DE3011690C2 - Aufzeichnungsmedium für Lichtstrahlen, insbesondere Laserstrahlen - Google Patents
Aufzeichnungsmedium für Lichtstrahlen, insbesondere LaserstrahlenInfo
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- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/146—Laser beam
Description
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Aufzeichnungsmedium
für Lichtstrahlen nach dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1.
Aus der DE-OS 22 59 768 ist bekannt, daß für das Herstellen von Abbildungen in Mikroformaten ein
Material entsprechend der vorgenommenen, selektiven Lichtabstrahlung von einem wasserlöslichen Zustand
in einen wasserunlöslichen Zustand versetzt ,vird, und daß darauffolgend die Entwicklung vorgenommen
wird.
Weiter ist bereits bekannt, eine bildmäßige Aufzeichnung dadurch zu erreichen, daß ein im Infrarotbereich
liegender Laserstrahl auf eine sehr dünne Paraffinschient projiziert wird, so daß das Paraffin in
dem bestrahlten Bereich verdampft und/oder in die Randbereiche der Bestrahlung diffundiert wird, so
daß sie deformiert wird. Ein solches Verfahren ist beispielsweise in Applied Physics Letters 19, 1971, Seite
482 fund in Proceedings of the 6th Conference on Solid
State Devices, Tokio 1974, Supplement to the Journal of the Japan Society of Applied Physics,
Vol.44 (1975), Seiten79 bis 84 beschrieben worden.
Es zeigte sich jedoch, daß durch die nach der Projektion verbleibende Restwärme die Bildaufzeichnung
innerhalb der Paraffinschicht wieder verschlechtert wurde, was einen Verlust der aufgezeichneten Information
zur Folge hat.
Andere Verfahren, die beispielsweise in den GBPS 20 16 159 A, 20 07 860A, 20 03 622 A beschrieben
sind, verwenden metallische Aufzeichnungsschichten, die mit einer Schutzschicht überzogen sind. Die Metallschicht
besteht beispielsweise aus Blei.
Bei Verwendung einer derartigen Bleischicht als Aufzeichnungsmedium muß diese Schicht zum Einprägen
von Information bis über den Schmelz- bzw. Verdampfungspunkt hinaus erhitzt werden. Aus diesem
Grunde sind die zur Aufzeichnung notwendigen Energiemengen relativ groß, so daß kleine Halbleiterlaser
nicht eingesetzt werden können. Die entsprechenden Aufze'chnungsgesetze sind daher relativ aufwendig.
Es ist demzufolge Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Aufzeichnungsmedium zu schaffen, das bei
hoher Aufzeichnungsempfir.dlichkeit unter gleichzeitiger Erzielung einer sehr geringen Lesefehlerrate mit
geringen Energiemengen beschrieben werden kann, so daß selbst kleinere Halbleiterlaser zur Aufzeichnung
verwendet werden können.
Erfindungsgemäß wird dies dadurch erreicht, daß die erste Schicht hoher theimischer Leitfähigkeit eine
lichtabsorbierende Schicht ist, welche aus mindestens einem Element aus der Gruppe In, Bi, Te, Sb, Ge, Sn,
Pb, Cr, Nb, Ni, Pd, Fe, Pt, Re, Ta, Th, Ti, Zr und Tl in einer Gesamtmenge von mindestens 65 Atom-%
aufgebaut ist, und daß das eigentliche Aufzeichnungsmedium durch die darüber liegende organische
Schicht geringer thermischer Leitfähigkeit gebildet ist, welche aufgrund der Lichtabsorption an der darunterliegenden
lichtabsorbierenden Schicht selektiv verformt und/oder zum Verdampfen gebracht ist.
Aufgrund seiner Ausgestaltung ist das erfindungsgemäße Aufzeichnungsmedium zum Aufzeichnen von
Information geeignet, bei welcher die einzelnen Informationspunkte einen Durchmesser von 0,5 bis 1,5//
besitzen, während die Projektionszeit des Laserstrahls pro Projektionspunkt 10 bis 50 ns beträgt. Unter Verwendung
eines Halbleiterlasers läßt sich auf diese Weise eine ausgezeichnete Aufzeichnungsempfindlichkeit
erreichen, wobei wegen dem hohen Signal-Rauschverhältnis die Lesefehlerrate sehr gering ist.
Vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung ergeben sich anhand der Unteransprüche.
Die Erfindung sei im folgenden näher unter Bezugnahme auf die Zeichnungen erläutert. In den Zeichnungen
zeigt
Fig. 1 und 2 Schnittansichten von erfindungsgemäßen
Aufzeichnungsmedien;
F i g. 3 und 4 Schnittansichten eines Aufzeichnungsmediums
bzw. eine Draufsicht auf ein scheibenförmiges Aufzeichnungsmedium, in das bereits Informationen
eingeschrieben worden sind;
F i g. 5 eine Schnittansicht, die eine weitere Ausführungsform eines erfindungsgemäßen Aufzeichnungsmediums wiedergibt;
Fig. 6 eine schematische Darstellung der für die Herstellung des erfindungsgemäßen Aufzeichnungsmediums verwendeten Bedampfungsvorrichtung;
F i g. 7 eine Schnittansicht, die den Zustand verdeutlicht, in dem das Aufzeichnungsmedium montiert
ist;
Fig. 8 und 13 Diagramme, die die Wellenlängenabhängigkeit
des Reflexionsvermögens der Aufzeichnungsmedien wiedergeben;
Fig. 9 und 10 Diagramme, die die Beziehung zwisehen der für die Aufzeichnung erforderlichen Laserenergie
und der Materialzusammensetzung wiedergeben; und
Fig. 11 und 12 Diagramme, die die Beziehung zwischen
der Dicke der Schicht aus dem anorganischen Material bzw. der Aufzeichnungsschicht und der für
die Aufzeichnung erforderlichen Laserenergie wiedergeben.
Bei dem erfindungsgemäßen Aufzeichnungsmedium wird ein das projizierte Licht absorbierendes
Material, wie es unten beschrieben wird, ausgewählt und man bildet eine Aufzeichnungsschicht aus einem
organischen Material, die in ausreichender Nähe (die einen »engen Kontakt« einschließt) zu dem Licht absorbierenden
Material angeordnet ist.
Die F i g. 1 zeigt eine Schnittansicht einer Ausfuhrungsform des erfindungsgemäßen Aufzeichnungsmediums, das ein Substrat 1, eine erste Schicht 2 aus einem anorganischen Material und eine Aufzeichnungsschicht 3 umfaßt. Es ist wesentlich, daß die erste Schicht 2 aus dem anorganischen Material, die als Lichtabsorptionsschicht dient, prinzipiell mindestens ein Element enthält, das aus der Gruppe ausgewählt ist, die Bi, Te, Sb, In, Sn, Pb, Ge, Cr, Nb, Ni, Pd, Fe, Pt, Re, Ta, Th, Ti, Zr und Tl umfaßt. Von diesen EIementen sind Bi, In, Ge, Sn etc. bevorzugt, da sie frei von toxischen Wirkungen sind.
Die F i g. 1 zeigt eine Schnittansicht einer Ausfuhrungsform des erfindungsgemäßen Aufzeichnungsmediums, das ein Substrat 1, eine erste Schicht 2 aus einem anorganischen Material und eine Aufzeichnungsschicht 3 umfaßt. Es ist wesentlich, daß die erste Schicht 2 aus dem anorganischen Material, die als Lichtabsorptionsschicht dient, prinzipiell mindestens ein Element enthält, das aus der Gruppe ausgewählt ist, die Bi, Te, Sb, In, Sn, Pb, Ge, Cr, Nb, Ni, Pd, Fe, Pt, Re, Ta, Th, Ti, Zr und Tl umfaßt. Von diesen EIementen sind Bi, In, Ge, Sn etc. bevorzugt, da sie frei von toxischen Wirkungen sind.
Die erste Schicht aus dem anorganischen Material enthält neben mindestens einem Element der oben angesprochenen
Gruppe von Elementen mindestens ein weiteres Element, das aus der Gruppe ausgewählt ist,
die Sauerstoff, Schwefel und Selen umfaßt. Sauerstoff und Schwefel sind nicht toxisch und daher bevorzugt.
Gemäß einer besonders bevorzugten Ausführungsform der Erfindung beträgt der Gehalt an dem oder
den zusätzlichen Elementen im Höchstfall 35 Atom-%. Diese Maßnahme bringt den Vorteil mit
sich, daß die Lichtabsorptionsschicht während des Aufr.eichnungsvorgangs nur schwer verformt werden
kann. Bevorzugt sind die folgenden Kombinationen: Bi-S, In-S, Bi-In-S, Bi-Ge-S, Sn-In-S, Bi-Sn-S,
Bi-O-S, Bi-O-In-S, Bi-O-Sn-S, Sn-O, In-O und Bi-O. Konkret handelt es sich bei diesen
Kombinationen um Chalcogengläser, Mehrfach-
schichten aus einem Oxid oder Sulfid und Wismut od. dgl., einem Sulfid mit niedrigem Schwefelgehalt,
einem Oxid mit niedrigem Sauerstoffgehalt etc. Natürlich kann man in diese Zusammensetzung geringe
Mengen anderer Elemente einmischen.
Besonders bevorzugte Materialien sind die der nachstehenden allgemeinen Formel
Ax- B, (1)
in der
A für mindestens ein Element steht, das aus der Gruppe ausgewählt ist, die In, Bi, Te, Sb, Pb, Ge und
Sn umfaßt, während
B für mindestens ein Element steht, das aus der Gruppe ausgewählt ist, die S, Se und O umfaßt, wobei
die folgenden Beziehungen erfüllt sind:
65^ χ <. 100 und 0 ^ y £ 35.
Für χ ist der Bereich 65 ^ χ ^ 80 besonders bevorzugt.
Wenn der Wert von χ 80 übersteigt, neigt die erste Schicht aus dem anorganischen Material dazu,
verformt zu werden.
Der Laserstrahl, mit dem das Aufzeichnungsmedium bestrahlt wird, wird überwiegend durch die erste
Schicht 2 aus dem anorganischen Material absorbiert. Die in diesem Bereich freigesetzte Wärme wird auf die
diese Schicht überdeckende Aufzeichnungsschicht übertragen, in der sich Löcher oder Vertiefungen bilden.
Für die Dicke der lichtabsorbierenden Schicht ist ein Bereich von mindestens 20 nm bis höchstens
300 nm bevorzugt.
Die Dicke der Aufzeichnungsschicht erstreckt sich vorzugsweise von mindestens 20 nm bis höchstens
200 nm und noch bevorzugter von mindestens 50 nm bis höchstens 150 nm.
Das Substrat 1, auf das die oben angesprochene Schicht aus dem anorganischen Material und die oben
beschriebene Aufzeichnungsschicht aufgebracht sind, besitzt keinen wesentlichen Einfluß auf die Aufzeichnung.
Die Tatsache, ob das Substrat aus einer transparenten, halbtranspareriten oder undurchlässigen
Substanz besteht, hängt davon ab, ob Änderungen des Transmissionsfaktors ausgenützt werden sollen
oder ob irgendein anderes Verfahren bei der Steuerung der Dicke bei der Bildung der entsprechenden
Schichten auf dem Substrat angewandt wird. Da die physikalischen Eigenschaften des Substrats, wie die
Wärmekapazität und ihr Reflexionsvermögen, durch die Intensität etc. des verwendeten Laserstrahls begrenzt
werden, hängt die für das Substrat verwendete Substanz ebenfalls von diesen Eigenschaften ab. Die
für das Substrat im allgemeinen verwendeten Substanzen sind Oxidgläser oder synthetische Harze, wie
Polymethylmethacrylat, Polyvinylchlorid, Polyester, Polyäthylen etc.
Die lichtabsorbierende Schicht kann man in beliebiger Weise aufbringen, beispielsweise durch Aufspritzen
bzw. Aufsputtern, durch Aufdampfen unter Einwirkung eines Elektronenstrahls, durch Aufdampfen
im Vakuum, durch Intra-Gasbedampfung etc. Wenn man beim Aufdampfen des organischen Materials
für die Aufzeichnungsschicht ein organisches Material in geringer Menge (im Höchstfall ein Drittel,
bezogen auf das Verhältnis der Dicke im Fall der Aufdampfung einer einzigen Substanz) einmischt, oder
wenn man eine Vielquellen-Hochgeschwindigkeits-Rotationsbedampfung
anwendet, wird die thermische Leitfähigkeit erniedrigt, wodurch die Empfindlichkeit
des Aufzeichnungsmediums gesteigert wird.
Weiterhin ist es von Vorteil, die lichtabsorbierende Schicht durch die Intra-Gasverdampfung (intra-gaseous
evaporation) zu bilden. Dies beruht auf der Tatsache, daß die durch Intra-Gasverdampfung gebildete
Schicht eine große Anzahl von Hohlräumen aufweist und eine niedrige thermische Leitfähigkeit besitzt.
Vorzugsweise enthält das zu verwendende Gas prinzipiell mindestens ein Element, das aus der Gruppe ausgewählt
ist, die Sauerstoff, Stickstoff, Argon und Wasserstoff umfaßt. Von diesen ist das Gas besonders
bevorzugt, das überwiegend Sauerstoff enthält. Vorzugsweise liegt der Druck des Gases in einem Bereich
von 1,33 χ ΙΟ"4 bis 1,33 χ 10"2mbar (104 bis 10"2
Torr).
Beispiele für das organische Material, mit dem man die Aufzeichnungsschicht bilden kann, sind Materialien,
deren Hauptbestandteile die folgenden sind: Polymere, Copolymere oder Mischungen von Acryl-
säure und Methacrylsäure und deren Äthyl- oder Methylester und deren Derivate (beispielsweise Acrylnitril);
mindestens ein Polymeres, Copolymeres, Ester-Polymeres oder Mischungen davon aus Kohlenstofffluoriden,
wie 3-Fluoräthylen-chlorid und 4-Fluoräthylen, Vinylchlorid, Vinylidenchlorid, Vinylidenfluorid,
Styrol, Butadien, Buten, Äthylen. Propylen, Chloropren, Vinylacetat, Urethan, Vinylalkohol,
Vinylformal, Vinylbutyral und/oder Äthylenglykol (beispielsweise Polyglycidylmethacrylat oder
ein Acrylnitril/Butadien/Styrol-Harz [ABS-Harz]);
Polyimide; Polyamide; Polyacrylamide; Polyvinylpyrrolidon; Nitrocellulose; Celluloseacetat; Poly-pxylylen;
Polyvinylcinnamat; Polyvinylidenchlorid: Polycarbonat; Polyesterharze, wie Polyäthylenterephthalat;
Phenolharze; Phenol-Formaldehyd-Harze; Harnstoff-Harze; Silikonharze; Furanharzc; Cumaronharze;
Epoxidharze; mit Naturharz denaturiertes Maleinsäureharz; mit Naturharz denaturiertes Phenolharz;
Alkylphenolharze; Ketonharze; Alkydharze, wie Glycero-phthalsäure-Harze; mehrwertige Alkohole,
wie Pinacol, Äthylenglykol und Hexandiol; höhere Alkohole, wie Myristylalkohol; höhere Fettsäuren,
aromatische Carbonsäuren, Carbonsäuren, wie Polycarbonsäuren und Salze, Ester etc. davon, wie
beispielsweise Myristinsäure, Palmitinsäure, Stearinsäure, Arachinsäure, Behensäure, Lignocerinsäure,
Cerqtinsäure, Fettsäureamide, Bis-fettsäureamide, wie Äthylen-bis-stearinsäureamid, Ester von Fettsäuren
mit mehrwertigen Alkoholen, wie Leinsamenöl
und Ölfirnis oder Oxide davon, Hydroxyfettsäuren, Abietinsäure, Neoabietinsäure, Dihydroabietinsäure,
Phthalsäure, Isophthalsäure, Terephthalsäure und/ oder Bernsteinsäure; aromatische Sulfonsäuren, wie
Sulfanilsäure; Phthalocyanin; Rhodamin B; Saccharose; Diphenylenoxid; organische acyclische Schwefelverbindungen,
wie Thioharnstoff; heterocyclische Verbindungen mit Stickstoffatomen oder Schwefelatomen
als Heteroatome, wie Imidazol; 1-Aminoanthrachinon, 2-Aminoanthrachinon, 2-Aminoanthracen,
Chinizarin, Purpuroxanthin, Anthrarufin, Chinazolin, Anthragallol, Tectochinon, Indigo, Indirubin
oder Thioindigo; Hydroxyphenylessigsäure; Chinhydron; Phthalanil; Fluorescin; Isatin; Valin;
Leucomethylenblau; Leuco-auramin; Indolinoben-
zospyropylan; oder mindestens ein Azofarbstoff, Anthrachinonfarbstoff, Indigoidfarbstoff, Phthalocyaninfarbstoff,
Carboniumfarbstoff, Chinoniminfarbstoff, Methinfarbstoff, Chinolinfarbstoff, Nitrofarb-
stoff. Nitrilofarbstoff, Benzochinonfarbstoff, Naphthochinonfarbstoff,
Naphthalamidfarbstoff, Perinonfarbstoff. Triacrylmethanfarbstoff, Nitrosofarbstoff,
StilbenfarbstolT, Pyrazolonfarbstoff, ThiazolfarbstofT und Acridinfarbstoff; mindestens einen Ester, ein
Säureamid, ein Säureazid, ein Säureimid oder ein Amin; mindestens einen Vertreter der Urethan und
Aminophenol umfassenden Gruppe; Gelatine oder Chitin; Hemicellulose; Pectin; Pflanzengummen; Casein;
Wachse, wie Polyäthylen mit niedrigem Molekulargewicht, Paraffin, Bienenwachs, Carnaubawachs,
Halowaxes, Chlornaphthalin und niedrigpolymeres Trifluoräthylenchlorid; Schellack; Naturharz oder
Kolophonium; Asphalt; Vaseline, Naturkautschuk; Synthesekautschuk, wie Silikonkautschuk; bekannte
Fotolacke oder lichtempfindliche Lacke; Polybutensulfon; oder Verbundschichten, die aus den oben beschriebenen
organischen Substanzen gebildet worden sind.
Von diesen organischen Materialien sind jene bevorzugt, die Schmelzpunkte, Erweichungspunkte
oder Sublimationstemperaturen von mindestens 60° C und höchstens 200° C aufweisen, wobei jene ganz besonders
bevorzugt sind, deren Schmelzpunkte, Erweichungspunkte oder Sublimationstemperaturen mindestens
70° C und höchstens 150° C betragen.
Beispiele für solche Materialien sind Behensäure, Stearinsäure, Ketonharze, Polyäthylen mit niedrigem
Molekulargewicht, Paraffin etc. Sublimierbare organische Substanzen sind Leucomethylenblau etc., und
sind ebenfalls bevorzugt.
Die Schicht aus der organischen Substanz kann eine lichtabsorbierende anorganische Substanz enthalten,
die durch gleichzeitiges Aufdampfen, durch Mehrquellen - Hochgeschwindigkeits - Rotationsbedampfung
od. dgl. eingebracht worden ist. Es ist besonders vorteilhaft, als lichtabsorbierende anorganische
Substanz die Substanz zu verwenden, die für die lichtabsorbierende Schicht eingesetzt wird.
Die Schicht aus der organischen Substanz kann unter Erhitzen, durch Auflösen der organischen Substanz
in einem Lösungsmittel, durch Aufdampfen im Vakuum, durch Aufspritzen, durch eine Glimmentladung,
durch ein Verfahren, gemäß dem ein Monomeres oder ein Polymeres mit niedrigem Molekulargewicht
unter Einwirkung eines Elektronenstrahls, ultravioletter Strahlung oder durch Erhitzen während
oder nach dem Aufdampfen gehärtet wird, u. dgl. aufgebracht werden.
Zur Verbesserung der Empfindlichkeit ist es weiterhin von Vorteil, die Viskosität der organischen Substanz
der Schicht durch Bestrahlen mit einem Elektronenstrahl, mit ultravioletter Strahlung od. dgl. zu erniedrigen.
Zwischen der lichtabsorbierenden Schicht und der Aufzeichnungsschicht kann eine dünne Zwischenschicht
vorliegen oder die Aufzeichnungsschicht kann eine Schutzschicht oder einen Schutzfilm tragen. Die
Zwischenschicht oder die Schutzschicht können beim Aufzeichnungsvorgang gegebenenfalls mit Löchern
versehen werden. Man kann die von der Aufzeichnungsschicht verschiedenen Schichten den gleichen
Deformationen oder Veränderungen durch Verdampfen während des Aufzeichnungsvorgangs unterwerfen,
wobei es jedoch aus Gründen der Fehlerrate, des Signal/Rausch-Verhältnisses etc., beim Lesevorgang
bevorzugt ist, solche Deformationen und Veränderungen nicht eintreten zu lassen.
Beispiele für die Zwischenschicht, die zwischen der Aufzeichnungsschicht und der lichtabsorbierenden
Schicht angeordnet wird, sind eine Oxid- oder Chalcogenid-Schicht,
die dazu dient, die chemische Reaktion oder die wechselseitige Diffusion dieser Schichten
zu verhindern, eine Fluorkohlenstoffschicht, die die Benetzbarkeit mit der Aufzeichnungsschicht erniedrigt,
wodurch die Bildung der Löcher oder Vertiefungen erleichtert wird, eine an der Oberfläche modifizierte
Schicht, die durch Plasmaentladung gebildet wird, und Fluoridschichten, die aus BiF3, LiF, RhF3,
CeF3 etc. bestehen.
Wenn man dem erfindungsgemäßen Aufzeichnungsmedium den nachstehend beschriebenen bevorzugten
Aufbau verleiht, so iäßt sich die Lese-Fehlerrate weiter vermindern.
Prinzipiell umfaßt diese bevorzugte Ausführungsform des erfindungsgemäßen Aufzeichnungsmediums
einen Schnittaufbau, wie er in der F i g. 2 dargestellt ist. Diese Ausführungsform umfaßt eine zweite
Schicht 23 aus einem anorganischen Material, die nachstehend näher erläutert wird und zwischen einer
ersten Schicht 22 aus dem anorganischen Material, die das vorbestimmte Substrat 21 überdeckt, und der
Aufzeichnungsschicht 24, die aus einer organischen Substanz besteht, angeordnet ist.
Die Hauptmenge des Arbeitsstrahls oder Aufzeichnungsstrahls oder Schreibstrahls, der auf das Aufzeichnungsmedium
projiziert wird, wird von der ersten Schicht 22 aus dem anorganischen Material absorbiert,
wobei die in diesem Bereich erzeugte Wärme an die über dieser Schicht angeordnete Aufzeichnungsschicht
abgegeben wird, in der Löcher oder Vertiefungen gebildet werden. Die Anwesenheit der zweiten
Schicht aus dem anorganischen Material spielt eine wichtigere Rolle für die Lösung der der vorliegenden
Erfindung zugrunde liegenden Aufgabe. Dies sei jedoch später erläutert.
Die F i g. 3 und 4 verdeutlichen die Zustände, bei denen Informationen in das erfindungsgemäße Aufzeichnungsmedium eingeschrieben sind und stellen eine Schnittansicht der wesentlichen Bereiche des erfindungsgemäßen Aufzeichnungsmediums bzw. eine Draufsicht auf ein scheibenförmiges erfindungsgemäßes Aufzeichnungsmedium dar. Natürlich sind die Abmessungen der Schichten und der eingeschriebenen Löcher vergrößert bzw. verkleinert dargestellt, um das Verständnis zu erleichtern. Die in den F i g. 3 und 4 angegebenen BezugszifTern 25 stehen für die oben angesprochenen Löcher oder Vertiefungen. Wie aus der F i g. 4 zu ersehen ist, sind die Löcher 25 annähernd elliptisch und in einer Reihe angeordnet. Die Informationen werden in Form der Anwesenheit oder der Abwesenheit der Löcher oder Vertiefungen und durch die Hauptdurchmesser der Löcher ebenso wie die Abstände zwischen den Löchern gespeichert. Wenn keine Löcher, sondern lediglich Vertiefungen gebildet werden, entsprechen diese Vertiefungen in ähnlicher Weise der Information.
Die F i g. 3 und 4 verdeutlichen die Zustände, bei denen Informationen in das erfindungsgemäße Aufzeichnungsmedium eingeschrieben sind und stellen eine Schnittansicht der wesentlichen Bereiche des erfindungsgemäßen Aufzeichnungsmediums bzw. eine Draufsicht auf ein scheibenförmiges erfindungsgemäßes Aufzeichnungsmedium dar. Natürlich sind die Abmessungen der Schichten und der eingeschriebenen Löcher vergrößert bzw. verkleinert dargestellt, um das Verständnis zu erleichtern. Die in den F i g. 3 und 4 angegebenen BezugszifTern 25 stehen für die oben angesprochenen Löcher oder Vertiefungen. Wie aus der F i g. 4 zu ersehen ist, sind die Löcher 25 annähernd elliptisch und in einer Reihe angeordnet. Die Informationen werden in Form der Anwesenheit oder der Abwesenheit der Löcher oder Vertiefungen und durch die Hauptdurchmesser der Löcher ebenso wie die Abstände zwischen den Löchern gespeichert. Wenn keine Löcher, sondern lediglich Vertiefungen gebildet werden, entsprechen diese Vertiefungen in ähnlicher Weise der Information.
Die erste Schicht aus dem anorganischen Material und die Aufzeichnungsschicht besitzen den gleichen
Aufbau, wie er oben beschrieben worden ist.
Vorzugsweise handelt es sich bei dem Material der zweiten Schicht aus dem anorganischen Material um
ein Chalcogenid oder ein Oxid oder eine Mischung oder eine Verbindung, die aus dem Chalcogenid oder
Oxid und einem Metall, Halbmetall oder Halbleiter besteht, beispielsweise ein Material, das mindestens
ein Element enthält, das aus der Gruppe ausgewählt ist, die In, Bi, Te, Sb, Pb, Ge, Sn, Cu, Zn, Cd und Ga
umfaßt und mindestens ein Element, das aus der Gruppe ausgewählt ist, die Te, Se, S und O umfaßt.
Besonders vorteilhaft ist ein Material, das mindestens ein Element aus der Gruppe, die In, Bi, Te, Sb, Pb, Ge
und Sn umfaßt, in der nachstehend angegebenen geeigneten Menge enthält. Besonders vorteilhaft sind
amorphe Materialien.
Die Menge wird durch die nachstehende Formel 2 definiert:
in der
D für mindestens ein Element aus der In, Bi, Te, Sb, Pb, Ge und Sn umfassenden Gruppe,
E für mindestens ein Element aus der S, Se und O umfassenden Gruppe stehen und wobei die folgenden Ungleichungen erfüllt sind:
25 <. s <. 60, 40 <; / ^ 75 und s < x, y < t.
E für mindestens ein Element aus der S, Se und O umfassenden Gruppe stehen und wobei die folgenden Ungleichungen erfüllt sind:
25 <. s <. 60, 40 <; / ^ 75 und s < x, y < t.
Durch Auswahl der Zusammensetzung entsprechend den nachstehenden Beziehungen:
|j — x\^ 10 und \y — t\ ^ 10, wird der erfindungsgemäß erzielte Effekt besonders gut erreicht.
|j — x\^ 10 und \y — t\ ^ 10, wird der erfindungsgemäß erzielte Effekt besonders gut erreicht.
Die erste Wirkung der zweiten Schicht aus dem anorganischen Material besteht darin, das Schmelzen
oder die Oxidation der Oberfläche der ersten Schicht aus dem anorganischen Material zu verhindern, indem
man das Material für die zweite Schicht aus dem anorganischen Material aus den oben angegebenen
Materialien auswählt und so vorgeht, daß die Materialzusammensetzung der zweiten Schicht aus dem anorganischen
Material sich von der der ersten Schicht aus dem anorganischen Material unterscheidet. Die
zweite Funktion dieser Schicht besteht darin, beim Auslesen der gespeicherten Information möglichst
große Lesesignale zu erzeugen. So führen jene Bestandteile des für den Lesevorgang verwendeten
Lichts, die an der Grenzfläche zwischen der ersten und der zweiten Schicht aus dem anorganischen Material
und an der Grenzfläche zwischen der zweiten Schicht und dem anorganischen Material und der
Schicht aus der organischen Substanz oder einem Gas (in gewissen Fällen einer Schutzflüssigkeit) reflektiert
werden, an der Oberfläche der Scheibe zu Interferenzphänomenen. Wenn die Wellenlänge des einfallenden
Lichts geändert wird, variiert die Intensität des reflektierten oder durchgelassenen Lichts erheblich durch
Zunahme oder Abnahme. Wenn die Schicht aus der organischen Substanz vorhanden ist, verschieben sich
die Wellenberge und Wellentäler der Schwingungen (im allgemeinen in Richtung auf die größeren Wellenlängen
hin) im Vergleich zu dem Fall, daß diese Schicht nicht vorhanden ist oder dünn ist. Wenn demzufolge
die Information bei einer bestimmten Wellenlänge ausgelesen wird, ergeben sich größere Veränderungen
bezüglich des Reflexionsfaktors oder des Transmissionsfaktors. Es ist im allgemeinen schwierig,
bei der Verwendung einer Schicht aus einem organischen Material als Aufzeichnungsschicht starke Lese-Signale
zu erzeugen, was darauf beruht, daß die Schicht aus dem organischen Material einen niedrigeren
Reflexionsfaktor besitzt und wenig Licht absorbiert, wobei die Schicht nicht verdickt werden kann,
da die Löcher oder Vertiefungen mit hoher Dichte gebildet werden. Erfindungsgemäß können jedoch
große Lese-Signale erzeugt werden, indem man den Effekt der oben beschriebenen zweiten Schicht aus
dem anorganischen Material ausnützt. Dieser Effekt kann am besten dadurch ausgenützt werden, daß man
die Dicke (d) der zweiten Schicht aus dem anorganischen Material derart einstellt, daß die nachstehende
Gleichung erfüllt ist:
2 · η ■ d = ml ± Δλ
worin η für den Brechungsindex,
m für eine ganze Zahl,
ίο λ für die Wellenlänge des Lese-Lichts stehen
und die folgende Beziehung gilt:
(2) 30 nm g Ji ί 90 nm.
Aufgrund dieses Effekts wird die Lese-Fehlerrate vermindert (im Fall von Videosignalen etc. wird das
Signal/Rausch-Verhältnis gesteigert).
Vorzugsweise liegt die Dicke der ersten bzw. zweiten Schicht aus dem anorganischen Material innerhalb
eines Bereichs von mindestens 30 nm bis höchstens 300 nm bzw. mindestens 20 nm bis höchstens
300 nm. Die Dicke der Schicht aus der organischen Substanz liegt vorzugsweise im Bereich von mindestens
20 nm bis höchstens 250 nm und bevorzugter im Bereich von mindestens 50 nm bis höchstens 200 nm.
Vorzugsweise hält man die Dicke der zweiten Schicht aus dem anorganischen Material unter Einhaltung
der oben definierten Beziehung 2 ■ η ■ d = mi. ± Δλ
innerhalb des oben angegebenen Bereichs. Natürlich kann man selbst dann, wenn diese Bedingung nicht
erfüllt ist, das Material als Aufzeichnungsmedium verwenden. Selbst für den Fall, daß:
ist, läßt sich ein hoher Kontrast erreichen, indem man
das Reflexionsvermögen bei der Bildung der Schicht aus der organischen Substanz vermindert.
Wenn die Dicken der ersten und zweiten Schichten aus dem anorganischen Material zu gering sind, läßt
sich der erfindungsgemäß angestrebte Effekt nicht in ausreichendem Maße erreichen. Wenn andererseits
die Dicken dieser Schichten unnötig groß sind, ergibt sich durch eine Wärmeleitung in seitlicher Richtung
eine Verminderung der Empfindlichkeit des Aufzeichnungsmediums.
Die Grenzschichten zwischen den ersten und zweiten Schichten aus dem anorganischen Material müssen
nicht genau definiert sein. Erforderlichenfalls können die Zusammensetzungen der Schichten sich
kontinuierlich nach der Art eines Gradienten ändem.
Die ersten und zweiten Schichten aus dem anorganischen Material kann man, wie oben bereits angegeben,
in beliebiger Weise bilden, beispielsweise durch Aufspritzen (Aufsputtern), durch Aufdampfen unter
Einwirkung eines Elektronenstrahls, durch Vakuumbedampfen etc. Wenn man eine organische Substanz
in geringer Menge (höchstens ein Drittel in bezug auf die Dicke für den Fall, daß eine einzige Substanz aufgedampft
wird) bei der gleichzeitigen Aufdampfung mit der organischen Substanz zur Bildung der Schicht
aus der organischen Substanz oder bei der Hochgeschwindigkeits-Rotationsbedampfung
einmischt, läßt sich die thermische Leitfähigkeit vermindern, wodurch die Empfindlichkeit gesteigert wird.
Natürlich können die Schicht aus der organischen Substanz, die erste Schicht aus der anorganischen
Substanz und die zweite Schicht aus der anorganischen Substanz weitere dazwischenlieeende dünne
Schichten aufweisen, die die Wärmeleitung nicht verhindern, jedoch den direkten Kontakt der Schichten
miteinander verhindern. Beispielsweise kann man die Reaktion der entsprechenden Schichten miteinander
oder deren Oxidation dadurch verhindern, daß man eine Oxidschicht oder eine Schicht aus einem hochschmelzenden Metall (wobei Materialien mit einem
Schmelzpunkt von mindestens 300° C besonders bevorzugt sind) anordnen. Wenn man zwischen der
/weiten Schicht aus der anorganischen Substanz und der Schicht aus der organischen Substanz eine Schicht
mit oberflächenaktiven Eigenschaften, die aus Fluorkohlenstoff od. dgl., oder eine Fluoridschicht, die aus
BiF3, LiF, RhF3, CeF3 od. dgl. besteht und eine Dicke
von 3 bis 300 nm aufweist, anordnet oder einen Fluorkohlenstoff
od. dgl. in die Schicht aus der organischen Substanz einarbeitet, den Schreibvorgang oder
die Aufzeichnung erleichtern.
Das erfindungsgemäße Aufzeichnungsmedium kann weiterhin gemäß der nachstehend beschriebenen
bevorzugten Ausführungsform in seiner Stabilität verbessert werden.
Diese bevorzugte Ausführungsform des erfindungsgemäßen Aufzeichnungsmediums besitzt den Aufbau,
der als Schnittansicht in der F i g. 5 dargestellt ist. Das Aufzeichnungsmedium gemäß dieser Ausführungsform umfaßt eine erste Schicht 2 aus einem anorganischen
Material der oben angesprochenen Zusammensetzung, die auf dem vorbestimmten Substrat 1 angeordnet
ist. Auf beiden Seiten der Schicht 2 sind dünne Stabilisatorschichten 30 und 31 aus Gold od. dgl. angeordnet
(wobei es auch genügen kann, eine solche Schicht auf einer der beiden Seiten anzuordnen). Die
Aufzeichnungsschicht 3, die im wesentlichen aus der organischen Substanz besteht, überdeckt wiederum
die Stabilisatorschicht 31. Die dünne stabilisierende Schicht zwischen der ersten Schicht 2 aus dem anorganischen
Material und der Aufzeichnungsschicht 3 kann gegebenenfalls während des Aufzeichnungsvorgangs
mit Löchern oder Vertiefungen versehen werden. Besonders günstig ist es, zwischen der ersten
Schicht aus dem anorganischen Material und der Aufzeichnungsschicht eine Schicht aus einem Oxid oder
Chalcogenid mindestens eines Elements anzuordnen, das aus der Gruppe ausgewählt ist, die In, Bi, Te, Sb,
Pb, Ge und Sn umfaßt. Wenn man die dünne stabilisierende Schicht auf der Seite der ersten Schicht des
anorganischen Materials anordnet, die der Aufzeichnungsschicht gegenüberliegt, wird diese dünne Stabilisatorschicht
näher in bezug auf die erste-Schicht aus dem anorganischen Material angeordnet. Die Oxidschicht
oder Chalcogenidschicht entspricht der zweiten Schicht aus dem anorganischen Material. Demzufolge
ist die Reihenfolge der das erfindungsgemäße Aufzeichnungsmedium gemäß dieser Ausführungsform bildenden Schichten die folgende: erste Schicht
aus dem anorganischen Material / dünne Stabilisatorschicht / zweite Schicht aus dem anorganischen Material
/ Aufzeichnungsschicht.
Besonders bevorzugt als wesentliche Hauptbestandteile der dünnen Stabilisatorschicht sind die Elemente,
die aus der Gruppe ausgewählt sind, die Au, Al, Ti, Pd, Cr, Ni, Co, Sn und Ge umfaßt.
Vorzugsweise liegt die Dicke der einen der Stabilisatorschichten, die von der Aufzeichnungsschicht entfernt
angeordnet ist (die erste Stabilisatorschicht) innerhalb eines Bereichs von mindestens 1 nm bis höchstens
50 nm. Die Funktion dieser Schicht dient dazu.
Sauerstoff und Wasser fernzuhalten, die sonst von der Substratseite eindringen können, insbesondere dann,
wenn man ein Substrat aus einer organischen Substanz verwendet. Wenn die Dicke dieser Schicht zu gering
ist, ist die Wirkung nur gering, während bei einer zu großen Schichtdicke die Aufzeichnungsempfindlichkeit
wegen der Wärmeleitung in seitlicher Richtung vermindert wird. Die Dicke der anderen Stabilisatorschicht,
die in der Nähe der Aufzeichnungsschicht angeordnet ist (die zweite Stabilisatorschicht)
liegt vorzugsweise in einem Bereich von mindestens 1 nm bis höchstens 10 nm. Die Wirkung dieser
Schicht dient dazu, Sauerstoff und Wasser fernzuhalten, die von der Seite der Aufzeichnungsschicht her
is eindringen können. Demzufolge ist, wenn diese Schicht zu dünn ist, dieser Effekt gering, wobei dann,
wenn diese Schicht zu dick ist, sich nicht nur Verluste durch eine zunehmende Wärmeleitung ergeben, sondern
sich auch die optimalen Bedingungen für die Lichtabsorption nicht erreichen lassen, was zur Folge
hat, daß die Aufzeichnungsempfindlichkeit vermindert wird.
Die Anwesenheit der Stabilisatorschicht auf einer der beiden Seiten der lichtabsorbierenden Schicht genügt,
wenngleich die Anwesenheit der Stabilisatorschicht auf beiden Seiten bevorzugt ist.
Vorzugsweise liegt die Dicke der lichtabsorbierenden Schicht im Bereich von mindestens 2 nm, bis
höchstens 300 nm.
Die Dicke der Aufzeichnungsschicht liegt vorzugsweise in einem Bereich von mindestens 20 nm bis
höchstens 200 nm und insbesondere im Bereich von mindestens 50 nm bis höchstens 150 nm.
Die Stabilisatorschichten können in der oben beschriebenen Weise durch Vakuumbedampfen, durch Aufspritzen oder Aufsputtern, durch Aufdampfen unter Einwirkung eines Elektronenstrahls etc. aufgebracht werden.
Die folgenden Beispiele dienen der weiteren Erläuterung der Erfindung.
Die Stabilisatorschichten können in der oben beschriebenen Weise durch Vakuumbedampfen, durch Aufspritzen oder Aufsputtern, durch Aufdampfen unter Einwirkung eines Elektronenstrahls etc. aufgebracht werden.
Die folgenden Beispiele dienen der weiteren Erläuterung der Erfindung.
Man bildet ein Substrat aus einer chemisch verstärkten
Glasscheibe mit einem Durchmesser von 31 cm und einer Dicke von 1,1 mm. Dann bildet man
mit Hilfe der in der F i g. 6 dargestellten Vakuumbedampfungsvorrichtung eine erste Schicht aus einem
anorganischen Material auf dieser Glasscheibe.
Die F i g. 6 zeigt eine Draufsicht auf die Vorrichtung. Man dreht das Substrat 104 um eine zentrale
Achse 105 mit einer Drehfrequenz von 120 min"1. Unterhalb des Substrats 104 sind BedampfungsschifF-chen
106, 107 und 108 bzw. Masken 109, 110 und 111 mit sektorartig angeordneten Schlitzen oberhalb
der Bedampfungsschiffchen vorgesehen. Weiterhin sind die sektorförmigen Schlitzmasken 109, 110 und
111 mit Blenden 112,113 bzw. 114 versehen. Die verdampfte
Menge der verdampfenden Substanzen wird mit Hilfe von Quarzoszillator-Filmdickenmonitoren
115, 116 und 117 gemessen. Andererseits kann man die Dicke der aufgedampften Schicht dadurch steuern,
daß man den Transmissionsfaktor mit Hilfe eines Projektors 118, der unterhalb des Substrats 104 ange-
ordnet wird und den kollimierten Strahl eines Halbleiterlasers geringfügig schräg durch das Substrat führt,
und einen oberhalb des Projektors 118 und des Substrats 104 aneeordneten LiehtHetpirtnr« i?n mißt
oder indem man den Reflexionsfaktor mißt, indem man einen Lichtdetektor 119 ähnlich wie den Projektor
118 unterhalb des bubstrats 104 anordnet.
Man beschickt die BedampfungsschifTchen 106 und
107 mit Wismut bzw. Behensäure als Ausgangsmaterialien.
Zunächst evakuiert man das Innere der Bedampfungsvorrichtung auf 2,67 χ 10"5 mbar
(2 χ 10~sTorr). Anschließend führt man über ein
variables Leckventil gasförmigen Sauerstoff ein und hält den Druck bei 5,3 χ 10~3mbar
(4 χ 10~3Torr). Anschließend verdampft man Wismut,
indem man einen Strom durch das Schiffchen 106 führt. Man dampft Wismut mit einer Aufdampfgeschwindigkeit
von 3 nm/min bis zu einer Schichtdicke von etwa 15 nm auf. Anschließend erhöht
man die Stromstärke und dampft Wismut mit einer Geschwindigkeit von 6 nm/min bis zu einer
Schichtdicke von 40 nm auf, worauf man die Stromstärke weiter steigert und Wismut mit einer Geschwindigkeit
von 8 nm/min bis zu einer Schichtdicke von 80 nm aufdampft. In dieser Weise bildet man die erste
Schicht aus dem anorganischen Material.
Anschließend verschließt man das Leckventil und evakuiert das Innere der Bedampfungsvorrichtung erneut
aufein Vakuum von 2,67 mbar (2 χ 10"5Torr).
Anschließend verdampft man die Behensäure, indem man einen Strom durch das Schiffchen 107 führt und
dampft diese Säure bis zu einer Schichtdicke von etwa 80 nm auf. In dieser Weise bildet man die Aufzeichnungsschicht.
Die F i g. 7 zeigt eine Schnittansicht des fertiggestellten Aufzeichnungsmediums. Nachdem Abstandshalter
53 und 54 mit jeweils einer Dicke von 0,5 mm und einer Breite von 10 mm an der äußeren Peripherie
und der inneren Peripherie der Scheibe angeordnet worden sind, verbindet man das Aufzeichnungsmedium
mit einer chemisch verstärkten Glasscheibe 55 mit einem Durchmesser von 31 cm und einer Dicke
von 1 mm, um die Aufzeichnungsschicht zu schützen. Die Bezugsziffern 2 und 3 dieser Figur stehen für die
erste Schicht aus dem anorganischen Material bzw. die Aufzeichnungsschicht.
In dieser Weise wird das erfindungsgemäße Aufzeichnungsmedium fertiggestellt. Auf dieses erfindungsgemäße
Aufzeichnungsmedium werden Informationen wie folgt eingeschrieben und ausgelesen.
Wie in der F i g. 7 dargestellt ist, wird das erfindungsgemäße Aufzeichnungsmedium (die Scheibe)
auf einer Aufzeichnungsvorrichtung angeordnet und um die Drehachse 105 mit einer Drehgeschwindigkeit
von 240 min"1 gedreht. Als Lichtquelle verwendet
man einen Halbleiterlaser mit einer Wellenlänge von 830 nm und einer Leistung von 10 mW. Mit Hilfe einer
Linse, die in dem Lesekopf 57 angeordnet ist, wird ein durch digitale Signale mit einer Pulsbreite von
100 ns Puls-modulierter Laserstrahl 56 durch die chemisch
verstärkte Glasscheibe 55 geführt und die Aufzeichnungsschicht 3 und die lichtabsorbierende
Schicht 2 projiziert. In jenen Bereichen, auf die der Laserstrahl projiziert wird, wird eine Anordnung von
elliptischen Löchern mit jeweils einem kleineren Durchmesser von etwa 0,8 /<m in einer kreisförmigen
Spur in der aus der organischen Substanz bestehenden Aufzeichnungsschicht aufgezeichnet. Die Anwesenheit
oder die Abwesenheit des Loches entspricht dabei der Information.
Der Lesevorgang wird wie folgt durchgeführt.
Während dem man die Scheibe mit einer Drehfrequenz von 240 min~' dreht, fokussiert man den
Strahl eines Halbleiterlasers mit einer Wellenlänge von 830 nm und einer Leistung von 5 mW mit Hilfe
einer Linse durch die chemisch verstärkte Glasscheibe und projiziert diesen Strahl auf die Aufzeichnungsschicht
und die lichtabsorbierende Schicht. Zur Erzeugung der reproduzierten Signale fängt man die Intensitätsänderungen
des reflektierten Lichts mit Hilfe
ic eines Detektors auf. Die Fehlerrate des Lesevorgangs
beträgt etwa 10~6. Da die in dem vorhegenden Beispiel verwendete lichtabsorbierende Schicht das Lese-Licht
in geringer Menge durchläßt, ist es weiterhin möglich, den Lese-Strahl von der Substratseite einzuführen
und die Information über das reflektierte Licht auszulesen.
Die F i g. 8 verdeutlicht das Reflexionsvermögen des Aufzeichnungsmediums. Die Kurve A steht für
das Reflexionsvermögen einer Schicht, die man durch Aufdampfen von Wismut in Sauerstoff erhält, während
die Kurve B das Reflexionsvermögen einer Schicht wiedergibt, die man dadurch erhält, daß man
ein Ketonharz mit einer Dicke von etwa 80 nm auf die aufgedampfte Schicht aufbringt. Wie aus dieser
Fig. 8 zu erkennen ist, kann man ausreichend große Unterschiede des Reflexionsvermögens auf der
Grundlage der Anwesenheit oder der Abwesenheit der Löcher in der Aufzeichnungsschicht erzeugen.
Die für den Aufzeichnungsvorgang erforderliche Leistung nimmt wegen der Wärmeleitung, wenn die
erste Schicht aus dem anorganischen Material zu dick ist, und wegen der Abnahme der Lichtabsorption,
wenn diese Schicht zu dünn ist, wie folgt zu:
300 nm:-20 mW,
20 nm:-20 mW,
20 nm:-20 mW,
200 nm:-15 mW,
50 nm:-15 mW,
10 nm:-30 mW.
Wenn die Dicke der Aufzeichnungsschicht groß ist, ergibt sich wegen einer Deformation der Löcher eine
Zunahme der Fehlerrate wie folgt:
300nm:~10-4
200nm:-10"5
150nm:~3 χ 10"6
A. 50nm:~3 χ 10~6
20nm:~10-5
10nm:~10-4.
A. 50nm:~3 χ 10~6
20nm:~10-5
10nm:~10-4.
Wenn das Atomzahlverhältnis von Wismut und Sauerstoff in der ersten Schicht aus dem anorganisehen
Material geändert wird, steigt die für die Aufzeichnung erforderliche Leistung schnell an, und zwar
dann, wenn der Wismutgehalt geringer als 65 Atom-% wird. Wenn andererseits der Wismutgehalt
50 Atom-% erreicht, ist eine Leistung von etwa 30 mW erforderlich. Wenn man aus dem in der F i g. 6
dargestellten Schiffchen 108 Aluminium aufdampft, um Aluminium in die lichtabsorbierende Schicht einzumischen,
ergibt sich ein plötzlicher Anstieg der für die Aufzeichnung erforderlichen Leistung, wenn der
Wismutgehalt unterhalb 65 Atom-% liegt.
Es wurde weiterhin versucht, Cerdioxid als Zwischenschicht aus dem Schiffchen 108 aufzudampfen,
nachdem die erste Schicht aus dem anorganischen Material aufgedampft worden ist und bevor die Auf-Zeichnungsschicht
aufgedampft wird.
Wenn man die Dicke der Cerdioxidschicht verändert und gleichzeitig die Dicke der Aufzeichnungsschicht
entsprechend ändert, so daß das Minimum des
Reflexionsvermögens stets bei 830 nm liegt, ergibt sich die folgende Änderung der Fehlerra.te:
10nm:~5 χ 10~6
20nm:~5 χ ΙΟ"5
30nm:~10-3.
20nm:~5 χ ΙΟ"5
30nm:~10-3.
Das in dem vorliegenden Beispiel verwendete chemisch verstärkte Glas besitzt eine hohe Festigkeit,
verformt sich nicht und besitzt eine harte Oberfläche und ist daher als Substrat und als Schutzplatte für die
Aufzeichnungsschicht geeignet.
In der nachstehenden Tabelle 1 sind weitere Aufzeichnungsmedien mit ersten Schichten aus dem anorganischen
Material und Aufzeichnungsschichten an-
gegeben, die gleiche oder ähnliche Ergebnisse liefern.
Wenn man Metalle verwendet, die sich von denen unterscheiden, die erfindungsgemäß für die erste
Schicht aus dem anorganischen Material verwendet werden sollen, ergeben sich sowohl eine hohe Fehlerrate
als auch hohe Leistungsanforderungen bei der Aufzeichnung, so daß die erfindungsgemäßen Vorteile
nicht erreicht werden können. Wenn man Aluminium als Material für die erste Schicht aus dem anorganischen
Material und ein Alkylphenolharz für die Ausbildung der Aufzeichnungsschicht verwendet, ergibt
sich eine Fehlerrate von etwa 10"3, selbst wenn
man optimale Bedingungen anwendet.
| Nr. | Lichtabsorbierende Schicht | Aufzeichnungsschicht |
| 1 | Durch Aufdampfen von Sn in O2-GaS | Behensäure |
| gebildete Schicht | ||
| 2 | Durch Aufdampfen von In in Ar-Gas | Behensäureamid |
| gebildete Schicht | ||
| 3 | Bi90O10 | Stearinsäure |
| 4 | Te60O40 | Polyäthylen mit niedrigem Molekulargewicht |
| 5 | Ge | Ketonharz |
| 6 | Sb | Polybutensulfon |
| 7 | Cr | Behensäure |
| 8 | Pd | Palmitinsäure |
| 9 | Eines der Elemente Nb, Pb, Ni, Fe, Pt, Re, | Alkylphenolharz |
| Ta, Th, Ti, Zr und Tl | ||
| Bi90Sb10 | Paraffin |
Vergleichs- Au
beispiele
beispiele
Al
Paraffin (die Aufzeichnung ist unmöglich,
selbst mit einer Aufzeichnungsleistung von
3OmW)
Paraffin (die Aufzeichnung ist unmöglich,
selbst mit einer Aufzeichnungsleistung von 3OmW)
Nach der Verfahrensweise von Beispiel 1 bildet man ein scheibenförmiges Substrat aus chemisch verstärktem
Glas.
Man beschickt die Bedampfungsschiffchen 106 bzw. 107 mit Wismut bzw. In2S3 als Ausgangsmaterialien.
Man steuert das Verhältnis der aus den entsprechenden Verdampfungsschiffchen 106 und 107
verdampften Mengen derart, daß das Bi/In-Atomzahlverhältnis
annähernd 1:1 beträgt. Zunächst stellt
man das Verhältnis der Öffnungswinkel der Blenden 112 und 113 für Bi und In2S3 auf 3:1 ein und dampft
die Materialien auf, bis die Schichtdicke 80 nm erreicht hat. In dieser Weise bildet man die erste Schicht
aus dem anorganischen Material. Anschließend öffnet man die Blenden 112 und 113 nach und nach, um
schließlich ein Öffnungswinkelverhältnis von 1:3 zu erreichen, worauf die Materialien verdampft werden,
bis die Schichtdicke 160 nm erreicht hat. In dieser Weise bildet man die zweite Schicht aus dem anorganischen
Material. Die Zusammensetzung der ersten Schicht aus dem anorganischen Material beträgt
Bi55In18S2?, während die Zusammensetzung der zweiten
Schicht des anorganischen Materials B,2In,5S53 beträgt.
Auf das in dieser Weise bereitete Substrat trägt man ein Ketonharz, das man in Cyclohexanon gelöst hat,
durch Rotationsauftrag mit Hilfe einer Schleudervorrichtung bei einer Rotationsfrequenz von 400 min"1
mit einer Dicke von 150 nm auf.
In dieser Weise bildet man das erfindungsgemäße Aufzeichnungsmedium.
so Die Fehlerrate beim Auslesen der Information aus diesem Aufzeichnungsmedium beträgt etwa 10"5.
Die Fig. 9 bis 12 geben anhand von Kurven verschiedene
Eigenschaften des Aufzeichnungsmediums wieder, bei dem die erste Schicht aus dem anorgani-
sehen Material aus dem Bi-In-S-Material, die zweite
Schicht aus dem anorganischen Material aus BinIn35S53 und die Aufzeichnungsschicht aus einem
Ketonharz bestehen. Die F i g. 9 zeigt anhand eines Diagramms die für die Aufzeichnung erforderliche
Änderung der Laserleistung, bei Änderung der Zusammensetzung der ersten Schicht aus dem anorganischen
Material. In diesem Fall ist der Gesamtgehalt der Elemente der Gruppe A von Bedeutung, wobei
man ähnliche Effekte erzielt, wenn man die Elemente ändert. Wenn die Summe des Gehalts von Wismut
und Indium in der ersten Schicht aus dem anorganischen Material auf unterhalb 65 Atom-% absinkt,
nimmt die Lichtabsorption ab und die für das Auf-
zeichnen erforderliche Laserleistung steigt schnell an.
Wenn andererseits die Summe dieser Bestandteile zunimmt, steigt das Reflexionsvermögen an, was zur
Folge hat, daß die Laserleistung ebenfalls gesteigert werden muß. Wenn ein Wert von 80 Atom-% überschritten wird, kann die erste Schicht aus dem anorganischen Material beim Aufzeichnungsvorgang
schmelzen. Die für die Aufzeichnung des erfindungsgemäßen Aufzeichnungsmediums erforderliche Laserenergie an der Oberfläche der Aufzeichnungsschicht beträgt 5 bis lOmJ/cm2. Dieser Wert entspricht etwa V5 bis >/">
der Energie, die für die Aufzeichnung unter Verwendung herkömmlicher Aufzeichnungsmedien der angegebenen Art notwendig
ist. '
Die Fig. 10 verdeutlicht anhand eines Diagramms die Änderung der für die Aufzeichnung erforderlichen Laserleistung, wenn, ähnlich wie bei den oben
angegebenen Beispielen, die erste Schicht aus dem anorganischen Material aus Bi55In18S27, die Aufzeichnungsschicht aus dem Ketonharz und die zweite
Schicht aus dem anorganischen Material aus dem Bi-In-S-Material besteht, wobei die Zusammensetzung
der zweiten Schicht aus dem anorganischen Material variiert wird. Wenn der Gehalt an den Elementen der
Gruppe D der zweiten Schicht aus dem anorganischen Material erhöht wird, nimmt das Reflexionsvermögen
dieser Schicht zu, was zur Folge hat, daß auch die für die Aufzeichnung erforderliche Laserleistung zunimmt. Wenn andererseits der Gehalt der Elemente
der Gruppe D zu niedrig ist, nimmt der Gehalt des Chalcogen-Elements zu, so daß die aufgedampfte
Schicht instabil wird. Demzufolge definiert die Beziehung:
25 £
s
£ 60 Atom-%
einen geeigneten Zusammensetzungsbereich.
Auch in diesem Fall ist der Gesamtgehalt der Elemente der Gruppe D kritisch, wobei sich ähnliche Ef
fekte erzielen lassen, wenn man die Elemente ändert
Die Fig. 11 verdeutlicht anhand eines Diagramms
die für die Aufzeichnung erforderliche Laserleistung s bei Änderung der Dicken der ersten und zweiten
Schichten aus dem anorganischen Material. Die Kurven 81 und 82 verdeutlichen Beispiele der Eigenschaf
ten für den FaIL daß die Dicke der ersten Schicht aus dem anorganischen Material bzw. die der zweiten
ίο Schicht aus dem anorganischen Material variiert wer
den. Es ist ersichtlich, daß die Dicken der ersten und zweiten Schichten aus dem anorganischen Material
vorzugsweise innerhalb eines Bereichs von mindestens 30 nm bis höchstens 300 nm bzw. von mindestens
ii 20 nm bis höchstens 300 nm liegen sollten. Die ersten
bzw. zweiten Schichten aus dem anorganischen Material bestanden aus Bi55In18S27 bzw. Bi12In35S53, wäh
rend die Aufzeichnungsschicht aus dem Ketonharz gebildet worden war.
Die Fig. 12 verdeutlicht anhand eines Diagramms
die Änderung der für die Aufzeichnung erforderlichen Laserleistung und die Fehlerrate des Auslesevorgangs
bei einer Änderung der Dicke der Aufzeichnungsschicht aus der organischen Substanz. Der restliche
Aufbau des Aufzeichnungsmediums entspricht dem, wie er für die Fig. 11 angegeben ist. Die Kurve 91
stellt eine charakteristische Kurve für die Auslese- Fehlerrate dar, während die Kurve 92 eine charakteristische
Kurve für die Laserleistung wiedergibt, die für die Aufzeichnung erforderlich ist. Es ist ersichtlich,
daß im Hinblick auf die Lese-Fehlerrate eine Dicke von mindestens 20 nm bis höchstens 250 nm geeignet
ist.
In der nachstehenden Tabelle 2 sind weitere erfindungsgemäße Aufzeichnungsmedien zusammengestellt,
bei denen die für die ersten und zweiten Schichten verwendeten anorganischen Materialien von den
Bi-In-S-Materialien der bisherigen Beispiele verschieden
sind. Mit diesen Aufzeichnungsmedien lassen sich ähnliche Ergebnisse erzielen.
| Anorganisches Material | Anorganisches Material | Aufzeichnungsschicht |
| für die erste Schicht | für die zweite Schicht | |
| Bi80O20 | Bi55O45 | Alkylphenolharz |
| Sn80O20 | In15Sn40O45 | Mit Naturharz denaturiertes Maleinsäureharz |
| Sn70S30 | SnS | Polyäthylen mit niedrigem Molekulargewicht |
| Bi70O30 | Bi50O50 | Polyäthylen mit niedrigem Molekulargewicht |
| Te | In2S3 | Ketonharz |
| In70O30 | In2O3 | Alkylphenolharz |
| Bi80O20 | In2S3 | Alkylphenolharz |
| Sn10In60O30 | Bi5OO40Se10 | •Alkylphenolharz |
| Sb70Se30 | Sb2S3 | Polyamidharz |
| Pb60S30Se10 | SnS | Methylenbisstearylsäureamid |
| Te65O35 | Te40O60 | Stearinsäureamid |
| Ge65S35 | GeS | Verseifter Fettsäureester |
| Bi70Se30 | In40Se50S10 | Polypropylen mit niedrigem Molekulargewicht |
| In70Se20O10 | Pb50S40O10 | Celluloseacetet |
Die Fig. 13 verdeutlicht anhand von Kurven das Schichtdicke von 80 nm als erste Schicht aus dem un-Reflexionsvermögen
bei verschiedenen Wellenlängen, 65 organischen Material, In2S3 mit einer Dicke von
150 nm als zweite Schicht aus dem anorganischen Material und eine Ketonharzschicht mit einer Dicke
von 120 nm als Aufzeichnungsschicht aus der organi-
und zwar A vor dem Auftragen der Aufzeichnungsschicht aus der organischen Substanz und B nach deren
Auftrag, wobei in diesem Fall Wismut in einer
sehen Substanz verwendet werden. Wenn die Dicke der zweiten Schicht aus dem anorganischen Material
etwa 30 nm beträgt, erfolgt weder eine Verminderung des Reflexionsvermögens bei Wellenlängen oberhalb
800 nm vor dem Auftrag dieser Schicht, noch eine Verminderung des Reflexionsvermögens bei Wellenlängen
oberhalb 1000 nm nach deren Auftrag, wobei sich hohe Reflexionswerte ergeben. Andererseits erzielt
man einen hohen Kontrast in der Nähe von 830 nm. In diesem Fall sind die Schwankungen des
Reflexionsvermögens bei Wellenlängen unterhalb 800 nm gering. Die Wellenlängen-Reflexionskurve
war dabei ähnlich wie die von Fig. 8.
Nach der Verfahrensweise von Beispiel 1 bereitet man ein scheibenförmiges Substrat aus chemisch verstärktem
Glas.
Dann beschickt man die Verdampfungsschiffchen 106,107 bzw. 108 mit Gold, Wismut und Behensäure
als Ausgaiigsmaterialien.
Zunächst evakuiert man das Innere der Bedampfungsvorrichtung auf 2,67 χ 10~5mbar
(2 χ 10~5 Torr). Man verdampft Gold und dampft es bis zu einer Schichtdicke von etwa 10 nm mit einer
Aufdampfgeschwindigkeit von 30 nm/min auf, um in dieser Weise die erste Stabilisatorschicht zu bilden.
Anschließend dampft man Wismut mit einer Geschwindigkeit von 60 nm/min bis zu einer Dicke von
40 nm auf, um die erste Schicht aus dem anorganischen Material zu bilden. Anschließend dampft man
erneut Gold bis zu einer Schichtdicke von 5 nm auf, um die zweite Stabilisatorschicht zu bilden.
In der nächsten Stufe evakuiert man das Vakuumgefäß auf 2,67 x 10-5mbar (2 χ 10"5 Torr), worauf
man Strom durch das Schiffchen 107 führt, um die Behensäure zu verdampfen und sie in einer
Schichtdicke von etwa 80 nm aufzudampfen. In dieser Weise wird die Aufzeichnungsschicht gebildet.
Die Lese-Fehlerrate dieses Aufzeichnungsmediums beträgt etwa 3 χ 10"6.
Wenn die Dicke der zweiten Stabilisatorschicht gesteigert wird, wird eine hohe Leistung für die Aufzeichnung
erforderlich und es ergibt sich ein Anstieg der Fehlerrate wie folgt:
15 nm:~20 mW, 20. nm:~30 mW, 30 nm:
Das Aufzeichnen ist nicht möglich.
Das Aufzeichnen ist nicht möglich.
Wenn die Dicke der ersten Stabilisatorschicht gesteigert wird, steigt die Aufzeichnungsleistung wie
folgt an:
40 nm:~20 mW, 50 nm:~30 mW, 70 nm:
Das Aufzeichnen ist unmöglich.
Das Aufzeichnen ist unmöglich.
Wenn man keine der Stabilisatorschichten auf beiden Seiten bildet, nimmt der. Transmissionsfaktor der
Wismutschicht zu, wodurch die Empfindlichkeit bei einem Lebensdauertest, bei dem Licht einer Halogenlampe
mit 60 000 Lux während 500 Stunden bei 60° C auf das Aufzeichnungsmedium gerichtet wird, auf
etwa 2/i abnimmt. Im Gegensatz dazu ergibt sich bei
dem vorliegenden erfindungsgemäßen Beispiel bei dem gleichen Test nur eine geringe Verminderung der
Empfindlichkeit Selbst wenn man die Stabilisatorschicht auf 1 mn verdünnt, lassen sich ähnliche Ergebnisse
erzielen. Wenn die Schichtdicke jedoch lediglich 0,5 nm beträgt, ergibt sich eine abrupte Steigerung der
Empfindlichkeit. Bei Stabilisatorscbichten aus anderen
Materialien als Gold lassen sich ähnliche Effekte feststellen.
Die für die Aufzeichnung erforderlighe Leistung steigt wegen der Wärmeleitung an, wenn die Dicke
der lichtabsorbierenden Schicht groß gemacht wird, und wegen der Abnahme der Lichtabsorption, wenn
man diese Dicke der lichtabsorbierenden Schicht klein macht. Demzufolge verkürzt sich die Lebensdauer
des Halbleiterlasers.
200 mn:-20 mW, 300 nm:~30 mW,
5nm:~20mW, 2nm:~30mW, 1 nm: *· .
5nm:~20mW, 2nm:~30mW, 1 nm: *· .
Die Aufzeichnung ist nicht möglich.
Der bevorzugte Bereich für die Dicke der Aufzeichnungsschicht entspricht dem von Beispiel 1. ν
Bei dem erstgenannten Beispiel wurde weiterhin versucht, aus dem Schiffchen 108 Cerdioxid aufzudampfen,
nachdem die zweite Stabilisatorschicht aufgedampft worden war und bevor die AufzeichnungSr
schicht aufgedampft wurde. Bei einer Änderung der Dicke der Cerdioxidschicht und einer gleichzeitigen
Änderung der Dicke der Aufzeichnungsschicht derart, daß das Minimum des Reflexionsvermögens stets
bei 830 nm liegt, ergeben sich folgende Änderungen der Fehlerrate:
10nm:-10-5, 20nm:~10-4,
30nm:~10~3.
Wenn man eine In2S3-Schicht mit einer Dicke von etwa 180 nm anstelle der Cerdioxidschicht bildet,
30nm:~10~3.
Wenn man eine In2S3-Schicht mit einer Dicke von etwa 180 nm anstelle der Cerdioxidschicht bildet,
steigt die für den Aufzeichnungsvorgang erforderliche
Laserleistung an, während die Fehlerrate etwa
5 χ ip-s beträgt.
Es ist weiterhin günstig, anstelle des in dem voriiegenden Beispiel verwendeten Acrylharzes chemisch
verstärktes Glas zu verwenden. Das chemisch verr, stärkte Glas besitzt eine hohe Festigkeit, zeigt geringe1
Veränderungen und besitzt eine harte Oberfläche. ä
Neben den oben angesprochenen Aufzeichnurigs-:
Neben den oben angesprochenen Aufzeichnurigs-:
so medien kann man mit Aufzeichnungsmedien, die üri-,
ter Verwendung der in der nachstehenden Tabelle 3 angegebenen Lichtabsorptionsschichten und Aufzeichnungsschichten
gebildet worden sind, ähnliche Eigenschaften erzielen.
1 Pd
2 Au
Bi
Bi
Bi
Behensäure
arl#»ir»h7#»itifY«e A
Nr. Erste Stabilisatorschicht
| Lichtabsorbierende Schicht | Zweite Stabilisatorschicht | fen von Wismut in O2-GaS | Hierzu S Blatt | Au | Aufzeichnungsschicht |
| Bi90Oi0 (durch Verdamp | Au | gebildete Schicht) | Stearinsäure | ||
| Te60O40 | Pd | ||||
| Co | |||||
| Te | Sn | Polyäthylen mit niedrigem | |||
| Te | Ag | Molekulargewicht | |||
| Te | Zeichnungen | Succinimid | |||
| SieoHio | Bernsteinsäure | ||||
| Fumarsäure | |||||
| Palmitinsäure | |||||
Claims (13)
1. Aufzeichnungsmedium fur Lichtstrahlen, insbesondere Laserstrahlen, bestehend aus einem
Substrat (1), einer darüber angeordneten ersten Schicht (2,22) hoher thermischer Leitfähigkeit sowie
einer darüber angeordneten organischen Schicht (3,24) geringer thermischer Leitfähigkeit,
dadurch gekennzeichnet, daß die erste Schicht hoher thermischer Leitfähigkeit eine lichtabsorbierende
Schicht (2,22) ist, welche aus mindestens einem Element aus der Gruppe In, Bi, Te,
Sb, Ge, Sn, Pb, Cr, Nb, Ni, Pd, Fe, Pt, Re, Ta, Th, Ti, Zr und Tl in einer Gesamtmenge von mindestens
65 Atom-% aufgebaut ist, und daß das eigentliche Aufzeichnungsmedium durch die darüber
liegende organische Schicht (3,. 24) geringer thermischer Leitfähigkeit gebildet ist, welche aufgrund
der Lichtabsorption an der darunterliegenden ersten lichtabsorbierenden Schicht (2, 22) selektiv
verformt und/oder zum Verdampfen gebracht ist.
2. Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Schicht (22)
aus dem anorganischen Material mit einer weiteren, zweiten Schicht (23) aus einem anorganischen
Material überdeckt ist, die eine Lese-Lichtdurchlässigkeit besitzt, die größer ist als die der ersten
Schicht (22) aus dem anorganischen Material, wobei die organische Schicht (24) auf der zweiten
Schicht (23) aus dem anorganischen Material angeordnet ist.
3. Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das anorganische Material
der ersten Schicht (22) ein anorganisches Material der allgemeinen Formel
Ax- BY
in der
A für mindestens ein Element aus der In, Bi, Te, Sb, Pb, Ge und Sn umfassenden Gruppe,
B mindestens ein Element aus der S, Se und O umfassenden Gruppe und
65 <. χ £ 100 und 0 ψ y <. 35 bedeuten,
ist und das anorganische Material der zweiten Schicht (23) ein anorganisches Material der allgemeinen Formel
B mindestens ein Element aus der S, Se und O umfassenden Gruppe und
65 <. χ £ 100 und 0 ψ y <. 35 bedeuten,
ist und das anorganische Material der zweiten Schicht (23) ein anorganisches Material der allgemeinen Formel
D, -E1
in der
D mindestens ein Element aus der In, Bi, Te, Sb, Pb, Ge und Sn umfassenden Gruppe,
E mindestens ein Element aus der S, Se und O umfassenden Gruppe und
25 < s £ 60 und 40 <. t <. 75 bedeuten,
ist.
E mindestens ein Element aus der S, Se und O umfassenden Gruppe und
25 < s £ 60 und 40 <. t <. 75 bedeuten,
ist.
4. Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Schicht (2,22)
aus einem anorganischen Material der allgemeinen Formel
Ax ■ By
in der
A mindestens ein Element aus der In, Bi, Te, Sb, Pb, Ge und Sn umfassenden Gruppe,
B mindestens ein Element aus der S, Se und O umfassenden Gruppe und
B mindestens ein Element aus der S, Se und O umfassenden Gruppe und
65 <. χ <. 80 und 20 £ y
<. 35 bedeuten, besteht.
5. Aufzeichnungsmedium nach den Ansprüchen 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die organische
Schicht (3, 24) aus einem organischen Material gebildet ist, das einen Schmelzpunkt oder
einen Erweichungspunkt von 60 bis 200° C aufweist.
6. Aufzeichnungsmedium nach den Ansprüchen 2, 3, 4 oder 5, dadurch gekennzeichnet, daß
die ersten und zweiten Schichten (22,23) aus dem anorganischen Material eine Zusammensetzung
besitzen, die sich in Richtung ihrer Dicke ändert.
7. Aufzeichnungsmedium nach den Ansprüchen 2, 3, 4 oder 5, dadurch gekennzeichnet, daß
die Dicke der ersten Schicht (22) hoher thermischer Leitfähigkeit eine Dicke im Bereich von
30 nm bis 300 nm, die zweite Schicht (23) aus dem anorganischen Material eine Dicke im Bereich von
20 nm bis 300 nm und die Schicht aus dem organischen Material eine Dicke im Bereich von 20 nm
bis 250 nm aufweist.
S. Aufzeichnungsmedium nach den Ansprüchen 2, 3 oder 4, dadurch gekennzeichnet, daß die
Dicke (d) der zweiten aus anorganischem Material bestehenden Schicht (23) in einem Bereich von
20 um bis 300 nm liegt und für diese Schicht die Beziehung 2 · η ■ d = ml ± Δλ erfüllt ist, worin η
der Brechungsindex, m eine ganze Zahl und /. die Wellenlänge des Leselichts sind und die Beziehung
30 nm ■£. Δ).
<> 90 nm gilt.
9. Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß mindestens eine Stabilisatorschicht
(30, 31) in der Nähe mindestens einer Oberfläche der ersten Schicht (2) hoher thermischer
Leitfähigkeit angeordnet ist, wobei die organische Schicht (24) auf der Stabilisatorschicht
vorliegt.
10. Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Stabilisatorschicht
(30, 31) als Hauptbestandteil mindestens ein Element aus der Au, Ag, Al, Pd, Ti, Zr, Rh, Pt,
Th, Cr, Ni, Co, Sn, Ge und Si umfassenden Gruppe enthält.
11. Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Stabilisatorschicht
(30), die auf der von der organischen Schicht (3, 24) abgewandten Seite vorgesehen ist,
eine Dicke von I nm bis 50 nm besitzt, während die andere Stabilisatorschicht (31), die auf der der
Aufzeichnungsschicht benachbarten Seite vorliegt, eine Dicke von 1 nm bis 10 nm besitzt.
12. Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Dicke der ersten
Schicht (2) hoher thermischer Leitfähigkeit 20 nm bis 300 nm und die Dicke der organischen Schicht
(24) 20 nm bis 200 nm betragen.
13. Aufzeichnungsmedium nach den Ansprüchen 9, 10 oder 11, dadurch gekennzeichnet, daß
die Dicke der ersten Schicht (2) hoher thermischer Leitfähigkeit 2 bis 300 nm und die Dicke der organischen
Schicht (24) 20 bis 200 nm betragen.
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