DE2941908C2 - Verfahren zum Herstellen einer eine Silizium-Schicht aufweisenden Solarzelle - Google Patents

Verfahren zum Herstellen einer eine Silizium-Schicht aufweisenden Solarzelle

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Description

20
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen einer eine Silizium-Schicht aufweisenden Solarzelle, bei dem das Silizium mit Hilfe von Lichtbogen-Spritzen oder Plasma-Spritzen in einer Gas-Atmosphäre auf einen Träger aufgebracht wird.
Ein derartiges Verfahren ist aus der US-B 5 61 404 bekannt. Nach der Herstellung der Silizium-Schicht mit Hilfe von Lichtbogen-Spritzen oder Plasma-Spritzen kann beim bekannten Verfahren eine Wärmebehandlung des aufgebrachten Materials erfolgen.
Gegenstand der der DE-OS 29 24 584 entsprechenden älteren deutschen Patentanmeldung ist ein Verfahren zur Herstellung von Silizium für Solarzellen, bei dem Siliziumdioxid oder Silizium mit höherem Verunrcinigungsgrad in einer reduzierenden Gasatmosphäre in ein Plasma eingebracht wird. Ais reduzierende Gasatmosphäre sollen Wasserstoff oder niedere gesättigte oder ungesättigte Kohlenwasserstoffe verwendet wer- |
den. 40 \
Aus »IBM Techn. Disci. Bull.«, Vol. 19. No. 10,
März 1977. Seiten 3955—6 ist es bekannt, Silizium- f
Schichten nach dem Aufbringen zur Verbesserung der Kristallinität aufzuschmelzen.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, bei einem Verfahren der eingangs genannten Art die Qualität der Silizium-Schicht zu verbessern. Diese Aufgabe wird nach der Erfindung dadurch gelöst, daß das Silizium in einer Gas-Atmosphäre aufgebracht wird, welche mit dem Silizium nur wenig, mit den Verunreinigungen im Silizium jedoch stark reagiert. ύ
Zu diesem Zweck enthält die Lichtbogen- oder Plasm&a'Tnosphäre beispielsweise Gase wie HCI. HF, CI2, h oder S2. Durch Pulverisieren und Behandeln mit HCI läßt sich Silizium-Pulver beispielsweise von Verunreinigungen wie metallischem Al, Mg oder Na befreien.
Gemäß einer Weiterbildung der Erfindung wird die $
Silizium-Schicht nach dem Aufbringen auf den Träger :'
mit Hilfe eines Lichtbogen-Strahls. Plasma-Strahls oder eines fokussierten Licht- oder LASER-Strahls kurzzeitig aufgeschmolzen.

Claims (2)

Patentansprüche:
1. Verfahren zum Herstellen einer eine Silizium-Schicht aufweisenden Solarzelle, bei dem das Silizium mit Hilfe von Lichtbogen-Spritzen oder Plasma-Spritzen in einer Gas-Atmosphäre auf einen Träger aufgebracht wird, dadurch gekennzeichnet, daß das Silizium in einer Gas-Atmosphäre aufgebracht wird, weiche mit dem Silizium nur wenig, mit den Verunreinigungen im Silizium jedoch stark reagiert.
2. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem das Silizium nach dem Aufbringen einer Wärmebehandlung unterzogen wird, dadurch gekennzeichnet, daß die Silizium-Schicht bei der Wärmebehandlung aufgeschmolzen wird.
DE2941908A 1979-10-17 1979-10-17 Verfahren zum Herstellen einer eine Silizium-Schicht aufweisenden Solarzelle Expired DE2941908C2 (de)

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