DE3132269C2 - - Google Patents
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- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
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- C25D15/02—Combined electrolytic and electrophoretic processes with charged materials
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur
Herstellung von Kathoden zur Erzeugung von Wasserstoffgas,
wobei die Oberfläche des Elektrodensubstrats in einem
galvanischen Nickelbad galvanisiert wird.
Vorbekannte Verfahren zur Erzeugung von Wasserstoffgas
an einer Kathode sind beispielsweise die Elektrolyse einer
wäßrigen Alkalimetallösung im Diaphragmaverfahren unter
Verwendung eines porösen Filterdiaphragmas, wie ein Asbestdiaphragma,
oder eines dichten Diaphragmas, wie beispielsweise
eine Ionenaustauschermembran, sowie die Elektrolyse von
Wasser.
In jüngerer Zeit kam unter dem Gesichtspunkt der
Energieeinsparung der Verminderung der elektrolytischen
Spannung zunehmende Bedeutung zu. Als ein Verfahren zur
Verminderung der elektrolytischen Spannung wurde die
Verminderung der Wasserstoffüberspannung der Kathode
vorgeschlagen.
In der DE-OS 26 34 128 wird ein Verfahren und ein Bad
zum Abscheiden von Nickel-Graphit-Dispersionsüberzügen aus
einer wäßrigen Lösungen von Nickelsulfamat mit zusätzlichem
Gehalt an feinverteiltem Graphit, Netzmittel, Nickelchlorid
und Borsäure beschrieben. Mit diesem Bad werden Dispersionsüberzüge
auf Gegenständen mit dem Ziel aufgebracht, den
mechanischen Verschleiß bzw. Abrieb dieser Gegenstände zu
verhindern und glatte, gleichmäßige Schichten auf diesen
Gegenständen zu erzeugen.
Aufgabe der Erfindung ist es, ein Verfahren zur
Herstellung von Kathoden zur Erzeugung von Wasserstoffgas
herzustellen, wobei die Oberfläche des Elektrodensubstrats in
einem galvanischen Nickelbad galvanisiert wird. Die herzustellenden
Kathoden sollen bei nur geringer Wasserstoffüberspannung
gleichzeitig eine lange Lebensdauer besitzen.
Die erfindungsgemäße Aufgabe wird durch die Maßnahmen im
kennzeichnenden Teil des Hauptanspruchs gelöst. Weitere
vorteilhafte Ausführungsformen des erfindungsgemäßen
Verfahrens ergeben sich aus den Ansprüchen 2 bis 5.
Erfindungsgemäß wird eine Kathode erhalten, die auf dem
Substrat eine aktive Schicht aufweist. Die Kathode ist
langlebig und besitzt eine deutlich verminderte Wasserstoffüberspannung.
Darüber hinaus besteht ein weiterer erfindungsgemäßer
Vorteil darin, daß die erfindungsgemäße Kathode ohne
komplizierte Verfahrensschritte wirtschaftlich hergestellt
werden kann.
Als Elektrodensubstrat kann erfindungsgemäß jedes Material
verwendet werden, sofern es mit Nickel beschichtet
werden kann und unter den Verfahrensbedingungen antikorrodierende
Eigenschaften aufweist; zu geeigneten Materialien
zählen Eisen, nichtrostender Stahl, Kupfer, Nickel und deren
Legierungen; Materialien, die durch Beschichten von Nickel,
Chrom, Kupfer oder ähnlichem auf Eisen hergestellt werden;
sowie sog. Anodenmetalle (beispielsweise Titan, Tantal,
Niob, Zircon etc.) enthaltende Platingruppenmetalle oder
deren Oxide oder solche, die mit Nickel, Kupfer, Eisen
oder ähnlichen beschichtet sind.
Zu geeigneten feinen kohlenstoffhaltigen Partikeln,
die in dem galvanischem Nickelbad dispergiert werden, zählen
feine Kohlepartikel, wie beispielsweise Holzkohle,
Kohle, Knochenkohle, Graphit, Aktivkohle, Ruß und Koks,
wobei Aktivkohle aus Holz oder aus Kokosnußschale hinsichtlich
Wirksamkeit und Wirtschaftlichkeit bevorzugt
sind. Während die Wirkung der feinen kohlenstoffhaltigen
Partikel nicht klar ist, wird angenommen, daß die Partikel
die Oberfläche der Kathode aufrauhen und die katalytische
Aktivität erhöhen und hierdurch zur Verminderung
der Wasserstoffüberspannung der Kathode beitragen. Diese
Partikel können bevorzugt mit abnehmender Korngröße verwendet
werden. Die Korngröße (Durchmesser) beträgt normalerweise
100 µm oder weniger, vorzugsweise 10 µm
oder weniger.
Obgleich feines kohlenstoffhaltiges Material in sehr
weiter Korngrößenverteilung handelsüblich ist, werden erfindungsgemäß
solche Materialien verwendet, die mindestens
50 Gew.-% einer Korngröße von 100 µm oder weniger aufweisen.
In dem galvanischen Nickelbad werden die feinen kohlenstoffhaltigen
Partikel normalerweise in Mengen von etwa
0,1 g/l bis 100 g/l, vorzugsweise 1 g/l bis 20 g/l,
dispergiert. Obwohl ein Überschuß an feinen Partikeln keinen
bemerkbaren Einfluß auf die Wasserstoffüberspannung
der Kathode ausübt, ist die gleichförmige Dispersion der
feinen Partikel in dem galvanischen Nickelbad schwierig.
Andererseits erfolgt keine Verminderung der Wasserstoffüberspannung,
wenn die Menge zu gering ist.
Um die feinen kohlenstoffhaltigen Partikel in dem
galvanischen Nickelbad zu dispergieren, ist es nötig, in
geeigneter Weise zu rühren. Hierfür sind eine Methode, bei
der Gas in das Nickelbad eingeleitet wird, eine Methode,
bei der die Flüssigkeit rückgeführt wird, und eine Methode,
bei der ein Rührer verwendet wird, geeignet. Bei Dispersion
in kleinem Maßstab kann ein magnetischer Rührer verwendet
werden. Bei nicht ausreichender Rührung wird kein gleichförmig
metallbeschichtetes Produkt erhalten; bei zu starker
Rührung wird kein aktiv beschichtetes Produkt erhalten.
Bei Fortführung des Beschichtens über einen langen Zeitraum
werden die feinen kohlenstoffhaltigen Partikel verbraucht,
wobei insbesondere der Anteil an feineren kohlenstoffhaltigen
Partikeln abnimmt. In diesem Fall werden bevorzugt
alle feinen Partikel unter Verwendung eines Vorbeschichtungsfilters
entfernt und neue feine Partikel zugeführt.
Mit der Bezeichnung "galvanisches Nickelbad" wird
ein Bad bezeichnet, mit dem eine Nickelschicht oder
eine Nickellegierungsschicht hergestellt werden kann,
die im wesentlichen aus Nickel besteht und mindestens
eines der Metalle Kobalt, Eisen, Silber, Kupfer, Phosphor,
Wolfram, Magnesium, Titan, Molybdän, Beryllium, Chrom,
Zink, Mangan, Zinn, Blei und/oder Wismut (im folgenden
als "Legierungsmetall" bezeichnet) enthält, wobei als
Träger die Oberfläche des Elektrodensubstrats dient.
Zu geeigneten galvanischen Nickelbädern gemäß der Erfindung
zählen übliche galvanische Nickelbäder wie Nickelsulfatbäder,
Nickelsulfamatbäder, Nickelchloridbäder, Nickelbromidbäder
und deren Mischungen. Zu bevorzugten Nickelbädern
zählen Bäder mit Gehalt an Nickelsulfamat oder Nickelsulfat
als Hauptbestandteil und zusätzlich Nickelchlorid und Borsäure
sowie ein Bad der gleichen Zusammensetzung mit der
Ausnahme, daß Nickelbromid anstelle von Nickelchlorid verwendet
wird.
Viele der üblichen Nickelbäder wie Nickelsulfamatbäder,
Nickelsulfatbäder oder Nickelchloridbäder enthalten normalerweise
nicht nur Nickel sondern auch Kobalt. Der Kobaltgehalt
liegt im Bereich von 0,001 bis 10 Gew.-%, bezogen auf
den Gesamtgehalt von Nickel und Kobalt.
Bei Ausbildung einer Beschichtung aus einer
Nickel-Kobalt-Legierung auf der Oberfläche des Elektrodensubstrats
kann das im galvanischen Nickelbad enthaltende Kobalt
wie zuvor beschrieben als Legierungsmetall verwendet werden;
oder die gewünschte Zusammensetzung des Bades kann hergestellt
werden, indem ein Teil des darin enthaltenen Kobalts
entfernt wird oder indem Kobalt in Form einer wasserlöslichen
Verbindung zugesetzt wird. Bei Verwendung einer kobalthaltigen
Anode als Gegenelektrode beim Galvanisieren kann das Kobalt,
das in dem galvanischen Nickelbad während des Galvanisierens
gelöst ist, als Legierungsmetall verwendet werden.
Bei der Bildung von Schichten aus anderen
Nickellegierungen können Legierungsmetalle in Form wasserlöslicher
Verbindungen, z. B. in Form von Verbindungen, die
mit Anionen verbunden im Bad enthalten sind, enthalten sein.
Das Verhältnis von Nickel zu Legierungsmetall im galvanischen
Bad ist nicht entscheidend. Die Zusammensetzung des
Bades wird so bestimmt, daß in der Legierungsschicht auf
der Oberfläche des Elektrodensubstrats das Nickel als Hauptbestandteil
auftritt, wobei das Legierungsmetall den verbleibenden
Anteil ausmacht, vorzugsweise in einem Bereich
von 1 bis 49 Gew.-% der Legierungsschicht. Die Zusammensetzung
der wesentlichen Metalle auf der Oberfläche des
Substrats kann durch eine Methode bestimmt werden, bei
der ein Teil der Schicht abgelöst, aufgelöst
und beispielsweise durch eine Atomabsorptionsmethode untersucht
wird.
Derartige Legierungsmetalle in der Legierung verbessern
die Adhäsion der Schicht auf dem Substrat und
erhöhen die Härte der Schicht, so daß die
Schicht aus Nickellegierung bevorzugt und vorteilhaft
ist. Ist der Anteil an Legierungsmetall zu gering,
verlieren sich diese Vorteile; ist er zu groß, vermindert
sich die Korrosionsbeständigkeit des Nickels. Deshalb liegt
der Anteil an Legierungsmetall in der Schicht
im zuvor beschriebenen Bereich.
Dem erfindungsgemäßen galvanischen Nickelbad können
neben den Legierungsmetallen, sofern vorhanden, eine oder
mehrere Metalle wie Kupfer, Chrom, Aluminium, Zinn, Zink,
Barium, Silber, Platin, Rhodium, Iridium und/oder Palladium
in Mengen von 5000 ppm oder weniger, bezogen auf das Gesamtgewicht
des galvanischen Bades, zugesetzt werden. Bevorzugt
sind diesbezüglich die Metalle Platin, Rhodium, Iridium und
Palladium. Zusatz dieser Metalle verbessert die Aktivität
der erhaltenen Kathode und führt zu einer Kathode mit niedrigerer
Wasserstoffüberspannung.
Die besonders bevorzugten Konzentrationen der Metalle
werden, in Abhängigkeit von dem jeweiligen Metall, im folgenden
aufgeführt:
Cu²⁺: 0,5 zu 250 ppm
Cr²⁺ oder Cr³⁺: 50 zu 2000 ppm
Al³⁺: 50 zu 5000 ppm
Sn²⁺: 50 zu 5000 ppm
Zn²⁺: 50 zu 5000 ppm
Ba²⁺: 50 zu 5000 ppm
Ag⁺: 50 zu 5000 ppm
Pt²⁺ oder Pt⁴⁺: 5 zu 3000 ppm
Rh³⁺: 5 zu 300 ppm
Ir²⁺ oder Ir³⁺ oder Ir⁴⁺: 10 zu 3000 ppm
Pd²⁺: 1 zu 300 ppm
Cr²⁺ oder Cr³⁺: 50 zu 2000 ppm
Al³⁺: 50 zu 5000 ppm
Sn²⁺: 50 zu 5000 ppm
Zn²⁺: 50 zu 5000 ppm
Ba²⁺: 50 zu 5000 ppm
Ag⁺: 50 zu 5000 ppm
Pt²⁺ oder Pt⁴⁺: 5 zu 3000 ppm
Rh³⁺: 5 zu 300 ppm
Ir²⁺ oder Ir³⁺ oder Ir⁴⁺: 10 zu 3000 ppm
Pd²⁺: 1 zu 300 ppm
Bevorzugt werden diese Metalle dem galvanischen Bad in
deren Salzform zugesetzt. Diese Metalle sind im allgemeinen
im galvanischen Bad in Ionenform vorhanden. Einige Metalle
sind jedoch in Salzform enthalten.
Wenngleich übliche galvanische Nickelbäder erfindungsgemäß
verwendbar sind, können darüber hinaus schwefelabscheidende
Verbindungen wie Thioharnstoff, Thiocyanate, Thiosulfate,
Sulfite und Thioglykolsäure und phosphorabscheidende
Verbindungen wie Phosphite den Bädern zugesetzt werden.
Bei erfindungsgemäßer Verwendung des galvanischen
Nickelbades beim Galvanisieren ist es sinnvoll, geeignete
Verfahrensbedingungen wie Badzusammensetzung, Verfahrenstemperatur,
Stromdichte, Gegenelektrode und
pH-Wert des Bades auszuwählen. Bei einem Nickelsulfamatbad
liegt der pH-Wert vorzugsweise in einem Bereich von 1,5 bis
5,5. Innerhalb dieses pH-Wertbereiches werden Kathoden erhalten,
die praktisch gleiche Aktivität aufweisen. Die Temperatur
zum Galvanisieren liegt im allgemeinen im Bereich von
20 bis 60°C, obwohl dieses nicht entscheidend ist. Die
Stromdichte beträgt 0,1 A/dm² bis 15 A/dm², vorzugsweise
0,5 A/dm² bis 5 A/dm². Ist die Stromdichte extrem niedrig
oder extrem hoch, wird kein Produkt guter Adhäsion und mit
hohem Aktivitätsgrad erhalten. Als Gegenelektrode zur Verwendung
bei dem erfindungsgemäßen Beschichten ist eine Nickelelektrode
für Nickelbeschichten bevorzugt. Zusätzlich können
sog. Anodenmetalle, hergestellt durch Beschichten von Platingruppenmetallen
und Graphit, verwendet werden.
Die Dicke der Schicht beträgt zumindest einige
Mikron, vorzugsweise 20 µm oder mehr, berechnet auf
reines Nickel, um ausreichende Lebensdauer der Kathode zu gewährleisten.
Um die Adhäsion zwischen der Schicht und dem
Elektrodensubstrat zu erhöhen, kann auf der Schicht desweiteren
Nickel oder schwefelhaltiges Nickel abgeschieden
werden.
Das erfindungsgemäße Verfahren führt zu einer Kathode
zur Erzeugung von Wasserstoffgas, wobei bei diesem Verfahren
die Kosten sehr niedrig gehalten werden können, während
das Verfahren selbst sehr einfach ist. Darüber hinaus besitzt
die auf diese Weise hergestellte Kathode eine sehr
niedrige Wasserstoffüberspannung und hohe Nutzungsdauer.
Die Kathode ist als Kathode für die Elektrolyse einer wäßrigen
Lösung von Alkaliverbindungen wie Natriumchlorid und Kaliumchlorid
unter Verwendung eines Asbestdiaphragmas oder
einer Ionenaustauschermembran geeignet. Zusätzlich ist sie
als Kathode einer Vorrichtung zur Elektrolyse von Wasser verwendbar.
Die Erfindung wird anhand der folgenden Beispiele näher
erläutert.
Ein Elektrodensubstrat, ein runder Nickelstab mit einem
Durchmesser von 3 mm, wurde durch 30minütiges Eintauchen in
Salzsäure bei 80°C geätzt und dann unter den nachfolgenden Bedingungen
galvanisiert:
Galvanisches Bad: | |
Nickelsulfamat|300 g/l | |
Nickelchlorid | 5 g/l |
Borsäure | 40 g/l |
feine granulare Aktivkohle mit Gehalt an 70% oder mehr Partikeln einer Korngröße von 100 µm oder weniger | 5 g/l |
Galvanisierungsbedingungen: | |
pH-Wert des galvanischen Bades|3,6 | |
Gegenelektrode | elektrolytische Nickelanode |
Temperatur | 40°C |
galvanische Stromdichte | 1 A/dm² |
Galvanisierungsdauer | 2 Stunden |
Das Potential der Wasserstofferzeugung (Wasserstoffpotential)
des auf diese Weise hergestellten nickelplattierten
Produktes wurde in einer 20%igen KOH-Lösung
bei 60°C und 20 A/dm² mit einer Hg/HgO-Elektrode als Bezugselektrode
gemessen und betrug -1,15 V; in gleicher Weise und
unter gleichen Bedingungen wurde das Potential in den nachfolgenden
Beispielen bestimmt. Hierbei betrug das Potential
der Hg/HgO-Bezugselektrode (20% KOH, 60°C) gegenüber dem Elektrodenpotential
bei Wasserstoffgleichgewicht (20% KOH, 60 KC)
0,92 V.
Die obige Verfahrensweise wurde mit dem Unterschied
wiederholt, daß der pH-Wert des Bades auf 2, 3, 4 oder 5
eingestellt wurde. Das Potential jedes der hergestellten
Produkte wurde wie beschrieben gemessen und ergab die Ergebnisse
gemäß der folgenden Tabelle 1:
pH-Wert des galvanischen Bades | |
Potential | |
2|-1,16 V | |
3 | -1,15 V |
4 | -1,15 V |
5 | -1,13 V |
Zum Vergleich wurde der gleiche runde Nickelstab, der
wie zuvor beschrieben verwendet wurde, unter gleichen Bedingungen
geätzt und dann dessen Potential gemessen; es betrug
-1,35 V.
Zusätzlich wurde ein weicher Stahlstab mit gleichem
Durchmesser wie der Nickelstab in Salzsäure 30 Minuten
bei 60°C eingetaucht und dessen Potential gemessen; es
betrug -1,36 V.
Aus diesen Vergleichsversuchen geht der bedeutende
Unterschied zwischen den Potentialen der erfindungsgemäßen
Elektroden und den Vergleichselektroden hervor.
Ein Elektrodensubstrat, ein runder Nickelstab, wurde
unter den Bedingungen gemäß Beispiel 1 geätzt und unter den
folgenden Bedingungen elektrolytisch beschichtet:
Galvanisches Bad: | |
Nickelsulfat|84 g/l | |
Nickelchlorid | 30 g/l |
Ammoniumchlorid | 4,5 g/l |
Kaliumchlorid | 6 g/l |
Borsäure | 30 g/l |
feine granulare Aktivkohle (KV-3) | 5 g/l |
Galvanisierungsbedingungen: | |
pH-Wert des galvanischen Bades|3,5 | |
Gegenelektrode | elektrolytische Nickelanode |
Temperatur | 40°C |
galvanische Stromdichte | 2 A/dm² |
Galvanisierungsdauer | 2 Stunden |
Das Wasserstoffpotential des auf diese Weise hergestellten
beschichteten Produktes wurde gemäß Beispiel 1 gemessen
und betrug -1,16 V.
Ein runder Eisenstab mit einem Durchmesser von 3 mm
wurde durch 30minütiges Eintauchen in Salzsäure bei 60°C
geätzt und dann unter den nachfolgenden Bedingungen galvanisiert:
Galvanisches Bad: | |
Nickelchlorid|240 g/l | |
Salzsäure | 100 g/l |
Galvanisierungsbedingungen: | |
galvanische Stromdichte | |
3 A/dm² | |
Gegenelektrode | Nickelanode |
Galvanisierungsdauer | 3 Minuten |
Das auf diese Weise hergestellte Nickelprodukt
wurde als Elektrodensubstrat gemäß Beispiel 1 mit dem
Unterschied elektrolytisch beschichtet, daß der pH-Wert etwa
4 betrug. Die auf diese Weise hergestellte Elektrode besaß
ein Wasserstoffpotential von -1,14 V.
Ein runder Kupferstab mit einem Durchmesser von 3 mm
wurde mit Salzsäure gewaschen und gemäß Beispiel 1 mit dem
Unterschied galvanisiert, daß der pH-Wert etwa 4 betrug.
Das Potential der auf diese Weise hergestellten Elektrode
betrug -1,14 V.
Das Elektrodensubstrat gemäß Beispiel 1 wurde unter
den Bedingungen des Beispiels 1 mit dem Unterschied elektrolytisch
beschichtet, daß dem galvanischen Bad Kupferionen in
Form von Kupfersulfat in Mengen von 30 ppm, 3 ppm oder
0,3 ppm zugesetzt wurden. Das Potential der auf diese Weise
hergestellten Kathoden wurde gemessen; die diesbezüglichen
Ergebnisse werden in der folgenden Tabelle 2 aufgeführt:
Menge an zugesetzten Kupferionen (ppm) | |
Potential (V) | |
30 | |
-1,01 | |
3 | -1,03 |
0,3 | -1,13 |
Ein runder Kupferstab mit einem Durchmesser von 3 mm
wurde mit Salzsäure gewaschen und unter den Bedingungen gemäß
Beispiel 5 galvanisiert, wobei das galvanische Bad
30 ppm Kupferionen enthielt. Das Potential der auf diese
Weise hergestellten Kathode betrug -0,99 V.
Es wurde ein Nickelstab mit einem Durchmesser von 3 mm
als Elektrodensubstrat verwendet. Das Elektrodensubstrat
wurde durch 30minütiges Eintauchen in 5 n- bis 6 n-Salzsäure
bei 80°C geätzt und dann unter den folgenden Bedingungen galvanisiert,
wobei Bäder verwendet wurden, die verschiedene
Mengen an Pt, Rh, Ir oder Pd (in Form deren Chloride zugesetzt)
enthielten.
Galvanisches Bad: | |
Nickelsulfamat|300 g/l | |
Nickelchloride | 5 g/l |
Borsäure | 40 g/l |
feine granulare Aktivkohle (KV-3) | 5 g/l |
Platingruppenmetall (Pt, Rh, Ir, Pd) | siehe Figur |
Galvanisierungsbedingungen: | |
pH-Wert des galvanischen Bades|3,6 | |
Gegenelektrode | Nickelanode |
Temperatur | 40°C |
galvanische Stromdichte | 1 A/dm² |
Galvanisierungsdauer | 2 Stunden |
Das Wasserstoffpotential der auf diese Weise hergestellten
nickelbeschichteten Stäbe wurde gemäß Beispiel 1 gemessen.
Der Zusammenhang zwischen der Konzentration an Platingruppenmetall
und dem Wasserstoffpotential wird in der anliegenden
Figur aufgezeigt.
In der Figur zeigen die Kurven 1, 2, 3 und 4 diese Zusammenhänge
auf, wenn Pt, Rh, Ir bzw. Pd zugesetzt werden.
Es wurden ein Nickelstab und ein weicher Stahlstab gemäß
Beispiel 7 geätzt und dann unter den nachfolgenden Bedingungen
unter Verwendung des nachfolgenden galvanischen
Bades, das geringe Mengen an Pt, Rh, Ir oder Pd gemäß Tabelle 3
enthielt, galvanisiert.
Das gemessene Wasserstoffpotential geht ebenfalls aus
der Tabelle 3 hervor.
Galvanisches Bad: | |
Nickelsulfat|84 g/l | |
Nickelchlorid | 30 g/l |
Ammoniumchlorid | 4,5 g/l |
Kaliumchlorid | 6 g/l |
Borsäure | 30 g/l |
feine granulare Aktivkohle | 5 g/l |
Platingruppenmetall (Pt, Rh, Ir, Pd) | siehe Tabelle 3 |
Galvanisierungsbedingungen: | |
pH-Wert des galvanischen Bades|3,5 | |
Gegenelektrode | Nickelanode |
Temperatur | 40°C |
galvanische Stromdichte | 2 A/dm² |
Galvanisierungsdauer | 2 Stunden |
Bei Verwendung der gemäß Beispiel 8 hergestellten
Stäbe wurde Sauerstoff über einen Zeitraum von
200 Stunden in einer 20%igen KOH-Lösung bei 150 A/dm² erzeugt.
Die gemessenen Potentiale werden in der Tabelle 4
wiedergegeben.
Aus den Ergebnissen kann abgeleitet werden, daß die
Stäbe über lange Zeiträume ein stabiles Potential
aufweisen, da diese Versuche mit einer Stromdichte von 150 A/dm²
durchgeführt wurden, während unter üblichen Betriebsbedingungen mit
30 A/dm² gearbeitet wird.
Ein Nickelstab mit einem Durchmesser von 3 mm wurde als
Elektrodensubstrat verwendet. Das Elektrodensubstrat wurde
geätzt, indem es in 5 n bis 6 n Salzsäure über 30 Minuten
bei 80°C eingetaucht wurde. Ebenso wurde ein Weichstahlstab
mit einem Durchmesser von 3 mm durch 30minütiges Eintauchen
in eine Salzsäure gleicher Konzentration wie zuvor bei 60°C
geätzt. Dann wurden diese Stäbe unter den folgenden Bedingungen
galvanisiert:
Galvanisches Bad: | |
Nickelsulfat|84 g/l | |
Kobaltsulfat | 5 g/l |
Nickelchlorid | 30 g/l |
Ammoniumchlorid | 4,5 g/l |
Kaliumchlorid | 6 g/l |
Borsäure | 30 g/l |
feine granulare Aktivkohle | 5 g/l |
Galvanisierungsbedingungen: | |
pH-Wert des galvanischen Bades|3,5 | |
Gegenelektrode | Graphit |
Temperatur | 40°C |
galvanische Stromdichte | 2 A/dm² |
Galvanisierungsdauer | 2 Stunden |
An den auf diese Weise hergestellten Stäben
wurde das Wasserstoffpotential gemäß Beispiel 1 bestimmt. Im
Fall des Nickelstabs betrug das Potential -1,14 V und im
Fall des Weichstahlstabes -1,15 V.
Das Verfahren gemäß Beispiel 10 wurde mit dem Unterschied
wiederholt, daß Pt, Rh, Ir oder Pd dem galvanischen Bad zugesetzt
wurde. Die Ergebnisse werden in der folgenden Tabelle 5
zusammengefaßt.
Ein Nickelstab mit einem Durchmesser von 3 mm wurde als
Elektrodensubstrat verwendet. Das Elektrodensubstrat wurde
durch 30minütiges Eintauchen in 5 n bis 6 n Salzsäure bei
80°C geätzt. Ebenso wurde ein Weichstahlstab mit einem Durchmesser
von 3 mm durch 30minütiges Eintauchen bei 60°C geätzt.
Dann wurden die Nickel- und Weichstahlstäbe unter den
folgenden Bedingungen galvanisiert, wobei das folgende
Bad verwendet wurde, das sehr geringe Mengen der
aufgeführten Metalle enthielt.
Galvanisches Bad: | |
Nickelsulfamat|300 g/l | |
Kobaltsulfamat | 0,1 g/l |
Nickelchlorid | 5 g/l |
Borsäure | 40 g/l |
feine granulare Aktivkohle | 5 g/l |
Galvanisierungsbedingungen: | |
pH-Wert des galvanischen Bades|3,6 | |
Gegenelektrode | Anode mit Gehalt an 99% Nickel und ungefähr 1% Kobalt |
Temperatur | 40°C |
galvanische Stromdichte | 2 A/dm² |
Galvanisierungsdauer | 2 Stunden |
Das Wasserstoffpotential der auf diese Weise hergestellten
Stäbe wurde gemäß Beispiel 1 bestimmt. Die
Ergebnisse werden in Tabelle 6 zusammengestellt.
Aus den Ergebnissen ergibt sich, daß die Zugabe so geringer
Metallmengen zu einer Verminderung der Wasserstoffüberspannung
führt.
Die Ni-Co-Legierung, die die Oberfläche des
Stabes darstellt, bestand aus nahezu 98,5% Nickel und
1,5% Kobalt.
Die Elektrodensubstrate gemäß Beispiel 10 wurden unter
den folgenden Bedingungen galvanisiert, wobei das folgende
galvanische Bad benutzt wurde, das geringe Mengen der Metalle
gemäß Tabelle 7 enthielt. Die Ergebnisse werden in
der Tabelle 7 zusammengefaßt.
Galvanisches Bad: | |
Nickelsulfat|84 g/l | |
Nickelchlorid | 30 g/l |
Ammoniumchlorid | 4,5 g/l |
Kaliumchlorid | 6 g/l |
Borsäure | 30 g/l |
feine granulare Aktivkohle | 5 g/l |
Galvanisierungsbedingungen: | |
pH-Wert des galvanischen Bades|3,5 | |
Gegenelektrode | Anode, 90% Nickel und 10% Kobalt enthaltend |
Temperatur | 40°C |
galvanische Stromdichte | 2 A/dm² |
Galvanisierungsdauer | 2 Stunden |
Die Ni-Co-Legierung, die die Oberfläche des
Stabes darstellt, bestand aus nahezu 90% Nickel und
10% Kobalt.
Die Produkte, die gemäß Beispiel 12 durch
Zusatz von geringen Metallmengen hergestellt wurden, wurden
unter den folgenden Bedingungen galvanisiert.
Galvanisches Bad: | |
Nickelsulfat|84 g/l | |
Nickelchlorid | 30 g/l |
Ammoniumchlorid | 4,5 g/l |
Kaliumchlorid | 6 g/l |
Borsäure | 30 g/l |
Thioharnstoff | 5 g/l |
Galvanisierungsbedingungen: | |
pH-Wert des galvanischen Bades|3,5 | |
Gegenelektrode | 99,9% Nickelanode |
Temperatur | 40°C |
galvanische Stromdichte | 2 A/dm² |
Galvanisierungsdauer | 10 Minuten |
Das Potential der einzelnen Produkte wird
in Tabelle 8 angegeben.
Aus den Ergebnissen gemäß Tabellen 6 und 8 geht hervor,
daß das Potential durch weiteres Beschichten mit Nickel
nicht wesentlich geändert wird, während jedoch die Adhäsion
des plattierten Produkts erhöht ist. Daraus kann gefolgert
werden, daß die mechanische Festigkeit der Produkte
verbessert ist.
Es wurde ein Nickelstab mit einem Durchmesser von 3 mm
als Substrat verwendet. Das Substrat wurde durch 30minütiges
Eintauchen in 5 n bis 6 n Salzsäure bei 80°C geätzt.
Ebenso wurde eine Weichstahlstab durch 30minütiges Eintauchen
bei 60°C geätzt. Dann wurden der Nickel- und der
Weichstahlstab unter den folgenden Bedingungen galvanisiert.
Galvanisches Bad: | |
Nickelsulfat|84 g/l | |
Kaliummolybdat | 15 g/l |
Natriumcitrat | 90 g/l |
feine granulare Aktivkohle (KV-3) | 5 g/l |
Galvanisierungsbedingungen: | |
pH-Wert des galvanischen Bades | |
7 | |
Gegenelektrode | Graphit |
Temperatur | 30°C |
galvanische Stromdichte | 2 A/dm² |
Galvanisierungsdauer | 2 Stunden |
Mit den auf diese Weise beschichteten Produkten wurde
das Wasserstoffpotential gemäß Beispiel 1 gemessen. Das
Wasserstoffpotential betrug im Fall des Nickelstabs -1,16 V
und im Fall des Weichstahlstabs -1,14 V.
Andererseits wurde das gleiche Verfahren mit dem Unterschied
wiederholt, daß lediglich die fein granulierte Aktivkohle
aus dem galvanischen Bad entfernt wurde. Das Wasserstoffpotential
betrug dann sowohl für den Nickelstab als
auch den Weichstahlstab -1,35 V.
Es wurden ein Nickelstab und ein Weichstahlstab gemäß
Beispiel 15 geätzt und unter den folgenden Bedingungen
elektrolytisch beschichtet.
Galvanisches Bad: | |
Nickelsulfat|23 g/l | |
Eisensulfat | 12 g/l |
Natriumchlorid | 9,5 g/l |
Borsäure | 25 g/l |
Saccharin | 0,8 g/l |
Natriumsulfat | 0,1 g/l |
feine granulare Aktivkohle | 5 g/l |
Galvanisierungsbedingungen: | |
pH-Wert des galvanischen Bades|2,5 | |
Gegenelektrode | Nickelanode |
Temperatur | 40°C |
galvanische Stromdichte | 2 A/dm² |
Galvanisierungsdauer | 2 Stunden |
Gemäß Beispiel 15 wurde an den auf diese Weise plattierten
Produkten das Wasserstoffpotential gemessen. Es
betrug im Fall des Nickelstabs -1,12 V und im Fall des
Weichstahlstabs -1,16 V.
Das Verfahren gemäß Beispiel 15 wurde mit dem Unterschied
wiederholt, daß dem galvanischen Bad Pt, Rh, Ir oder
Pd zugesetzt wurden. Die Ergebnisse werden in Tabelle 9 zusammengefaßt.
In der beiliegenden Figur wird, wie erwähnt, der Zusammenhang
zwischen der Konzentration an Platingruppenmetallen
in einem galvanischen Bad und dem Wasserstoffpotential
eines Produktes gemäß Beispiel 7 dargestellt.
Claims (5)
1. Verfahren zur Herstellung von Kathoden zur Erzeugung
von Wasserstoffgas, wobei die Oberfläche des
Elektronensubstrats in einem galvanischen Nickelbad galvanisiert
wird, dadurch gekennzeichnet,
daß man ein galvanisches Bad, das in an sich
bekannter Weise kohlenstoffhaltige Partikel einer Korngröße
von 100 µm oder weniger in einer Konzentration von
0,1 bis 100 g/l enthält, verwendet.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß man im galvanischen Nickelbad
kohlenstoffhaltige Partikel einer Korngröße von
10 µm oder weniger verwendet.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch
gekennzeichnet, daß man die kohlenstoffhaltigen
Partikel in einer Konzentration von 1 bis 20 g/l
verwendet.
4. Verfahren nach mindestens einem der vorhergehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet,
daß man ein galvanisches Nickelbad, das zur
Ausbildung einer Nickellegierungsbeschichtung, im wesentlichen
bestehend aus Nickel und mindestens Kobalt, Eisen
und/oder Molybdän als Legierungsmetallkomponente, geeignet
ist, verwendet.
5. Verfahren nach mindestens einem der vorhergehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet,
daß man ein Nickelbad, das eines oder mehrere
der Metalle Kupfer, Chrom, Aluminium, Zinn, Zink, Barium,
Silber, Platin, Rhodium, Iridium und/oder Palladium in
Mengen von 5000 ppm oder weniger, bezogen auf das Gesamtgewicht
des galvanischen Bades, enthält, verwendet.
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP55111066A JPS6047911B2 (ja) | 1980-08-14 | 1980-08-14 | 水素発生用陰極の製法 |
JP55164682A JPS5789491A (en) | 1980-11-25 | 1980-11-25 | Production of cathode for use in generation of hydrogen |
JP55169059A JPS5794582A (en) | 1980-12-02 | 1980-12-02 | Manufacture of cathode for generating hydrogen |
JP55169060A JPS6047912B2 (ja) | 1980-12-02 | 1980-12-02 | 水素発生用陰極の製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3132269A1 DE3132269A1 (de) | 1982-05-27 |
DE3132269C2 true DE3132269C2 (de) | 1989-12-28 |
Family
ID=27469876
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19813132269 Granted DE3132269A1 (de) | 1980-08-14 | 1981-08-14 | Kathode zur erzeugung von wasserstoffgas und verfahren zu deren herstellung |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE3132269A1 (de) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
IN164233B (de) * | 1984-12-14 | 1989-02-04 | Oronzio De Nora Impianti | |
JPH0790664A (ja) * | 1993-09-22 | 1995-04-04 | Chlorine Eng Corp Ltd | 低水素過電圧陰極とその製造方法 |
EP0849378A1 (de) * | 1996-12-17 | 1998-06-24 | Tosoh Corporation | Kathode mit niedriger Wasserstoffüberspannung und Verfahren zu deren Herstellung |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2634128C2 (de) * | 1976-07-29 | 1985-01-17 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Bad und Verfahren zum galvanischen Abscheiden von Nickel-Graphit-Dispersionsüberzügen |
-
1981
- 1981-08-14 DE DE19813132269 patent/DE3132269A1/de active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3132269A1 (de) | 1982-05-27 |
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