DE3337850A1 - Halbleiterspeichereinrichtung - Google Patents

Halbleiterspeichereinrichtung

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DE3337850A1
DE3337850A1 DE19833337850 DE3337850A DE3337850A1 DE 3337850 A1 DE3337850 A1 DE 3337850A1 DE 19833337850 DE19833337850 DE 19833337850 DE 3337850 A DE3337850 A DE 3337850A DE 3337850 A1 DE3337850 A1 DE 3337850A1
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Description

  • Halbleiterspeichereinrichtung
  • BESCHREIBUNG Die Erfindung betrifft eine Halbleiterspeichereinrichtung, insbesondere eine verbesserte Halbleiterspeichereinrichtung, die eine Verbesserung bezüglich Zugriffszeit und Stromverbrauch ermöglicht.
  • Fig. 1 zeigt als schematisches Blockdiagramm eine konventionelle Halbleiterspeichereinrichtung. Zwischen jedem der Paare von Bit-Leitungen 2a und 2b in komplementärer Beziehung zueinander sind eine Mehrzahl von Speicherzellen 1 in einer Matrix (Reihen x Spalten) angeordnet. Die Speicherzellen einer gleichen Reihe sind mit einer Worleitung 3 verbunden, welche sie gleichzeitig freigibt. Jede der Wortleitungen 3 ist mit einem Reihen-Dekodierer 4 verbunden, der seinerseits mit einer Reihen-Adressen-Signalleitung 5 zum Dekodieren von Reihen-Adressen-Information verbunden ist. Die Bit-Leitungen 2a und 2b sind jeweils mit Stromversorgungsanschlüssen 7 über Bit-Leitungslasten 6a und 6b verbunden.
  • Fig. 2 zeigt als Schaltkreisdiagramm Details der in Fig. 1 gezeigten Speicherzelle 1. Eine Elektrode eines jeden der Zugriffstransistoren 10a und lOb ist mit den Bit-Leitungen 2a und 2b jeweils verbunden, während eine andere Elektrode mit einem Speicherknoten lla oder llb der Speicherzelle 1 jeweils verbunden ist, wobei die Steuerelektrode mitleiner gemeinsamen Wortleitung 3 verbunden ist. Zwischen den Speicherknoten lla und llb sind Invertertransistoren 9a und 9b angeordnet. Außerdem sind die Speicherknoten lla und llb mit den Stromversorgungsanschlüssen 7 über Lastelemente 8a und 8b verbunden, die typischerweise Widerstände beinhalten.
  • Im folgenden wird der Betrieb der oben beschriebenen Halbleiterspeichereinrichtung beschrieben, wenn beispielsweise ein "hoher" Pegel in den Speicherknoten lla und ein "niedriger" Pegel in den Speicherknoten llb geschrieben wird.
  • Falls es erwünscht ist, die so eingeschriebene betreffende Speicherzelle auszulesen, wird eine Adresseninformation für die betreffende Zelle zur Adressen-Signalleitung 5 geführt, um die Wortleitung 3 der Reihe, wo die betreffende Zelle angeordnet ist, zu aktivieren. Beim Aktivieren der Wortleitung 3 werden die Zugriffstransistoren 10a und lOb leitfähig. Einer der Invertertransistoren 9b wird leitfähig oder geht in den Zustand ON wegen des hohen Pegels am Speicherknoten lla, so daß durch die Bit-Leitungslast lOb, die Bit-Leitung 2b,den Zugriffstransistor lOb und den Invertertransistor 9b von dem Stromversorgungsanschluß 7 Strom fließt, wodurch die Speicherzelle ausgelesen wird.
  • Da alle der Speicherzellen einer gleichen Reihe innerhalb der oben beschriebenen Anordnung der Haibleiterspeichereinrichtung aktiviert werden, und Strom (Spaltenstrom) vom Stromversorgungsanschluß zu den Speicherzellen über die Bit-Leitungen aller Spalten fließt, ist der Stromverbrauch bemerkenswert, insbesondere im Falle eines statischen RAM von großer Kapazität mit einer erheblichen Anzahl von Spalten. Zum Minimieren des Stromverbrauches wurde eine Halbleiterspeichereinrichtung wie in Fig. 3 vorgeschlagen.
  • In der dort gezeigten Halbleiterspeichereinrichtung sind Reihendekodierer 4 im Zentrum der Speicherzellenebene angeordnet, wobei jede der Wortleitungen in eine linksseitige Wortleitung 3a und eine rechtsseitige Wortleitung 3b geteilt ist. AND-Gatter 12a dienen zur Auswahl der linksseitigen Wortleitungen 3a während andere AND-Gatter 12b zur Auswahl der rechtsseitigen Wortleitungen 3b dienen. Ein Eingang eines jeden der AND-Gatter 12a und 12b ist mit dem Ausgang eines jeden der Reihendekodierer 4 verbunden und ihr anderer Eingang ist mit einer Gatter-Signalleitung 13a oder 13b verbunden, an die ein Gatter-Freigabesignal zum Öffnen der zugehörigen Gatter geführt wird.
  • Durch selektives Anlegen des Gatter-Freigabesignalesüber die Gatter-Signalleitung 13a oder 13b werden nur die mit einer der linken und rechten Gruppe von Speicherzellen assoziierten Wortleitungen aktiviert. Demgemäß wird nur für die Hälfte der Spalten der Matrix ein Spaltenstromweg geschaffen, wodurch eine Reduzierung des Stromverbrauches sichergestellt ist.
  • Fig. 4 zeigt ein Layout einer weiteren konventionellen Halbleiterspeichereinrichtung, die auf dem in Fig. 3 gegezeigten Konzept basierend entworfen wurde. Allgemein gesagt, werden Reihendekodierer 4a und 4b für eine Mehrzahl von Spalten angeordnet und Wortleitungen 3a bis 3d werden entsprechend geteilt, wodurch die Anzahl von Gleichstrompfaden reduziert wird.
  • Diese konventionelle Halbleiterspeichereinrichtung bedarf jedoch einer Anzahl von Reihendekodierern und hat infolgedessen das Problem einer vergrößerten Chip-Fläche, Ver- schlechterung der Hochgeschwindigkeitseigenschaften und Ausbeute.
  • Demgemäß ist es Hauptaufgabe der Erfindung, eine Halbleiterspeichereinrichtung zu schaffen, welche Hochgeschwindigkeitseigenschaften und hohe Ausbeute mit einem Minimum von Chip-Fläche und Stromverbrauch sicherstellt.
  • Diese Aufgabe wird gelöst durch eine Halbleiterspeichereinrichtung mit einer Matrix von in Reihen und Spalten angeordneten Speicherzellen, gekennzeichnet durch eine Mehrzahl von Gruppen von Speicherzellen, die durch Segmentieren der Matrix in der Richtung der Spalten unterteilt sind, Speicherzellengruppenselektionsleitungen für jede einzelne dieser Gruppen zur Selektion einer der Mehrzahl von Gruppen dieser Speicherzellen, Reihendekodierer für jede einzelne der Reihen zum Dekodieren von Reihen-Adressen-Information für eine bestimmte Speicherzelle, auf die Zugriff genommen werden soll, Vorrang-Wortleitungen, von denen jede mit dem Ausgang eines jeden der Reihendekodierer verbunden ist, AND-Gatter, die jeweils zum Liefern eines logischen Produktes eines auf der Speicherzellengruppenselektionsleitung befindlichen Gruppenfreigabesignales und eines auf den Vorrang-Wortleitungen befindlichen Reihenfreigabesignales von den Reihendekodierern vorgesehen sind, Gruppenwortleitungen, die jeweils pro Gruppe und pro Reihe vorgesehen sind zum Empfangen des logischen Produktausgangssignales jeder der AND-Gatter, und dadurch, daß auf die bestimmte Speicherzelle mit dem logischen Produktausgangssignal der entsprechenden der Gruppenwortleitungen zugegriffen wird.
  • Weitere Merkmale und Zweckmaßigkeiten der Erfindung ergeben sich aus der folgenden ausführlichen Beschreibung der Er- findung im Zusammenhang mit den Figuren. Von den Figuren zeigen: Fig. 1 ein schematisches Blockdiagramm mit einer konventionellen Halbleiterspeichereinrichtung; Fig. 2 ein Schaltkreisdiagramm mit Details einer Speicherzelle 1 in Fig. 1; Fig. 3 ein schematisches Blockdiagramm mit einer verbesserten konventionellen Halbleiterspeichereinrichtung; Fig. 4 eine Erweiterung der Speichereinrichtung nach Fig.3; Fig. 5 ein schematisches Blockdiagramm einer Halbleiterspeichereinrichtung gemäß einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung; Fig. 6 ein schematisches Blockdiagramm einer anderen bevorzugten Ausführungsform einer Halbleiterspeichereinrichtung gemäß der Erfindung; und Fig. 7 bis 9 bevorzugte Ausführungsformen von AND-Gattern zur Verwendung in der Halbleiterspeichereinrichtung gemäß der Erfindung.
  • Fig. 5 zeigt als Blockdiagramm schematisch eine Halbleiterspeichereinrichtung gemäß einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung, bei der Speicherzellen in einer Matrixanordnung in Richtung der Spalten in drei Gruppen la, lb und lc beispielsweise unterteilt werden. Wie bei der konventionellen Speichereinrichtung werden die Ausgänge der Reihendekoder 4 zu Vorrang-Wortleitungen 15 geführt, die jeweils allen Speicherzellen auf der gleichen Reihe gemeinsam zugeordnet ist (ohne Berücksichtigung der Gruppen der Speicherzellen). Zusätzlich zu solchen Vorrang-Wortleitun- gen 15 gibt es Gruppenwortleitungen 3a, 3b und 3c, die für jeweils eine der Gruppen vorgesehen sind und gemeinsam zu allen Speicherzellen auf derselben Reihe in derselben Gruppe gegenüber den Vorrang-Wortleitungen 15 geführt werden. Ein Eingang zu jedem der AND-Gatter 16a, 16b und 16c- zur Selektion der Gruppenwortleitungen 3a, 3b und 3c ist mit einer entsprechenden jeder Reihe gemeinsamen Vorrang-Wortleitung 15 verbunden und der andere Eingang ist mit einer entsprechenden Gruppenselektionsleitung 14a, 14b und 14c zur Selektion einer der Gruppen la, lb und lc verbunden, während der Ausgang mit jeder der Gruppenwortleitungen 3a, 3b und 3c, die jeder Reihe in der gleichen Gruppe gemeinsam sind, verbunden ist. Die Gruppenselektionsleitungen 14a, 14b und 14c sind jeweils mit den Ausgängen der Speicherzellengruppenselektoren 17a, 17b und 17c, an die Speicherzellengruppenselektionssignale geliefert werden, verbunden.
  • Um die Fläche einer jeden Speicherzelle beim Herstellungsprozeß der Halbleiterspeichereinrichtung wie oben diskutiert zu reduzieren, können die Gruppenwortleitungen 3a, 3b und 3c aus der gleichen Schicht Polysilizium gebildet werden wie die Gatter der MOS-Transistoren 10a und lOb (siehe Fig. 2) und die Vorrang-Wortleitungen 15 können aus einer Schicht Polysilizium aufgebaut werden, die von der oben erwähnten Polisiliziumschicht verschieden ist oder aus einer Schicht mit metallischer Verdrahtung, typisch aus Aluminium, Molybdän oder Molybdän-Silizid.
  • Im folgenden wird der Betrieb der Halbleiterspeichereinrichtung gemäß der im vorhergehenden beschriebenen bevorzugten Ausführungsform der Erfindung mit Bezug auf Fig. 5 erklärt. Die Reihendekodierer 4 dekodieren daran angelegte Reihen-Adressen-Information und aktivieren eine der Vorrang- Wortleitungen 15, die der Reihe einer bestimmten Speicherzelle entspricht, auf die zugegriffen werden soll. Nun wird angenommen, daß die erfindungsgemäße Speicherzelle zur ersten Gruppe la in der ersten Reihe der Speicherzellenmatrix beispielsweise gehört. In diesem Fall wird die höchste der Vorrang-Wortleitungen 15 wie in Fig. 5 gezeigt (d.h.
  • die erste Reihe) selektiert und aktiviert. Die Gruppenselektoren 17a, 17b und 17c dekodieren die daran angelegten Gruppenselektionssignale und aktivieren eine der Gruppenselektionsleitungen 14a, 14b und 14c, die einer bestimmten Gruppe einschließlich der Spalte der Speicherzelle entspricht, auf die zugegriffen werden soll. In diesem Beispiel befindet sich die betreffende Speicherzelle innerhalb der Gruppe la, so daß die Gruppenselektionsleitung 14a aktiviert wird. Zur Selektion der Gruppenselektionsleitungen ist auch eine geeignete Einrichtung außer den Gruppenselektoren verfügbar.
  • Als Antwort auf das gleichzeitige Aktivieren der Vorrang-Wortleitung 15 und der Gruppenselektionsleitung 14a aktiviert das höchste der AND-Gatter 16a die höchste der Gruppenwortleitungen 3a, die nur der ersten Reihe in Gruppe la entspricht. Wie schon festgestellt, sind mit der höchsten Gruppenwortleitung 3a nur die Speicherzellen in der Gruppe la der ersten Reihe der Matrix verbunden. Es wird deshalb bemerkt, daß, wo die den Speicherzellen zugeordneten Zugriffstransistoren 10a und lOb (siehe Fig. 2) leitfähig werden (d.h. Aktivierung der Speicherzellen) bei Aktivierung der Gruppenwortleitung 3a, die Speicherzellen nur jene in der ersten Reihe zur Gruppe la gehörenden sind. Demgemäß wird Spaltenstrom, d.h. Strom, der von dem Stromversorgungsanschluß 7 über die Bit-Leitung 2b (vgl. Fig. 1) zu den Speicherzellen fließt, auf allein die Spalten einschließlich der selektierten Gruppe la der Speicherzellen begrenzt.
  • Dadurch wird schließlich eine deutliche Verringerung der verbrauchten Leistung sichergestellt.
  • Es ist möglich, daß die oben beschriebene Speicheranordnung rein äußerlich als ähnlich einer in Fig. 3 gezeigten konventionellen Anordnung betrachtet wird. Jedoch ist die Speicheranordnung gemäß der Erfindung, wie sie typisch in Fig.
  • 5 gezeigt ist, vollkommen unterschiedlich von der konventionellen nach Fig. 3 und bietet viele Vorteile gegenüber der konventionellen wie im folgenden erläutert wird.
  • Bei der konventionellen Anordnung ist eine Spalte der Reihendekodierer im Zentrum der Spalten der Speicherzellen angeordnet und alle Spalten der Speicherzellen werden in rechte und linke Gruppen unterteilt. Der Ort der Reihendekodiererspalten ist innerhalb der Spalten der Speicherzelle begrenzt und eine Mehrzahl von Spalten der Reihendekodierer wird benötigt, wenn die Spalten der Speicherzellen in mehr als zwei Gruppen unterteilt werden sollen. Andererseits gibt es gemäß der vorliegenden Erfindung keine Begrenzung des Ortes der Reihendekodiererspalte, wodurch eine einfache aber effiziente Plazierung der Dekoder besonders am Randteil von Speicherzellenbereichen auf dem Chip sichergestellt ist. Darüber hinaus verlangt die Erfindung nur eine Spalte von Reihendekodern zur Unterteilung der Spalten der Speicherzellen in eine beliebige Anzahl von Gruppen. Da eine Anzahl von Spalten der Reihendekodierer, wie sie bei der konventionellen Speichereinrichtung erforderlich sind, nicht benötigt werden, sind die daraus folgenden Vorteile Reduzierung der Chip-Fläche, hohe Herstellungsausbeuten und verbesserte Geschwindigkeitseigenschaften.
  • Die erfindungsgemäße Speichereinrichtung bietet nicht nur die erwähnten Vorteile, sondern weist weitere vorteilhafte Eigenschaften auf, die bei der konventionellen Einrichtung nicht erwartet werden, solange sie wie in Fig. 6 gezeigt typisch konstruiert ist. In Fig. 6 wird eine weitere bevorzugte Ausführungsform der erfindungsgemäßen Halbleiterspeichereinrichtung gezeigt, die von der Ausführungsform nach Fig. 5 sich dadurch unterscheidet, daß die Ausgänge der Speicherzellengruppenselektoren 17a, 17b und 17c nicht nur mit den jeweiligen Gruppenselektionsleitungen 14a, 14b und 14c verbunden sind, sondern auch mit jeweiligen Spaltendekodierergruppen 18a, 18b und 18c. Die Gruppenselektoren 17a, 17b und 17c in dieser Ausführungsform dienen als Vordekodierer für Spaltenselektion genauso wie als Selektoren für die Gruppenselektionsleitungen wie in der Ausführungsform nach Fig. 5. Die Spaltendekodierer 18a, 18b und 18c sind weitgehend vereinfacht in solch einem Ausmaß, daß die Layout-Fläche bemerkenswert reduziert wird, verglichen mit den Spaltendekodierern in der konventionellen Einrichtung.
  • Obwohl nur die Selektion der Speicherzellen in der Speicherzellengruppe la im Detail diskutiert wurde, ist es offensichtlich, daß eine beliebige Speicherzelle in den Speicherzellengruppen Ib und lc auf gleiche Weise selektiert werden kann. Obwohl die Speicherzellen in drei Gruppen bei den obigen Ausführungsformen unterteilt werden, können sie darüber hinaus in Gruppen (N > 2) unterteilt werden. Solange wie nur die Vorrang-Wortleitungen 15 aus einem Material niedrigen Widerstandes gemacht sind, ist es möglich, auf die Speicherzellen mit hoher Geschwindigkeit zuzugreifen; sogar dann, wenn der Widerstand der Gruppenwortleitungen relativ hoch ist, da die letzteren kurz und von kleiner Kapazität sind. Obwohl in den obigen Ausführungs- formen die Spalten der Reihendekodierer am Randteil des Speicherbereiches auf dem Chip angeordnet sind, können sie außerdem im Zentrum des Speicherbereiches oder, falls erforderlich, an einem beliebigen anderen erwünschten Ort angeordnet werden. Es ist weiter offensichtlich, daß die Erfindung genauso anwendbar ist, wenn die Reihendekodierer in einer Mehrzahl von Spalten angeordnet sind.
  • Die AND-Gatter 16a bis 16c mit zwei Eingangsanschlüssen und einem Ausgangsanschluß sind in ihrer Konfiguration vereinfacht und die von jenen Gattern belegte Chip-Fläche ist nahezu vernachlässigbar. Eine bevorzugte Ausführungsform der AND-Gatter ist in Fig. 7 gezeigt.
  • In Fig. 7 sind die Drain-Elektrode, Gate-Elektrode und Source-Elektrode eines MOS-Transistors 21 jeweils mit der Vorrang-Wortleitung 15, der Speicherzellengruppenselektionsleitung 14a, 14b oder 14c und der Gruppenwortleitung 3a, 3b oder 3c verbunden. Die Drain-Elektrode eines anderen MOS-Transistors 22 ist mit der Gruppenwortleitung 3a, 3b oder 3c verbunden, wobei die Source-Elektrode auf Masse liegt. Eine Invertiereinrichtung 20 ist zwischen der Gate-Elektrode des MOS-Transistors 22 und der Speicherzellengruppenselektionsleitung 14a, 14b oder 14c angeordnet.
  • Wenn die Speicherzellengruppenselektionsleitung 14a, 14b oder 14c gesperrt wird, ist der Transistor 22 im ON-Zustand oder leitfähig durch Betätigung der Invertiereinrichtung 20, so daß die Gruppenwortleitung 3a, 3b oder 3c über den Transistor 22 auf Masse liegt. Wenn die Speichergruppenselektionsleitung freigegeben wird, wird der Transistor 22 in den OFF-Zustand geschaltet und der Transistor 21 wird in den ON-Zustand gebracht. Wenn die Vorrang-Wortleitung 15 unter diesen Umständen freigegeben wird, wird die Gruppenwortleitung 3a, 3b oder 3c durch den Transistor 21 im ON-Zustand aktiviert.
  • Wie in Fig. 8 zu sehen ist, kann der Inverter 20 außerhalb der Speicherzellenanordnung liegen und die Gatter aller MOS-Transistoren in jeder der Spalten können gemeinsam mit einem logischen Ausgangssignal "NOT" des Speicherzellengruppenselektionsfreigabesignales versorgt werden. In diesem Fall haben die AND-Gatter eine einfache Konfiguration.
  • In Fig. 9 ist eine weitere bevorzugte Ausführungsform der AND-Gatter 16a, 16b und 16c gezeigt. Die Drain-Elektrode, Gate-Elektrode und die Source-Elektrode eines MOS-Transistors 21 sind jeweils mit der SpeicherzellengrupFenselektionsleitung 14a, 14b oder 14c, der Vorrang-Wortleitung 15 und der Gruppenwortleitung 3a, 3b oder 3c verbunden, während die Drain-Elektrode eines anderen MOS-Transistors 32 mit der Gruppenwortleitung 3a, 3b oder 3c verbunden ist und die Source-Elektrode auf Masse liegt. Eine Invertiereinrichtung 30 ist zwischen den Gate-Elektroden der beiden MOS-Transistoren 31 und 32 angeordnet.
  • Im Falle des in Fig. 9 gezeigten AND-Gatters wird keine parasitäre Gatterkapazität auf der Vorrang-Wortleitung 15 entwickelt, da die Vorrang-Wortleitung 15 von der Gruppenwortleitung 3a (3b, 3c) isoliert ist. Die Vorrang-Wortleitung 15 kann deshalb über den Reihendekodierer mit höherer Geschwindigkeit aktiviert werden. Zusätzlich wird die Gruppenwortleitung 3a (3b, 3c) durch die Speicherzellengruppenselektionsleitung 14a (14b, 14c) durch den MOS-Transistor 31 aktiviert. Aus diesen Gründen ist es möglich, auf die Speicherzellen rnit hoher Geschwindigkeit zuzugreifen, sogar wenn der Widerstand der Vorrang-Wortleitung relativ hoch ist. Zugriff auf die Speicherzelle mit höherer Geschwindigkeit ist möglich durch Benutzung von Verdrahtungsmaterial mit einem niedrigen Widerstand wie Metall für die Speicherzellengruppenselektionsleitungen 14a (14b, 14c) anstatt der Vorrang-Wortleitungen 15, da die Lastkapazität der ersteren größer ist als die der letzteren. Wie die AND-Gatter in Fig. 7 und 8,sind die AND-Gatter in dem letzten Ausführungsbeispiel einfach bezüglich ihrer Konfiguration mit nur geringfügig mehr Chip-Fläche.
  • Leerseite

Claims (12)

  1. Halbleiterspeichereinrichtung PATENTANSPRÜCHE e A Halbleiterspeichereinrichtung mit einer Matrix von in Reihen und Spalten angeordneten Speicherzellen, gekennzeichnet durch eine Mehrzahl von Gruppen (la, Ib, lc) von Speicherzellen (1), die durch Segmentieren der Matrix in der Richtung der Spalten unterteilt sind, Speicherzellengruppenselektionsleitungen (14a, 14b, 14c) für jede einzelne dieser Gruppen (la, lb, lc) zur Selektion einer der Mehrzahl von Gruppen (la, lb, lc) dieser Speicherzellen (1), Reihendekodierer (4) für jede einzelne dieser Reihen zum Dekodieren von Reihen-Adressen-Information für eine bestimmte Speicherzelle (1), auf die Zugriff genommen werden soll, Vorrang-Wortleitungen (15), von denen jede mit dem Ausgang eines jeden der Reihendekodierer (4) verbunden ist, AND-Gatter (16a, 16b, 16c), die jeweils zum Liefern eines logischen Produktes eines auf der Speicherzellengruppenselektionsleitung (14a, 14b, 14c) befindlichen Gruppenfreigabesignales und eines auf den Vorrang-Wortleitungen (15) befindlichen Reihenfreigabesignales von den Reihendekodierern (4) vorgesehen sind, Gruppenwortleitungen (3a, 3b, 3c), die jeweils pro Gruppe (la, lb, lc) und pro Reihe vorgesehen sind zum Empfangen des logischen Produktausgangssignales jeder der AND-Gatter (16a, 16b, 16c), und dadurch, daß auf die bestimmte Speicherzelle (1) mit dem logischen Produktausgangssignal der entsprechends der Gruppenwortleitungen (3a, 3b, 3c) zugegriffen wird.
  2. 2. Halbleiterspeichereinrichtung nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch Speicherzellengruppenselektoren (17a, 17b, 17c), die Speicherzellengruppenselektionssignale empfangen und dekodieren zum Selektieren einer der Mehrzahl von Gruppen (la, lb, lc) der Speicherzellen (1) und zum Liefern des Gruppenfreigabeausgangssignales an die selektierte der Speicherzellengruppenselektionsleitungen (14a, 14b, 14c).
  3. 3. Halbleiterspeichereinrichtung nach Anspruch 2, gekennzeichnet durch Spaltendekodierer (18a, 18b, 18c) zum Dekodieren von Spalten-Adressen-Information für die bestimmte Speicherzelle (1), auf die zugegriffen wird, wobei das Gruppenfreigabeausgangssignal auf der selektierten der Speicherzellengruppenselektionsleitungen (14a, 14b, 14c) an die entsprechenden der Spaltendekodierer (18a, 18b, 18c) geliefert wird, um als Vordekodiereinrichtung für Spaltenselektion zu dienen.
  4. 4. Halbleiterspeichereinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Halbleiterspeichereinrichtung auf einem Halbleiterchip aufgebaut ist und eine Spalte der Reihendekodierer (4) an einem Randteil eines Speicherbereiches des Chips angeordnet ist.
  5. 5. Halbleiterspeichereinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Halbleiterspeichereinrichtung auf einem Halbleiterchip aufgebaut ist und die Vorrang-Wortleitungen (15). aus einem Material relativ niedrigen Widerstandes gemacht sind.
  6. 6. Halbleiterspeichereinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Halbleiterspeichereinrichtung auf einem Halbleiterchip aufgebaut ist, die jeweiligen Speicherzellen (1) einen Zugriffstransistor (10a, lOb) aufweisen, dessen Steuerelektrode mit der entsprechenden Gruppenwortleitung (3a, 3b, 3c) verbunden ist und aus einer Schicht von Polysilizium gemacht ist, die Gruppenwortleitungen (3a, 3b, 3c) aus der gleichen Schicht Polysilizium gebildet sind wie die die Steuerelektrode bildende, die Vorrang-Wortleitungen (15) aus einer Schicht Polysilizium gemacht sind, die sich von der erwähnten Schicht Polysilizium unterscheidet oder aus einer Schicht von metallischem Verdrahtungsmaterial, und die Gruppenwortleitungen (3a, 3b, 3c) und die Vorrang-Wortleitungen (15) parallel in Richtung der Reihen ausgerichtet sind.
  7. 7. Halbleiterspeichereinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die AND-Gatter jeweils einen ersten Eingangsteil zum Empfang des Gruppenfreigabesignales von der entsprechenden Speicherzellengruppenselektionsleitung (14a, 14b, 14c), einen zweiten Eingangsteil zum Empfangen des Reihenfreigabesignales von der entsprechenden Vorrang-Wortleitung (15), einen Ausgangsteil zum Liefern eines logischen Produktausgangssignales an die entsprechende Gruppenwortleitung (3a, 3b, 3c), einen ersten Transistor (21) mit einer Steuerelektrode, die mit dem ersten Eingangsteil verbunden ist und mit einem Paar von Elektroden, von denen eine mit dem zweiten Eingangsteil verbunden ist und die andere mit dem Ausgangsteil verbunden ist, eine Invertiereinrichtung (20) zum Empfangen des Gruppenfreigabesignales von dem ersten Eingangsteil und zum Liefern eines logischen "NOT"-Ausgangssignales, und einen zweiten Transistor (22) mit einer Steuerelektrode, die mit dem "NOT"-Ausgangssignal von der Invertiereinrichtung versorgt wird, und einem Paar von Elektroden, von denen eine mit dem Ausgangsteil verbunden ist und die andere auf Masse liegt, aufweisen.
  8. 8. Halbleiterspeichereinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 7, gekennzeichnet durch eine Mehrzahl von Invertiereinrichtungen (23), die jeweils für jede Gruppe (la, lb, lc) zum Empfangen des Gruppenfreigabesignales von der entsprechenden Speicherzellengruppenselektionsleitung (14a, 14b, 14c) und zum Liefern eines logischen "NOT"-Ausgangssignales vorgesehen sind, und in dem das AND-Gatter einen ersten Eingangs- teil zum Empfangen des Gruppenfreigabesignales von der entsprechenden Speicherzellengruppenselektionsleitung (14a, 14b, 14c), einen zweiten Eingangsteil zum Empfangen des Reihenfreigabesignales von der entsprechenden Vorrang-Wortleitung (15), ein Ausgangsteil zum Liefern des logischen Produktausgangssignales an die entsprechende Gruppenwortleitung (3a, 3b, 3c), einen ersten Transistor (21) mit einer Steuerelektrode, die mit dem ersten Eingangsteil verbunden ist und mit einem Paar von Elektroden, von denen eine mit dem zweiten Eingangsteil verbunden und die andere mit dem Ausgangsteil verbunden ist, und einen zweiten Transistor (22) mit einer Steuerelektrode, die mit dem "NOT"-Ausgangssignal von der entsprechenden Invertiereinrichtung versorgt wird und mit einem Paar von Elektroden, von denen eine mit dem Ausgangsteil verbunden ist und die andere auf Masse liegt, aufweist.
  9. 9. Halbleiterspeichereinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Vorrang-Wortleitungen (15) von den Gruppenwortleitungen (3a, 3b, 3c) isoliert sind, so daß die Vorrang-Wortleitungen frei vom Einfluß einer parasitären Kapazität in den Speicherzellen (1) sind.
  10. 10. Halbleiterspeichereinrichtung nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß die AND-Gatter jeweils einen ersten Eingangsteil zum Empfangen des Gruppenfreigabesignales von der entsprechenden Speicherzellengruppenselektionsleitung (14a, 14b, 14c), einen zweiten Eingangsteil zum Empfangen des Reihenfreigabesignales von der entsprechenden Vorrang-Wortleitung (15), einen Ausgangsteil zum Liefern des logischen Produktausgangssignales an die entsprechende Gruppenwortleitung (3a, 3b, 3c), einen ersten Transistor (31) mit einer Steuerelektrode, die mit dem zweiten Eingangsteil verbunden ist und mit einem Paar von Elektroden, von denen eine mit dem ersten Eingangsteil und die andere mit dem Ausgangsteil verbunden ist, und eine Invertiereinrichtung (30), die das Reihenfreigabesignal von dem zweiten Eingangsteil empfängt und ein logisches "NOT"-Ausgangssignal liefert, und einen zweiten Transistor (32) mit einer Steuerelektrode zum Empfangen des "NOT"-Ausgangssignales von der Invertiereinrichtung und mit einem Paar von Elektroden, von denen eine mit dem Ausgangsteil verbunden ist und die andere auf Masse liegt, aufweisen.
  11. 11. Halbleiterspeichereinrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Vorrang-Wortleitungen (15) aus einem Material von relativ niedrigem Widerstand gemacht sind.
  12. 12. Halbleiterspeichereinrichtung nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß das Material Metall ist.
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