DE3005442C2

DE3005442C2 - Wiedergabenadel zur Abnahme eines Informationssignals von einem Aufzeichnungsträger vom elektrostatischen Kapazitätstyp und Verfahren zur Herstellung der Wiedergabenadel

Info

Publication number: DE3005442C2
Application number: DE19803005442
Authority: DE
Inventors: Tetsuro Yokohama Kanagawa Izumi; Yoshiro Nishiwaki; Isao Tokio/Tokyo Owaki
Original assignee: Victor Company of Japan Ltd
Current assignee: Victor Company of Japan Ltd
Priority date: 1980-02-13
Filing date: 1980-02-14
Publication date: 1985-04-25
Also published as: GB2069741B; CH634164A5; GB2069741A; NL8000898A; DE3005442A1

Description

3 4

regelmäßigkeiten in den Eigenschaften der Wiederga- Infonnationssignalaufzeichiiungsträger vom elektrosta-

benadeln. tischen Kapazitätstyp.

Wenn man als Material für den Nadelwiedergabekör- Ein Beispiel 2ines Abnehmereinsatzes, der von einer per Diamant benutzt, der eine hohe Verschleißfestigkeit nach der Erfindung ausgebildeten Wiedergabenadel hat, ist es sehr schwierig, eine Metallschicht durch Auf- 5 Gebrauch macht, ist in der Fig. 1 dargestellt Der gedampfen auf dem Diamant niederzuschlagen. Darüber zeigte Signalabnehmereinsatz 10 weist eine Tragplatte hinaus schält sich eine aufgebrachte Metallelektroden- 11 auf, an deren Unterseite ein winkelförmiges Stützteil schicht leicht ab. Benutzt man demgegenüber Saphir als 12 aus ferromagnetische!]! Material befestigt ist Eine Material für den Nadelwiedergabekörper, ist es leichter Magnetplatte 13 ist an einer sich nach unten erstreckenmöglicb, die Metallschicht aufzudampfen. Saphir hat je- io den Oberfläche des Stützteils 12 vorgesehen. Ein zweidoch im Vergleich zu Diamant eine geringere Ver- beiniger Ausleger trägt an seinem freien Ende eine fest Schleißfestigkeit, so daß die Lebensdauer einer aus Sa- an ihm angebrachte Wiedergabenadel 15. Die beiden phir hergestellten Wiedergabenadel kurz ist Beine des Auslegers ragen am Fußende durch ein Quer-Gemäß der Erfindung wird die Elektrode der Wieder- teil 16. Auf der Rückseite des Querteils 16 ist eine Magabenadel nicht durch Niederschlagen-einer Metall- 15 gnetplatte 17 angebracht Der Ausleger 14 wird bezügschicht unter Anwendung üblicher Verfahren wie Auf- Hch der Tragplatte 11 durch die magnetische Anziehung dampfen oder Aufsprühen ausgebildet, sondern es wird der Magnetplatte 17 gegenüber der Magnetplatte 13 eine bestimmte Fläche des Wiedergabenadelkörpers stabil getragen. Die Wiedergabenadel lü hat eine beunter Anwendung eines Ionenimplantationsprozesses in sondere Fläche, die als Elektrodenfläche ausgebildet ist eine Elektrode überführt 20 Das eine Ende eines Leitungsdrahtes 18 ist mit Hilfe

Der Erfindung liegt somit die Aufgabe zugrunde, für eines elektrisch leitenden Klebemittels :/.n dieser Elek-

Informationssignalaufzeichnungsträger vom elekfosta- trodenfläche befestigt Das andere Ende de?- Leitungs- ·

tischen Kapazitätstyp eine Wiedergabenadel zu schaf- drahtes 18 ist mit einem Anschluß 19 verbunden, der auf ■

fen, bei der die oben erläuterten Schwierigkeiten nicht der Unterseite der Tragplatte 11 vorgesehen ist f

auftreten, d. h. einen verschleißfesten Wiedergabenadel- 25 Zum Gebrauch wird der Abnehmereinsatz 10 in einen

körper mit einer gleichermaßen verschleißfesten Elek- Betätigungr^ibschnitt geladen, der auf einer umlaufen-

trode vorzusehen, die sich nicht vom Nadelkörper ab- den Abdeckung eines Schlittens vorgesehen ist Wenn

schält die umlaufende Abdeckung geschlossen ist steht der

Diese Aufgabe wird bei der eingangs beschriebenen Anschluß 19 in Verbindung mit dem Kernleiter eines im Wiedergabcnadel durch die im Anspruch 1 gekenn- 30 Schlitten vorhandenen koaxialen Resonators. Der zeichneten Merkmale gelöst Das Verfahren zum Her- Schlitten befindet sich dann in einem zur Signalwiederstellen der Wiedergabenadel ist durch die Merkmale im gäbe geeigneten Zustand.
Anspruch 3 gekennzeichnet Ein Signalabnehmereinsatz der beschriebenen Art ist

Für den erfindungsgemäßen Ionenimplantationspro- im einzelnen in der DE-OS 28 13 668 erläutert, welche

zeß zur Ausbildung des Elektrodenabschnitts auf dem 35 auf die Anmelderin zurückgeht

Nadelkörper verwendet man vorzugsweise Ionen einer Der Abtast- oder N achlauf zustand der Wiedergabe-Substanz, bei der es sich um ein Metall, ein Metalloid nadel 15 in bezug auf einen plattenförmigen Informa- oder ein Halbmetall oder um einen Halbleiter handelt tionssignalaufzeichnungsträger vom elektrostatischen Der Elektrodenabschnitt wird auf einer bestimmten Flä- Kapazitätstyp ist in der Fig. 2 gezeigt Im folgenden ehe des Wied^rgabenadelkörpers gemäß der erfin- 40 wird dieser Signalaufzeichnungsträger kurz »Platten dungsgemäßen Lehre dadurch ausgebildet, daß die Io- genannt Wie man sieht, weist die Platte 21 keine FOhnenimplantation von der Außenseite des Nadelkörpers rungsnlle auf, sondern ist mit einer großen Anzahl von aus bis zu einer bestimmten Tiefe vorgenommen wird, Mulden, sogenannter »Pits«, versehen, die auf ihrer um den implantierten Bereich elektrisch leitend zu ma- Oberfläche entsprechend dem aufgezeichneten Signal chen. Der ionenimplantierte Elektrodenabschnitt kann 45 ausgebildet sind. Dabei entsprechen auf der Platte 21 sich nicht abschälen, da er ein Teil des eigentlichen Na- vorgesehene Mulden 22 dem Hauptinformationssignal, delkörpers ist Dementsprechend nutzt sich der Elektro- Von den Hauptinformationssignal-Spurwindungen aus denabschnitt auch gleichmäßig mit dem übrigen Nadel- aufeinanderfolgenden Mulden 22 ist nur ein kleiner Auskörper ab. Die Folge davon ist, daß die erfindungsgemä- schnitt zu sehen. Die dargestellten Spuren gehören zu ße Wiedergabenadei über <?ine sehr lange Gebrauchs- 50 einer einzigen spiralförmigen Spur und werden nacheindauer eine gute Signalwiedergabe mit hoher Stabilität ander bei den aufeinanderfolgenden Umdrehungen der hat Ein weiterer Vorteil besteht darin, daß bei der Mas- Platte 21 durchlaufen. Bei der erläuterten Ausführungssenherstellung einer sehr großen Anzahl von Wiederga- form ist in einem Umlauf IHngs der Spur ein Informabekörpern die Elektrodenabschnitte aller Nadelkörper tion?sigt.il aufgezeichnet, das aus vier Halbbildern eines gleichförmig mit genau der gleichen Tiefe hergestellt 55 Videosignals besteht Die Mulden sind so geformt, daß werden können. Damit ist es möglich, mit einem gerin- die eine Randlinie jedes Spur etwa mit der Randl<nie der gen Kostenaufwand eine sehr große Anzahl von Wie- benachbarten Spur zusammenfällt Das bedeutet, daß dergabenadeln mit gleichen Eigenschaften zu fertigen. die benachbarten Spuren aufeinanderfolgend aneinan-

Ein bevorzugtes Ausführungsbeispiel der Erfindung derstoßen oder aneinander angrenzen. Die Spurstei-

wird im folgenden an Hand von Zeichnungen erläutert 60 gung ist daher etwa gieich der Spurbreite.

Es zeigt An zentralen Stellen, die bei der dargestellten Aus-

F i g. 1 eine perspektivische Ansicht von unten auf führungsform etwa mit den Randlinien der Spuren zueine Ausführungsform eines Abtaster- oder Abnehmer- sammenfallen und somit näherungsweise in der Mitte einsatzes, in dem eine nach der Erfindung ausgebildete zwischen den Mittenlinien benachbarter Spuren liegen, Wiedergabenadel verwendet wird, und 65 befinden sich Mulden 23 und 24, die in Ubereinstim-

F i g. 2 eine vergrößerte perspektivische Ansicht des mung mit Steuer- oder Pilotsignalen unterschiedlicher

äußersten Endabschnitts einer Ausführungsform einer Frequenzen ausgebildet worden sind,

nach der Erfindung ausgebildeten Wiedergabenadel für Die oben erläuterte Art der Anordnung der Mulden

ist in der DE-OS 27 15 573, die auf die Anmelderin zurückgeht, im einzelnen beschrieben.

Die Platte 21 enthält ein plattenförmiges Gebilde 25 aus Polyvinylchloridharz, auf deren Oberseite die Mulden 22, 23 und 24 ausgebildet sind, eine Schicht 26 aus Aluminiumfolie, die an der Oberseite des plattenförmigen Gebildes 25 anhaftet und einen dielektrischen Film 27, der auf der Oberseite der Aluminiumfolienschicht 26 anhaftet.

Die Unterseite 32 des aus Diamant hergestellten Nadelkörpers 31 der Wiedergabcnadel 15 weist einen Abschnitt maximaler Breite auf, der größer als die Spursteigung der Platte 21 ist, und enthält einen Elektrodenabschnitt 33 mit einer Stärke von 500 bis 3000 Λ, der durch Ionenimplantation oder Ionencinbau auf der Rückseite der Wiedergabenadel an der Hinterkante der Bodenfläche oder Unterseite 32 des Nadelkörpers 31 ausgebildet ist. Wenn sich die Platte 21 in der Richtung eines eingezeichneten Pfeüs A dreht, tastet die Wiedergabenadel 15 die Oberfläche der Platte 21 ab, wobei sich die elektrostatische Kapazität zwischen dem Elektrodenabschnitt 33 und der Aluminiumfolienschicht 26, die eine die gesamte Oberfläche der Platte überdeckende elektrisch leitende Schicht ist, in Übereinstimmung mit den Mulden 22 ändert Auf diese Weise wird das durch die Mulden 22 aufgezeichnete Hauptinformationssignal abgetastet oder abgenommen.

Gleichzeitig werden die durch die Mulden 23 und 24 aufgezeichneten Pilotsignale vom Elektrodenabschnitt 33 abgenommen. Für den Fall, daß die Mitte des Elektrodenabschnitts 33 von der Mittenlinie der Spur abweicht, tritt in den abgenommenen Pilotsignalen eine Pegeldifferenz auf. Aufgrund dieser Pegeldifferenz wird ein Steuersignal erzeugt, das dem Betätigungs- oder Antriebsteil der Signalabnehmereinrichtung zugeführt wird. Auf diese Weise wird ein Nachlauf-Servo-Vorgang ausgeführt

Als nächstes soll der Elektrodenabschnitt 33 erläutert werden, der einen wesentlichen Teil der erfindungsgemäßen Wiedergabenadel darstellt

Als Material für den Nadelkörper 31 kann man zur Herstellung einer preisgünstigen Wiedergabenadel Saphir verwenden. Um eine lange Lebensdauer der Wiedergabenadel zu erreichen, ist allerdings die Verwendung von Diamant erwünscht, der eine hohe Härte hat Bezüglich der benutzten Diamantart gibt es keine spezifischen Besonderheiten.

Zur Zeit der Ausbildung des Elektrodenabschnitts 33 wird der Nadelkörper mit prismatischer Gestalt, d. h. in einem Zustand, der vor dem Schleifen in eine bestimmte Nadelform oder N^delgestalt vorliegt, in die Probenkammer eines Ionenimplantations- oder Ioneneinbaugerätes gegeben, das von irgendeiner bekannten Bauart sein kann. Dabei wird der Nadelkörper von einem Stützwerkzeug getragen. Bei einer erwünschten Art des Ioneneinbaus werden Hafnium (Hf)-Ionen in eine be-' stimmte Oberfläche eines diamantenen Nadelkörpers mit einer Ionenbeschleunigungsspannung in der Größenordnung von 30 bis 100 keV eingebaut Bei diesem Vorgang werden die Hafnium-Atome in die Zwischengitterplätze zwischen den Kohlenstoff-Atom-Gittern des Diamantkristalls getrieben, und der elektrische Widerstand des mit Ionen implantierten Abschnitts wird in einem solchen Ausmaß vermindert, daß dieser Abschnitt als Elektrode benutzt werden kann. Die Tiefe, d h. die Dicke, der Ioneneinbauschicht, die man auf diese Weise erhält, beträgt beispielsweise 0,3 μπι. Der elektrische Widerstand des durch den Ioneneinbau gebilde ten Elektrodenabschnitts beträgt annäherungsweise I kn/cm (ein Wert, der mit einem elektrischen Widerstandsmeßgerät ermittelt wurde). Der elektrische Widerstand von Diamant ist beispielsweise 10^Ι6Ω/αη. Demgegenüber zeigt der Elektrodenabschnitt, der dem loneneinbauvorgang unterzogen wurde, elektrische Leitfähigkeit.

Die Ionen, die zum Hervorrufen elektrischer Leitfähigkeit in den Diamanten eingebaut werden können, ίο sind nicht auf Hafnium-Ionen begrenzt. So können auch beispielsweise di<; Ionen von Halbmetallen, Halbleitern und Metallen, wie Aluminium (Al), Molybdän (Mo), Titan (Ti). Tantal (Ta), Chrom (Cr), Nickel (Ni), Kupfer (Cu), Gold (Au), Silber (Ag) und Kohlenstoff (C) verwendet werden.

Weiterhin kann man die Tiefe des Ioneneinbaus durch geeignetes Einstellen der Ioneneinbauenergie steuern. Während sich die optimale Ionenbeschleunigungsspan-Rung in Abhängigkeit vor der Art dss Icrs und der Implantations- oder Einbautiefe ändert, liegt ein erwünschter Wert in dem Bereich von 20 bis 300 keV, beispielsweise größenordnungsmäßig bei lOOkeV. Der angegebene Bereich wird damit begründet, daß bei einer Ionenbeschleunigungsspannung von weniger als 20 keV eine unzulängliche Einbautiefe erzielt wird, wohingegen bei einer Ionenbeschleunigungsspannung, die 300 keV übersteigt, eine Zerstörung des Kristallgitters des DianV Men auftritt.

Die Menge der eingebauten Ionen wird in einem Bereich von 10¹⁵ bis 10²⁵ Ionen/cm² ausgewählt, wobei ein Wert in der Größenordnung von 1 χ 10²³ Ionen/cm² bevorzugt wird. Die loneneinbauticfe wird in einem Bereich von 0,01 bis 0,5 μιη ausgewählt, wobei ein Wert in der Größenordnung von 03 μπι bevorzugt wird. Wenn die Ioneneinbausätze, d. h. die Dicke des Elektrodenabschnitts 33 unzureichend ist, ist die Ioneneinbauschicht nicht in der Lage, die Funktion einer Elektrode zu übernehmen. Ist andererseits die Einbauschicht übermäßig dick, kann eine ausreichende Signalabnahme nicht sichergestelüt werden, und zwar im Hinblick auf die Abmessung der Mulden 22 in der Längsrichtung der Spur. Folglich wird unter Berücksichtigung der obigen Betrachtungen die Stärke des Elektrodenabschnitts so gewählt, daß sie innerhalb des oben angegebenen Bereiches liegt

Die Ioneneinbaudicke, die Ioneneinbaumenge und andere Größen werden in Übereinstimmung mit der Art der Ionen so ausgewählt, daß der elektrische Widerstand des Elektrodenabschnitts einen Wert innerhalb so eines Bereiches von 1 Ω/cm bis 10⁴ Ω/cm hat

Der Nadelkörper, der dem oben erläuterten ioiicneinbauvorgang ausgesetzt gewesen ist und auf dem an einer bestimmten Oberfläche infolge des Ioneneinbaus ein Elektrodenabschnitt ausgebildet worden ist, wird dann durch Schleifen in eine bestimmte Form gebracht Man erhält dann durch Bearbeiten die in der Fig.2 teilweise dargestellte Wiedergabenadel 15 mit dem Elektrodenabschniitt 33. Der Elektrodenabschnitt 33 hat über eine gewisse Strecke vom untersten Ende des Nadelkörpers aus nach oben eine Breite, die kleiner als die Breite einer Mulde 22 quer zur Spurrichtung ist Es ist erwünscht, daß die beiden Seitenränder des Elektrodenabschnitts 33 parallel zueinander laufen. Ein Divergenzwinkel in der Größenordnung von 3 bis 8° zwischen den beiden Seitenrändern ist jedoch in der Praxis nicht schädlich. Ein derartiger Divergenzwinkel erleichtert den Schleifvorgang. Der Schleifvorgang einer Wiedergabenadel mit einer

in der Fig.2 gezeigten Gestalt ist in der DE-OS 27 51 164 im einzelnen erläutert, welche ebenfalls auf die Anmelderin zurückgeht.

Bei der erfindungsgemäßen Wiedergabenadel wird der Elektrodenabschnitt durch Ioneneinbau in einen diamantenen Nadelkörper ausgebildet. Der Elektrodenabschnitt wird nicht durch Aufdampfen, Aufsprühen oder d.'.ich ein anderes herkömmliches Verfahren erzeugt. Aus diesem Grunde besteht keine Gefahr, daß sich der Elektrodenabschnitt vom Nadelkörper abschält, und zwar selbst nach einer sehr langen Abtastzeit der Platte 21. Für den Fall, daß die einander gegenüberliegenden Seitenränder des Elektrodenabschnitts einen auseinanderlaufenden oder divergierenden Winkel bilden, wird das Ende der Lebensdauer der Nadel erst erreicht, wenn sich der Elektrodenabschnitt zusammen mit dem Nadelkörper 31 so weit abgeschliffen hat, daß an der Spitze der Nadel die Elektrodenbreite die Spurbreite übertrifft. Bei einer bekannten Wiedergabenadei ähnlicher Bauart hat die Elektrode die Neigung, sich vom Nadelkörper abzuschälen. Die Lebensdauer einer -solchen Wiedergabenadel beträgt etwa nur 100 Gebrauchsstunden. Demgegenüber hat die nach der Erfindung ausgebildete Wiedergabenadel eine Lebensdauer von etw?. 2000 Gebrauchsstunden.

Ein v/eiterer Vorteil des Ioneneinbauverfahrens besteht im Vergleich zu Vakuumaufdampf- und Aufsprühverfahren darin, daß bei der Herstellung von Wiedergabenadeln der erläuterten Art eine sehr große Anzahl von Nadelkörpern in relativ einfacher Weise unter sehr genauer Steuerung der Dicke des Elektrodenabschnitts hergestellt werden kann. Somit ist es möglich, mit konstanter Fertigungsqualität Wiedergabenadeln herzustellen, die bezüglich ihrer Eigenschaften kaum voneinander abweichen und sehr kostengünstig sind.

Bei der oben erläuterten Ausführungsform der Erfindung wird eine besondere Oberfläche des prismatischen Rohlings für eine Wiedergabenadel einem Ioneneinbauvorgang ausgesetzt, und danach wird der Rohling in eine bestimmte Nadelform geschliffen, wobei der Elektrodenabschnit*33 erhalten bleibt Abweichend von dieser Vorgehensweise ist es auch möglich, den Ioneneinbau an einer bestimmten Oberfläche eines Nadelkörpers auszuführen, der bereits in eine bestimmte Nadelgestalt geschliffen ist In diesem Fall ist der Nadelkörper so orientiert, daß die Oberfläche, auf der der Elektrodenabschnitt 33 ausgebildet werden soll, senkrecht zur Richtung des Ionenstrahls verläuft Die einander gegenüberliegenden seitlichen Flanken der Fläche, auf der der Elektrodenabschnitt ausgebildet werden soll, sind daher gegenüber der Richtung des Ionenstrahls geneigt In diesem Fall ist es von Bedeutung, daß die Einbaumenge an Ionen in einem hohen Maße vom Implantations- oder Einbauwinkel abhängt Aus diesem Grunde findet in den beiden genannten Flanken fast überhaupt kein Ioneneinbau statt Selbst wenn jedoch dort Ionen eingebaut werden, reicht dieser Einbau nicht aus, um eine Ioneneinbaudicke zu bilden, die zum Ausführen der Funktion einer Elektrode erforderlich wäre. Folglich wird der Elektrodenabschnitt 33 im wesentlichen nur auf der in der Fig.2 entsprechend gekennzeichneten Oberfläche ausgebildet

Wenn bei dem oben beschriebenen Ioneneinbauverfahren der Ioneneinbauvorgang weitergeführt wird, nachdem der Ioneneinbau bis zu einer Tiefe vorgenommen worden ist, die durch Umstände wie die Art der Ionen und die Ionenbeschleunigungsspannung bestimmt ist, schlagen sich Atome der Ionen auf der Ionen- einbauoberfläche des Nadelkörpers nieder und bleiben daran haften. Der Oberflächenteil, auf dem sich Atome niederschlagen und anhaften, ist ebenfalls als Elektrode wirksam. Die oben erwähnte loneneinbaudicke umfaßt die eigentliche Ioneneinbaustärke und die Dicke des niedergeschlagenen und anhaftenden Anteils.

Ferner ist bei dem Ioneneinbauverfahren die Steuerung der Ionenbeschleunigungsspannung nicht auf die Regelung dieser Spannung auf einen konstanten Wert begrenzt. In Abhängigkeit von der Notwendigkeit, kann man eine variable Spannungssteuerung einsetzen. Wenn das Verfahren mit einer niedrigen Ionenbeschleunigungsspannung ausgeführt wird, bleiben in ähnlicher Weise, wie oben beschrieben, Ionenatome an der Ioneneinbauoberfläche haften und werden dort niedergeschlagen.

Die Platte 21 ist auf der Oberseite des plattenförmigen Gebildes 25, das bei der Ausführungsform nach der F i g. 2 aus Püiyviiiyichiüf idharz hergestellt ist, mit einer dünnen Aluminiumfolienschicht 26 versehen, die die Funktion der anderen Elektrode übernimmt, um zwischen sich und dem Elektrodenabschnitt 33 der Wiedergabenadel 15 eine elektrostatische Kapazität zu erzeugen. Anstelle der Aluminiumfolienschicht kann man auch eine Schicht vorsehen, die aus einem Kunstharz besteht, dem ein elektrisch leitendes Material, beispielsweise Kohlenstoffpulver, zugemischt ist. In diesem Fall übernimmt das der Platte selbst zugemischte elektrisch leitende Material die Funktion der Elektrode. Darüber hinaus ist die Oberfläche der Platte in geeigneter Weise mit einem Kunstharz abgedeckt In diesem Fall können die Schicht 26 und der dielektrische Film 27 entfallen.

Obgleich die Platte 21 für die Wiedergabenadel keine Führungsrille aufweist, ist es grundsätzlich auch möglich, zum Führen der Wiedergabenadel eine Rille vorzusehen. In diesem Falle ist die Spitze der Wiedergabenadel so geformt; daß sie der Führungsrille angepaßt ist

Bei dem Hauptinformationssignal, das in den Mulden 22 der Platte 21 aufgezeichnet ist, kann es sich um ein Fernseh-Videosignal oder um ein pulscodemoduliertes Audiosignal handeln. Die Anwendung der erfindungsgemäßen Wiedergabenadel ist nicht auf bestimmte Arten von Signalen beschränkt

Weiterhin ist die Erfindung nicht auf die erläuterten Ausführungsbeispiele beschränkt. Zahlreiche Abwandlungen und Modifikationen sind im Rahmen der erfindungsgemäßen Lehre denkbar.

Hierzu 1 Blatt Zeichnungen

Claims

Patentansprüche:

1. Wiedergabenadel zur Abnahme eines Informationssignals von einem Aufzeichnungsträger vom elektrostatischen Kapazitätstyp, auf dem das Informationssignal in Gestalt von Änderungen in geometrischen Konfigurationen aufgezeichnet ist, enthaltend einen Wiedergabenadelkörper und einen auf einer bestimmten Oberfläche des Wiedergabenadelkörpers ausgebildeten Elektrodenabschnitt, wobei das auf dem ,Träger aufgezeichnete Signal in Form von Änderungen in der elektrostatischen Kapazität aufgrund der Änderungen in den geometrischen Konfigurationen abgenommen wird, dadurch gekennzeichnet, daß der Elektrodenabschnitt (33) ein Teil des Wiedergabenadelkörpers (31) selbst ist und daß dieser Teil dadurch elektrisch leitend gemacht worden ist, daß die bestimmte Oberfläche bis zu einer gestimmten Tiefe von der Außenseite des Wiedergabenadelkörpers aus einem Ionenimplantationsprozeß ausgesetzt gewesen ist

2. Wiedergabenadel nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Elektrodenabschnitt (33) einen elektrischen Widerstand innerhalb eines Bereiches von 1 Ω/cm bis 10⁴ Ω/cm hat.

3. Verfahren zur Herstellung einer Wiedergabenadel nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Elektrodenabschnitt (33) durch Ionenimplantation des Wiedergabenadelkörpers mit Ionen einer Substanz ausgebildet wird, die aus einer Metalle, Halbmetalle und Halbleiter enthaltenden Gruppe ausgewählt ist

4. Verfahren nach Anspruch ? dadurch gekennzeichnet, daß die Ionen aus einer Gruppe von Ionen ausgewählt sind, die die Ionen von Hafnium, Aluminium, Molybdän, Titan, Tantal, Chrom, Nickel, Kupfer, Gold, Silber und Kohlenstoff umfassen.

5. Verfahren nach Anspruch 3 oder 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Ionenimplantationsprozeß zum Implantieren von Ionen in die bestimmte Oberfläche des Wiedergabenadelkörpers mit einer Beschleunigungsspannung von 20 bis 300 keV ausgeführt wird.

6. Verfahren nach einem der Ansprüche 3 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Ionen in einer Menge von 10¹⁵ bis 10²⁵ Ionen/cm² in die bestimmte Oberfläche des Wiedergabenadelkörpers durch den Ionenimplantationsprozeß implantiert werden.

7. Verfahren nach einem der Ansprüche 3 bis 6, dadurch gekennzeichnet daß die Ionen bis zu einer Tiefe von 0,01 bis 03 μπι in die bestimmte Oberfläche des Wiedergabenadelkörpers durch den Ionenimplantationsprozeß implantiert werden.

8. Verfahren nach einem der Ansprüche 3 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß es sich bei den Ionen um Hafnium-Ionen handelt, die wenigstens bei der einen bestimmten Oberfläche des Wiedergabenadelkörpers durch den bei etwa 30 bis 100 keV ausgeführten Ionenimplantationsprozeß bis zu einer Tiefe von etwa 03 μπι implantiert werden.

9. Verfahren nach einem der Ansprüche 3 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß die bei dem Ionenimplantationsprozeß verwendete Ionenbeschleunigungsspannung veränderbar ist.

Die Erfindung bezieht sich auf eine Wiedergabenadel zur Abnahme eines Informationssignals von einem Aufzeichnungsträger vom elektrostatischen Kapazitätstyp gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1. Ferner befaßt sich die Erfindung mit einem Verfahren zur Herstellung der WiedergabenadeL

Ein Informationssignalaufzeichnungsträger vom elektrostatischen Kapazitätstyp hat im allgemeinen beispielsweise eine Konstruktion mit einem Aufzeich- nungsträgergebilde, das aus einem Kunstharz besteht und in dessen Oberfläche Abweichungen oder Änderungen in geometrischen Ausgestaltungen in Form einer Vielzahl von Mulden ausgebildet sind, und zwar in Übereinstimmung mit einem Informationssignal. Auf der Oberfläche des aus Kunstharz bestehenden Gebildes des Aufzeichnungsträgers befindet sich eine dünne Schicht oder ein dünner Film aus einem elektrisch leitenden Metall, das durch Aufdampfen aufgebracht worden ist Über dem aufgedampften Metall ist noch eine dünne Schicht oder ein dünner Film aus einem dielektrischen Material vorgesehen, das an dem Metall anhaftet oder klebt Die Wiedergabenadel ist zur Abtastung dieses Informationssignalaufzeichnungsträgers vom elektrostatischen Kapazitätstyp mit einer Elektrode ausge- rüstet

Wenn die Wieder^rabenadel mit der Elektrode die Oberfläche des in der geschilderten Weise hergestellten Aufzeichnungsträgers abtastet, wird die durch den dünnen dielektrischen Film oder durch den dünnen dielek- trischen Film und eisen Luftspalt gebildete elektrostatische Kapazität zwischen der Elektrode der Wiedergabenadel und dem dünnen Metallfilm des Aufzeichnungsträgers erfaßt Diese elektrostatische Kapazität ändert sich in Abhängigkeit von den Änderungen in der geo metrischen.Gestalt auf dem Aufzeichnungsträger. Das aufgezeichnete Signal wird unter Anwendung eines bekannten Verfahrens in Abhängigkeit von den Änderungen in der elektrostatischen Kapazität wiedergewonnen.

Die Elektrode einer üblichen Wiedergabenadel hat man dadurch hergestellt daß eine Schicht aus einem Metall, beispielsweise Tantal, Hafnium oder Titan, durch Vakuumaufdampfen oder Aufsprühen auf einer bestimmten Oberfläche des aus Saphir oder Diamant bestehenden Wiedergabenadelkörpers aufgebracht worden ist. Da die durch Vakuumaufdampfen oder Aufsprühen von Metall auf der Oberfläche des Wiedergabenadelkörpers ausgebildete Elektrode eine Art von Klebe- oder Haftschicht bildet, hat sich diese Schicht während des Gebrauchs sehr leicht vom Wiedergabenadelkörper abgeschält Die Folge davon ist eine kurze Lebensdauer der Wiedergabenadel in der Größenordnung von höchstens 100 Gebrauchsstunden. Zu diesem Stand der Technik wird beispielsweise auf die US-PS 41 65 560 verwiesen.

Weiterhin besteht ein deutlicher Unterschied in der Verschleißfestigkeit des Wiedergabenadelkörpers und der Elektrode. Die Folge davon ist, daß sich der Wiedergabenadelkörper und die Elektrode ungleichförmig ab- nutzen, wenn die Nadelspitze auf dem sich mit hoher Geschwindigkeit drehenden Aufzeichnungsträger liegt. Auch dies ist ein Grund dafür, daß die bekannte Wiedergabenadel über eine längere Zeitperiode keine stabile, gute Signalabnahme oder Signalwiedergabe zeigt. Ein anderes Problem ist die Schwierigkeit, mit Hilfe der Aufdampf- und Aufsprühtechnik auf einer großen Anzahl von Wiedergabenadelkörpern stets eine gleichdikke Metallschicht auszubilden. Die Folge davon sind Un-