypropyltri(beta-methoxyethoxy)silan;
usw.
Unter diesen Silanen ist gamma-(Meth)acryloyloxypropyltri(be­ ta-methoxyethoxy)silan wegen seiner Zugänglichkeit und seines Preises bevorzugt.
In der vorliegenden Erfindung kann irgendein bekanntes radi­ kalisch polymerisierbares Monomeres mit einer Hydroxygruppe als vernetzbares Monomeres eingesetzt werden. Veranschauli­ chende Beispiele für solche Monomere sind z. B. 2-Hydroxy­ ethyl (meth)acrylat, 2-Hydroxypropyl (meth)acrylat, 3-Hydroxypropyl (meth)acrylat, 2-Hydroxybutyl (meth)acrylat, 3-Hydroxybutyl (meth)acrylat, 2,3-Dihydroxypropyl (meth)­ acrylat, usw.
Unter diesen Hydroxygruppen-enthaltenden radikalisch polyme­ risierbaren Monomeren ist 2-Hydroxyethyl(meth)acrylat wegen seiner Zugänglichkeit und seines Preises besonders bevorzugt.
Die vernetzbaren, radikalisch polymerisierbaren Silikonver­ bindungs-Monomeren mit einer hydrolysierbaren funktionellen Gruppe werden vorzugsweise in einer Menge im Bereich von 0,1 bis 30 Gew.-%, noch bevorzugter im Bereich von 0,5 bis 20 Gew.-%, bezogen auf das Pfropfpolymere, eingesetzt. Die vernetzbaren, radikalisch polymerisierbaren Monomeren mit einer Hydroxygruppe werden vorzugsweise in einer Menge im Be­ reich von 0,5 bis 40 Gew.-%, noch bevorzugter im Bereich von 1 bis 30 Gew.-%, bezogen auf das Pfropfpolymere, verwendet.
Falls die vernetzbaren Monomeren in einer Menge eingesetzt werden, die unter den oben beschriebenen entsprechenden Unter­ grenzen liegen, ist nicht anzunehmen, daß die chemische und Wärmebeständigkeit und die mechanische Festigkeit aufgrund der Vernetzung und Härtung der resultierenden Beschichtungen zunimmt. Andererseits werden, wenn die Mengen die oben be­ schriebenen Obergrenzen überschreiten, die chemische und Wär­ mebeständigkeit und die Härte der resultierenden Beschichtun­ gen nicht weiter verbessert und die Tropfzeit wird zu kurz oder schwierig zu kontrollieren, falls ein Vernetzungskataly­ sator verwendet wird.
Das (die) radikalisch polymerisierbare(n) Zweig-Polymere(n), das (die) radikalisch polymerisierbare(n) Monomere(n) und ge­ gebenenfalls das (die) vernetzbare(n) Monomere(n) werden einer radikalischen Copolymerisation unterworfen, um die erfindungs­ gemäßen Pfropfpolymeren herzustellen.
Die radikalische Copolymerisation kann durch irgendeines der bekannten Verfahren, wie sie z. B. in den japanischen Patent­ anmeldungs-Offenlegungen (KOKAI) Nr. 126478/1984, 154766/1983 und 20360/1984 beschrieben sind, einschließlich einer Strah­ lungsinitiierten Polymerisation und einer radikalisch initi­ ierten Polymerisation, bewirkt werden. Die Verfahren, bei denen radikalische Initiatoren eingesetzt werden, werden hier im Hinblick auf die einfache Durchführung und die einfache Kontrolle des Molekulargewichts bevorzugt. Irgendeine Lösungs- Polymerisation in Lösungsmitteln, Massenpolymerisation, Emulsionspolymerisation, usw., kann verwendet werden. Die Lö­ sungspolymerisation ist vorzuziehen, bei der jedes Reaktant- Monomere gleichmäßig in einem Lösungsmittel, wie z. B. Toluol oder Methylisobutylketon (MIBK) gelöst werden kann und die daher eine gleichmäßige Polymerisation bewirken kann.
Die Pfropfpolymeren der vorliegenden Erfindung können direkt als solche in Form einer Lösung in irgendeinem geeigneten Lö­ sungsmittel verwendet werden, oder sie können vor der Verwen­ dung auf die folgende Art und Weise vernetzt werden.
Wenn die vernetzbaren Silane eingesetzt werden, wird eine Polymerlösung, die aus der Lösungspolymerisation erhalten wur­ de, direkt oder nach einer weiteren Verdünnung mit irgend­ einem geeigneten Verdünnungslösungsmittel, wie z. B. Toluol, mit einer kleinen Menge irgendeines üblichen Härtungskatalysa­ tors, der üblicherweise für Silan-Kupplungsmittel verwendet wird, wie z. B. Dibutylzinndilaurat oder Dibutylzinnmaleat, vermischt. Die resultierende Beschichtungszusammensetzung kann auf ein zu beschichtendes Objekt (Film) aufgetragen werden, gefolgt von einer Trocknung unter Herstellung einer vernetzten, gehärteten Beschichtung mit ausgezeichneten Trenneigenschaften. Während der Vernetzungsreaktion werden die erfindungsgemäßen Pfropfpolymeren in der Beschichtungszu­ sammensetzung miteinander durch hydrolysierbare funktionelle Gruppen mit Hilfe von atmosphärischer Feuchtigkeit vernetzt.
Die Katalysatoren, die zur Förderung der Vernetzung und Här­ tung verwendet werden können, können irgendwelche bekannte Katalysatoren sein, wie z. B. Organozinnverbindungen, wie z. B. die oben erwähnten Dibutylzinndilaurat und Dibutylzinn­ maleat; saure Verbindungen, wie z. B. Phosphorsäure und p-To­ luolsulfonsäure; Amine, wie z. B. Ethylendiamin und Triethylen­ tetramin. Der Katalysator wird in einer Menge in Bereich von 0,001 bis 10 Gew.-%, vorzugsweise 0,01 bis 8 Gew.-%, bezogen auf das Beschichtungsharz, eingesetzt.
Wenn die Hydroxylgruppen-enthaltenden vernetzbaren Monomeren eingesetzt werden, wird das Pfropfpolymere der vorliegenden Erfindung mit einem Lösungsmittel, wie z. B. Toluol, MIBK oder Methylethylketon (MEK), verdünnt, mit einem mehrwertigen Iso­ cyanat vermischt, auf ein zu beschichtendes Objekt (Film) aufgetragen und getrocknet.
Die mehrwertigen Isocyanate können einschließen Tolylendiiso­ cyanat, Xylylendiisocyanat, Hexamethylendiisocyanat, Iso­ phorondiisocyanat, Methylenbis(4-cyclohexylisocyanat) und Verbindungen, die durch die folgenden Formeln dargestellt werden:
CH₃CH₂C(CH₂OCONH(CH₂)₆NCO)₃
und
Diese Isocyanatverbindungen können unabhängig voneinander oder in Kombination eingesetzt werden.
Wenn die Isocyanate verwendet werden, um das Vernetzen des Pfropfpolymeren bei Raumtemperatur zu erreichen, ist es auch möglich, die Härtung bei Raumtemperatur durch Zugabe irgend­ eines bekannten Katalysators, wie z. B. Dibutylzinndilaurat, zu fördern.
Die Menge des als Härtungsmittel eingesetzten mehrwertigen Isocyanats wird in Übereinstimmung mit dem Hydroxygruppen- Gehalt (OH-Äquivalent) des Hydroxygruppen-enthaltenden radi­ kalisch polymerisierbaren Monomeren im Pfropfpolymeren der vorliegenden Erfindung bestimmt.
Die Hydroxylgruppen-vernetzbaren Pfropfpolymeren der vorlie­ genden Erfindung können auch unter Verwendung eines Melamin-, Harnstoffharz-, mehrbasischen Säure-Härtungsmittels, das in üblichen hitzehärtbaren acrylischen Beschichtungszusammenset­ zungen verwendet wird, wärmegehärtet werden, wodurch ausge­ zeichnete Trenn-Beschichtungsmittel erhalten werden, die genau­ so gute Eigenschaften (z. B. bezüglich Kontakt, Wasser-, Feuchtigkeits-, Lösungsmittel- und Wärmebeständigkeit und Festigkeit) aufweisen, wie die durch die mehrwertigen Isocya­ nate gehärteten Beschichtungen. Die Melamin-Härtungsmittel können einschließen butylierte, methylierte und Epoxy-modifi­ zierte Melamine. Die Harnstoffharz-Härtungsmittel können ein­ schließen methylierte und butylierte Harnstoffe. Die mehrba­ sischen Säure-Härtungsmittel können einschließen langkettige aliphatische Dicarbonsäuren, aromatische mehrwertige Carbon­ säuren und Anhydride davon. Falls das Melamin- oder Harnstoff­ Härtungsmittel verwendet wird, wird die Härtung durch die Zugabe eines sauren Katalysators gefördert.
Vorzugsweise haben die Pfropfpolymeren der vorliegenden Erfin­ dung ein Molekulargewicht im Bereich von 5000 bis 200 000. Molekulargewichte unter 5000 führen zu geringer Festigkeit der resultierenden Beschichtungen. Mit Molekulargewichten oberhalb von 200 000 werden die Viskositäten zu hoch, was zu Problemen beim Beschichtungsvorgang führt.
Erfindungsgemäß kann eine Trennschicht hergestellt werden, indem man das Pfropfpolymere in einem geeigneten Lösungsmit­ tel, das ausgewählt wird unter Aromaten, Ketonen, halogenier­ ten Kohlenwasserstoffen, Estern, Alkoholen und Mischungen da­ von, löst und die resultierende Beschichtungslösung durch irgendein übliches Beschichtungsverfahren, wie z. B. Gravur­ streichverfahren, Umkehr-Walzenbeschichtung, Walzenbeschich­ tung, Luftbürsten-Streichverfahren und dergl., auf die Ober­ fläche eines Kunststoffilms aufträgt.
Die Trennschicht gemäß der vorliegenden Erfindung hat eine Dicke im Bereich von 0,001 bis 1,5 µm, vorzugsweise im Be­ reich von 0,01 bis 0,8 µm. Trennschichten mit einer Dicke unter 0,01 µm können keine zufriedenstellenden Trenneigen­ schaften zeigen, während Dicken über 1,5 µm zu Schwierigkei­ ten bei der Durchführung der Perforation führen.
In der erfindungsgemäßen Trennschicht ist das Zweigpolymere mit einem Fluorkohlenstoff- oder Silikonharz-Grundgerüst auf der der Kunststoffilmoberfläche gegenüberliegenden Seite orientiert, d. h., es erstreckt sich in der Trennschicht vom Grundpolymeren zur äußersten Oberfläche des Schablonenpapiers hin, während das Grundpolymere entlang der Kunststoffilm­ oberfläche orientiert ist (d. h. der Grenzflächenoberfläche zwischen dieser Trennschicht und dem Kunststoffilm). Deshalb zeigt die so gebildete Trennschicht einen guten Kontakt mit dem Kunststoffilm. Zusätzlich zeigt das resultierende Scha­ blonenpapier ausgezeichnete Kopflaufeigenschaften und verhin­ dert die Ablagerung von Abfall auf dem Kopf selbst während langer Betriebsperioden, da das Zweigpolymere mit einem Fluorkohlenstoff- oder Silikongrundgerüst an oder nahe der oberen Oberfläche der Trennschicht orientiert ist.
Zusätzlich zu den spezifischen, oben definierten Pfropfpoly­ meren als Hauptkomponente kann die erfindungsgemäße Trenn­ schicht gegebenenfalls ein oder mehrere Hilfs-Additive ent­ halten, die normalerweise in üblichen Trennschichten dieses Typs verwendet werden, wie z. B. Silikonharz-Tenside, Silikon­ öle, Fluorkohlenstoff-Tenside, Metalloxidteilchen, usw. Weiterhin kann das vorliegende Pfropfpolymere gegebenenfalls durch Isocyanate oder Melaminharze gehärtet sein.
Die porösen Schichtträger, die in der vorliegenden Erfindung verwendet werden, schließen ein japanisches (Tengujo) Papier, synthetisches Faserpapier, verschiedene Vlies- und Nicht­ Vliesstoffe und dergl.
Die hier verwendeten Kunststoffilmmaterialien können ein­ schließen Polyvinylchlorid-Vinylidenchlorid, Polyester, Poly­ ethylen, Polypropylen, usw.
Der poröse Schichtträger und der Kunststoffilm können durch irgendwelche üblichen bekannten Verfahren laminiert werden, einschließlich Hitzeverschmelzung oder Verwendung eines Klebstoffs vom Emulsions- oder Lösungs-Typs, wie z. B. Poly­ vinylacetatharz oder Polyacrylatharz.
Das erfindungsgemäße thermische Mimeograph-Schablonenpapier zeigt ausgezeichnete Kopflaufeigenschaften und keine Ablage­ rung von Abfall auf dem Kopf während des Betriebs für eine lange Zeitspanne und ergibt klare, schöne gedruckte Bilder, da eine Schicht, die im wesentlichen aus dem Pfropfpolymeren besteht, in welchem das Zweigpolymere ein Fluorkohlenstoff- oder Silikon-Harz umfaßt, auf dem thermoplastischen Film vor­ gesehen ist.
Die vorliegende Erfindung wird nun durch die folgenden nicht­ beschränkenden Beispiele veranschaulicht.
Beispiel 1
Grundpapier wurde hergestellt durch Laminierung eines Poly­ esterfilms mit einer Dicke von 2 µm mit japanischem Tengujo- Papier mit einem Grundgewicht von 12 g/m² mit Hilfe eines chlorierten Polypropylenharzes. So wurde das Klebstoffharz hergestellt in Toluol bei einer solchen Konzentration, daß die aufgetragene Menge desselben im Bereich von 1,5 bis 2 g/m² liegen sollte und wurde mit einem Drahtstab von 0,3 mm Durch­ messer auf den Polyesterfilm aufgetragen, worauf eine Naß­ laminierung bewirkt wurde.
Daraufhin wurde das erfindungsgemäße thermische Mimeograph- Schablonenpapier hergestellt durch Auftragen einer Beschich­ tungslösung, die unten beschrieben ist, auf die Filmseite des Grundpapiers mit einem Drahtstab, so daß die aufgetragene Menge nach der Trocknung 0,2 g/m² betrug. So wurde eine Trenn­ schicht auf dem Film hergestellt.
Die Beschichtungslösung zur Bildung einer Trennschicht hatte die folgende Zusammensetzung, wobei alle Teile Gewichtsteile sind:
Acrylsilicon-Pfropfpolymer (Toagosei Chemical Industry Co., Ltd., Japan, ARON XS-474; Feststoffgehalt 30%)
100 Teile
Isocyanat (NIPPON POLYURETHAN KOGYO, Japan; CORONATE EH) 10 Teile
Dibutylzinndilaurat 1 Teil
Methylethylketon 980 Teile
Beispiel 2
Das Verfahren von Beispiel 1 wurde wiederholt, mit der Aus­ nahme, daß die Beschichtungslösung zur Bildung einer Trenn­ schicht durch die folgende ersetzt wurde:
Acrylsilicon-Pfropfpolymer (Toagosei Chemical Industry Co., Ltd., Japan, ARON XS-474; Feststoffgehalt 30%)
100 Teile
Polyether-modifiziertes Siliconöl 1,5 Teile
Methylethylketon/Toluol-Mischung 528 Teile
Beispiel 3
Das Verfahren von Beispiel 1 wurde wiederholt, mit der Aus­ nahme, daß das Pfropfpolymere durch ein Pfropfpolymeres (Molekulargewicht 100 000) aus Polydimethylsiloxan (Mole­ kulargewicht 5000) mit einer Acryloyloxygruppe an einem Ende und Butylmethacrylat-Grundpolymer ersetzt wurde.
Beispiel 4
Das Verfahren von Beispiel 1 wurde wiederholt, mit der Aus­ nahme, daß das Pfropfpolymere ersetzt wurde durch ein Pfropf­ polymeres (Molekulargewicht 50 000) aus Polytetrafluorethylen (Molekulargewicht 5000) mit einer Methacryloyloxygruppe an einem Ende und Butylacrylat als Grundpolymer.
Beispiel 5
Das Verfahren von Beispiel 1 wurde wiederholt, mit der Aus­ nahme, daß die Beschichtungslösung zur Bildung einer Trenn­ schicht durch die folgende ersetzt wurde:
Acrylsilicon-Pfropfpolymer (Toagosei Chemical Industry Co., Ltd., Japan, ARON XS-630; Feststoffgehalt 30%)
100 Teile
Methylethylketon/Toluol-Mischung 528 Teile
Beispiel 6
Das Verfahren von Beispiel 1 wurde wiederholt, mit der Aus­ nahme, daß die Beschichtungslösung zur Bildung einer Trenn­ schicht durch die folgende ersetzt wurde:
Silicon-Pfropfpolymer (30% Lösung in Methylisobutylketon)
10 Teile
Methylethylketon 590 Teile
Das Silicon-Pfropfpolymere wurde synthetisiert aus 40 Gew.- Teilen eines Silicon-Macromonomeren (Zahlenmittel des Moleku­ largewichts 8900), umfassend 0,135 Mol Octamethylcyclotetra­ siloxan und 0,0141 Mol gamma-Methacryloxypropyldimethylchlor­ silan, 10 Gew.-Teilen Methylmethacrylat und 50 Gew.-Teilen Butylmethacrylat.
Beispiel 7
Das Verfahren von Beispiel 6 wurde wiederholt, mit der Aus­ nahme, daß die Beschichtungslösung zur Bildung einer Trenn­ schicht durch die folgende ersetzt wurde:
Silicon-Pfropfpolymer (30% Lösung in Methylisobutylketon)
20 Teile
Isocyanat (NIPPON POLYURETHAN KOGYO, Japan; CORONATE EH) 5 Teile
Dibutylzinndilaurat 0,002 Teile
Methylethylketon 1180 Teile
Das Silicon-Pfropfpolymere wurde synthetisiert aus 40 Gew.- Teilen des Macromonomeren aus Beispiel 6, 10 Gew.-Teilen Methylmethacrylat, 6 Gew.-Teilen 2-Hydroxyethylmethacrylat und 44 Gew.-Teilen Butylmethacrylat.
Beispiel 8
Das Verfahren von Beispiel 7 wurde wiederholt, mit der Aus­ nahme, daß die Beschichtungslösung zur Bildung einer Trenn­ schicht durch eine 1%ige Lösung des Silicon-Pfropfpolymeren aus Beispiel 7 in Methylethylketon ersetzt wurde.
Beispiel 9
Das Verfahren von Beispiel 1 wurde wiederholt, mit der Aus­ nahme, daß die Beschichtungslösung zur Bildung einer Trenn­ schicht durch die folgende ersetzt wurde:
Silicon-Pfropfpolymer (30% Lösung in Toluol)
50 Teile
Dibutylzinndilaurat 0,002 Teile
Methylethylketon 2950 Teile
Das Silicon-Pfropfpolymere wurde synthetisiert aus 36 Gew.- Teilen eines Silicon-Macromonomeren, umfassend 0,1 Mol alpha, omega-Dihydroxydimethylpolysiloxan und 0,1 Mol gamma- Methacryloxypropyldimethylchlorsilan, 10 Gew.-Teilen Methyl­ methacrylat, 50 Gew.-Teilen Butylmethacrylat und 4 Gew.- Teilen gamma-Methacryloxypropyltrimethoxysilan.
Beispiel 10
Das Verfahren von Beispiel 9 wurde wiederholt, mit der Aus­ nahme, daß die Beschichtungslösung zur Bildung einer Trenn­ schicht ersetzt wurde durch die folgende:
Silicon-Pfropfpolymer (40% Lösung in Methylisobutylketon)
10 Teile
Methylethylketon 790 Teile
Das Silicon-Pfropfpolymere wurde synthetisiert aus 38 Gew.- Teilen eines Silicon-Macromonomeren, umfassend 0,15 Mol alpha, omega-Dihydroxydimethylpolysiloxan und 0,05 Mol gamma-Methacryloxypropyltrimethoxysilan, 10 Gew.-Teilen Methylmethacrylat, 46 Gew.-Teilen Butylmethacrylat und 6 Gew.- Teilen 2-Hydroxyethylmethacrylat.
Vergleichsbeispiel 1
Das Verfahren von Beispiel 1 wurde wiederholt, mit der Aus­ nahme, daß das Pfropfpolymere durch Dimethylpolysiloxan- Homopolymeres ersetzt wurde.
Vergleichsbeispiel 2
Das Verfahren von Beispiel 1 wurde wiederholt, mit der Aus­ nahme, daß das Pfropfpolymere durch Polytetrafluorethylen- Homopolymeres ersetzt wurde.
Versuchsbeispiel
Das in den Beispielen 1 bis 10 und Vergleichsbeispielen 1 bis 2 erhaltene thermische Mimeograph-Schablonenpapier wurde unter Verwendung eines Thermokopfes mit 16 Punkten pro mm und unter Verwendung einer Energie von 0,16 mJ/Punkt ver­ arbeitet und in einem Mimeograph-Drucker, PREPORT SS870, Ricoh Corp. getestet.
Das thermische Schablonenpapier der Beispiele 1 bis 5 er­ gab klare Drucke, während mit den Schablonenpapieren aus den Vergleichsbeispielen 1 und 2 Schleier und Flecken beobachtet wurden und kein klarer Druck hergestellt wurde. Darüber hinaus wurde mit den Produkten aus den Beispielen 1 bis 10 auf dem Thermokopf selbst nach kontinuierlichem Betrieb über 300 m keine Abfall-Abscheidung beobachtet. Mit den Produkten der Vergleichsbeispiele 1 und 2 wurde jedoch das Problem der Abfall-Abscheidung auf dem Kopf beobachtet.

Claims (5)

1. Thermisches Mimeograph-Schablonenpapier, umfassend einen Kunststoffilm aus einem thermoplastischen Harz, das auf einen porösen Schichtträger laminiert ist, dadurch gekennzeichnet, daß auf der Oberfläche die­ ses Films eine Schicht vorgesehen ist, die im wesentlichen aus einem Pfropfpolymer besteht, dessen Zweigpolymer ein Fluorkohlenstoff- oder Silikonharz umfaßt.
2. Thermisches Mimeograph-Schablonenpapier nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Propfpolymere erhalten wur­ de durch Copolymerisation eines radikalisch polymerisier­ baren Zweigpolymeren, in das durch Modifizierung eines Endes eines Fluorkohlenstoff- oder Silikon-Präpolymeren mit einer funktionellen Gruppe an diesem Ende eine radi­ kalisch polymerisierbare Doppelbindung eingeführt wurde, mit einem radikalisch polymerisierbaren Monomeren, das das Grundpolymere des Pfropfpolymeren aufbaut.
3.Thermisches Mimeograph-Schablonenpapier nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Fluorkohlenstoff- oder Silikon-Präpolymere mit einer funktionellen Gruppe an einem Ende davon eine Hydroxy- oder Carboxygruppe an die­ sem Ende aufweist.
4. Thermisches Mimeograph-Schablonenpapier nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Silikon-Präpolymere mit einer Hydroxygruppe an einem Ende davon ein Polydimethyl­ siloxan ist.
5. Mimeograph-Schablonenpapier nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Silikon-Präpolymere mit einer funktionellen Gruppe an einem Ende davon ein lebendes Polymeres aus einem cyclischen Silikon ist.
DE3830775A 1987-09-11 1988-09-09 Thermisches mimeograph-schablonenpapier Granted DE3830775A1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62228151A JP2729251B2 (ja) 1987-05-29 1987-09-11 感熱孔版用原紙

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE3830775A1 true DE3830775A1 (de) 1989-03-23
DE3830775C2 DE3830775C2 (de) 1990-07-12

Family

ID=16872024

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE3830775A Granted DE3830775A1 (de) 1987-09-11 1988-09-09 Thermisches mimeograph-schablonenpapier

Country Status (2)

Country Link
US (1) US4957808A (de)
DE (1) DE3830775A1 (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0679533A1 (de) * 1994-04-13 1995-11-02 Riso Kagaku Corporation Wärmeempfindliches Schablonenblatt

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5000089A (en) * 1989-01-17 1991-03-19 Riso Kagaku Corporation Picture forming method, picture thereof and picture forming material
JP3011958B2 (ja) * 1990-03-14 2000-02-21 株式会社興人 感熱孔版原紙
US5188881A (en) * 1990-06-21 1993-02-23 Ricoh Company, Ltd. Thermosensitive stencil paper
JP2986931B2 (ja) * 1991-01-08 1999-12-06 株式会社リコー 感熱孔版用原紙
US5514467A (en) * 1992-03-04 1996-05-07 Xerox Corporation Materials and structure for tape with enhanced release
JP2614002B2 (ja) * 1992-07-06 1997-05-28 株式会社日本触媒 剥離性基材の製造方法
US5843560A (en) * 1995-10-30 1998-12-01 Ricoh Company, Ltd. Heat-sensitive stencil and method of fabricating same
JP2003089283A (ja) * 2001-02-14 2003-03-25 Ricoh Co Ltd 感熱孔版印刷用原紙及びその製造方法
US6936181B2 (en) * 2001-10-11 2005-08-30 Kovio, Inc. Methods for patterning using liquid embossing
US20030070569A1 (en) * 2001-10-11 2003-04-17 Colin Bulthaup Micro-stencil
US6957608B1 (en) 2002-08-02 2005-10-25 Kovio, Inc. Contact print methods
US20040201272A1 (en) * 2003-04-08 2004-10-14 Delphi Technologies Inc. ABS yaw control with yaw rate sensor
US20060196375A1 (en) * 2004-10-22 2006-09-07 Seth Coe-Sullivan Method and system for transferring a patterned material
WO2007117698A2 (en) 2006-04-07 2007-10-18 Qd Vision, Inc. Composition including material, methods of depositing material, articles including same and systems for depositing material
WO2008111947A1 (en) 2006-06-24 2008-09-18 Qd Vision, Inc. Methods and articles including nanomaterial

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0079590B1 (de) * 1981-11-12 1986-02-19 Daikin Kogyo Co., Ltd. Verwendung von Polyacryl- oder Methacrylsäureestern von Fluor enthaltenden Alkoholen als tintenabweisende Mitteln
US4711818A (en) * 1986-05-27 1987-12-08 Xerox Corporation Fusing member for electrostatographic reproducing apparatus

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Patent Abstr. of Japan, M-387, June 14, 1985, Vol. 9, No. 139, JP 60-19591 *

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0679533A1 (de) * 1994-04-13 1995-11-02 Riso Kagaku Corporation Wärmeempfindliches Schablonenblatt
US5559074A (en) * 1994-04-13 1996-09-24 Riso Kagaku Corporation Heat-sensitive stencil sheet

Also Published As

Publication number Publication date
DE3830775C2 (de) 1990-07-12
US4957808A (en) 1990-09-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3830775C2 (de)
DE3530077C2 (de) Magnetische Farbe für magnetische Aufzeichnungsmedien
DE69828117T2 (de) Strahlunghärtbare zusammensetzung mit hoher härtungsgeschwindigkeit
DE2651009C3 (de) Durch Bestrahlung härtbare Polydiorganosiloxanmasse und ihre Verwendung zur Bildung von Trennüberzügen
DE1494519A1 (de) Verfahren zum Aufbringen einer UEberzugsschicht auf eine poroese Unterlage
DE69922630T2 (de) Trennfolie
DE2404239A1 (de) Polymere, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung
DE1814910A1 (de) Dielektrisches Element fuer Kondensatoren
EP1354900B1 (de) Extrudierbare, migrationsarme Silikonorganocopolymere mit hoher Transparenz, deren Herstellung und Verwendung
DE19851567A1 (de) Durch UV-Bestrahlung härtbare Bindemittelzusammensetzung für magnetische Aufzeichnungsmedien und Photoinitiatormischung
DE3507987A1 (de) Magnetisches aufzeichnungsmedium mit einer gleitbeschichtung
DE3943588C2 (de)
DE2313767B2 (de) Beschichtungsmasse auf Basis von Silikonpolymeren
DE19629926A1 (de) Härtbare Emulsion und diese enthaltendes Beschichtungsmaterial
EP1355972B1 (de) Thermoplastische siliconblockcopolymere, deren herstellung und verwendung
DE1921744C3 (de) Verfahren zur Herstellung eines vernetzten Mischpolymeren
EP1470933A2 (de) Lack enthaltende Schutzschicht
DE69724546T2 (de) Thermoplastischer Harzfilm mit ausgezeichneter Druckfähigkeit
DE4338265C1 (de) Verfahren zur Beschichtung im Coil Coating Verfahren unter Verwendung von Überzugsmitteln auf der Basis organischer Lösemittel
DE3931890C2 (de) Strahlenvernetzte Folienbahn und deren Verwendung
DE10214578B4 (de) Vernetzbare Harzzusammensetzung
EP0031888B1 (de) Beschichtungsmittel und Verfahren zur Herstellung von klebrige Stoffe abweisenden Beschichtungen
DE2704328A1 (de) Verfahren zur behandlung von kunststoffilmmaterialien sowie derart behandelte materialien
DE2232187B2 (de) Copolymeres für die Oberflächenbehandlung synthetischer Papiere
DE3347861C2 (de)

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition