JPS5817037B2 - 記録用部材 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は基板上に形成した記録用薄膜レーザ・ビーム等
の記録用ビームによる熱的又は補助手段を介して間接的
に発生した熱による蒸発除去や変形等を利用した記録用
部材に関する。

従来、この種の記録用部材てしては、パラフィン、油等
を用いる例が知られている。

これは赤外光をパラフィン等の記録用薄膜に照射し、薄
膜の蒸発又は周囲への拡散あるいはこの両者の効果を用
いた変形を利用し像の表示、記憶、転写等を行なうもの
である。

またこの形態の欠点、すなわち。照射後の余熱によって
パラフィン等の像が自然消去しやすい等の欠点を改善す
る目的で次の様な提案もなされている。

所定基板上に照射する光をよく吸収する物質を配置し、
この物質が吸収した光によって発生する熱を上記の記録
膜に与えて、この記録膜の蒸発や拡散による変形を起こ
させる。

上記の照射光を吸収する物質の層は薄層としても光吸収
は十分大きい。

したがって記録膜への熱の供給は効率よく行なわれるの
で、上記したような照射後の像は自然消去は起こりにく
い。

すなわち、像を十分に記憶させることができる。

上記照射光を吸収する物質としてはＣｄＳ 、ＣｄＳｅ
。

＾５２Ｓ３等を用いている。

この種の記録用部材は特願昭４８−１４２４４２号公報
に開示されている。

しかし、記録用部材の記録感度および読み出し誤まり率
（ＳＮ比）が実用上充分でなく、未だ実用に至っていな
いのが現状である。

また、この種の記録用部材に対する記録用ビーム源とし
て半導体レーザ装置を用いるのが時代的要請である。

本発明の目的はこの種の記録用部材の改良に係わり、半
導体レーザ装置を加工用ビーム源として用いた場合にも
十分記録が可能なほど従来の同種のものより記録感度が
高く、読み出し誤まり率が低く、ＳＮ比が高く且つ、長
時間安定な記録用部材を提供することである。

本発明による記録用部材は前述の照射光を吸収ンする層
の材料を十分に選択すること、およびこの層に更に無機
材料層を被覆し、且、この両層の組成を十分に選択する
ことによって、本発明の目的を達成するものである。

本発明の記録用部材は、記録によって形成される個々の
孔または凹部の短１径が０．５μｍ〜１．５μｍの場合
、一点の加工用ビーム照射時間Ｉｏｎｓ〜５００ｎｓの
場合に特に優れた性質を発揮する。

本発明の記録用部材は基本的に第１図に示す如き断面構
造を持つ。

本記録用部材は所定基板２１；の上部に下記の式（１）
で表わされる第１の無機材料層２２、第２の無機材料層
２３およびこの上に有機物質より成る記録膜２４を設け
てなる。

本記録用部材に照射された記録用ビームの大部分が前記
第１の無機材料層２２で吸収され、この；領域で発生す
る熱がこの層の上部の記録膜に与えられ、この記録膜の
孔又は凹部が形成される。

前記第１の無機材料層の、本発明における組成、膜厚の
ものは、この上に直接有機物質を被着しても、従来技術
よりも記録感度などが改良されるが、前；記憶２の無機
材料層の存在が本発明の目的達成に重要な役割をはたす
。

この点については後述する。第２図、第３図は情報が書
゛き込まれた状態を示す図で、各々主要部断面図、およ
び円板状として構成した記録用部材の鳥敞図である。

勿論、各層や書き込まれた孔のディメンジョン等は理解
を助ケるため拡大、縮少され正確は期されていない。

第２図の２５の部分が前述の孔を示す。

この孔２５は第３図に示す如く楕円形に近く、列状に配
列され、この孔の有無や、長径および孔相互の間隔に□
より情報が記録される。

孔とはならず、凹部になる場合も同様にこの凹部が情報
に対応する。

ここで、基板２１は記録に本質的な影響をもつものでは
ない。

基板上へ上記各層を形成する際に厚み制御を透過率変化
を利用して行なおうとする場合、或いは他の方法を用い
ようとする場合などの差により基板を透明、半透明、不
透明物質にするかが設定される。

又、使用するレーザ・ビームの強度等により基板の熱容
量、反射率等の物理量が制限されるのでこれからも基板
物質が設定される。

通常用いられる基板は、ポリメタクリル酸メチル、ポリ
塩化ビニル、ポリエステル、ポリエチレン等の合成樹脂
、酸化物ガラス等である。

上記第１の無機材料層は ＡＸ−Ｂｙ ・・・・・・・・・・・・式（
１）％式％ ＧｅおよびＳｎより成る群より選ばれた少なくとも一者
、ＢはＳ、Ｓｅおよび０の少なくとも一者６５≦ｘ＜１
００．０≦ｙ≦３５） なる材料で構成される。

本記録用部材に照射されたレーザ光は大部分がこの第１
の無機材料層２２で吸収され、この領域で発生する熱が
この層の上部の記録膜に与えられこの記録膜に孔又は凹
部が形成されることは前述した通りである。

したがって、この第１の無機材料層２２は光の吸収の良
いものでなければならない。

また、前述した通り記録用ビーム源として半導体レーザ
装置を用いるのが時代的要請である。

一般に半導体レーザ装置の発振波長は７０００λ〜９０
００λ程度のものが多い。

上記の材料層はこうしたレーザ光に対してもその役割を
十分実現することができる。

上述の波長より短波長の記録用ビームでは勿論充分書き
込みが可能である。

第１の無機材料層としては、光吸収の大きい金属または
半金属、または半導体を含有していることが好ましい。

しかし、熱伝導率が高いと感度が低くなるので熱伝導率
が常温でＩＷ／（ｃＷｌ−ｄｅｇ）以下のもの、すなわ
ちＢｉ、Ｔｅ、Ｓｂ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｐｂ。

Ｇｃ 、Ｃｒ 、Ｎｂ 、Ｎｉ 、Ｐｂ 、Ｆｅ 、Ｐ
ｔ 。

Ｒｅ 、Ｔａ 、Ｔｈ 、Ｔｉ 、ＺｒおよびＴｔなど
よらなる群より選ばれた少なくとも１元素、を６５ａｔ
％以上１００ａｔ％以下含有するのが好ましく、中でも
特に真空蒸着が容易な、前記Ａと表示した元素群（以下
Ａ群元素と称する）を主として含有するのが好ましい。

特に６５くＸ≦８０の範囲が良い。

８０ａｔ％以上になると、情報の書き込み時に第１の無
機材料層も変形を受ける可能性が高くなる。

感度が低下する。第１の無機材料層と第２の無機材料層
との相互拡散が起こりやすくなるなどの問題がある。

前記Ｂと表示した酸素およびカルコゲン元素は、上記の
問題点を改善する効果があるが、この量が多過ぎる（３
５ａｔ％を越える場合）と、光吸収が低下してしまう。

上述の第１の無機材料層に用いる各元素のうち、Ａ群元
素では、ＢｉｔＩｎｔＧｅおよびＳｎ、Ｂ群元素では酸
素およびＳが、毒性が低いという点などで特に有用であ
り、Ｂ ｉ −８、Ｉ ｎ−８。

Ｂ ｉ −Ｉ ｎ−８、Ｂ ｉ −Ｇ ｅ−８、５ｎ−
Ｉ ｎ−８゜Ｂ ｉ −８ｎ−８、Ｂ ｉ −０−８、
Ｂｉ−（）−Ｉｎ−８゜Ｂ ｉ −０−８ｎ−８、Ｓ
ｎ−０、Ｉ ｎ −０、およびＢ１−０の組合わせが特
に好ましい。

これらは、カルコゲンガラス、酸化物や硫化物とＢｉな
どとの複合膜、低硫化物、低酸化物などである。

もちろんこれらの組成に少量の他元素が加わってもよい
。

第２の無機材料層は、カルコゲン化物、または酸化物、
またはこれらと、金属・半金属・半導体との混合物また
は化合物、たとえばＩｎ、Ｂｉ。

Ｔｅ、Ｓｂ、Ｐｂ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｃｕ、Ｚｎ。

ＣｄおよびＧａよりなる群より選ばれた少なくとも一者
とＴｅ 、Ｓｅ 、Ｓ 、０よりなる群より選ばれた少
なくとも一者を含むののが好ましい。

中でも特にＩｎ 、Ｂｉ 、Ｔｅ 、Ｓｂ 、Ｐｂ 、
ＧｅおよびＳｎよりなる群より選ばれた少なくとも一者
を、下記の適当量含むものが好ましい。

非晶質であるのがさらに好ましい。

すなわち、式で Ｄｓ−Ｅｔ ・・・・・・・・・・・・式（２
）％式％ ＧｅおよびＳｎよりなる群より選ばれた少なくとも一者
、ＥはＳ、Ｓｅおよび０の少なくとも一者、２５≦Ｓ≦
６０．４０≦し≦７５．ｓ＜Ｘ。

ｙ＜ｔ） と表わされるものが好ましい。

また、ｌ ｓ−ｘ ｌ≧’０２１ｙ ｔｌ≧１０なる
条件で組成を選定することによって本発明の効果を十分
ならしめる。

毒性、安定性の点から、０群材料中、Ｂｉ 、 Ｉｎ。

ＳｎおよびＧｅを主として含むもの、特にＩｎ−８系、
Ｂ１−Ｉｎ−８系、５ｎ−Ｉｎ−８系、Ｇｅ−８系、Ｇ
ｅ−０−８系、Ｇｅ−Ｂ１−８系、Ｇｅ−Ｂ１−０系、
５ｎ−０系、Ｉｎ−０系、Ｂ１−０系、Ｇｅ−０系、Ｂ
１−８ｎ−８系、Ｂ１−０−８系、Ｂ１−０−Ｉｎ−８
系、Ｂ１−０−８ｎ−８系等の材料がより好ましい例と
してあげられる。

前述した通り、この第２の無機材料層は本発明の目的達
成に重要な役割をはたす。

役割の第１点は第２の無機材料の材料選択を上記の如く
なし、第１の無機材料と材料組成的に差を設けることに
よって、第１の無機材料層の表面が融解したり、酸化す
るのを防止することである。

役割の第２点は、記録情報の読出しの際、大きな読出し
信号を得られるようにすることである。

すなわち、読出し光は、第１と第２の無機材料層の界面
と、第２の無機材料層と有機物膜またはディスク表面の
気体（保護用液体の場合もある）との界面で反射するも
のが干渉を起こす。

このため、入射光の波長を変化させた時、反射または透
過光強度は強まったり弱まったり大きく振動する。

有機物膜が有る場合は、無い場合または薄い場合に比べ
て、この振動の山や谷が（通常長波長側に）ズレる。

このため、特定の波長で観察した時、大きな反射率や透
過率の変化が得られる。

有機物膜の反射率は低く、光の吸収も少ないこと、高密
度で孔または凹部を形成するために膜厚を厚くできない
ことから、有機物膜への記録によって大きな読出し信号
を得ることは通常困難であるが、上記のように第２の無
機材料層の効果を利用すれば、大きな読出し信号を得る
ことができる。

第２の無機材料層の厚さくｄ）を２ｎｄ＝ｍλ±Δλ（
但し、ｎは屈折率、ｍは整数、λは読み出し光の波長、
３０ｎｍ≦Δλ≦９０ ｎ ｍ ）となすことにより、
この効果を最も良く利用することができる。

この効果により、読み出し誤まり率が小さくなる。

（ビデオ信号等の場合、ＳＮ比が大きくなる） これら第１および第２の無機材料層の厚さは、各々、３
０ｎｍ以上３００ｎｍ以下、２０ｎｍ以上３００ｎｍ以
下の範囲となすのが良い。

なお、第２の無機材料層の厚さはこの範囲内で前述の如
く、２ｎｄ＝λ±Δλの関係となすことが好ましい。

勿論、この条件をはずしても゛記録用部材として使用で
きることはいうまでもない。

これら第１、第２の無機材料層の厚さが薄過ぎると所定
の効果が十分現われない。

一方、不必要に厚いと横方向の熱伝導が大きくなり感度
の低下を招くこととなる。

なお、第１と第２の無機材料層の境界は明確でなくても
よく、それが可能な場合、お互いの組成が勾配を特って
連続的に変化していても良い。

第１および第２の無機材料層の製造方法は、スパッタリ
ング、電子ビーム蒸着、真空蒸着等の方法で良い。

有機物質膜に用いられる有機物質との共蒸着、高速回転
蒸着などによって、少量（単独蒸着時の膜厚比で１／３
以下）の有機物質を混入させると、熱伝導率が低下して
、感度が向上する。

記録膜を形成する有機材料としては、融点又は軟化点の
低い物質を用いることができる。

この記録膜となる有機材料の具体例として次の如き材料
を主成分とするものがあげられる。

アクリル酸およびメタアクリル酸、およびこれらのエチ
ルまたはメチルエステル、およびこれらの誘導体（たと
えばアクリルニトリル）；または３弗化塩化エチレンや
４弗化エチレンなどのフッ化炭素、塩化ビニル、塩化ビ
ニリデン、弗化ビニリチン、スチレン、フタジエン、フ
ラン、エチレン、プロピレン、クロロプレン、酢酸ビニ
ル、ウレタン、ビニルアルコール、ビニルホルマール、
ビニルブチラール、エチレングリコールより成る群より
選ばれた少なくとも一者の重合体、共重合体、エステル
重合体、これらの混合物、たとえばポリグリシジルメタ
アクリレート、ＡＢＳ樹脂）；またはポリイミド；また
はポリアミド；またはポリアクリルアミド；またはポリ
ビニルピロリドン；またはニトロセルローズ；または酢
酸セルローズ；またはポリパラキシリレン；またはポリ
ビニルシンナメート；またはポリビニリデンクロライド
；またはポリカーボネート；またはポリエチレンテレフ
タレートなどのポリエステル樹脂、またはフェノール樹
脂；またはフェノール・フォルムアルデヒド樹脂；また
は尿素樹脂；または硅素樹脂；またはフラン樹脂；また
はクマロン樹脂；またはエポキシ樹脂；またはロジン変
性マレイン酸樹脂；またはロジン変性フェノール樹脂；
またはアルキルフェノール樹脂；またはケトン樹脂；ま
たはグリセリン・フェール樹脂などのアルキラ嘴脂；ま
たはピナコール、エチレングリコール、ヘキサンジオー
ル等の多価アルコール類；またはミリスチルアルコール
等の高級アルコール類；または高級脂肪酸、芳香環ヲ持
つカルボン酸、多価カルボン酸などの有機カルボン酸ま
たはその塩、エステルなど、たとえばミリスチン酸、バ
ルミチン酸、ステアリン酸、アラキシン酸、ベヘン酸、
リグノセリン酸、セロチン酸、脂肪酸アミド、エチレン
ビスステアロアミドなどのビス脂肪酸アミド、あまに油
やボイル油などの脂肪酸の多価アルコールエステルおよ
びこれらの酸化したもの、オキシ脂肪酸、アビエチン酸
、ネオアビエチン酸、ジヒドロアビエチン酸、フタル酸
、イソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸；またはスル
ファニル酸などの芳香族スルフォン酸；またはフタロシ
アニン：またはローダミンＢ；または蔗糖；またはチオ
尿素のような有機非環式Ｓ化合物；またはイミダゾール
、チアゾール等のＮまたはＳを持つヘテロ項化合物；ま
たは１−アミノアントラキノン；または２−アミノアン
トラキノン：または２−アミノアントラセン；またはキ
ニザリン：またはプルプロキサンチン；またはアントラ
ルフィン：またはキナゾザリン；またはアントラガロー
ル；またはテクトキノン；またはインジゴ；またはイン
ジルビン：またはチオインジゴ；またはオキシフェニル
酢酸；またはキンヒドロン；またはフタルアニル；また
はフルオレラセン；またはイサチン；またはバリン：ま
たはりウコメチレンブルー染料；またはリウコオーラミ
ン化合物；またはインドノベンブスピロピラン；または
一般にアゾ染料、アントラキノン染料、インジゴド染料
、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミ
ン染料、メチン染料、キノリン染料、ニトロ染料、ニト
リロ染料、ベンゾキノンおよびナフトキノン染料、ナフ
タルイミド染料、ペリノン染料、トリアクリルメタン染
料；または一般にエステル、酸アミド、酸アジド、酸イ
ミド、アミン；またはウレタンおよびアミンフェノール
のうち少なくとも一者：または酸化ジフェニレン；また
はゼラチン、またはキチン；またはヘミセルロース；ま
たはペクチン；または植物ゴム；またはカゼイン；また
は低分子量ポリエチレン、パラフィン、ミツロウ、カル
ナウバロウ、ハロワックス、クロルナフタリン、３弗化
塩化エチレンの低重合体などのロウ、ワックス類；また
はシェラツク；またはロジン；またはアスファルト；ま
たはワセリン；または天然ゴム；またはシリコーンゴム
などの人造ゴム；または既知のフォトレジスト；または
これまで述べた有機物の複合膜など。

これらの有機材料のうち、融点または軟化点または昇華
温度が６０℃以上２００℃以下のものが好ましく、７０
℃以上１５０℃以下のものが特に好ましい。

たとえばアルキルフェノール樹脂、ロジン変性マレイン
酸樹脂、ケトン樹脂、ポリアミド樹脂、ロジン変性フェ
ノール樹脂、エチレンビスステアロアミドなどの脂肪酸
アミド、低分子量ポリエチレン等が代表的なものである
。

また、リウコメチレンブルーなどの昇華性有機物も好ま
しい。

この記録膜の厚さは２０ｎｍ以上２５０ｎｍ以下の範囲
が好ましい。

特にこの範囲外においては読み出し誤まり率が高くなる
。

また、特に５０５ｎｍ以上２００ ｎｍ以下の範囲が記
録に要するレーザ。

パワーの点からも好ましい。薄過ぎると読み出し信号強
度が小さくなり、厚過ぎると孔や凹部の形状が乱れて、
いずれの場合も読み出し誤まり率が太きく（ＳＮ比が小
さく）なる。

フ 有機物質の膜、および第１の無機物質層、および第
２の無機物質層は、互いに直接液しないで、その間に熱
伝導に支障のない他の薄層が介在してもよいことはもち
ろんである。

たとえば酸化物層や高融点金属（融点３００℃以上が特
に好まし０）１層を設けて上記の各層間の反応を防ぐこ
ともできる。

また、第２の無機物質層と有機物質膜の間に、フッ化炭
素などよりなる界面活性剤層又は厚さ３〜３００ｎｍの
ＢｉＦ３ 、 ＬｉＦ 、ＲｈＦ３ 、 ＣｅＦ３など
の弗化物層を設けるか、有機物質膜にフッ化炭ン素など
を混入すると、記録が容易になる。

有機物質膜には、共蒸着、高速回転蒸着などによって光
吸収無機物質を含有させてもよい。

光吸収無機物質としては、第１の無機物質層に用いる物
質を用いるのが特に好ましい。

ｉ 有機物質膜の形成方法としては、加熱塗布、溶媒に
溶かしての塗布、真空蒸着、スパッタリング、グロー放
電、モノマーまたは低分子量のものを蒸着中、または蒸
着後、電子線照射、紫外線照射、あるいは加熱によって
硬化させる方法などを用いンることかできる。

有機物質膜の形成後、電子線照射、紫外線照射などによ
って粘度を下げるのも感度向上に有効である。

用途によっては、ディスクにあらかじめ記録トラックの
位置を示す目標を設けておいて、記録時の偏心の影響を
無くしたり、読み出しを容易にしたりすることが行なわ
れるが、本発明をディスク型にして実施する場合、あら
かじめ記録トラックの目標を設けるには種々の方法があ
る。

第１は基板上に溝状に設ける方法であって、これには、
レコード製造プロセスと同様にして、溝を設けた原盤の
凹凸を基板に転写する方法、フォトレジストなどを用い
て露光し、現像して基板に直接凹凸を設ける方法、金属
、半金属、半導体、カルコゲン化物などよりなる光吸収
膜に、またはそれに近接する膜にレーザ光または電子線
で基液凹凸を設ける方法などがある。

第２は基板表面に、光学的に検出可能な、凹凸以外の目
標を設ける方法であって、たとえば本発明の基板表面の
膜を利用する場合、レーザ光照射または電子線照射によ
って、原子の相互拡散、原子配列変化（結晶と非晶質転
移。

フォトダークニングなどを含む）などを起こさせるのが
よい。

この場合、レーザ光などの照射は、記録トラックとなる
部分の上に行なってもよいし、トラック間に行なっても
よい。

トラック間に行なう場合、有機物質膜形成後に行なうこ
ともできるが、変形または蒸発した有機物が記録の障害
となるのを防ぐため、有機物膜形成前にするのが好まし
い。

実施例 直径３１ｃｒｒ１、厚さ３間の円板状ポリメチルメタア
クリル樹脂板よりなる基板を準備し、第４図に示す如き
構造の真空蒸着装置を用い第１、第２の無機材料層を形
成する。

まず、基板１９を、中心軸２０のまわりに回転数１２０
■−１で回転させる。

基板１９の下方には蒸着用ボー）６，７．８およびこの
蒸着用ボートの上方に扇形のスリットを持ったマスク９
，１０，１１が各々配置されている。

更に扇形スリットを持ったマスク９，１０．ｉｌには各
々シャッタ１２，１３．１４が設けられている。

蒸着物質の蒸発量は水晶振動子式膜厚モニター１５．１
６．１７で検出する。

一方蒸着膜厚は、投光器１８および、これと基板１９を
挾んでその下方に配置した受光器で、透過率を検出し、
制御できるようになっている。

蒸着用ボート６．７には各々Ｂｉ、Ｉｎ２Ｓ３を蒸着原
料として入れた。

各蒸着用ボート６．７からの蒸発量の比は原子数比でＢ
ｉとＩｎが大略１：１となる様に制御する。

先づＢｉと、ｌ：ｎ２ｓ３に対するシャッタ１２．１３
の開き角の比を３：１として膜厚が８０ｎｍに達するま
で蒸着し第１の無機材料層を形成する。

次いでシャッタ１２゜１３を開きゆるやかに動かして開
き角がｌ：３になって所で止め、膜厚が１６０ｎｍに達
するまで蒸着して第２の無機材料層を形成した。

第１゛の無機材料層の組成はＢ １５５ Ｉｎ１６ Ｓ
２□、第２の無機材料層の組成はＢｉ１□Ｉｎ３５ Ｓ
５３であった。

： こうして準備した基板上に、シクロヘキサノンを溶
媒としたケトン樹脂をスピンナーを用いて回転数４００
ｍｍ″″１で厚さ１５０ｎｍに回転塗布した。

この様にして本発明の記録用部材が完成する。

本記録用部材への情報の書き込み、読み出しは次の如き
手順による。

第５図に示すように本記録用部材１を書き込み装置に装
着し、回転数９００閣″″１で回転させる。

波長８３００人、出力１５ｍＷの半導体レーザ装置を用
い、パルス変調されたレーザ光５をレンズ′４で、記録
用部材に集光する。

レーザ光照射部分では前記有機物質より成る記録膜に短
径約１μｍの楕円形に近い孔の列が形成された。

この孔の有無、長径の長さ、および孔相互の間隔により
情報が記録される。

記録情報の読み出しは次の様に行なった。

基板を回転数９００１ｒｒｒｎ−１で回転させ、発振波
長８３００人、出力５ｍＷの半導体レーザ装置のレーザ
光をレンズで集光し、記録層側から照射し、反射光の強
度変化をディテクターで検出する。

上述の記録用部材からの情報読み出しの誤まり率は約１
０−５であった。

第６図〜第９図は第１の無機材料層を Ｂ１−Ｉｎ−８系材料、第２の無機材料層をＢｉ１□Ｉ
ｎ３５ Ｓ５３、記録膜をケトン樹脂とした記録用部材
についての各種特性図である。

第６図は第１の無機材料層の組成を変化させた場合の記
録に要するレーザ・パワーの変化を示した図である。

この場合、Ａ群元素の合計の含有量が、問題で、いずれ
の元素を変化せしめても同様の効果を生ずる。

第１の無機材料層のＢｉとＩｎの含有量の和が６５ａｔ
％より低下すると光吸収が減って急速に記録に要するレ
ーザ・パワーが上昇する。

また一方、含有量の和が増大した場合も反射率が高くな
ってレーザ・パワーが上昇する。

加えて８゜ａｔ％を越えた場合、記録時に第１の無機材
料層が融解することもあり、実用上問題となる。

本発明の記録に要するレーザ・エネルギーは記録用部材
膜面で５〜１０ｍＪ／ｃ４である。

このレベルは、従来のこの種の記録用部材における記録
に必要なエネルギーの約１１５〜１／１０である。

第７図は、これまでの例と同様に第１の無機材料層をＢ
ｔ５５Ｉｎ□８Ｓ２７１記録層をケトン樹脂とし、第２
無機材料層をＢ１−Ｉｎ−８系材料とし、この第２の無
機材料層の組成を変化せしめた場合の記録に要するレー
ザ・パワーの変化を示した図である。

第２の無機材料層のＤ群元素の含有量が増大した場合、
この層自身の反射率が増大し記録に要するレーザ・パワ
ーが増大する。

一方、Ｄ群元素の含有量が少ない場合、カルコゲン元素
の含有量が多くなり蒸着膜が不安定となってしまう。

従って２５≦ｓ＜６０ａｔ％が実用可能な組成範囲であ
る。

なお、この場合も、Ｄ群元素の合計の含有量が問題でい
ずれの元素を変化せしめても同様な効果。

を生ずる。

第８図は第１および第２の無機材料の層の厚みを変化さ
せた時の記録に要するレー＃・パワーを示した図である
。

曲線８１は第１の無機材料の層、曲線８２は第２の無機
材料の層の特性例である。

第１および第２の無機材料の層の厚さがそれぞれ３０ｎ
ｍ以上３００ｎｍ以下、および２０ｎｍ以上３００ｎｍ
以下の範囲となすのが良いことが理解される。

なお、第１、および第２の無機材料の層は各々Ｂ１５５
Ｉｎｔｇ Ｓ２７ ｔ Ｂｉ１２ Ｉｎ３５ Ｓ５３
、また記録膜はケトン樹脂である。

第９図は有機物記録膜の厚さを変化させた場合の、記録
に要するレーザ・パワーの変化および読み出し誤まり率
を示した図である。

なお、他の構成は第８図の例と同様である。

曲線９１が読み出し誤まり率、曲線９２が記録に要する
レーザ・パワーを示す特性曲線である。

読み出し誤まり率の点より２０ｎｍ以上２５０ ｎｍ以
下の範囲が実用の範囲なることが理解される。

これまで、第１および第２の無機材料が Ｂ１−Ｉｎ−８系材料の例を説明したが、第１表に示す
材料を用いた記録用部材も同等の特性を得ることができ
た。

本発明の記録用部材は、安定な無機材料層を用い、さら
に表面が有機物で覆われているので、特性の経時劣化は
ほとんど見られない。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の基本的構成を示す記録用部材断面図、
第２図、第３図は各々情報が書き込まれた場合の記録用
部材の断面図、および円板状部材の鳥敞図、第４図は本
記録部材の製造装置の断面図、第５図は情報書き込みの
説明図、第６図、第７図は各々第１の無機材料層のＡ群
元素の含有量を変化させた場合、第２の無機材料層のＤ
群元素の含有量を変化させた場合、の記録に要するレー
ザ・パワーの変化を示す特性図、第８図は第１および第
２の無機材料層の厚みを変化させた場合の記録に要する
レーザ・パワーの変化を示す特性図、第９図は記録膜の
厚みを変化させた場合の読み出し誤まり率および記録に
要するレーザ・パワーの変化を示す特性図である。 ２１・・・・・・基板、２２・・・・・・第１の無機材
料層、２３・・・・・・第２の無機材料層、２４・・・
・・・記録膜、２５・・・・・・孔。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 所定基板の上部に少なくとも、照射光に対し高い光
   吸収性を示す第１の無機材料層と、前記第１の無機材料
   層上にこの材料層と組成を異にし且照射光に対し第１の
   無機材料層よりも高い光透過性を示す第２の無機材料層
   を有し、前記第２の無機材料層上に融点又は軟化点の低
   い有機材料又は昇華性の有機材料よりなる記録膜を有し
   、且前記無機材料層が照射光を吸光し発生する熱による
   前記記録膜の局所的変形によって記録がなされる記録用
   部材であって、前記第１の無機材料層がＢｉ。 Ｔｅ、Ｓｂ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｇｅ、Ｃｒ。 ＪＮｂ 、Ｎｉ 、Ｐｂ 、Ｆｅ 、Ｐｔ 、Ｒｅ 、
   Ｔａ 。 Ｔｈ 、Ｔｉ 、ＺｒおよびＴｔの群より選ばれた少な
   くとも一者を少なくとも６５ａｔ−％含有して成ること
   を特徴とする記録用部材。 ２ 前記第１の無機材料は式ＡＸ−Ｂｙ（但し、：Ａは
   Ｉｎ 、Ｂｉ 、Ｔｅ 、Ｓｂ 、Ｐｂ 、Ｇｅおよび
   Ｓｎより成る群より選ばれた少なくとも一者、ＢはＳ、
   ＳｅおよびＯの少なくとも一者、６５≦Ｘ≦１００、Ｏ
   ＜ｙ＜３５ ）で表わされる無機材料であり、前記第２
   の無機材料は式Ｄｓ−Ｅｔ（但し、ＩＤはＩｎ、Ｂｉ
   、Ｔｅ、Ｓｂ、Ｐｂ、ＧｅおよびＳｎより成る群より選
   ばれた少なくとも一者、ＥはＳ、Ｓｅおよび０の少なく
   とも一者、２５≦ｓく６０．４０くｔく７５）で表わさ
   れる無機材料なることを特徴とする特許請求の範囲第１
   項記載の・記録用部材。 ３ 特許請求の範囲第２項記載の記録用部材において、
   前記第１の無機材料層が式ＡＸ−Ｂｙ（但し、ＡはＩｎ
   、Ｂｉ 、Ｔｅ 、Ｓｂ 、Ｐｂ 、ＧｅおよびＳｎ
   より成る群より選ばれた少なくとも一者、１ＢはＳ、Ｓ
   ｅおよびＯの少なくとも一者、６５くＸ ＜ ８０．２
   ０≦ｙ≦３５）なることを特徴とする記録用部材。 ４ 前記有機材料膜は６０度ないし２００度なる融点又
   は軟化点の有機材料よりなることを特徴とする特許請求
   の範囲第２項記載の記録用部材。 ５ 前記第１の無機材料層および第２の無機材料層はそ
   の層の厚み方向に組成変化を有してなることを特徴とす
   る特許請求の範囲第２項、第３項又は第４項記載の記録
   用部材。 ６ 前記第１の無機材料層の厚みは３０ｎｍないし３０
   ０ｎｍ、前記第２の無機材料層の厚みは２０ｎｍないし
   ３００ ｎｍ、前記有機材料膜の厚みを２０ｎｍないし
   ２５０ ｎｍの範囲となしたことを特徴とする特許請求
   の範囲第２項、第３項、第４項又は第５項記載の記録用
   部材。 ７ 前記第２の無機材料層の厚みｄは２０ｎｍないし３
   ００ｎｍの範囲とし、且、２ｎｄ＝ｍλ±Δλ（但し、
   ｎは屈折率、ｍは整数、λは読み出し光の波長、３０ｎ
   ｍ≦Δλ≦９０ｎｍ）の関係を満足せしめたことを特徴
   とする特許請求の範囲第１項又は第６項記載の記録用部
   材。