DE3216041A1 - Elektronenstrahlerzeugungssystem mit sich selbst ausrichtenden isolierenden haltestaeben - Google Patents
Elektronenstrahlerzeugungssystem mit sich selbst ausrichtenden isolierenden haltestaebenInfo
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Description
RCA 76259 MvB/Ri
US-S.N. 258,740
AT: 29. April 1981
US-S.N. 258,740
AT: 29. April 1981
RCA Corporation
New York, N,Y. 10020, V.St.Ä.
New York, N,Y. 10020, V.St.Ä.
Elektronenstrahlerzeugungssystem mit sich selbst ausrichtenden isolierenden Haltestäben
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Elektronenstrahlerzeugungssystem
gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1, insbesondere sich selbst orientierende, gepreßte, verschiedenartig
geformte Haltestäbe für solche Strahlerzeugungssysteme.
Die elektrostatischen Linsenelemente eines Elektronenstrahlerzeugungssystems
sind hintereinander angeordnet, um mindestens einen Elektronenstrahl entlang eines im wesentliehen
longitudinal (in Längsrichtung) verlaufenden Elektronenstrahlwegs zu beschleunigen und zu fokussieren. Die
Linsenelemente des Elektronenstrahlerzeugungssystems sind an mindestens zwei, im wesentlichen in Längsrichtung verlaufenden,
isolierenden Haltestäben mit Hilfe von Haltelaschen mechanisch gehaltert, die von den Linsenelementen
vorspringen und in die Haltestäbe eingebettet sind. Die Haltestäbe werden durch Pressen eines Glaspulvers in einer
Form gebildet. Anschließend werden die Haltestäbe erhitzt, um sie zu verfestigen, um die Abmessungen der Haltestäbe
zu fixieren und flucht-'ge Materie aus den gepreßten Haltestäben
zu entfernen.
Die Haltelaschen bestehen entweder aus einem Stück mit den Linsenelementen oder sie können auch am Körper der
Linsenelemente, z.B. durch Schweißen, befestigt sein. In beiden Fällen enthalten die Teile der Haltelaschen,
die in die Haltestäbe eingebettet sind, geformte Vorsprünge oder Klauen, die in das Ende der Haltelaschen
geformt sind, um die Laschen fest in den Haltestäben
zu verankern. Die Befestigung der Haltelaschen an den Haltestäben wird in einem Arbeitsgang, der als Ein-
zu verankern. Die Befestigung der Haltelaschen an den Haltestäben wird in einem Arbeitsgang, der als Ein-
schmelzen oder Einbetten bezeichnet wird, ausgeführt. Manchmal werden während des Einschmelzens einer oder
mehrere Haltestäbe dejustiert, was zu falschen Abständen zwischen den Linsenelementen oder einer unvollständigen Bedeckung der Klaue einer Haltelasche durch den isolierenden Haltestab führt. Beide Fälle sind unerwünscht, da sie zu einer Verzerrung des elektrostatischen Feldes im Elektronenstrahlerzeugungssystem führen, die den Elektronenstrahl stört.
mehrere Haltestäbe dejustiert, was zu falschen Abständen zwischen den Linsenelementen oder einer unvollständigen Bedeckung der Klaue einer Haltelasche durch den isolierenden Haltestab führt. Beide Fälle sind unerwünscht, da sie zu einer Verzerrung des elektrostatischen Feldes im Elektronenstrahlerzeugungssystem führen, die den Elektronenstrahl stört.
Ein typisches Beispiel einer zur Herstellung eines
Elektronenstrahlerzeugungssystems einer Bildaufnahmeröhre
verwendeten Geräts ist in Figur 8 der ÜS-PS
4,169,239 (Ehata et al) vom 25. September 1979 dargestellt. In der Figur sind die isolierenden Haltestäbe auf Einschmelzsupporten gelagert dargestellt, die
, auf die hintereinander angeordneten Linsenelemente
4,169,239 (Ehata et al) vom 25. September 1979 dargestellt. In der Figur sind die isolierenden Haltestäbe auf Einschmelzsupporten gelagert dargestellt, die
, auf die hintereinander angeordneten Linsenelemente
zubewegt werden. Es wird dabei erwähnt, daß die Genauigkeit, mit der die Elektroden montiert werden, wegen des
thermischen und mechanischen Schocks, der bei der Berührung der geschmolzenen Haltestäbe mit den Haltelaschen
der Linsenelemente entsteht, leidet, wenn die ' Viskosität des verschmolzenen Glashaltestabes niedrig
ist.
Es ist bekannt, daß eine sichere, wenn auch etwas willkürliche Positionierung der isolierenden Haltestäbe auf
dem EinschmeIzsupport dadurch erreicht werden kann, daß
man den Einschmelzsupport mit einer Vakuumhalterungsvorrichtung versieht. Wegen der Wechselwirkung der Breitentoleranzen
des Haltestabes und des Einschmelzsupportes kann jedoch eine seitliche Versetzung des Haltestabes
beim anfäny.. ^chen Aufsetzen auf den Einschmelzsupport
stattfinden.
Ein Beispiel einer Anordnung zur Verringerung der seitlichen Bewegung eines Haltestabes ist aus der US-PS
3,609,400 (Marks et al) vom 28. September 1971 bekannt. Bei dieser E'nrichtung ist ein Einschmelzblock vorgesehen,
der einen Bettungs-Trog enthält, in den der isolierende Haltestab paßt. Die Genauigkeit der Ausrichtung
des Haltestabes hängt dabei von der Genauigkeit ab, mit der die Breite der Haltestäbe kontrolliert werden kann.
Die gegenwärtig industriell zulässige Breitentoleranz für gepreßte, vielgestaltige Haltestäbe mit Längen bis
zu 49 mm beträgt +_ 0,254 mm. Eine sekundäre Bearbeitungsoperation nach dem Ausglühen der Einschmelzung zu deren
Entgasen und Einstellung der physikalischen Abmessungen ist zeitraubend, teuer und damit unzweckmäßig., Es ist
daher wünschenswert, einen selbst ausrichtenden, iso-• lierenden Haltestab zu schaffen, der im wesentlichen unabhängig
von den oben erwähnten industriellen Breitentoleranzen ist.
Diese Aufgabe wird durch die im Patentanspruch 1 gekennzeichnete Erfindung gelöst.
Durch die vorliegende Erfindung wird also ein Elektronenstrahlerzeugungssys+'em
geschaffen, das mindestens einen 35
sich im wesentlichen in einer Längsrichtung erstreckenden Elektronenstrahlweg aufweist und eine Mehrzahl von
Elektroden enthält, die an mindestens zwei elektrisch isolierenden Haltestäben angebracht sind. Jeder der
Haltestäbe hat eine Fläche mit mindestens zwei in ihr gebildeten Orientierungsausnehmungen zum Ausrichten der
Haltestäbe längs des Strahlweges.
Im folgenden werden Ausführungsbeispiele der Erfindung unter Bezugnahme auf die Zeichnung näher erläutert.
Es zeigen:
Figur 1 eine teilweise geschnittene Ansicht der Vorderseite eines Elektronenstrahlerzeugungssystems
mit zwei bekannten Haltestäben;
Figur 2 eine teilweise geschnittene, in Richtung der Pfeile 2-2 der Figur 1 von der Seite gesehene
Ansicht des Elektronenstrahlerzeugungssystems gemäß Figur 1;
Figur 3 eine teilweise geschnittene Vorderansicht eines Elektronenstrahlerzeugungssystems mit einer Ausführungsform
der selbst ausrichtenden Haltestäbe gemäß der Erfindung;
Figur 4 eine geschnittene Seitenansicht gesehen in
Richtung der Pfeile 4-4 der Figur 3; 30
Figur 5 eine Draufsicht einer zweiten Ausführungsform
eines sich selbst ausrichtenden Haltestabei; gemäß der Erfindung und
Figur 6 eine Stirnansicht in Richtung der Pfeile 6-6 der Figur 5.
—. *7 mm
Die Figuren 1 und 2 zeigen die strukturellen Details eines bekannten Elektronenstrahlerzeugungssystems, das
im Hals einer Kathodenstrahlröhre angeordnet ist. Der Aufbau dieses Elektronenstrahlerzeugungssystems ist ähnlieh
wie der in der US-PS 3,772,554 (Hughes) vom 13. November 1973 Beschriebene. Die isolierenden Haltestäbe
dieser Konstruktion sind konventionell.
Ein verbessertes ElektroneiBtrahlerzeugungssystem, das
in den Figuren 3 und 4 dargestellt ist, enthält einen evakuierten Glaskolben 11, der bei einer vollständigen
Kathodenstrahlröhre eine rechteckige Frontglaswanne (nicht dargestellt) und einen trichterförmigen Kolbenteil mit
einstückig an eformtem Hals 13 enthält. Das Ende des
Halses 13 wird durch einen angeschmolzenen Glasfuß 15 verschlossen, der von einer Mehrzahl von Leitungen oder
Stiften 17 durchsetzt wird. An den Stiften 17 ist außen
am Kolben ein Sockel 19 angebracht.
Im Hals 13 ist mittig ein durch Verschmelzungen gehaltertes Zweipotential-in-line-Elektronenstrahlerzeugungssystem
21 angeordnet, das für die Erzeugung von drei Elektronenstrahlen ausgelegt ist, die entlang in einer Ebene liegenden,
konvergierenden Wegen in einer gemeinsamen, im wesentliehen longitudinalen Richtung zu einem nicht dargestellten
Bildschirm verlaufen. Das Strahlerzeugungssystem enthält zwei Haltestäbe oder Einbettungen 23a und 23b aus Glas,
an denen die verschiedenen Elektroden gehaltert sind, so daß eine zusammenhängende Einheit gebildet wird, wie
sie in der Technik üblicherweise verwendet wird. Die Elektroden enthalten drei in Querrichtung im wesentlichen
gleich beabstandete, in einer Ebene liegende Kathoden (je eine zur Erzeugung eines Elektronenstrahls), eine
Steuergitterelektro^"· 27 (auch als G1 bezeichnet) , eine
Schirmgitterelektrode 29 (auch als G2 bezeichnet), eine erste Beschleunigungs- und Fokussierungselektrode 31
S": Ό.-.:. 321 6OA1
— β —
(auch als G3 bezeichnet) und eine zweite Beschleunigungsund
Fokussierugselektrode 31 (auch als G4 bezeichnet), auf die ein Abschirmbecher 35 folgt; die Elektroden sind in
Längsrichtung in der angegebenen Reihenfolge mit Abständen längs der Stäbe 23a und 2 3b angeordnet. Die verschiedenen
Elektroden des Strahlerzeugungssystems 21 sind mit den Stiften 17 entweder direkt oder über Metallstreifen
37 elektrisch verbunden. Das Strahlerzeugungssystem 21 wird auf den Stiften 17 und mit Federfingern 39 am
•j Q Abschirmbecher 35, welche gegen eine elektrisch leitende
innere Beschichtung 41 auf der Innenseite des Halses drücken und mit dieser Kontakt machen, in der gewünschten
Lage im Hals 13 gehalten. Die innere Beschichtung 41 erstreckt sich über die Innenfläche des trichterförmigen
Kolbenteils und ist an einem Anodenanschluß (nicht dargestellt) angeschlossen.
Jeder der beiden neuartigen Haltestäbe 23a und 23b ist ein parallelepipedförmiges Bauteil, das etwa 11 mm
breit, etwa 48 mm lang und etwa 4,25 mm dick ist. Die Stäbe 23a und 23b werden durch Einpressen eines geeigneten
Glaspulvers in eine Form gebildet. Nach dem Formen werden sie geglüht oder glasiert, um das Material zu
entgasen, die Abmessungen der Haltestäbe zu fixieren
-25 und die Haltestäbe zu verfestigen, so daß sie weniger anfällig gegen splittern oder springen sind. Die Haltestäbe
23a und 23b haben jeweils eine Halterungs- oder Montagefläche 45 und eine Einschmelzsupportfläche 47.
In die beiden in Längsrichtung verlaufenden Kanten der Haltestäbe, die an die Einschraelzsupportflache 47 angrenzen,
sind Fasen oder Abschrägungen von etwa 30° gebildet, z.B. geschliffen, um den nachfolgenden Einschmelzvorgang
zu erleichtern. Jede der einzelnen Elektroden 25 bis 33 enthält Haltelaschen, die in die Halte-
flächen 45 der Haltestäbe 2 3a und 23b eingeschmolzen werden. In den Einschmelzsupportflächen 47 der Haltestäbe
23a und 23b werden während des Formungs- oder Preßvorganges mindestens zwei Indexvertiefungen oder
Positionierungs- bzw. Orientierungsausnehmungen 49 und 51 gebildet. Die Positionierungsausnehmungen 49 und 51
liegen auf der Mittellinie der Längsachse der Haltestäbe. Die 1-usitionierungsausnehmungen 4 9 und 51 haben
die gleiche seitliche oder Breitenabmessung, wenn jedoch eine der beiden Ausnehmungen eine andere Abmessung als
die andere hat, kann eine eindeutige Orientierung erreicht werden.
Wie in Figur 3 und 4 dargestellt ist, haben die Aushöhlungen oder Orientierungsausnehmungen 49 und 51
in den Stäben 23a und 23b eine im wesentlichen rechteckige Form und reichen bis zu einer Tiefe von ungefähr 1,5 mm
in den Körper der Haltestäbe. Die Ausnehmungen 49 und 51 sind typischerweise etwa 5 mm lang und etwa 3 mm breit.
Wenn die Haltestäbe beim Erhitzen mit den Orientierungsausnehmungen
49 und 51 der glasierenden Flamme ausgesetzt werden, wird die Geometrie der Orientierungsausnehmungen,
die sich beim Pressen ergeben hat, nicht auf die gebrannten oder glasierten Stäbe übertragen. In diesem Falle nehmen
die Orientierungsausnehmungen 49 und 51 längs der Haupt- und der Nebenachse der Haltestäbe eine leicht elliptische
bzw. parabolische Form an. Während des Einschmelzvorganges sind die Haltestäbe 23a und 23b in der Längsrichtung
wegen der langgestreckten Orientierungsausnehmungen 49 und 51 relativ frei beweglich, in seitlicher
Richtung jedoch fixiert.
ί Eine andere Ausführungsform eines neuen, mit Ausrichtmitteln
versehenen Haltestabes 147 ist in Figur 5 dargestellt. Dieser Haltestab hat eine erste Orientierungsoder Positionierungsausnehmung 149 mit einer Längsabmessung,
die größer ist als die Querabmessung während eine zweite Positionierungsausnehmung 151 im wesentlichen
kreisförmig ist und damit eine Konfiguration mit minimaler
Oberfläche hat. Bei dieser Ausführungsform ist der Haltestab während des Einschmelzvorganges sowohl in der Längsrichtung
als auch in der Querrichtung fixiert. Mindestens eine der Index- oder Positionierungsausnehmungen, z.B.
die Ausnehmung 149, sollte in der Längsrichtung frei beweglich sein, so daß keine Toleranzprobleme bezüglich des
Abstandes zwischen den Orientierungsausnehmungen 149 und
151 auftreten. Die Orientierungsausnehmung 149 ist typischerweise
etwa 5 mm lang und etwa 3 mm breit während die Ausnehmung 151 einen Durchmesser von etwa 3 mm hat.
In einer früheren Ausführungsform der Haltestäbe mit zwei Orientierungsausnehmungen minimaler Fläche, d.h. zwei
kreisförmigen Ausnehmungen, wurde festgestellt, daß ungefähr 10 bis 30% der Halterungsstäbe nach dem Glasieren
ausgemustert werden mußten, da der Abstand zwischen den Ausnehmungen außerhalb des zulässigen Toleranzbereiches
lagen. Bei der vorliegenden Konstruktion mit mindestens einer "freischwimmenden", d.h. in Längsrichtung beweg-'liehen
Orientierungsausnehmung besteht dieses Problem bezüglich der Abstände der Ausnehmungen nicht.
Um das Elektronenstrahlerzeugungssystem unter Verwendung der neuen, sich selbst ausrichtenden Haltestäbe 2 3a und
23b zusammenzusetzen werden die System- und Linsenelemente auf einen nicht dargestellten Dorn gesteckt. Die Haltestäbe
23a und 23b werden auf eine Einschmelzvorrichtung gelegt, die mindestens zwei Einschmelzblöcke mit pyramidenstumpfförmigen
Orientierungsstiften enthält, die von den Lagerungsflächen der Blöcke vorspringen. Die Index-,
Positionierungs- oder Orientierungsstifte ragen in die Orientierungsausnehmungen 49 und 51 der Haltestäbe 23a
und 2 3b hinein und beschränken die seitliehe Bewegung der Haltestäbe während des Einschmelzvorganges. Dadurch,
daß man die Orientierungsstifte auf die Orientierungsausnehmungen 49 und 51 bezieht, die entlang der Mittellinie
der Haltestäbe 23a und 23b liegen, wird die Ausrichtung der Haltestäj- um den Faktor 2 verbessert, da die Ausrichtungstoleranz
der Ausnehmungen sich gleichmäßig um die Mittellinie verteilt. Die Breitenabmessung des Haltestabes
ist nicht langer ein Faktor, der die seitliche Abweichung der Stäbe bestimmt. Außerdem sichert die verbesserte
Präzision, mit der die Haltestäbe in'seitlicher Richtung gehaltert werden, daß die Elektronenlinsenelemente
im System die richtigen Abstände haben und daß die äußeren Kanten der Haltelaschen der Linsenelemente völlig in die
isolierenden Haltestäbe 23a und 23b eingebettet und von letzteren umgeben sind, wodurch eine Störung des Elektronenstrahls
des Elektronenstrahlweges verhindert wird.
Die Erfindung wurde oben anhand einer Farbfernsehröhre mit drei längs konvergierender Wege verlaufenden Elektronenstrahlen
beschrieben, selbstverständlich können die sich selbst ausrichtenden isolierenden Haltestäbe auch in jedem
anderen Elektronenstrahlerzeugungssystem verwendet • werden, bei dem eine genaue Ausrichtung der Haltestäbe
erforderlich ist.
Claims (7)
- PatentansprücheElektronenstrahlerzeugungssystem mit mindestens einem, im wesentlichen in einer Längsrichtung verlaufenden Elektronenstrahlweg, das mindestens zwei längliche, elektrisch isolierende Haltestäbe enthält, an denen durch Halterungsvorrichtungen eine Mehrzahl von Elektroden angebracht ist, dadurch gekennzeichnet , daß mindestens zwei Orientierungs- oder Positionierungsausnehmungen (49, 51; 149, 151) in einer Oberfläche (47) jedes der Haltestäbe (23a, 23b; 147) gebildet sind, wodurch die Stäbe längs des Strahlweges ausgerichtet werden.
- 2. Elektronenstrahlerzeugungssystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Orientierungsausnehmungen (49, 51; 149, 151) entlang der Mittellinie der Hauptachse des jeweiligen Haltestabes (23a, 23b, 147) gebildet sind.
- 3. Elektr.onenstrahlerzeugungssystem nach Anspruch 2, daddurch gekennzeichnet, daß mindestens eine der Orientierungsausnehmungen (49, 51; 149) längs der Hauptachse des Haltestabes langgestreckt ist.
- 4. Elektronenstrahlerzeugungssystem nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß eine der Orientierungsausnehmungen (151) eine minimale Oberflächenkonfiguration hat und die andere Orientierungsausnehmung (149) in Richtung der Hauptachse des Haltestabes (147) langgestreckt ist.
- 5. Elektronenstrahlerzeugungssystem nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Haltestäbe (23a, 23b) parallelepipedförmig sind.
- 6. Elektronenstrahlerzeugungssystem nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß eine Fase entlang jeder der in Längsrichtung verlaufenden Kanten der Halte-■ stäbe (23a, 23b), die der Fläche (47), in der die Orientierungsausnehmungen (49, 51) geformt sind, benachbart sind, gebildet ist.
- 7. Kathodenstrahlröhre, dadurch gekennzeichnet, daß sie ein Elektronenstrahlerzeugungssystern (21) nach einem der Ansprüche 1 bis 6 enthält.
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