DE3743880A1 - Siliziumeinkristall-hochziehvorrichtung - Google Patents
Siliziumeinkristall-hochziehvorrichtungInfo
- Publication number
- DE3743880A1 DE3743880A1 DE19873743880 DE3743880A DE3743880A1 DE 3743880 A1 DE3743880 A1 DE 3743880A1 DE 19873743880 DE19873743880 DE 19873743880 DE 3743880 A DE3743880 A DE 3743880A DE 3743880 A1 DE3743880 A1 DE 3743880A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- crucible
- cylinder
- carbon
- silicon
- silicon single
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B15/00—Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
- C30B15/10—Crucibles or containers for supporting the melt
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61315576A JPS63166790A (ja) | 1986-12-26 | 1986-12-26 | シリコン単結晶引上装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3743880A1 true DE3743880A1 (de) | 1988-07-14 |
DE3743880C2 DE3743880C2 (ko) | 1992-09-03 |
Family
ID=18067007
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19873743880 Granted DE3743880A1 (de) | 1986-12-26 | 1987-12-23 | Siliziumeinkristall-hochziehvorrichtung |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63166790A (ko) |
KR (1) | KR920003612B1 (ko) |
DE (1) | DE3743880A1 (ko) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3835646A1 (de) * | 1987-10-19 | 1989-06-08 | Gni I Pi Redkometalliceskoj Pr | Schale zur bewehrung eines quarztiegels |
EP0639662A1 (de) * | 1993-07-30 | 1995-02-22 | Schunk Kohlenstofftechnik GmbH | Tiegel, insbesondere Zweiteiliger Stütztiegel. |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5207992A (en) * | 1986-12-26 | 1993-05-04 | Toshiba Ceramics Co., Ltd. | Silicon single crystal pulling-up apparatus |
JP2560418B2 (ja) * | 1987-06-08 | 1996-12-04 | 三菱マテリアル株式会社 | 単結晶の育成装置 |
DE19652171A1 (de) * | 1996-12-14 | 1998-06-18 | Eric Mix | Verfahren zur thermischen Isolation induktiv geheizter Tiegel und Schmelzen in der Kristallzucht mit kohlenstoffgebundenen Kohlenstofffasern |
KR100884924B1 (ko) * | 2007-10-30 | 2009-02-20 | 현빈테크 주식회사 | 단결정 성장장치용 도가니 회전 제어장치 |
CN111394798A (zh) * | 2020-05-19 | 2020-07-10 | 邢台晶龙电子材料有限公司 | 单晶炉加热器 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1769860A1 (de) * | 1968-07-26 | 1971-11-11 | Siemens Ag | Vorrichtung zum Ziehen von versetzungsfreien Halbleitereinkristallstaeben |
DE1519794B2 (de) * | 1964-06-16 | 1973-02-01 | Fujitsu Ltd., Kawasaki; Tokai Electrode Mfg. Co. Ltd.; Tokio | Verfahren zum herstellen von der behandlung von halbleitermaterial dienenden heizkoerpern, substratunterlagen oder schmelztiegeln |
DE3026049C2 (de) * | 1979-07-09 | 1986-04-17 | Ultra Carbon Corp., Bay City, Mich. | Verfahren zum Regenerieren einer verformten Tiegelhülse |
DE3441707A1 (de) * | 1984-11-15 | 1986-05-15 | Ringsdorff-Werke GmbH, 5300 Bonn | Tiegel zum herstellen von kristallen und verwendung des tiegels |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58181797A (ja) * | 1982-04-19 | 1983-10-24 | Toshiba Ceramics Co Ltd | 単結晶シリコン引上装置 |
JPS60131892A (ja) * | 1983-12-19 | 1985-07-13 | Mitsubishi Monsanto Chem Co | 単結晶育成装置 |
JPS61256993A (ja) * | 1985-05-09 | 1986-11-14 | Toyo Tanso Kk | シリコン単結晶引上げ装置用黒鉛子るつぼ及びヒ−タ− |
-
1986
- 1986-12-26 JP JP61315576A patent/JPS63166790A/ja active Pending
-
1987
- 1987-12-23 DE DE19873743880 patent/DE3743880A1/de active Granted
- 1987-12-26 KR KR1019870015145A patent/KR920003612B1/ko not_active IP Right Cessation
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1519794B2 (de) * | 1964-06-16 | 1973-02-01 | Fujitsu Ltd., Kawasaki; Tokai Electrode Mfg. Co. Ltd.; Tokio | Verfahren zum herstellen von der behandlung von halbleitermaterial dienenden heizkoerpern, substratunterlagen oder schmelztiegeln |
DE1769860A1 (de) * | 1968-07-26 | 1971-11-11 | Siemens Ag | Vorrichtung zum Ziehen von versetzungsfreien Halbleitereinkristallstaeben |
DE3026049C2 (de) * | 1979-07-09 | 1986-04-17 | Ultra Carbon Corp., Bay City, Mich. | Verfahren zum Regenerieren einer verformten Tiegelhülse |
DE3441707A1 (de) * | 1984-11-15 | 1986-05-15 | Ringsdorff-Werke GmbH, 5300 Bonn | Tiegel zum herstellen von kristallen und verwendung des tiegels |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
JP 58-1 81 797 in: Patents Abstracts of Japan, C-206, Vol. 8(1984), Nr. 15 * |
JP 60-1 31 892 in: Patents Abstracts of Japan, C-314, Vol. 9(1985), Nr. 287 * |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3835646A1 (de) * | 1987-10-19 | 1989-06-08 | Gni I Pi Redkometalliceskoj Pr | Schale zur bewehrung eines quarztiegels |
EP0639662A1 (de) * | 1993-07-30 | 1995-02-22 | Schunk Kohlenstofftechnik GmbH | Tiegel, insbesondere Zweiteiliger Stütztiegel. |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR920003612B1 (ko) | 1992-05-04 |
DE3743880C2 (ko) | 1992-09-03 |
JPS63166790A (ja) | 1988-07-09 |
KR880008412A (ko) | 1988-08-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE69201292T2 (de) | Vorrichtung zur Einkristallziehung. | |
EP0855455B1 (de) | Tiegel zur Einkristall-Züchtung, Verfahren zu seiner Herstellung und seine Verwendung | |
DE112008003609B4 (de) | Vorrichtung zur Herstellung eines Einkristalls | |
DE3686570T2 (de) | Verfahren und vorrichtung zum herstellen von einkristallen nach dem czochralski-verfahren. | |
DE2461553A1 (de) | Verfahren zum erzeugen von einkristallen | |
CH530818A (de) | Verfahren zum Züchten von langgestreckten einkristallinen Körpern und Einrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens | |
DE3878990T2 (de) | Vorrichtung und verfahren zur zuechtung von kristallen aus halbleitermaterialien. | |
DE102018203131A1 (de) | Einkristallherstellungsvorrichtung | |
DE3743880C2 (ko) | ||
DE112010003035B4 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen eines Halbleiterkristalls | |
DE69706589T2 (de) | Vorrichtung zur Herstellung Silizium-Einkristallen | |
DE10392918T5 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Einkristallhalbleiters und Vorrichtung zur Herstellung eines Einkristallhalbleiters | |
DE69009831T2 (de) | Verfahren zur Züchtung eines Einkristalls. | |
DE2546246C2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Ziehen eines stabförmigen Einkristalls | |
EP0926270B1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Einkristalls | |
DE2254615C3 (de) | Herstellung mehrphasiger Eutektikumskörper | |
EP0438390A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur züchtung von kristallen nach der czochralski-methode. | |
DE19603136A1 (de) | Silicium-Einkristallblock und Verfahren zur Herstellung desselben | |
DE1941968C3 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Einkristallen | |
DE3938937A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur herstellung von siliciumstaeben mit hohem sauerstoffgehalt durch tiegelfreies zonenziehen, dadurch erhaeltliche siliciumstaebe und daraus hergestellte siliciumscheiben | |
DE3644746A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum zuechten von kristallen | |
JPS5547300A (en) | Crystal pulling device | |
DE1191336B (de) | Zonenschmelzverfahren zum Umwandeln von mindestens einem polykristallinen Stab in einen Einkristall | |
DE2442517B2 (de) | Verfahren zum Züchten eines Bi4 Ti3 O12 -Einkristalls | |
JPS58181792A (ja) | 単結晶シリコン引上装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
8125 | Change of the main classification |
Ipc: C30B 29/06 |
|
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |