DE3505579C2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- DE3505579C2 DE3505579C2 DE3505579A DE3505579A DE3505579C2 DE 3505579 C2 DE3505579 C2 DE 3505579C2 DE 3505579 A DE3505579 A DE 3505579A DE 3505579 A DE3505579 A DE 3505579A DE 3505579 C2 DE3505579 C2 DE 3505579C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- palladium
- experiment
- plating catalyst
- resin
- plating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/40—Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
- H05K3/42—Plated through-holes or plated via connections
- H05K3/422—Plated through-holes or plated via connections characterised by electroless plating method; pretreatment therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/40—Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
- H05K3/42—Plated through-holes or plated via connections
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/40—Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
- H05K3/42—Plated through-holes or plated via connections
- H05K3/425—Plated through-holes or plated via connections characterised by the sequence of steps for plating the through-holes or via connections in relation to the conductive pattern
- H05K3/426—Plated through-holes or plated via connections characterised by the sequence of steps for plating the through-holes or via connections in relation to the conductive pattern initial plating of through-holes in substrates without metal
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/09—Shape and layout
- H05K2201/09209—Shape and layout details of conductors
- H05K2201/095—Conductive through-holes or vias
- H05K2201/09581—Applying an insulating coating on the walls of holes
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/07—Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing
- H05K2203/0703—Plating
- H05K2203/0709—Catalytic ink or adhesive for electroless plating
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/14—Related to the order of processing steps
- H05K2203/1407—Applying catalyst before applying plating resist
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/10—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
- H05K3/18—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material
- H05K3/181—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material by electroless plating
- H05K3/182—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material by electroless plating characterised by the patterning method
- H05K3/184—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material by electroless plating characterised by the patterning method using masks
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/38—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
- H05K3/386—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by the use of an organic polymeric bonding layer, e.g. adhesive
- H05K3/387—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by the use of an organic polymeric bonding layer, e.g. adhesive for electroless plating
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
- Y10T29/49117—Conductor or circuit manufacturing
- Y10T29/49124—On flat or curved insulated base, e.g., printed circuit, etc.
- Y10T29/4913—Assembling to base an electrical component, e.g., capacitor, etc.
- Y10T29/49144—Assembling to base an electrical component, e.g., capacitor, etc. by metal fusion
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
- Y10T29/49117—Conductor or circuit manufacturing
- Y10T29/49124—On flat or curved insulated base, e.g., printed circuit, etc.
- Y10T29/49155—Manufacturing circuit on or in base
- Y10T29/49165—Manufacturing circuit on or in base by forming conductive walled aperture in base
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von
durchkontaktierten gedruckten Schaltungen in Additiv-Technik.
Bisher wurde bei der Herstellung von gedruckten Schaltungen
mittels stromloser Plattierung in Additiv-Technik, wie dem
sog. CC-4-Verfahren, vor dem stromlosen Plattieren auf die
Oberfläche eines Isoliersubstrats eine einen Plattierungskatalysator
(Bekeimungskatalysator) enthaltende Klebstoffschicht
aufgebracht. Dabei kann das Isoliersubstrat selbst
einen Plattierungskatalysator enthalten oder auch nicht. Bei
einer gedruckten Schaltung, bei der das Isoliersubstrat Löcher
für durchgehende Lochungen aufweist, wird nach der Bildung der
Löcher und vor der stromlosen Plattierung eine Behandlung
durchgeführt, um den Plattierungskatalysator an die Flächen
der Lochungen anzubringen.
Im allgemeinen wird zur Verbesserung der Haftung zwischen der
Klebstoffschicht und der Schaltung aus abgeschiedenem Metall,
die durch die stromlose Plattierung hergestellt wird, die
Klebstoffschicht nach den Anbringen des Plattierungskatalysators
an die Lochungsflächen aufgerauht, und zwar durch Eintauchen
des Isoliersubstrats in eine aufrauhende Lösung, wie eine
Lösung von Borfluorwasserstoffsäure oder Chromsäureanhydrid
und Schwefelsäure. Ist jedoch als Katalysator ein Keimbildner
an die Lochungsflächen aufgebracht worden, so wird dieser in
großen Mengen durch das Eintauchen weggewaschen, wodurch folgende
Nachteile auftreten: Wird anschließend eine stromlose
Plattierung durchgeführt, so dauert die Metallabscheidung an
manchen Stellen der Lochungsflächen lange, der niedergeschlagene
Metallfilm haftet nur stellenweise und ist dünn, so daß
Löcher im Metallüberzug auftreten können. Wird dementsprechend
zum Beispiel eine Platte der Lötplattierung durch Tauchlöten
unterworfen oder wird die gedruckte Platine mit einem elektronischen
Bauteil verbunden, so wird das Gas im Isoliersubstrat
durch die feinen Fehlstellen des auf die Wände der Lochungen
aufgebrachten Metallfilms in die Lochungen geblasen und verursacht
dort Leerstellen in der Lötschicht (diese Leerstellen
werden im folgenden mit "Blaslöcher" bezeichnet). Durch diese
Blaslöcher wird möglicherweise die Verbindung zum elektronischen
Bauteil schlechter und die Haftung geringer.
Die US-PS 33 22 881 beschreibt beispielsweise ein Verfahren,
in dem zuerst in das Isoliersubstrat durchgehende Lochungen
gebohrt oder gestanzt werden, und die Gesamtfläche, einschließlich
der Seitenwände der durchgehenden Lochungen, mit einer harzartigen
Tinte, die einen Plattierungskatalysator enthält,
zur Herstellung eines ersten Schaltungsmusters beschichtet
wird. Dieses erste Schaltungsmuster wird maskiert, und zwar
durch Freilassen der die Lochungen umgebenden Seitenwände,
dann wird in gleicher Weise wie beim ersten Schaltungsmuster
ein zweites Schaltungsmuster hergestellt und dann erst die
stromlose Plattierung durchgeführt. In diesem Verfahren wird
als harzartige, einen Plattierungskatalysator enthaltende
Tinte eine harzartige Tinte mit einem hohen Feststoffgehalt,
um die Haftung an das Substrat und am Plattierungsmetall
zu erhöhen, und einer Viskosität von 0,05 bis 10 Pa · s (5 bis
100 P) bei 20°C verwendet. Der Nachteil dieses Verfahrens
besteht darin, daß die Innenwände der Lochungen nicht ausreichend
plattiert werden können, da die Katalysator enthaltende,
harzartige Tinte ungleichmäßig an den Innenwänden der
durchgehenden Lochungen haftet und in einigen Fällen die Löcher
verstopft. Außerdem dringt die Tinte nicht genügend in Risse
ein, die bei der Herstellung an den Wänden der Lochungen entstanden
sind, so daß diese Fehlstellen nicht repariert werden
können. Dementsprechend reicht das Verfahren nicht aus, um
die Blaslöcher zu verhindern. Ein weiterer Nachteil des Verfahrens
ist der, daß sich das Lösungsmittel, wie Xylol oder
Diacetonalkohol, beim Stehenlassen der Katalysator enthaltenden,
harzartigen Tinte verflüchtigt, so daß die Viskosität der
Tinte steigt und die Verarbeitbarkeit verschlechtert wird, wodurch
bei kleiner werdendem Durchmesser der durchgehenden Lochungen
die Tinte immer weniger an den Wänden der durchgehenden Lochungen
haftet. Aus diesen Gründen ist das in der US-PS 33 22 881
beschriebene Verfahren für die großtechnische Herstellung von
gedruckten Platinen nicht geeignet.
In der DE-OS 30 47 287 ist ein Verfahren zur Herstellung
einer gedruckten Schaltung beschrieben, in dem die anomale und
unerwünschte Kupferabscheidung vermieden werden soll. Dabei
wird
- a) auf die Oberfläche eines isolierenden Substrats eine eine feste Lösung aus Titanoxid, Nickeloxid und Antimonoxid enthaltende harzartige Klebstoffschicht aufgebracht,
- b) die Oberfläche des die Schaltung bildenden Substratbereichs mit einer Lösung eines Oxidationsmittels behandelt,
- c) der mit dem Oxidationsmittel behandelte Oberflächenbereich aktiviert und
- d) auf dem aktivierten Oberflächenbereich ein gewünschtes Leitermuster durch stromloses Plattieren hergestellt, wobei nach Stufe a) und vor Stufe b) eine Maske gebildet wird und nach Stufe c) und vor Stufe d) die Maske entfernt wird.
Aufgabe der Erfindung war es, ein verläßliches Verfahren zur
Herstellung von durchkontaktierten gedruckten Schaltungen anzugeben,
bei denen die Innenwände der Lochungen einheitlich
und in kürzerer Zeit beschichtet und die bei der Bohrung der
Löcher entstandenen Risse im Substrat repariert werden können,
um so das Auftreten von Fehlstellen und Blaslöchern zu verhindern.
Diese Aufgabe wird durch das im Hauptanspruch angegebene Verfahren
gelöst. Die Unteransprüche betreffen besondere Ausführungsformen
des erfindungsgemäßen Verfahrens.
Das erfindungsgemäße Verfahren wird anhand der Figuren erläutert,
wobei
Fig. 1 ein vereinfachtes Fließschema typischer Ausführungsformen
des erfindungsgemäßen Verfahrens ist und
Fig. 2 bis 4 Teilquerschnitte sind, die einzelne Stufen des
erfindungsgemäßen Verfahrens zur Herstellung einer
gedruckten Schaltung zeigen.
Im erfindungsgemäßen Verfahren wird zuerst eine Klebstoffschicht
2 auf einer oder beiden Seiten eines Isoliersubstrats 1 hergestellt
(vgl. Fig. 1, Fig. 2a, Fig. 3a und Fig. 4a).
Als Isoliersubstrat 1 kann herkömmliches Material, wie Papier-
Phenolharz, Papier-Epoxyharz, Glas-Epoxyharz, Glas-Polyimidharz,
ein Verbundmaterial aus Glas-Epoxyharz und Papier-Epoxyharz
sowie ein Verbundmaterial aus Glas-Epoxyharz und einer Glasmatte,
verwendet werden. Im allgemeinen hat das Isoliersubstrat
eine Dicke von 0,8 bis 1,5 mm und kann einen Plattierungskatalysator
enthalten.
Die Klebstoffschicht 2 hat im allgemeinen eine Dicke von 15 bis
30 µm. Als Klebstoff können Kautschukgemische, wie Nitrilkautschuk,
Styrol-Butadien-Kautschuk (SBR), chlorierte Polyethylen-
und chlorsulfonierte Polyethylen-Kautschuke und
wärmehärtbare Kunstharze, wie Phenol- und Epoxyharze, verwendet
werden. Der Klebstoff kann Füllstoffe, wie Zirkoniumsilicat,
Siliciumdioxid, Aluminiumdioxid und/oder Calciumcarbonat
enthalten; außerdem sollte er einen Plattierungskatalysator
enthalten.
Zum Aufbringen der Klebstoffschicht können herkömmliche
Beschichtungsverfahren angewendet werden.
Die durchgehenden Lochungen 3 werden im Substrat
in herkömmlicher Weise, z. B. durch Stanzen oder Bohren (vgl.
Fig. 1, Fig. 2b, 3b und 4b) hergestellt.
Nach der Bildung der Lochungen 3 werden die Oberflächen des
Isoliersubstrats 1 gereinigt, und der durch das Stanzen gebildete
Substratstaub wird durch Waschen mit Wasser bei Hochdruck
entfernt.
Dann wird auf die Innenwände der durchgehenden Lochungen (vgl.
Fig. 1, Fig. 2c, 3c und 4c) eine wärmehärtbare Kunstharzschicht
4 mit einer Dicke von 2 bis 10 µm aufgebracht. In der
Praxis wird das Isoliersubstrat 1 nach dem Waschen mit Wasser
in eine Emulsion eines flüssigen wärmehärtbaren Kunstharzes in
einem flüssigen Medium eingetaucht, oder die Emulsion des
flüssigen wärmehärtbaren Kunstharzes wird auf das Substrat
aufgesprüht; das Substrat wird dann getrocknet.
Wird als nächste Stufe ein Plattierungskatalysator (Bekeimungskatalysator)
aufgebracht (Behandlung zur Keimbildung), so
muß das emulgierte flüssige wärmehärtbare Kunstharz nicht
immer einen Plattierungskatalysator enthalten; wird diese
Stufe jedoch weggelassen, so sollte der Katalysator vorher in
das emulgierte flüssige wärmehärtbare Kunstharz eingebracht
werden.
Der Auskunft "Plattierungskatalysator" bedeutet hier ein
Medium, daß die Reduktion von Metallkationen, die in einem
stromlosen Metallabscheidungsbad gelöst sind, katalysiert.
Im erfindungsgemäßen Verfahren können Palladium, Platin,
Nickel, Cobalt, Eisen, Kupfer, Mangan, Chrom, Molybdän,
Wolfram, Titan, Zinn und/oder Silber und einige Salze dieser
Metalle als Katalysatoren verwendet werden.
Im erfindungsgemäßen Verfahren sind Palladium und ein Gemisch
von Palladium und Zinn wegen der beständigen Metallabscheidung
besonders geeignet.
Wird beispielsweise eine Palladiumverbindung oder ein Palladiumkatalysator,
der eine Palladium- und eine Zinnverbindung
enthält, verwendet, so beträgt die zugesetzte Menge an
Katalysator vorzugsweise 0,005 bis 0,5 Gew.-Teile je 100 Gew.-
Teile Kunstharz. Beträgt die Katalysatormenge unter 0,005
Gew.-Teile, so ist die katalytische Wirkung zu gering, wogegen
bei einer Menge über 0,5 Gew.-Teilen, die Katalysatorkosten
und damit die Herstellungskosten zu hoch werden. Mengen
außerhalb des angegebenen Bereichs sind daher aus wirtschaftlichen
Gründen nicht angezeigt.
Das Zinn(II)-chlorid dient dazu, aus Palladium(II)-chlorid
das Chlor zu entfernen und Palladium als Plattierungskatalysator
zur Verfügung zu stellen. Deshalb sollte in einem Katalysator
aus Zinn(II)-chlorid und Palladium(II)-chlorid die Zinn(II)-
chlorid-Menge das 5- bis 40fache der Palladium(II)-chloridmenge
ausmachen. Liegt die Zinn(II)-chloridmenge unter dem 5fachen
Wert, so ist die produzierte Palladiummenge zu gering, wogegen
bei einer Menge über dem 40fachen Wert der Durchgangswiderstand
der Kunstharzschicht zu hoch wird. Deshalb werden Mengen
in dem oben angegebenen Bereich bevorzugt. Wird als Plattierungskatalysator
ein Gemisch von Zinn(II)-chlorid und Palladium(II)-
chlorid verwendet, so dauert das Abscheiden von Metall in den
durchgehenden Lochungen bei der stromlosen Plattierung der
folgenden Stufe etwa 30 min, was etwa 1/3 der in herkömmlichen
Verfahren benötigten Zeit ist.
Als wärmehärtbare Kunstharze können Epoxy-, Urethan- und
Polyesterharze allein oder als Gemisch verwendet werden.
Das wärmehärtbare Kunstharz kann außerdem noch Phenol-,
Melamin-, Xylol- und Harnstoffharze enthalten. Enthält das
Isoliersubstrat 1 ein Phenol- oder Epoxyharz, so werden
Epoxyharze als wärmehärtbare Kunstharze bevorzugt, da die
Haftung am Substrat dann besser ist.
Als Epoxyharze werden vorzugsweise solche verwendet, die
durch Emulgieren eines Bisphenolharzes, eines Novolakharzes
oder einer cycloaliphatischen Verbindung erhalten werden,
oder Epoxyharze, die durch Einführen einer hydrophilen Gruppe
an den Endgruppen wasserlösliche Salze bilden.
Als flüssiges Medium für die Emulsion des wärmehärtbaren
Kunstharzes kann Wasser oder ein organisches Lösungsmittel
verwendet werden, wobei ein Emulgiermittel eingesetzt werden
kann. Als Emulgiermittel für Epoxyharzemulsionen sind nichtionische
und kationische grenzflächenaktive Mittel geeignet.
Da die Emulsion sauer wird, wenn Palladium(II)- und Zinn(II)-
chlorid zugesetzt werden, sind kationische grenzflächenaktive
Mittel geeignet, insbesondere Amin- und quartäre Ammoniumsalze
von Fettsäuren.
Der Feststoffgehalt der Emulsion des flüssigen wärmehärtbaren
Kunstharzes liegt vorzugsweise im Bereich von 0,3 bis 5
Gew.-%, wobei die Viskosität vorzugsweise niedrig gehalten
wird. Ist der Feststoffgehalt oder die Viskosität des emulgierten
Kunstharzes zu hoch, werden die durchgehenden Lochungen
ungenügend mit dem emulgierten flüssigen Kunstharz imprägniert
oder verstopft. Außerdem dringt die flüssige Kunstharzemulsion
nicht genügend in Risse ein, die an den Innenwänden
der durchgehenden Lochungen vorhanden sind,
so daß die Reparatur dieser Risse nicht zufriedenstellend
ist. Ist andererseits der Feststoffgehalt zu niedrig, so
ist die entstehende Kunstharzschicht zu dünn, und Blaslöcher
können nicht wirkungsvoll genug verhindert werden.
Das emulgierte wärmehärtbare Kunstharz kann herkömmliche Härtungsmittel
für wärmehärtbare Kunstharze, beispielsweise
eine Aminverbindung, enthalten. Wird ein Epoxyharz verwendet,
so sind aromatische Polyamine, wie Benzyldimethylamin, Tris-
(dimethylaminomethyl)-phenol, Methaphenylendiamin, Diamino-
diphenylmethan und Xylylendiamin, wegen ihrer Hitzebeständigkeit,
chemischen Beständigkeit und Verarbeitbarkeit bevorzugt.
Die wärmehärtbaren Kunstharze, wie Epoxy-, Polyester- oder
Polyurethanharze, sind hochbeständig gegenüber "aufrauhenden"
Lösungen, die zur Aufrauhung der Klebstoffoberfläche und Erhöhung
ihrer Haftfähigkeit verwendet werden. Ist die aufrauhende
Lösung jedoch so aktiv, daß sie die wärmehärtbaren Kunstharze
löst, so werden auch der Klebstoff und der plattierungsbeständige
Film so angegriffen, daß bei der praktischen Verwendung
Probleme entstehen. Zur Aufrauhung der Kunstharzoberfläche
mit relativ milden "aufrauhenden" Lösungen können Zusätze,
das heißt Kautschuke mit Butadien-Resten, wie Acrylnitril-Butadien-,
Styrol-Butadien-, Isobutylen- und natürliche
Kautschuke, zugesetzt werden. Wegen der damit
erreichbaren Emulsionsstabilität werden Acrylnitril-Butadien-
Kautschuk und Styrol-Butadien-Kautschuk bevorzugt.
Die gleiche Wirkung erreicht man, wenn man dem Kunstharz einen in der "aufrauhenden"
Lösung löslichen Füllstoff, wie Siliciumdioxid,
Calciumcarbonat, Natriumsilicat oder Natriumsulfat zugibt.
Calciumcarbonat wird wegen seiner isolierenden Eigenschaften
bevorzugt.
Nach dem Eintauchen des Isoliersubstrats 1 in die
Emulsion des flüssigen wärmehärtbaren Kunstharzes
wird diese von der Oberfläche mit einem Quetschroller oder
durch Polieren entfernt. Danach wird das an den Innenwänden
haftende, wärmehärtbare Kunstharz erhitzt und zu dem gewünschten
gehärteten Zustand (halb oder fast vollständig
gehärtet) getrocknet, und zwar durch Verwendung von Heißluft
mit einer "spontanen" Konvektionsströmung oder von Heißluft
(vorzugsweise mit 80 bis 120°C), die stoßweise mit einem
elektrischen Ventilator in Umlauf gehalten wird. Die Geschwindigkeit
der Heißluft beträgt vorzugsweise 5,5 m/s
oder weniger, insbesondere 5,0 m/s oder darunter. Die Temperatur
der Heißluft hängt von der Härtungstemperatur des verwendeten
Kunstharzes ab und wird auch danach gewählt.
Nach dem Bilden einer wärmegehärteten, einen Plattierungskatalysator
enthaltenden Kunstharzschicht 4 auf den Innenwänden
der Lochungen 3 des Isoliersubstrats 1 wird eine gewünschte
Schaltung durch stromlose Plattierung in herkömmlicher Weise
hergestellt. Dieses Verfahren kann, wie in Fig. 1 gezeigt,
durch verschiedene Kombinationen durchgeführt werden (vgl. auch Beispiele).
Im erfindungsgemäßen Verfahren wird erst eine wärmehärtbare
Kunstharzschicht mit oder ohne Plattierungskatalysator (Bekeimungskatalysator) einheitlich
auf die Innenwände der durchgehenden Lochungen des
Isoliersubstrats aufgebracht, sie kann dort mit ausreichender
oder vollständiger Haftung in halbgehärtetem oder gehärtetem
Zustand aufrechterhalten werden unter Verwendung, wenn notwendig,
von Heißluft mit einer solchen Geschwindigkeit, daß
das Kunstharz nicht entfernt wird. Dementsprechend ist die
Haftung der wärmegehärteten Kunstharzschicht an den Wänden
der Lochungen stärker, als wenn der Katalysator direkt auf die
Lochungswände aufgebracht wird. Dieser Effekt ist besonders
bemerkenswert, wenn der Plattierungskatalysator an der nicht
gehärteten, wärmehärtbaren Kunstharzschicht haftet. Selbst bei
Eintauchen des Isoliersubstrats in die aufrauhende Lösung
wird die wärmehärtbare Kunstharzschicht nicht
leicht abgelöst. Deshalb kann eine ausreichend dicke Plattierungsschicht
an den inneren Wänden der durchgehenden Lochungen
durch stromlose Plattierung in kurzer Zeit aufgebracht werden.
Da außerdem ein Austreten des Gases im Isoliersubstrat durch
die Lochungswände mit der wärmehärtbaren Kunstharzschicht verhindert
werden kann, kann auch die Bildung von Blaslöchern
bei oder nach dem Tauchlöten verhindert werden. Wird eine
plattierungsbeständige Schicht nach dem Aufbringen der wärmehärtbaren,
einen Plattierungskatalysator enthaltenden Kunstharzschicht
gebildet, so haftet der Plattierungskatalysator
nicht an der Oberfläche der plattierungsbeständigen Schicht,
wodurch das Problem des Kurzschlusses zwischen Schaltungen,
der durch die Metallabscheidung auf der Oberfläche der plattierungsbeständigen
Schicht verursacht wird, nicht auftritt.
Da außerdem der Plattierungskatalysator, der an der Klebstoffschicht
haftet, durch eine Vorbehandlung entfernt werden kann,
das heißt durch Reinigen der Oberfläche durch Polieren, kann
der Durchgangswiderstand zwischen den Schaltungen auf
einem genügend hohen Wert gehalten werden, selbst dann, wenn
eine plattierungsbeständige Schicht aufgebracht wird. Selbst
bei einer unzureichenden Plattierung, bei der das einmal
ausgeschiedene Kupfer durch Ätzen entfernt wird, die Oberfläche
aufgerauht und eine stromlose Plattierung durchgeführt
wird, um eine Platine herzustellen, bleibt eine große Menge
an Katalysator (Keimbildner) übrig, so daß die Metallabscheidung
an den Lochungswänden nicht wesentlich beeinträchtigt
ist. Dementsprechend kann das Metall an den Lochungswänden
in ausreichender Menge niedergeschlagen werden; es treten
keine Fehlstellen in der Plattierung und somit kaum Blaslöcher
auf.
Die Beispiele erläutern die Erfindung; alle Mengenangaben beziehen
sich auf Gewichtsteile, wenn nichts anderes angegeben ist.
Eine gedruckte Schaltung wird gemäß den in Fig. 2a bis 2f gezeigten
Stufen hergestellt (Versuch 1-1). Ein Papier-Epoxyharz-Laminat,
das einen Plattierungskatalysator, d. h. hauptsächlich
eine Palladiumverbindung enthält, wird als Isoliersubstrat
1 verwendet, auf das ein Klebstoff, d. h. ein Nitril-
Butadien-Kautschuk (NBR) und ein Phenolharz als Hauptbestandteile,
der einen Plattierungskatalysator, d. h. eine Palladiumchelatverbindung,
enthält, aufgebracht und zu einer Klebstoffschicht
2 gehärtet wird. In das Substrat 1 werden dann Löcher
3 als vorbestimmte durchgehende Lochungen gestanzt, die Oberfläche
des Isoliersubstrats wird gereinigt und mit Wasser unter
Hochdruck gewaschen, um den durch das Stanzen gebildeten Substratstaub
zu entfernen. Zur Bildung einer wärmehärtbaren
Kunstharzschicht 4 wird das Substrat in eine 1%ige Epoxyharzemulsion
eingetaucht, in der 20 Teile Calciumcarbonat und 5 Teile
Plattierungskatalysator dispergiert sind. Der Plattierungskatalysator
wird durch Dispergieren und Aufbringen von metallischem
Palladium auf einen fein gepulverten Aluminiumsilicat-Träger
hergestellt. Die Epoxyharzemulsion (mit einem Feststoffgehalt
von 100 Teilen) wird durch Zugabe von 80 Teilen eines Amin-
Härtungsmittels je 100 Teile (Feststoffgehalt) eines
Bisphenolepoxyharzes hergestellt. Die Emulsion
wird von der Klebstoffschicht durch Polieren entfernt, dann
wird das Substrat 10 s bei 100°C getrocknet, wobei eine Kunstharzschicht
4 mit einer Dicke von 4 µm entsteht. Eine plattierungsbeständige
Tinte, die ein Epoxyharz als Hauptbestandteil
enthält, wird durch Siebdruck aufgedruckt, dann getrocknet
und 30 min bei 160°C zu einer plattierungsbeständigen Schicht
5 gehärtet. Dann wird das Substrat in eine "aufrauhende" Lösung,
die Chromsäureanhydrid, Schwefelsäure und Natriumfluorid enthält,
eingetaucht und gewaschen, um die Fläche aufzurauhen.
Nach diesen Behandlungen wird das Substrat in eine stromlose
Kupfer-Plattierungslösung mit der folgenden Zusammensetzung
eingetaucht, es entsteht eine Kupferschaltung mit einer Dicke
von 7 bis 30 µm.
Kupfersulfat (CuSO₄ · 5 H₂O)|7 g/l | |
Formaldehyd | 3 ml/l |
Natrium-ethylendiamintetraacetat | 25 g/l |
Natriumcyanid | 30 mg/l |
pH | 12,0 |
Temperatur | 70°C |
Im Versuch 1-2 wird wie in Versuch 1-1 gearbeitet, jedoch mit dem
Unterschied, daß der Nitril-Butadien-Kautschuk
in einer Menge von 10 Teilen
je 100 Teile (Feststoffgehalt) des wärmehärtbaren
Kunstharzes des Versuchs 1-1 zugegeben wird.
In Versuch 1-3 wird gemäß Versuch 1-2 gearbeitet mit dem Unterschied,
daß Calciumcarbonat weggelassen wird.
In Versuch 1-4 wird gemäß Versuch 1-1 gearbeitet mit dem Unterschied,
daß als "aufrauhende" Lösung eine Lösung von Borfluorwasserstoffsäure
verwendet wird.
In Versuch 1-5 wird gemäß Versuch 1-1 gearbeitet mit dem Unterschied,
daß keine wärmehärtbare Kunstharzschicht gebildet
wird.
In Versuch 1-6 wird gemäß Versuch 1-1 gearbeitet mit dem Unterschied,
daß anstelle einer wärmehärtbaren Kunstharzschicht
eine Katalysator (Keimbildner: PdCl₂ + SnCl₂)
aufgebracht wird.
Die Haftung der Plattierungsschicht an den Wänden der durchgehenden
Lochungen, die Beständigkeit der Lochungen und das
Auftreten von Blaslöchern werden für die so erhaltenen gedruckten
Schaltungen bestimmt, die Ergebnisse sind in Tabelle 1
zusammengestellt.
Die Haftung der Plattierungsschicht an den Wänden der durchgehenden
Lochungen wird anhand der Zeit bestimmt, die für
eine Metallabscheidung an allen Wänden der durchgehenden Lochungen
notwendig ist. Die Beständigkeit der durchgehenden
Lochungen wird anhand der Anzahl der Temperatur-Zyklen bestimmt, die für eine Erhöhung
des Widerstandswertes um 10% gemäß MIL-107D notwendig
sind (es handelt sich hier um einen thermischen Schock, in
dem ein Zyklus von 30 min bei -65°C und von 30 min bei
+125°C wiederholt wird). Das Auftreten von Blaslöchern wird
mit bloßem Auge nach 5 s Eintauchen in Lötmetall bei 240°C
beobachtet.
Aus Tabelle 1 ist ersichtlich, daß beim erfindungsgemäßen Verfahren
(Versuche 1-1 bis 1-4) im Vergleich zu herkömmlichen
Verfahren (Versuche 1-5 und 1-6) die Haftung der Plattierungsschicht
an den Wänden der durchgehenden Lochungen doppelt so
schnell oder schneller erfolgt, die Beständigkeit der Lochungen
um das etwa 1,6fache oder mehr höher ist und das Auftreten
von Blaslöchern auf etwa 1/13 oder darunter vermindert ist.
Das heißt, alle charakteristischen Eigenschaften sind wesentlich
verbessert.
Die Arbeitsweise des Beispiels 1, Versuch 1-1, wird wiederholt
mit dem Unterschied, daß eine Emulsion mit der folgenden Zusammensetzung
als wärmehärtbare Kunstharzemulsion und eine
"aufrauhende" Lösung der folgenden Zusammensetzung verwendet
wird (Versuch 2-1).
Emulsion:
eine 1%ige flüssige Epoxyharzemulsion, hergestellt durch Zugabe von 80 Teilen eines Amin-Härtungsmittels (EB-1) je 100 Teile (bezogen auf die Feststoffe) Epoxyharz. Dieser Emulsion werden 0,05 Teile Palladium(II)-chlorid und 1,0 Teile Zinn(II)-chlorid je 180 Teile Gemisch zugegeben.
"Aufrauhende" Lösung:
eine Lösung von Borfluorwasserstoffsäure.
eine 1%ige flüssige Epoxyharzemulsion, hergestellt durch Zugabe von 80 Teilen eines Amin-Härtungsmittels (EB-1) je 100 Teile (bezogen auf die Feststoffe) Epoxyharz. Dieser Emulsion werden 0,05 Teile Palladium(II)-chlorid und 1,0 Teile Zinn(II)-chlorid je 180 Teile Gemisch zugegeben.
"Aufrauhende" Lösung:
eine Lösung von Borfluorwasserstoffsäure.
In Versuch 2-2 wird die Arbeitsweise des Versuchs 2-1 wiederholt
mit dem Unterschied, daß 10 Teile Zinn(II)-chlorid je
1 Teil Palladium(II)-chlorid verwendet werden.
In Versuch 2-3 wird gemäß Versuch 2-1 gearbeitet mit dem Unterschied,
daß 3 Teile Palladium(II)-chlorid je 100 Teile
Kunstharz verwendet werden.
In Versuch 2-4 wird gemäß Versuch 2-1 gearbeitet mit dem Unterschied,
daß ein Papier-Epoxyharz-Laminat als Isoliersubstrat
ohne Plattierungskatalysator verwendet wird.
Die Haftung, das Auftreten von Blaslöchern und die Beständigkeit
der durchgehenden Lochungen wird für die so hergestellten
gedruckten Schaltungen bestimmt, die Ergebnisse sind in
Tabelle 2 zusammengestellt.
Aus Tabelle 2 ist ersichtlich, daß im erfindungsgemäßen Verfahren
(Versuche 2-1 bis 2-4) im Vergleich zum herkömmlichen
Verfahren (Versuch 1-6) die Haftung an die durchgehenden Lochungen
schneller erfolgt, das Auftreten von Blaslöchern auf 1/13
vermindert ist und die Beständigkeit der durchgehenden Lochungen
um den Faktor 2 oder mehr verbessert ist. Dementsprechend
sind alle charakteristischen Eigenschaften deutlich verbessert.
Wird das Verhältnis von Zinn zu Palladium erniedrigt, so sinkt
auch die Haftung.
Die Arbeitsweise des Beispiels 1, Versuch 1-1, wird wiederholt
mit dem Unterschied, daß die nachfolgenden Kunstharzemulsionen
und "aufrauhenden" Lösungen vorgesehen werden (Versuch 3-1):
Ein Substrat wird in eine 1%ige flüssige Epoxyharzemulsion
eingetaucht, die durch Zugabe von 80 Teilen Amin-Härtungsmittel
je 100 Teile (bezogen auf die Feststoffe) Epoxyharz
und flüssiger Palladiumverbindung in einer
solchen Menge, daß die Palladiumkonzentration 0,03 Teile je
100 Teile Kunstharz beträgt, hergestellt worden ist. Nach dem
Entfernen der Emulsion von der Kunststoffschicht durch Polieren
wird das Substrat in einen etwa 100°C heißen Luftstrom mit
spontaner Konvektion erhitzt.
Die Oberfläche der Kunststoffschicht wird mit einer Lösung
von Borfluorwasserstoffsäure aufgerauht und gewaschen.
In Versuch 3-2 wird gemäß Versuch 3-1 gearbeitet mit dem Unterschied,
das der Nitril-Butadien-Kautschuk
in einer Menge von 10 Teilen je 100 Teile wärmehärtbaren Harz
verwendet wird.
In Versuch 3-3 wird wie in Versuch 3-1 gearbeitet mit dem Unterschied,
daß als aufrauhende Lösung eine Lösung von Natriumfluorid
und Chromsäure verwendet wird.
In Versuch 3-4 wird wie in Versuch 3-1 gearbeitet mit dem Unterschied,
daß nach dem Entfernen der Emulsion die wärmehärtbare
Kunstharzschicht in etwa 100°C heißer Luft mit einer Geschwindigkeit
von 3 m/s erhitzt wird.
In Versuch 3-5 wird gemäß Versuch 3-1 verfahren mit dem Unterschied,
daß nach Entfernen der Emulsion die wärmehärtbare
Kunstharzschicht in etwa 100°C heißer Luft mit einer Geschwindigkeit
von 4,5 m/s erhitzt wird.
In Versuch 3-6 wird wie in Versuch 3-1 gearbeitet mit dem Unterschied,
daß nach Entfernen der Emulsion die wärmehärtbare
Kunstharzschicht in etwa 100°C heißer Luft mit einer Geschwindigkeit
von 5 m/s erhitzt wird.
In Versuch 3-7 wird gemäß Versuch 3-1 gearbeitet mit dem Unterschied,
daß nach dem Entfernen der Emulsion die wärmehärtbare
Kunstharzschicht in etwa 100°C heißer Luft mit einer Geschwindigkeit
von 5,5 m/s erhitzt wird.
Die Haftung an den Wänden der durchgehenden Lochungen, die
Beständigkeit der durchgehenden Lochungen und das Auftreten
von Blaslöchern werden für die die so erhaltenen gedruckten Schaltungen
bestimmt, die Ergebnisse sind in Tabelle 3 zusammengefaßt.
Aus Tabelle 3 ist ersichtlich, daß im erfindungsgemäßen Verfahren
(Versuche 3-1 bis 3-7) im Vergleich zu einem herkömmlichen
Verfahren (Versuch 1-6) die für die Haftung notwendige
Zeit um etwa die Hälfte oder weniger vermindert ist, die
Geschwindigkeit der Metallabscheidung erhöht, die Beständigkeit
der durchgehenden Lochungen um einen Faktor von etwa 1,4
oder mehr verbessert und das Auftreten von Blaslöchern auf
1/13 vermindert ist. Außerdem ist ersichtlich, daß im erfindungsgemäßen
Verfahren die Haftung schlechter wird, wenn
die Geschwindigkeit der Heißluft 5,5 m/s übersteigt. Dementsprechend
hat die Heißluft vorzugsweise eine Geschwindigkeit
von 5 m/s oder darunter.
Gemäß der in Fig. 3a bis 3g dargestellten Stufen wird eine
gedruckte Schaltung hergestellt (Versuch 4-1).
- a) Das in Beispiel 1, Versuch 1-1, verwendete Papier-Epoxyharz-Laminat wird als Isoliersubstrat 1 verwendet, auf das ein Klebstoff (NBR und Phenolharz als Hauptbestandteile), der einen Plattierungskatalysator (eine Palladiumchelatverbindung) enthält, aufgebracht und zu einer Klebstoffschicht 2 gehärtet wird.
- b) In das Substrat 1 werden Löcher 3 als vorbestimmte durchgehende Lochungen gestanzt, dann wird die Oberfläche des Isoliersubstrats gereinigt und mit Wasser unter Hochdruck gewaschen, um den durch das Stanzen gebildeten Substratstaub zu entfernen.
- c) Das Substrat wird in eine 1%ige Epoxyharz-Emulsion eingetaucht, die durch Zugabe von 80 Teilen Amin-Härtungsmittel zu 100 Teilen (bezogen auf die Feststoffe) Epoxyharz hergestellt wurde. Die Emulsion auf der Oberfläche der Klebstoffschicht wird durch Polieren entfernt, das Substrat wird 10 min auf 100°C erhitzt.
- d) der Plattierungskatalysator des Beispiels 1, Versuch 1-6, wird aufgebracht und 10 min auf 150°C erhitzt.
- e) Die Oberfläche der Klebstoffschicht wird mit einer Borfluorwasserstoffsäure-Lösung aufgerauht, gewaschen und dann getrocknet.
- f) Eine plattierungsbeständige Tinte, die ein Epoxyharz als Hauptbestandteil enthält, wird durch Siebdruck aufgedruckt und 30 min bei 160°C gehärtet.
- g) Eine Kupferschicht mit einer Dicke von 30 µm wird durch die stromlose Plattierung gemäß Beispiel 1 hergestellt.
In Versuch 4-2 wird gemäß Versuch 4-1 gearbeitet mit dem Unterschied,
daß die "aufrauhende" Behandlung e) vor dem Aufbringen
des Katalysators der Stufe d) durchgeführt wird.
Die Haftung, das Auftreten von Blaslöchern und die Isolationseigenschaften
bei absorbierter Feuchtigkeit sowie die Metallabscheidung
auf der Oberfläche der plattierungsbeständigen
Schicht werden für die so erhaltenen gedruckten Schaltungen bestimmt.
Aus Tabelle 4 ist ersichtlich, daß im erfindungsgemäßen Verfahren
(Versuche 4-1 und 4-2) im Vergleich zum herkömmlichen
Verfahren (Versuch 1-6) die Haftung schneller erfolgt und
das Auftreten von Blaslöchern auf 1/3 oder weniger vermindert
ist. Außerdem ist der Wert der Isolationseigenschaften
bei absorbierter Feuchtigkeit ausreichend für praktische
Zwecke. Da praktisch keine Metallabscheidung auf der Oberfläche
der plattierungsbeständigen Schicht erfolgt, tritt
auch das Problem des Kurzschlusses nicht auf.
Die Arbeitsweise des Beispiels 4 wird wiederholt mit dem Unterschied,
daß der in Beispiel 1, Versuch 1-1, verwendete,
einen Plattierungskatalysator enthaltende Klebstoff eingesetzt
wird und daß die in Stufe c) hergestellte wärmehärtbare
Kunstharzschicht in einem etwa 100°C heißen Luftstrom mit
spontaner Konvektion erhitzt wird (Versuch 5-1).
Aus Tabelle 5 ist ersichtlich, daß bei erfindungsgemäßen
Verfahren (Versuch 5-1) im Vergleich zum herkömmlichen Verfahren
(Versuch 1-6) die für die Haftung benötigte Zeit deutlich
verbessert, die Beständigkeit der durchgehenden Lochungen
um den Faktor 1,6 verbessert und das Auftreten von Blaslöchern
auf 1/20 vermindert ist. Außerdem erfolgt die Metallabscheidung
5mal oder noch schneller.
Die Arbeitsweise des Beispiels 5 wird wiederholt mit dem Unterschied,
daß das Aufrauhen nach der Bildung der plattierungsbeständigen
Schicht und die Stufen c), f) und g) wie
folgt durchgeführt werden (Versuch 6-1 und Fig. 4).
- c) Ein Substrat wird in eine 1%ige flüssige Epoxyharzemulsion eingetaucht, die durch Zugabe von 80 Teilen Amin-Härtungsmittel zu 100 Teilen (bezogen auf die Feststoffe) Epoxyharz und einer flüssigen Palladiumverbindung hergestellt worden ist. Die flüssige Palladiumverbindung ist der Plattierungskatalysator, der aus einer Chelatverbindung von Epoxyharz und Palladium besteht und in einer solchen Menge zugegeben wird, daß die Palladiumkonzentration 0,03 Teile je 100 Teile Harz beträgt. Nach dem Entfernen der Emulsion von der Klebstoffoberfläche durch Polieren wird das Substrat in einem etwa 100°C heißen Luftkonvektionsstrom erhitzt.
- f) Die Oberfläche der Klebstoffschicht wird mit einer Borfluorwasserstoffsäure-Lösung aufgerauht, gewaschen und dann getrocknet.
- g) Eine Kupferschicht wird durch stromlose Kupferplattierung hergestellt und dann mit einer wäßrigen Eisen(III)-chlorid- Lösung entfernt. Die Oberfläche wird mit einer Borfluorwasserstoffsäure-Lösung aufgerauht, dann wird wieder eine Kupferschicht mit einer Dicke von 30 µm durch stromlose Plattierung hergestellt.
In Versuch 6-2 wird gemäß Versuch 6-1 gearbeitet mit dem Unterschied,
daß der Nitril-Butadien-Kautschuk in
einer Menge von 10 Teilen je 100 Teile wärmehärtbarem Harz zugesetzt
wird.
In Versuch 6-3 wird gemäß Versuch 6-1 gearbeitet mit dem Unterschied,
daß als "aufrauhende" Lösung eine Lösung von Natriumfluorid
und Chromsäure verwendet wird.
In Versuch 6-4 wird gemäß Versuch 6-1 gearbeitet mit dem Unterschied,
daß Stufe c) weggelassen wird.
Die Haftung, die Beständigkeit der durchgehenden Lochungen und
das Auftreten von Blaslöchern werden für die so hergestellten
gedruckten Schaltungen bestimmt, die Ergebnisse sind in Tabelle 6
zusammengefaßt.
Aus Tabelle 6 ist ersichtlich, daß im erfindungsgemäßen Verfahren
(Versuche 6-1 bis 6-3) im Vergleich zum herkömmlichen
Verfahren (Versuch 6-4) die für die Haftung benötigte Zeit
kürzer ist, die Beständigkeit der durchgehenden Lochungen
um einen Faktor von etwa 3 oder mehr verbessert und das
Auftreten von Blaslöchern auf ein 50stel oder darunter
vermindert ist.
Claims (9)
1. Verfahren zur Herstellung von durchkontaktierten gedruckten
Schaltungen in Additiv-Technik durch
- a) ein- oder beidseitiges Aufbringen einer einen Plattierungskatalysator (Bekeimungskatalysator) enthaltenden Klebstoffschicht auf ein Isoliersubstrat,
- b) Bildung von durchgehenden Lochungen,
- c) Herstellen einer Maske,
- d) Aufrauhen der Klebstoffschicht,
- e) Herstellen des Schaltungsmusters nach an sich bekannten Verfahrensschritten,
dadurch gekennzeichnet, daß nach Schritt b)
- - sowohl auf den Substratoberflächen als auch in den Innenwänden der Lochungen ein in einem flüssigen Medium emulgiertes flüssiges Kunstharz, dessen Feststoffgehalt (härtbares Harz) bei 0,3 bis 5 Gew.-% liegt, aufgebracht und anschließend getrocknet,
- - das emulgierte flüssige Kunstharz von den Substratoberflächen entfernt,
- - die Kunstharzschicht teilgehärtet,
- - ggf. eine an sich bekannte Plattierungskatalysatorlösung aufgebracht und
- - die Harzschicht ausgehärtet
wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß ein
in einem flüssigen Medium emulgiertes flüssiges Kunstharz, das
einen Plattierungskatalysator enthält, eingesetzt wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
daß die wärmehärtbare Kunstharzschicht aus einer Emulsion hergestellt
wird, die als Hauptbestandteil ein Epoxy-, Urethan-
und/oder Polyesterharz enthält.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1-3, dadurch gekennzeichnet,
daß als Plattierungskatalysator eine Verbindung der
folgenden Metalle verwendet wird: Palladium, Platin, Nickel,
Kobalt, Eisen, Kupfer, Mangan, Chrom, Molybdän, Wolfram,
Titan, Zinn und/oder Silber.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1-4, dadurch gekennzeichnet,
daß die Kunstharzschicht durch Härten in einem Heißluftstrom
mit einer Geschwindigkeit von 5 m/s oder darunter
hergestellt wird.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1-5, dadurch gekennzeichnet,
daß als Plattierungskatalysator eine Palladiumverbindung
verwendet wird und die Palladiumkonzentration 0,005
bis 0,5 Gew.-Teile je 100 Gew.-Teile festes Kunstharz beträgt.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1-6, dadurch gekennzeichnet,
daß als Plattierungskatalysator ein Gemisch von
Palladiumchlorid und Zinn(II)-chlorid verwendet wird und die
Menge an Zinn(II)-chlorid das 5- bis 40fache der Palladiumchloridmenge
beträgt.
Applications Claiming Priority (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8539684A JPS60229395A (ja) | 1984-04-27 | 1984-04-27 | 印刷配線板の製造方法 |
JP8895684A JPS60233886A (ja) | 1984-05-02 | 1984-05-02 | 印刷配線板の製造方法 |
JP9210684A JPS60235495A (ja) | 1984-05-09 | 1984-05-09 | 印刷配線板の製造方法 |
JP10337584A JPH0248153B2 (ja) | 1984-05-22 | 1984-05-22 | Insatsuhaisenbannoseizohoho |
JP13145984A JPH0248154B2 (ja) | 1984-06-26 | 1984-06-26 | Insatsuhaisenbannoseizohoho |
JP13419584A JPH0248155B2 (ja) | 1984-06-29 | 1984-06-29 | Insatsuhaisenbannoseizohoho |
JP16132184A JPS6140089A (ja) | 1984-07-31 | 1984-07-31 | 印刷配線板の製造方法 |
JP16132084A JPS6140088A (ja) | 1984-07-31 | 1984-07-31 | 印刷配線板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3505579A1 DE3505579A1 (de) | 1985-11-07 |
DE3505579C2 true DE3505579C2 (de) | 1989-02-09 |
Family
ID=27572777
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19853505579 Granted DE3505579A1 (de) | 1984-04-27 | 1985-02-18 | Verfahren zur herstellung einer gedruckten schaltungsplatte |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4585502A (de) |
DE (1) | DE3505579A1 (de) |
Families Citing this family (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3608010A1 (de) * | 1986-03-11 | 1987-09-17 | Philips Patentverwaltung | Verfahren zum herstellen einer elektrisch leitenden klebverbindung |
JPH0694592B2 (ja) * | 1986-04-22 | 1994-11-24 | 日産化学工業株式会社 | 無電解メッキ法 |
US5182135A (en) * | 1986-08-12 | 1993-01-26 | Bayer Aktiengesellschaft | Process for improving the adherency of metallic coatings deposited without current on plastic surfaces |
JPH0620154B2 (ja) * | 1988-03-05 | 1994-03-16 | 鐘淵化学工業株式会社 | 半導体装置の製法 |
US4868350A (en) * | 1988-03-07 | 1989-09-19 | International Business Machines Corporation | High performance circuit boards |
EP0335565B1 (de) * | 1988-03-28 | 1994-06-15 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Verfahren zur Herstellung von Leiterplatten |
US5153987A (en) * | 1988-07-15 | 1992-10-13 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Process for producing printed wiring boards |
JPH02125495A (ja) * | 1988-11-04 | 1990-05-14 | Sharp Corp | プリント配線板の製造方法 |
US5213850A (en) * | 1989-03-24 | 1993-05-25 | Nippon Paint Co., Ltd. | Process for plating a metallic deposit between functional pattern lines on a substrate |
DE3928832C2 (de) * | 1989-08-31 | 1995-04-20 | Blasberg Oberflaechentech | Verfahren zur Herstellung von durchkontaktierten Leiterplatten und Leiterplatten-Halbzeug |
US5065227A (en) * | 1990-06-04 | 1991-11-12 | International Business Machines Corporation | Integrated circuit packaging using flexible substrate |
US5822856A (en) * | 1996-06-28 | 1998-10-20 | International Business Machines Corporation | Manufacturing circuit board assemblies having filled vias |
WO1999027760A1 (en) * | 1997-11-26 | 1999-06-03 | Karl Michael Wallis | Method and apparatus for manufacturing double sided or multi-layered printed circuit boards |
EP1194024B1 (de) * | 1999-05-13 | 2006-04-19 | Ibiden Co., Ltd. | Mehrschichtige gedruckte leiterplatte und ihre herstellungsmethode |
US7930815B2 (en) * | 2003-04-11 | 2011-04-26 | Avery Dennison Corporation | Conductive pattern and method of making |
US20100177519A1 (en) * | 2006-01-23 | 2010-07-15 | Schlitz Daniel J | Electro-hydrodynamic gas flow led cooling system |
JP2008308762A (ja) * | 2007-05-17 | 2008-12-25 | Kimoto & Co Ltd | 無電解メッキ形成材料、および無電解メッキされた非導電性基材の製造方法 |
JP2012256872A (ja) * | 2011-05-12 | 2012-12-27 | Rohm & Haas Electronic Materials Llc | 誘電体への金属の接着促進 |
US9523715B2 (en) * | 2012-04-13 | 2016-12-20 | Formfactor, Inc. | Wiring substrate with filled vias to accommodate custom terminals |
US9179556B2 (en) * | 2012-08-03 | 2015-11-03 | Lenovo Enterprise Solutions (Singapore) Pte. Ltd. | Preventing the formation of conductive anodic filaments in a printed circuit board |
US9398703B2 (en) * | 2014-05-19 | 2016-07-19 | Sierra Circuits, Inc. | Via in a printed circuit board |
US10849233B2 (en) | 2017-07-10 | 2020-11-24 | Catlam, Llc | Process for forming traces on a catalytic laminate |
US9706650B1 (en) | 2016-08-18 | 2017-07-11 | Sierra Circuits, Inc. | Catalytic laminate apparatus and method |
US9922951B1 (en) | 2016-11-12 | 2018-03-20 | Sierra Circuits, Inc. | Integrated circuit wafer integration with catalytic laminate or adhesive |
JP2018104739A (ja) * | 2016-12-22 | 2018-07-05 | ローム・アンド・ハース電子材料株式会社 | 無電解めっき方法 |
US10349520B2 (en) | 2017-06-28 | 2019-07-09 | Catlam, Llc | Multi-layer circuit board using interposer layer and conductive paste |
US10765012B2 (en) | 2017-07-10 | 2020-09-01 | Catlam, Llc | Process for printed circuit boards using backing foil |
US10827624B2 (en) | 2018-03-05 | 2020-11-03 | Catlam, Llc | Catalytic laminate with conductive traces formed during lamination |
US11096271B1 (en) | 2020-04-09 | 2021-08-17 | Raytheon Company | Double-sided, high-density network fabrication |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3322881A (en) * | 1964-08-19 | 1967-05-30 | Jr Frederick W Schneble | Multilayer printed circuit assemblies |
US3672986A (en) * | 1969-12-19 | 1972-06-27 | Day Co Nv | Metallization of insulating substrates |
US3956041A (en) * | 1972-07-11 | 1976-05-11 | Kollmorgen Corporation | Transfer coating process for manufacture of printing circuits |
US4339303A (en) * | 1981-01-12 | 1982-07-13 | Kollmorgen Technologies Corporation | Radiation stress relieving of sulfone polymer articles |
-
1985
- 1985-02-14 US US06/701,533 patent/US4585502A/en not_active Expired - Fee Related
- 1985-02-18 DE DE19853505579 patent/DE3505579A1/de active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4585502A (en) | 1986-04-29 |
DE3505579A1 (de) | 1985-11-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3505579C2 (de) | ||
DE3341431C2 (de) | ||
DE69125233T2 (de) | Verfahren zur Herstellung von gedruckten Schaltungen | |
DE69434619T2 (de) | Sich selbstbeschleunigendes und sich selbst auffrischendes Verfahren zur Tauchbeschichtung ohne Formaldehyd, sowie die entsprechende Zusammensetzung | |
DE69728812T2 (de) | Verfahren zur Erhöhung der Lötbarkeit einer Oberfläche | |
DE2610470C3 (de) | Verfahren zur stromlosen Abscheidung von Kupferschichten | |
DE3016132C2 (de) | Verfahren zur Herstellung von gegen Hitzeschockeinwirkung widerstandsfähigen gedruckten Schaltungen | |
DE3002166A1 (de) | Verfahren zur herstellung von gedruckten schaltungsplatten | |
DE3538652A1 (de) | Verfahren zum herstellen eines mit einem aus metall bestehenden muster versehenen traegers aus isolierstoff | |
DE3047287C2 (de) | Verfahren zur Herstellung einer gedruckten Schaltung | |
DE3913966A1 (de) | Klebstoff zum stromlosen plattieren und gedruckte schaltung unter verwendung dieses klebstoffs | |
DE69432591T2 (de) | Material für leiterplatte mit barriereschicht | |
DE3408630A1 (de) | Verfahren und schichtmaterial zur herstellung durchkontaktierter elektrischer leiterplatten | |
DE3800890C2 (de) | ||
DE2725096A1 (de) | Verfahren zum praeparieren der oberflaeche eines dielektrischen materials fuer das stromlose aufbringen von metallschichten | |
DE2659680C2 (de) | Verfahren zum Aktivieren von Oberflächen | |
DE3436024C2 (de) | ||
DE3134502A1 (de) | Verfahren zum herstellen einer gedruckten schaltungsplatte | |
EP0185303B1 (de) | Elektrisch leitende Kupferschichten und Verfahren zur Herstellung derselben | |
DE69730288T2 (de) | Vorrichtung zur Herstellung von Leiterplatten mit galvanisierten Widerständen | |
DE69015689T2 (de) | Stromloses Plattierverfahren. | |
EP0183925B1 (de) | Verfahren zum An- und Abätzen von Kunststoffschichten in Bohrungen von Basismaterial für Leiterplatten | |
DE3121015A1 (de) | Verfahren zur aktivierung von gebeizten oberflaechen und loesung zur durchfuehrung desselben | |
EP0044917A2 (de) | Haftvermittler für ein Trägermaterial | |
DE3006117C2 (de) | Verfahren zum Herstellen von Leiterplatten mit mindestens zwei Leiterzugebenen |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |