DE3005442A1 - Wiedergabenadel zur abnahme eines informationssignals von einem aufzeichnungstraeger, auf dem das informationssignal in gestalt von aenderungen in geometrischen konfigurationen aufgezeichnet ist - Google Patents
Wiedergabenadel zur abnahme eines informationssignals von einem aufzeichnungstraeger, auf dem das informationssignal in gestalt von aenderungen in geometrischen konfigurationen aufgezeichnet istInfo
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Description
VICTOR COMPANY OF JAPAN, LTD., Yokohama-City, Japan
Wied.ergabenad.el zur Abnahme eines Informations signals von
einem Aufzeichnungsträger, auf dem das Informationssignal in Gestalt von Änderungen in geometrischen Konfigurationen
aufgezeichnet ist
Die Erfindung bezieht sich allgemein auf eine Wiedergabenadel
für Informationssignalaufzeichnungsträger vom elektrostatischen Kapazitätstyp. Die Erfindung befaßt sich
insbesondere mit einer Wiedergabenadel zur Abnahme eines in Gestalt von Änderungen in geometrischen Konfigurationen auf
einem plattenförmigen Aufzeichnungsträger aufgezeichneten Informationssignals in Form von Änderungen in. der elektrostatischen
Kapazität. Zu diesem Zweck weist die Wiedergabenadel an ihrem Nadelkörper einen Elektrodenabschnitt auf.
Ein Informationssignalaufzeichnungsträger vom elektrostatischen Kapazitätstyp hat im allgemeinen beispielsweise
eine Konstruktion mit einem Aufzeichnungsträgergebilde, das aus einem Kunstharz besteht und in dessen Oberfläche
Abweichungen oder Änderungen in geometrischen Ausgestaltungen in Form einer Vielzahl von Mulden ausgebildet sind, und
zwar in Übereinstimmung mit einem Informationssignal. Auf
der Oberfläche des aus Kunstharz bestehenden Gebildes des Aufzeichnungsträgers befindet sich eine dünne Schicht oder
ein dünner Film aus einem elektrisch leitenden Metall, das durch Aufdampfen aufgebracht worden ist. Über dem aufgedampften
Metall ist noch eine dünne Schicht oder ein dünner Film aus einem dielektrischen Material vorgesehen, das an
dem Metall anhaftet oder klebt. Die Wiedergabenadel ist zur Abtastung dieses Informationssignalaufzeichnungsträgers vom
elektrostatischen Kapazitätstyp mit einer Elektrode ausgerüstet.
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Wenn die Wiedergabenadel mit der Elektrode die Oberfläche des in der geschilderten Weise hergestellten Aufzeichnungsträgers
abtastet, wird die durch den dünnen dielektrischen Film oder durch den dünnen dielektrischen
Film und einen Luftspalt gebildete elektrostatische Kapazität zwischen der Elektrode der Wiedergabenadel und dem
dünnen Metallfilm des Aufzeichnungsträgers erfaßt. Diese elektrostatische Kapazität ändert sich in Abhängigkeit von
den Änderungen in der geometrischen Gestalt auf dem Aufzeichnungsträger. Das aufgezeichnete Signal wird unter Anwendung
eines bekannten Verfahrens in Abhängigkeit von den Änderungen in der elektrostatischen Kapazität wiedergewonnen.
Die Elektrode einer üblichen Wiedergabenadel hat man dadurch hergestellt, daß eine Schicht aus einem Metall,
beispielsweise Tantal, Hafnium oder Titan, durch Vakuumaufdampfen oder Aufsprühen auf einer bestimmten Oberfläche
des aus Saphir oder Diamant bestehenden Wiedergabenadelkörpers aufgebracht worden ist. Da die durch Vakuumaufdampfen
oder Aufsprühen von Metall auf der Oberfläche des Wiedergabenadelkörpers
ausgebildete Elektrode eine Art von Klebeoder Haftschicht bildet, hat sich diese Schicht während des
Gebrauchs sehr leicht vom Wiedergabenadelkörper abgeschält. Die Folge davon ist eine kurze Lebensdauer der Wiedergabenadel
in der Größenordnung von höchstens 100 Gebrauchsstunden.
Weiterhin besteht ein deutlicher Unterschied in der Verschleißfestigkeit des Wiedergabenadelkörpers und der
Elektrode. Die Folge davon ist, daß sich der Wiedergabenadelkörper und die Elektrode ungleichförmig abnutzen, wenn
die Nadelspitze auf dem sich mit hoher Geschwindigkeit drehenden Aufzeichnungsträger liegt. Auch dies ist ein Grund
dafür, daß die bekannte Wiedergabenadel über eine längere Zeitperiode keine stabile, gute Signalabnahme oder Signal-
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wiedergabe zeigt. Ein anderes Problem ist die Schwierigkeit, mit Hilfe der Aufdampf- und Aufsprühtechnik auf einer großen
Anzahl von Wiedergabenadelkörpern stets eine gleichdicke Metallschicht auszubilden. Die Folge davon sind Unregelmäßigkeiten
in den Eigenschaften der Wiedergabenadeln.
Wenn man als Material für den Nadelwiedergabekörper Diamant benutzt, der eine hohe Verschleißfestigkeit hat, ist
es sehr schwierig, eine Metallschicht durch Aufdampfen auf dem Diamant niederzuschlagen. Darüber hinaus schält sich
eine aufgebrachte Metallelektrodenschicht leicht ab. Benutzt man demgegenüber Saphir als Material für den Nadelwiedergabekörper,
ist es leichter möglich, die Metallschicht aufzudampfen. Saphir hat jedoch im Vergleich zu Diamant eine geringere
Verschleißfestigkeit, so daß die Lebensdauer einer aus Saphir hergestellten Wiedergabenadel kurz ist.
Gemäß der Erfindung wird die Elektrode der Wiedergabenadel nicht durch Niederschlagen einer Metallschicht unter
Anwendung üblicher Verfahren wie Aufdampfen oder Aufsprühen ausgebildet, sondern es wird eine bestimmte Fläche des Wiedergabenadelkörpers
unter Anwendung eines Ionenimplantationsprozesses in eine Elektrode überführt.
Der Erfindung liegt somit die Aufgabe zugrunde, für Informationssignalaufzeichnungsträger vom elektrostatischen
Kapazitätstyp eine Wiedergabenadel zu schaffen, bei der die oben erläuterten Schwierigkeiten nicht auftreten, d.h. einen
verschleißfesten Wiedergabenadelkörper mit einer gleichermaßen verschleißfesten Elektrode vorzusehen, die sich nicht
vom Nadelkörper abschält.
Für den erfindungsgemäßen Ionenimplantationsprozeß zur
Ausbildung des Elektrodenabschnitts auf dem Nadelkörper verwendet man vorzugsweise Ionen einer Substanz, bei der es
sich um ein Metall, ein Metalloid oder ein Halbmetall oder
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um einen Halbleiter handelt. Der Elektrodenabschnitt wird
auf einer bestimmten Fläche des Wiedergabenadelkörpers gemäß der erfindungsgemäßen Lehre dadurch ausgebildet, daß
die Ionenimplantation von der Außenseite des Nadelkörpers aus bis zu einer bestimmten Tiefe vorgenommen wird, um den
implantierten Bereich elektrisch leitend zu machen. Der ionenimplantierte Elektrodenabschnitt kann sich nicht abschälen,
da er ein Teil des eigentlichen Nadelkörpers ist. Dementsprechend nutzt sich der Elektrodenabschnitt auch
gleichmäßig mit dem übrigen Nadelkörper ab. Die Folge davon ist, daß die erfindungsgemäße Wiedergabenadel über eine
sehr lange Gebrauchsdauer eine gute Signalwiedergabe mit hoher Stabilität hat. Ein weiterer Vorteil besteht darin,
daß bei der Massenherstellung einer sehr großen Anzahl von Wiedergabekörpern die Elektrodenabschnitte aller Nadelkörper
gleichförmig mit genau der gleichen Tiefe hergestellt werden können. Damit ist es möglich, mit einem geringen
Kostenaufwand eine sehr große Anzahl von Wiedergabenadeln mit gleichen Eigenschaften zu fertigen.
Ein bevorzugtes Ausführungsbeispiel der Erfindung wird im folgenden an Hand von Zeichnungen erläutert. Es zeigt:
F i g . 1 eine perspektivische Ansicht von unten auf eine Ausführungsform eines Abtaster- oder Abnehmereinsatzes,
in dem eine nach der Erfindung ausgebildete Wiedergabenadel verwendet wird, und
F i g . 2 eine vergrößerte perspektivische Ansicht des äußersten Endabschnitts einer Ausführungsform einer nach
der Erfindung ausgebildeten Wiedergabenadel für Informationssignalaufzeichnungsträger
vom elektrostatischen Kapazitätstyp.
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Ein Beispiel eines Abnehmereinsatzes, der von einer nach der Erfindung ausgebildeten Wiedergabenadel Gebrauch
macht, ist in der Fig. 1 dargestellt. Der gezeigte Signalabnehmereinsatz 10 weist eine Tragplatte 11 auf, an deren
Unterseite ein winkelförmiges Stützteil 12 aus ferromagnetischem Material befestigt ist. Eine Magnetplatte 13
ist an einer sich nach unten erstreckenden Oberfläche des Stützteils 12 vorgesehen. Ein zweibeiniger Ausleger
trägt an seinem freien Ende eine fest an ihm angebrachte Wiedergabenadel 15. Die beiden Beine des Auslegers ragen
am Fußende durch ein Querteil 16. Auf der Rückseite des Querteils 16 ist eine Magnetplatte 17 angebracht. Der
Ausleger 14 wird bezüglich der Tragplatte 11 durch die magnetische Anziehung der Magnetplatte 17 gegenüber der
Magnetplatte 13 stabil getragen. Die Wiedergabenadel 15 hat eine besondere Fläche, die als Elektrodenfläche ausgebildet
ist. Das eine Ende eines Leitungsdrahtes 18 ist mit Hilfe eines elektrisch leitenden Klebemittels an dieser
Elektrodenfläche befestigt. Das .andere Ende des Leitungsdrahtes 18 ist mit einem Anschluß 19 verbunden, der
auf der Unterseite der Tragplatte 11 vorgesehen ist.
Zum Gebrauch wird der Abnehmereihsätz 10 in einen Betätigungsabschnitt geladen, der auf einer umlaufenden
Abdeckung eines Schlittens vorgesehen ist. Wenn die umlaufende Abdeckung geschlossen ist, steht der Anschluß 9
in Verbindung mit dem Kernleiter eines im Schlitten vorhandenen koaxialen Resonators. Der Schlitten befindet sich
dann in einem zur Signalwiedergabe geeigneten Zustand.
Ein Signalabnehmereinsatz der beschriebenen Art ist im einzelnen in der deutschen Patentanmeldung P 28 13 668.7
der Anmelderin erläutert.
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Der Abtast- oder Nachlaufzustand der ¥iedergabenadel
15 in bezug auf einen plattenförmigen Informationssignalaufzeichnungsträger
vom elektrostatischen Kapazitätstyp ist in der Fig. 2 gezeigt. Im folgenden wird dieser
Signalaufzeichnungsträger kurz "Platte" genannt. Wie
man sieht, weist die Platte 21 keine Führungsrille auf, sondern ist mit einer großen Anzahl von Mulden, sogenannter
"Pits", versehen, die auf ihrer Oberfläche entsprechend dem aufgezeichneten Signal ausgebildet sind. Dabei
entsprechen auf der Platte 21 vorgesehene Mulden 22 dem Hauptinformationssignal. Von den Hauptinformationssignal-Spurwindungen
aus aufeinanderfolgenden Mulden 22 ist nur ein kleiner Ausschnitt zu sehen. Die dargestellten Spuren
gehören zu einer einzigen spiralförmigen Spur und werden nacheinander bei den aufeinanderfolgenden Umdrehungen der
Platte 21 durchlaufen. Bei der erläuterten Ausführungsform ist in einem Umlauf längs der Spur ein Informationssignal
aufgezeichnet, das aus vier Halbbildern eines Videosignals besteht. Die Mulden sind so geformt, daß die eine Randlinie
jeder Spur etwa mit der Randlinie der benachbarten Spur zusammenfällt. Das bedeutet, daß die benachbarten
Spuren aufeinanderfolgend aneinanderstoßen oder aneinander angrenzen. Die Spursteigung ist daher etwa gleich der
Spurbreite.
An zentralen Stellen, die bei der dargestellten Ausführungsform etwa mit den Randlinien der Spuren zusammenfallen
und somit näherungsweise in der Mitte zwischen den Mittenlinien benachbarter Spuren liegen, befinden sich
Mulden 23 und 24, die in Übereinstimmung mit Steuer- oder Pilotsignalen unterschiedlicher Frequenzen ausgebildet
worden sind.
Die oben erläuterte Art der Anordnung der Mulden ist in der deutschen Patentanmeldung P 27 15 573.3 der Anmelderin
im einzelnen beschrieben.
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Die Platte 21 enthält ein plattenförmiges Gebilde 25 aus Polyvinylchloridharz, auf deren Oberseite die Mulden
22, 23 und 24 ausgebildet sind, eine Schicht 26 aus Aluminiumfolie, die an der Oberseite des plattenförmigen Gebildes
25 anhaftet und einen dielektrischen Film 27, der auf der Oberseite der Aluminiumfolienschicht 26 anhaftet.
Die Unterseite 32 des aus Diamant hergestellten Nadelkörpers
31 der Wiedergabenadel 15 weist einen Abschnitt maximaler Breite auf, der größer als die SpurSteigung der
Platte 21 ist, und enthält einen Elektrodenabschnitt 33 mit einer Stärke von 500 bis 3000 A, der durch Ionenimplantation
oder Ioneneinbau auf der Rückseite der Wiedergabenadel an der Hinterkante der Bodenfläche oder
Unterseite 32 des Nadelkörpers 31 ausgebildet ist. Wenn
sich die Platte 21 in der Richtung eines eingezeichneten Pfeils A dreht, tastet die Wiedergabenadel 15 die Oberfläche
der Platte 21 ab, wobei sich die elektrostatische Kapazität zwischen dem Elektrodenabschnitt 33 und der
Aluminiumfolienschicht 26, die eine die gesamte Oberfläche der Platte überdeckende elektrisch leitende Schicht ist,
in Übereinstimmung mit den Mulden 22 ändert. Auf diese Weise wird das durch die Mulden 22 aufgezeichnete Hauptinformationssignal
abgetastet oder abgenommen.
Gleichzeitig werden die durch die Mulden 23 und 24 aufgezeichneten Pilotsignale vom Elektrodenabschnitt 33
abgenommen. Für den Fall, daß die Mitte des Elektrodenabschnitts 33 von der Mittenlinie der Spur abweicht, tritt
in den abgenommenen Pilotsignal en eine Pegeldifferenz auf.
Aufgrund dieser Pegeldifferenz wird ein Steuersignal erzeugt, das dem Betätigungs- oder Antriebsteil der Signalabnehmereinrichtung
zugeführt wird. Auf diese W/eise wird ein Nachlauf-Servo-Vorgang ausgeführt.
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Als nächstes soll der Elektrodenabschnitt 33 erläutert werden, der einen wesentlichen Teil der erfin—
dungsgemäßen Wiedergabenadel darstellt.
Als Material für den Nadelkörper 31 kann man zur
Herstellung einer preisgünstigen Wiedergabenadel Saphir verwenden. Um eine lange Lebensdauer der Wiedergabenadel
zu erreichen, ist allerdings die Verwendung von Diamant erwünscht, der eine hohe Härte hat. Bezüglich der benutzten
Diamantart gibt es keine spezifischen Besonderheiten.
Zur Zeit der Ausbildung des Elektrodenabschnitts 33 wird der Nadelkörper mit prismatischer Gestalt, d.h. in
einem Zustand, der vor dem Schleifen in eine bestimmte Nadelform oder Nadelgestalt vorliegt, in die Probenkammer
eines Ionenimplantations- oder Ioneneinbaugerätes gegeben, das von irgendeiner bekannten Bauart sein kann. Dabei wird
der Nadelkörper von einem Stützwerkzeug getragen. Bei einer erwünschten Art des Ioneneinbaus werden Hafnium (Hf)-Ionen
in eine bestimmte Oberfläche eines diamantenen Nadelkörpers mit einer Ionenbeschleunigungsspannung in der Größenordnung
von 30 bis 100 keV eingebaut. Bei diesem Vorgang werden die Hafnium-Atome in die Zwischengitterplätze zwischen den
Kohlenstoff-Atom-Gittern des Diamantkristalls getrieben, und der elektrische Widerstand des mit Ionen implantierten
Abschnitts wird in einem solchen Ausmaß vermindert, daß dieser Abschnitt als Elektrode benutzt werden kann. Die
Tiefe, d.h. die Dicke, der Ioneneinbauschicht, die man auf diese Weise erhält, beträgt beispielsweise 0,3/um. Der
elektrische Widerstand des durch den Ioneneinbau gebildeten Elektrodenabschnitts beträgt annäherungsweise 1 k ^Vcm
(ein Wert, der mit einem elektrischen Widerstandsmeßgerät ermittelt wurde). Der elektrische Widerstand von Diamant
ist beispielsweise 10 -O/cm. Demgegenüber zeigt der Elektrodenabschnitt,
der dem Ioneneinbauvorgang unterzogen
wurde, elektrische Leitfähigkeit.
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Die Ionen, die zum Hervorrufen elektrischer Leitfähigkeit in den Diamanten eingebaut werden können, sind
nicht auf Hafnium-Ionen begrenzt. So können auch beispielsweise die Ionen von Halbmetallen, Halbleitern und Metallen,
wie Aluminium (Al), Molybdän (Mo), Titan (Ti), Tantal (Ta), Chrom (Cr), Nickel (Ni), Kupfer (Cu), Gold (Au), Silber
(Ag) und Kohlenstoff (C) verwendet werden.
Weiterhin kann man die Tiefe des Ioneneinbaus durch geeignetes Einstellen der Ioneneinbauenergie steuern. Während
sich die optimale Ionenbeschleunigungsspannung in Abhängigkeit von der Art des Ions und der Implantationsoder Einbautiefe ändert, liegt ein erwünschter Wert in
dem Bereich von 20 bis 300 keV, beispielsweise größenordnungsmäßig
bei 100 keV. Der angegebene Bereich wird damit begründet, daß bei einer Ionenbeschleunigungsspannung von
weniger als·20 keV eine unzulängliche Einbautiefe erzielt
wird, wohingegen bei einer Ionenbeschieunigungsspannung,
die 300 keV übersteigt, eine Zerstörung des Kristallgitters des Diamanten auftritt.
Die Menge der eingebauten Ionen wird in einem Bereich von 10 bis 10 ^ Ionen/cm ausgewählt, wobei ein Wert in
der Größenordnung von 1 χ 10 Ionen/cm bevorzugt wird. Die Ioneneinbautiefe wird in einem Bereich von 0,01 bis
0,5/um ausgewählt, wobei ein Wert in der Größenordnung
von 0,3/um bevorzugt wird.
Wenn die Ioneneinbaustärke, d.h. die Dicke des Elektrodenabschnitts
33 unzureichend ist, ist die Ioneneinbauschicht nicht in der Lage, die Funktion einer Elektrode
zu übernehmen. Ist andererseits die Einbauschicht übermäßig dick, kann eine ausreichende Signalabnahme nicht sichergestellt
werden, un zwar im Hinblick auf die Abmessung der Mulden 22 in der Längsrichtung der Spur. Folglich wird
unter Berücksichtigung der obigen Betrachtungen die Stärke
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des Elektrodenabschnitts so gewählt, daß sie innerhalb des oben angegebenen Bereiches liegt.
Die Ioneneinbaudicke, die Ioneneinbaumenge und andere
Größen werden in Übereinstimmung mit der Art der Ionen so ausgewählt, daß der elektrische Widerstand des Elektrodenabschnitts
einen Wert innerhalb eines Bereiches von 1 A/cm bis 10T)-/cm hat.
Der Nadelkörper, der dem oben erläuterten Ioneneinbauvorgang
ausgesetzt gewesen ist und auf dem an einer bestimmten Oberfläche infolge des loneneinbaus ein Elektrodenabschnitt
ausgebildet worden ist, wird dann durch Schleifen in eine bestimmte Form gebracht. Man erhält dann durch Bearbeiten
die in der Fig. 2 teilweise dargestellte Wiedergabenadel 15 mit dem Elektrodenabschnitt 33. Der Elektrodenabschnitt
33 hat über eine gewisse Strecke vom untersten Ende des Nadelkörpers aus nach oben eine Breite, die kleiner
als die Breite einer Mulde 22 quer zur Spurrichtung ist. Es ist erwünscht, daß die beiden Seitenränder des Elektrodenabschnitts
33 parallel zueinander laufen. Ein Divergenzwinkel in der Größenordnung von 3 bis 8° zwischen den beiden
Seitenrändern ist jedoch in der Praxis nicht schädlich. Ein derartiger Divergenzwinkel erleichtert den Schleifvorgang.
Der Schleifvorgang einer Widergabenadel mit einer in der Fig. 2 gezeigten Gestalt ist in der deutschen Patentanmeldung
P 27 51 164.4 der Anmelderin im einzelnen erläutert.
Bei der erfindungsgemäßen Wiedergabenadel wird der Elektrodenabschnitt durch Ioneneinbau in einen diamantenen
Nadelkörper ausgebildet. Der Elektrodenabschnitt wird nicht durch Aufdampfen, Aufsprühen oder durch ein anderes herkömmliches
Verfahren erzeugt. Aus diesem Grunde besteht
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keine Gefahr, daß sich der Elektrodenabschnitt vom Nadelkörper abschält, und zwar selbst nach einer sehr langen
Abtastzeit der Platte 21. Für den Fall, daß die einander gegenüberliegenden Seitenränder des Elektrodenabschnitts
einen auseinanderlaufenden oder divergierenden Winkel bilden, wird das Ende der Lebensdauer der Nadel erst erreicht,
wenn sich der Elektrodenabschnitt zusammen mit dem Nadelkörper 31 so weit abgeschliffen hat, daß an der Spitze der
Nadel die Elektrodenbreite die Spurbreite übertrifft. Bei einer bekannten Wiedergabenadel ähnlicher Bauart hat die
Elektrode die Neigung, sich vom Nadelkörper abzuschälen. Die Lebensdauer einer solchen Wiedergabenadel beträgt etwa
nur 100 h. Demgegenüber hat die nach der Erfindung ausgebildete Wiedergabenadel eine Lebensdauer von etwa 2000 Gebrauchsstunden.
Ein weiterer Vorteil des Ioneneinbauverfahrens besteht im Vergleich zu Vakuumaufdampf- und Aufsprühverfahren darin,
daß bei der Herstellung von Wiedergabenadeln der erläuterten Art eine sehr große Anzahl von Nadelkörpern in relativ einfacher
Weise unter sehr genauer Steuerung der Dicke des Elektrodenabschnitts hergestellt werden kann. Somit ist es
möglich, mit konstanter Fertigungsqualität Wiedergabenadeln herzustellen, die bezüglich ihrer Eigenschaften kaum voneinander
abweichen und sehr kostengünstig sind.
Bei der oben erläuterten Ausführungsform der Erfindung wird eine besondere Oberfläche des prismatischen Rohlings
für eine Wiedergabenadel einem Ioneneinbauvorgang ausgesetzt, und danach wird der Rohling in eine bestimmte Nadelform geschliffen,
wobei der Elektrodenabschnitt 33 erhalten bleibt. Abweichend von dieser Vorgehensweise ist es auch möglich,
den Ioneneinbau an einer bestimmten Oberfläche eines Nadelkörpers auszuführen, der bereits in eine bestimmte Nadelgestalt
geschliffen ist. In diesem Fall ist der Nadelkörper so orientiert, daß die Oberfläche, auf der der Elektroden-
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abschnitt 33 ausgebildet werden soll, senkrecht zur Richtung des Ionenstrahls verläuft. Die einander gegenüberliegenden
seitlichen Flanken der Fläche, auf der der Elektrodenabschnitt ausgebildet werden soll, sind daher gegenüber
der Richtung des Ionenstrahls geneigt. In diesem Fall ist es von Bedeutung, daß die Einbaumenge an Ionen in einem
hohen Maße vom Implantations- oder Einbauwinkel abhängt.
Aus diesem Grunde findet in den beiden genannten Flanken fast überhaupt kein Ioneneinbau statt. Selbst wenn jedoch
dort Ionen eingebaut werden, reicht dieser Einbau nicht aus, um eine loneneinbaudicke zu bilden, die zum Ausführen der
Funktion einer Elektrode erforderlich wäre. Folglich wird der Elektrodenabschnitt 33 im wesentlichen nur auf der in
der Fig. 2 entsprechend gekennzeichneten Oberfläche ausgebildet.
Wenn bei dem oben beschriebenen Ioneneinbauverfahren der Ioneneinbauvorgang weitergeführt wird, nachdem der
Ioneneinbau bis zu einer Tiefe vorgenommen worden ist, die durch Umstände wie die Art der Ionen und die Ionenbeschleunigungsspannung
bestimmt ist, schlagen sich Atome der Ionen auf der Ioneneinbauoberfläche des Nadelkörpers nieder und
bleiben daran haften. Der Oberflächenteil, auf dem sich Atome niederschlagen und anhaften, ist ebenfalls als Elektrode
wirksam. Die oben erwähnte loneneinbaudicke umfaßt die eigentliche Ioneneinbaustärke und die Dicke des niedergeschlagenen
und anhaftenden Anteils.
Ferner ist bei dem Ioneneinbauverfahren die Steuerung der Ionenbeschleunigungsspannung nicht auf die Regelung
dieser Spannung auf einen konstanten Wert begrenzt. In Abhängigkeit von der Notwendigkeit, kann man eine variable
Spannungssteuerung einsetzen. Wenn das Verfahren mit einer niedrigen Ionenbeschleunigungsspannung ausgeführt wird,
bleiben in ähnlicher Weise, wie oben beschrieben, Ionenatome an der Ioneneinbauoberfläche haften und werden dort
niedergeschlagen.
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Die Platte 21 ist auf der Oberseite des plattenförmigen Gebildes 25, das bei der Ausführungsform nach der
Fig. 2 aus Polyvinylchloridharz hergestellt ist, mit einer dünnen Aluminiumfolienschicht 26 versehen, die die Funktion
der anderen Elektrode übernimmt, um zwischen sich und dem Elektrodenabschnitt 33 der Wiedergabenadel 15 eine
elektrostatische Kapazität zu erzeugen. Anstelle der Aluminiumfolienschicht kann man auch eine Schicht vorsehen,
die aus einem Kunstharz besteht, dem ein elektrisch leitendes Material, beispielsweise Kohlenstoffpulver, zugemischt
ist. In diesem Fall übernimmt das der Platte selbst zugemischte elektrisch leitende Material die Funktion der
Elektrode. Darüber hinaus ist die Oberfläche der Platte in geeigneter Weise mit einem Kunstharz abgedeckt. In diesem
Fall können die Schicht 26 und der dielektrische Film 27 entfallen.
Obgleich die Platte 21 für die Wiedergabenadel keine Führungsrille aufweist, ist es grundsätzlich auch möglich,
zum Führen der Wiedergabenadel eine Rille vorzusehen. In diesem Falle ist die Spitze der Wiedergabenadel so geformt,
daß sie der Führungsrille angepaßt ist.
Bei dem Hauptinformationssignal, das in den Mulden 22 der Platte 21 aufgezeichnet ist, kann es sich um ein
Fernseh-Videosignal oder um ein pulscodemoduliertes Audiosignal handeln. Die Anwendung der erfindungsgemäßen Wiedergabenadel
ist nicht auf bestimmte Arten von Signalen beschränkt.
Weiterhin ist die Erfindung nicht auf die erläuterten Ausführungsbeispiele beschränkt. Zahlreiche Abwandlungen
und Modifikationen sind im Rahmen der erfindungsgemäßen Lehre denkbar.
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Leerseite
Claims (9)
- Pc*: r-fCTV/ac.Viu.r.---f'7hel :.:. . : "'■/": '·· : : 96036 i\ -jl-.u. >-..,/· ί,τ.Iu, 1:, : "-■"— -- ■-"paii-L^ is 3005442VICTOR COMPANY,OF JAPAN, LTD., Yokohama-City, JapanPatentansprücheIy Wiedergabenadel zur Abnahme eines Informationssignals von einem Aufzeichnungsträger, auf dem das Informationssignal in Gestalt von Änderungen in geometrischen Konfigurationen aufgezeichnet ist, enthaltend einen Wiedergabenadelkörper und einen auf einer bestimmten Oberfläche des Wiedergabenadelkörpers ausgebildeten Elektrodenabschnitt, wobei das auf dem Träger aufgezeichnete Signal in Form von Änderungen in der elektrostatischen Kapazität aufgrund der Änderungen in den geometrischen Konfigurationen abgenommen wird,dadurch gekennzeichnet, daß der Elektrodenabschnitt (33) ein Teil des Wiedergabenadelkörpers (31) ist und daß dieser Teil dadurch elektrisch leitend gemacht worden ist, daß die bestimmte Oberfläche bis zu einer bestimmten Tiefe von der Außenseite des Wiedergabenadelkörpers aus einem Ionenimplantationsprozeß ausgesetzt gewesen ist.
- 2. Wiedergabenadel nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Elektrodenabschnitt (33) durch Ionenimplantation des Wiedergabenadelkörpers mit Ionen einer Substanz ausgebildet worden ist, die aus einer Metalle, Halbmetalle und Halbleiter enthaltenden Gruppe ausgewählt ist.
- 3. Wiedergabenadel nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Ionen aus einer Gruppe von Ionen ausgewählt sind, die die Ionen von Hafnium, Aluminium, Molybdän, Titan, Tantal, Chrom, Nickel, Kupfer, Gold, Silber und Kohlenstoff umfassen.130034/0366 .300544a
- 4. Wiedergabenadel nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß der lonenimplantationsprozeß zum Implantieren von Ionen in die bestimmte Oberfläche des Wiedergabenadelkörpers mit einer Beschleunigungsspannung von 20 bis 300 KeV ausgeführt worden ist.
- 5. Wiedergabenadel nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Ionen in einer Menge von 10 bis 10 ·* Ionen/cm in die bestimmte Oberfläche des Wiedergabenadelkörpers durch den lonenimplantationsprozeß implantiert worden sind.
- 6. Wiedergabenadel nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Ionen bis zu einer Tiefe von 0,01 bis 0,5/Um in die bestimmte Oberfläche des Wiedergabenadelkörpers durch den lonenimplantationsprozeß implantiert worden sind.
- 7. Wiedergabenadel nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Elektrodenabschnitt (33) einen elektrischen Widerstand innerhalb eines Bereiches von 1 Γϊ/cm bis 10 Q/cm hat.
- 8. Wiedergabenadel nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß es sich bei den Ionen um Hafnium-Ionen handelt, die wenigstens bei der einen bestimmten Oberfläche des Wiedergab enadelkör ρ er s durch den bei etwa 30 bis 100 keV ausgeführten lonenimplantationsprozeß bis zu einer Tiefe von etwa 0,3/um implantiert worden sind.
- 9. Wiedergabenadel nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die bei dem lonenimplantationsprozeß verwendete Ionenbeschleunigungsspannung veränderbar gewesen ist.130034/0386
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB8004811A GB2069741B (en) | 1980-02-13 | 1980-02-13 | Reproducing stylus for information signal recording mediums of electrostatic capacitance type |
NL8000898A NL8000898A (nl) | 1980-02-13 | 1980-02-13 | Weergeefstift voor informatiesignaalregistreermedium van elektrostatisch capacitieve soort. |
DE19803005442 DE3005442C2 (de) | 1980-02-13 | 1980-02-14 | Wiedergabenadel zur Abnahme eines Informationssignals von einem Aufzeichnungsträger vom elektrostatischen Kapazitätstyp und Verfahren zur Herstellung der Wiedergabenadel |
CH119180A CH634164A5 (fr) | 1980-02-13 | 1980-02-14 | Pointe de lecture pour la reproduction d'un signal enregistre sur un support d'enregistrement. |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB8004811A GB2069741B (en) | 1980-02-13 | 1980-02-13 | Reproducing stylus for information signal recording mediums of electrostatic capacitance type |
NL8000898A NL8000898A (nl) | 1980-02-13 | 1980-02-13 | Weergeefstift voor informatiesignaalregistreermedium van elektrostatisch capacitieve soort. |
DE19803005442 DE3005442C2 (de) | 1980-02-13 | 1980-02-14 | Wiedergabenadel zur Abnahme eines Informationssignals von einem Aufzeichnungsträger vom elektrostatischen Kapazitätstyp und Verfahren zur Herstellung der Wiedergabenadel |
CH119180A CH634164A5 (fr) | 1980-02-13 | 1980-02-14 | Pointe de lecture pour la reproduction d'un signal enregistre sur un support d'enregistrement. |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3005442A1 true DE3005442A1 (de) | 1981-08-20 |
DE3005442C2 DE3005442C2 (de) | 1985-04-25 |
Family
ID=27428112
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19803005442 Expired DE3005442C2 (de) | 1980-02-13 | 1980-02-14 | Wiedergabenadel zur Abnahme eines Informationssignals von einem Aufzeichnungsträger vom elektrostatischen Kapazitätstyp und Verfahren zur Herstellung der Wiedergabenadel |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
CH (1) | CH634164A5 (de) |
DE (1) | DE3005442C2 (de) |
GB (1) | GB2069741B (de) |
NL (1) | NL8000898A (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3105783A1 (de) * | 1980-02-19 | 1982-03-11 | Victor Company Of Japan, Ltd., Yokohama, Kanagawa | Abtastnadel zur erfassung von als geometrische veraenderungen auf einem aufzeichnungsmedium aufgezeichneten signalen |
DE3413048A1 (de) * | 1983-04-08 | 1984-10-11 | Victor Company Of Japan, Ltd., Yokohama, Kanagawa | Abtastglied fuer ein nach dem prinzip von kapazitaetsaenderungen arbeitendes platten-abtastsystem |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4458346A (en) * | 1980-11-17 | 1984-07-03 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Pickup stylus |
DE3174108D1 (en) * | 1980-12-29 | 1986-04-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Information signal regenerating stylus and manufacturing method thereof |
US5936243A (en) * | 1997-06-09 | 1999-08-10 | Ian Hardcastle | Conductive micro-probe and memory device |
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US4165560A (en) * | 1976-09-13 | 1979-08-28 | Rca Corporation | Method for manufacturing a diamond stylus for video disc players |
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-
1980
- 1980-02-13 NL NL8000898A patent/NL8000898A/nl not_active Application Discontinuation
- 1980-02-13 GB GB8004811A patent/GB2069741B/en not_active Expired
- 1980-02-14 DE DE19803005442 patent/DE3005442C2/de not_active Expired
- 1980-02-14 CH CH119180A patent/CH634164A5/fr unknown
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB2069741B (en) | 1983-08-10 |
GB2069741A (en) | 1981-08-26 |
CH634164A5 (fr) | 1983-01-14 |
DE3005442C2 (de) | 1985-04-25 |
NL8000898A (nl) | 1981-09-16 |
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