DE2933686A1 - Aetzmittel und verfahren zur korrektur verchromter tiefdruckzylinder - Google Patents

Aetzmittel und verfahren zur korrektur verchromter tiefdruckzylinder

Info

Publication number
DE2933686A1
DE2933686A1 DE19792933686 DE2933686A DE2933686A1 DE 2933686 A1 DE2933686 A1 DE 2933686A1 DE 19792933686 DE19792933686 DE 19792933686 DE 2933686 A DE2933686 A DE 2933686A DE 2933686 A1 DE2933686 A1 DE 2933686A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
etching
etchant
etchant according
post
aqueous
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE19792933686
Other languages
English (en)
Inventor
Wilhelm Dr. 6101 Roßdorf Bäumer
Dieter Dipl.-Ing. Dr. 6101 Dieburg Schmitt
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Merck Patent GmbH
Original Assignee
Merck Patent GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Merck Patent GmbH filed Critical Merck Patent GmbH
Priority to DE19792933686 priority Critical patent/DE2933686A1/de
Priority to DE8080104496T priority patent/DE3062036D1/de
Priority to EP80104496A priority patent/EP0024318B1/de
Priority to ES494321A priority patent/ES8106753A1/es
Priority to US06/180,059 priority patent/US4308091A/en
Priority to JP11358180A priority patent/JPS5629674A/ja
Publication of DE2933686A1 publication Critical patent/DE2933686A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F1/00Etching metallic material by chemical means
    • C23F1/10Etching compositions
    • C23F1/14Aqueous compositions
    • C23F1/16Acidic compositions
    • C23F1/26Acidic compositions for etching refractory metals

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

Merck Patent Gesellschaft 16. August 1979
mit beschränkter Haftung Darmstadt
Ätzmittel und Verfahren zur Korrektur verchromter Tiefdruckzylinder
ιό ■: 013/0317
Ätzmittel und Verfahren zur Korrektur verchromter Tiefdruckzylinder
Bei der Herstellung von Tiefdruckzylindern werden in bekannter Weise die Bildvorlagen auf einen Kupferzylinder übertragen. Dabei werden entweder durch Gravieren oder durch Ätzen auf dem Kupferzylinder kleine Näpfchen erzeugt, die durch Stege getrennt sind. Soll ein Bildteil dunkel erscheinen, so befinden sich für diesen Bereich auf dem Zylinder sehr viele große und tiefe Näpfchen. Soll ein Bildteil hell erscheinen, so sind die Näpfchen entsprechend klein und flach.
Die Übertragung des Bildeindruckes auf den Zylinder in Form von kleinen und großen Näpfchen gelingt praktisch nie so exakt, daß beim Druck das entsprechende Bild tatsächlich der gewünschten Vorlage entspricht. Es ist deshalb notwendig, diese Näpfchen nachträglich noch zu vergrößern oder zu verkleinern. Erscheint eine Farbe an einer Stelle zu hell, so müssen die Näpfchen in diesem Bereich des Zylinders so vergrößert werden, daß mehr Druckfarbe vom Näpfchen aufgenommen und auf das Bild übertragen werden kann. Bei diesem Korrekturvorgang werden die Stege durch eine sogenannte Nachätzfarbe geschützt. Diese Nachätzfarbe ist eine schwarze Paste, die mit Hilfe einer Walze in einer sehr dünnen Schicht auf die Stege im zu korrigierenden Bildbereich aufgewalzt wird. Solange die Zylinderoberfläche noch aus Kupfer besteht, wird danach durch Ätzen mit einer Eisen-III-Salzlösung das Kupfer im Näpfchen aufgelöst und dadurch das Näpfchen vergrößert.
1 30013/031 7
Tiefdruckzylinder für hohe Druckauflagen müssen jedoch verchromt werden. Nach der Verchromung muß dann mit dem verchromten Zylxnder ein Probedruck ausgeführt werden. Wenn dabei festgestellt wird, daß die Farbtiefe in einigen Bildbereichen zu hell erscheint, so wird auf die Stege des verchromten Zylinders in den betreffenden Bildbereichen in der vorstehend beschriebenen Weise die Nachätzfarbe aufgewalzt; Bildbereiche, die nicht korrigiert werden sollen, werden mit einen Asphaltlack abgedeckt. Nach diesen Schutzmaßnahmen wird der Zylxnder mit einer Ätzlösung behandelt, die die Chroms ciiicht in kontrollierbarer Weise auflöst, so daß das Volumen der Näpfchen vergrößert wird. Bei diesen; Ätzvorgang ist es von großer Bedeutung, daß die Ätzlösung die zu korrigierenden Bildteile gleichmäßig benetzt. Tritt nur eine teilweise Benetzung ein, so wird dieser Bildbereich ungleichmäßig geätzt und es erscheinen im Druckbild Flecken und Streifen. Von einem guten Ätzmittel wird deshalb verlangt, daß es die zu korrigierenden Zonen gleichmäßig benetzt und den Ätzvorgang gleichmäßig startet. Es ist ferner äußerst wichtig, daß das Ätzmittel die die Stege schätzende Nachätzfarbe nicht angreift. Anderenfalls werden auch die Stege, angeätzt, was beim Druckvorgang zui;: Ausbrechen und zur Beschädigung des Zylinders führt.
Die zur Zeit handelsüblichen Ätzlösungen für Chroiuschichten, die als Wirkstoff Zinkchlorid enthalten» haben die Eigenschaft, die mit Nachätzfarbe eingewalzten und geschützten otege relativ schlecht zu benetzen. Dies ist besonders ausgeprägt in Bildteilen, die sehr kleine Näpfchen und sehr breite Stege enthalten. In diesen Bereicnen ist ein sehr großer Teil
1 30013/0317
der Oberfläche mit Nachätzfarbe bedeckt, die wasserabstoßend wirkt. Gerade diese Bereiche müssen aber besonders gut von der Ätzlösung benetzt werden, wenn das Entstehen von Flecken und Streifen im Druckbild vermieden werden soll. Dabei muß jedoch andererseits sichergestellt sein, daß das Ätzmittel die mit Nachätzfarbe geschützten Stege nicht angreift. Wenn die Nachätzfarbe nämlich gut benetzt wird, besteht zugleich die Gefahr, daß auch die Chromschicht der darunter befindlichen Stege angegriffen wird. An die Ätzlösungen werden deshalb Forderungen gestellt, die sich offenbar entgegenstehen. Auch ein weiterer Nachteil der bisher verwendeten Ätzmittel ist auf das darin enthaltene Zinkchlorid zurückzuführen. Aus Umweltschutzgründen muß nämlich aus dem verbrauchten Ätzmittel das Zink möglichst vollständig entfernt werden, bevor dieses ins Abwasser gelangt. Hierzu wird die verbrauchte Ätzmittel-lösung gewöhnlich mit Natronlauge behandelt, wobei schwer lösliches Zinkhydroxid entsteht. Es hat sich jedoch in der Praxis gezeigt, daß die exakte Dosierung der Natronlauge sehr große Schwierigkeiten bereitet. Wird zu wenig Natronlauge zu der Zinkionen enthaltenden verbrauchten Ätzlösung dosiert, so bleibt noch zu viel Zink gelöst.
Wird dagegen zu viel Natronlauge zudosiert, so wird bereits ausgefälltes Zinkhydroxid wieder zum Zinkat gelöst und gelangt so ins Abwasser. Es ist deshalb in der Praxis nicht gelungen, den für Abwasser geforderten Maximalwert von etwa 2 mg Zink pro 1 zu unterschreiten.
Aufgabe der Erfindung war es deshalb, ein Ätzmittel herzustellen, das die verchromten Tiefdruckzylinder gleichmäßig benetzt und eine einfachere Abwasserbe-
1 3001 3/0317
Handlung möglich macht. Es wurde nun gefunden, daß ein derartiges Ätzmittel auf der Basis von Aluminiumchlorid hergestellt werden kann.
Gegenstand der Erfindung ist somit ein Ätzmittel für verchromte Oberflächen auf der Basis einer salzsauren wässrigen Metallchloridlösung, das dadurch gekennzeichnet ist, daß es als Metallchlorid Aluminiumchlorid und zusätzlich ein anorganisches Reduktionsmittel, einen die Viskosität steuernden Zusatzstoff und n-Propanol oder Isopropanol enthält. Gegenstand der Erfindung ist weiterhin ein Verfahren zur Korrektur verchromter Tiefdruckzylinder unter Verwendung eines derartigen Ätzmittels.
Es wurde überraschenderweise gefunden, daß beim Korrigieren von verchromten Zylindern unter Verwendung des erfindungsgemäßen Ätzmittels die Bereiche mit kleinen Näpfchen und breiten Stegen, die durch Nachätzfarbe geschützt sind, besonders gut benetzt werden. Trotzdem wird die Nachätzfarbe auf den Stegen nicht angelöst, so daß die Stege durch das erfindungsgemäße Ätzmittel nicht angegriffen werden. Ferner zeichnet sich das erfindungsgemäße Ätzmittel durch ein äußerst gleichmäßiges Ätzen aus. Es ist damit erstmals möglich, Bildbereiche, die beim Druck zu schwache Farbtöne geben, so zu korrigieren, daß die entsprechenden Näpfchen alle gleichmäßig vergrößert werden. Dadurch wird das Auftreten von Flecken und Streifen im Druckbild vermieden. Ferner wird durch das gute Benetzen und das gleichmäßige Ätzen gewährleistet, daß auch Zylinderbereiche mit großen Näpfchen und schmalen Stegen einwandfrei bearbeitet werden können. Gerade diese Bereiche mit schmalen Stegen sind beim Druck am stärksten durch
1 3001 3/031 7
das Rakeln gefährdet. Durch das erfindungsgemäße Ätzmittel können mit den korrigierten Zylindern wesentlich höhere Druckauflagen als bisher erreicht werden.
Ferner ist es bei der Verwendung des erfindungsgemäßen Ätzmittels möglich, die ins Abwasser gelangenden verbrauchten Ätzlösungen in an sich üblicher Weise durch Neutralisation mit Natronlauge so weitgehend von Metallionen zu befreien, daß die vorgeschriebenen maximalen Konzentrationen an diesen weit unterschritten werden. In Versuchen unter Praxisbedingungen wurden bei Anwendung des erfindungsgemäßen Ätzmittels im Abwasser jeweils etwa 0,1 mg/1 an Aluminium, Nickel, Kupfer und Chrom gefunden, während bei Verwendung der bisher bekannten Ätzmittel auf der Basis von Zinkchlorid die Abwasserkonzentrationen an Zink, Nickel, Kupfer und Chrom etwa 50 bis 100 mal höher waren. Es wird vermutet, daß die niedrigen Schwermetallkonzentrationen bei Verwendung des erfindungsgemäßen Ätzmittels durch Adsorption der gelösten Schwermetallionen an das bei der Neutralisation ausgefällte Aluminiumhydroxid erreicht werden.
Die erfindungsgemäßen Ätzmittel enthalten in wäßriger Lösung 10 bis 50 Gewichtsprozent Aluminiumchlorid-5 hexahydrat und 1 bis 5 Gewichtsprozent Salzsäure. Das anorganische Reduktionsmittel ist bevorzugt unterphosphorige Säure, die in Form eines wasserlöslichen Salzes, zum Beispiel Natrium-hypophosphit-dihydrat (1 bis 5 Gewichtsprozent) eingesetzt wird. Prinzipiell kann jedoch auch eine äquivalente Menge schweflige Säure oder ein Alkalimetallsulfit verwendet werden.
130013/031 7
Als die Viskosität steuernder Zusatzstoff kann im Prinzip jeder verwendet werden, der mit den übrigen Komponenten des erfindungsgemäßen Ätzmittels verträglich ist. Bevorzugt werden wäßrige Lösungen bzw. Sole von Sorbit, niedermolekularem Polyvinylpyrrolidon, Polyvinylalkohol, Hydroxyäthyl- oder Hydroxypropylzellulose verwendet. Die Menge dieses Zusatzmittels richtet sich nach der gewünschten Viskosität und kann daher in weiten Grenzen variiert werden. So können erfindungsgemäße Ätzmittel beispielsweise 1 bis 25 Gewxchtsprozent, bevorzugt 5 bis 10 Gewichtsprozent Sorbit enthalten.
Die mit dem erfindungsgemäßen Ätzmittel erzielbare Ätzgeschwindigkeit wird durch den Zusatz von n- oder iso-Propylalkohol gesteuert, Ätzmittel mit einem geringen Gehalt an Alkohol erlauben hohe Ätzgeschwindigkeiten, die vorteilhaft be:- der Durchführung von Korrekturen mit großen Korrekturwerten eingesetzt werden. Wenn dagegen nur eine kleine Korrektur erforderlich ist, wird vorzugsweise ein Ätzmittel mit einem höheren Gehalt an n- bzw. iso-Propylalkohol angewandt. Die verwendeten Mengen n- bzw. iso-Propylalkohol betragen zwischen '; und 10 Gewichtsprozent des Ätzmittels,
3 0 0 13/0317
Beispiel
(a) Herstellung des Ätzmittels
3,2 kg Aluminiumchlorid-hexahydrat,
1,5 kg wäßrige Salzsäure (37 %) ,
1,0 kg wäßrige Sorbitlösung (60 %) und
0,3 kg Natriumhypophosphit-dihydrat
werden in 4 1 Wasser unter Rühren gelöst. Zu dieser Lösung werden 500 g n-Propylalkohol zugefügt.
(b) Anwendung
Ein verchromter Tiefdruckzylinder mit einer 6 um starken Chromauflage, bei dem die Stege in üblicher Weise durch Überwalzen mit einer Nachätzfarbe geschützt sind, wird mit dem nach (a) hergestellten Ätzmittel Übergossen. Die gesamte übergossene Fläche wird gleichmäßig benetzt; nach etwa 30 see. beginnt die Ätzung in allen Näpfchen gleichmäßig. Bildbereiche mit tiefen Farbtönen, d.h. mit tiefen Näpfchen und einer etwas dünneren Chromauflage sind nach etwa 4 Minuten soweit durchgeätzt, daß die darunter befindliche Kupferoberfläche sichtbar wird. Bildbereiche mit flacheren Näpfchen und einer dementsprechend etwas stärkeren Chromauflage sind nach 6 Minuten bis auf die darunterliegende Kupferschicht durchgeätzt. Nach ausreichender Ätzung wird das Ätzmittel mit Wasser abgespült und die Nachätzfarbe von den Stegen mit Toluol abgewaschen. Nach dem Trocknen wird durch mikroskopische Untersuchung festgestellt, daß die Stege
130013/031 7
/11
nicht angegriffen sind und alle Näpfchen, die mit dem Ätzmittel in Berührung gekommen waren, gleichmäßig vergrößert sind.
Bei Anwendung einer sonst gleichartig zusammengesetzten Ätzmischung mit 600 g n-Propylalkohol beträgt die Durchätzzeit an den Stellen mit der schwächsten Chromauflage 6 Minuten. Auch von dieser Ätzmischung werden die mit Nachätzfarbe geschützten Stege nicht angegriffen.
(c) Abwasseruntersuchung
Die abgespülte Ätzmittellösung wurde mit verdünnter Natronlauge neutralisiert (pH 7). Die ausgefällten Metallhydroxide wurden abfiltriert und das Filtrat auf Aluminium, Kupfer, Nickel und Chrom analysiert. Dabei wurden Metallgehalte von weniger als 0,1 mg/1 gefunden.
Bei einem Parallelversuch mit einem handelsüblichen Ätzmittel auf der Basis von Zinkchlorid wurden nach gleicher Aufarbeitung etwa 20 mg/1 Zink und je 2 - 12 mg/1 an Kupfer, Nickel und Chrom gefunden.
Analoge Ergebnisse werden mit Ätzmischungen erhalten, die anstelle der Sorbitlösung eine wässrige Lösung von Polyvinylpyrrolidon bzw. ein Hydroxyäthylzellulose-Sol enthalten.
130013/0317

Claims (8)

Merck Patent Gesellschaft mit beschränkter Haftung Darmstadt Patentansprüche:
1. Ätzmittel für verchromte Oberflächen auf der Basis einer ein anorganisches Reduktionsmittel enthaltenden wässrigen salzsauren Metallchloridlösung, dadurch gekennzeichnet, daß es als Metallchlorid Aluminiumchlorid enthält.
2. Ätzmittel nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es zusätzlich einen die Viskosität steuernden Zusatzstoff enthält.
3. Ätzmittel nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß es zusätzlich n- oder iso-Propylalkohol enthält.
4. Ätzmittel nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es 10 bis 50 Gewichtsprozent Aluminiumchlorid enthält.
5. Ätzmittel nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der die Viskosität steuernde Zusatzstoff ein wässriges Sol einer Hydroxyäthyl- oder Hydroxypropylzellulose, eine wässrige Sorbitlösung oder eine wässrige Lösung eines wasserlöslichen Polymeren ist.
13 0 013/0317
6. Ätzmittel nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß es 1 - 10 Gewichtsprozent n- oder iso-Propylalkohol enthält.
7. Ätzmittel nach den Ansprüchen 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß das Reduktionsmittel unterphosphorige Säure oder schwefelige Säure oder ein wasserlösliches Salz einer dieser Säuren ist.
8. Verfahren zur Korrektur verchromter Tiefdruckzylinder durch Aufwalzen einer die Stege schützenden Nachätzfarbe, Behandlung mit einem Ätzmittel und anschließenden Abwaschen des Ätzmittels und der Nachätzfarbe, dadurch gekennzeichnet, daß man den Zylinder mit einem Ätzmittel nach den Ansprüchen 1 - 7 behandelt.
i : T, 0 1 3 / 0 3 1 7 COPy
DE19792933686 1979-08-20 1979-08-20 Aetzmittel und verfahren zur korrektur verchromter tiefdruckzylinder Withdrawn DE2933686A1 (de)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19792933686 DE2933686A1 (de) 1979-08-20 1979-08-20 Aetzmittel und verfahren zur korrektur verchromter tiefdruckzylinder
DE8080104496T DE3062036D1 (en) 1979-08-20 1980-07-30 Etching composition and process for correcting chromium coated cylinders for intaglio printing
EP80104496A EP0024318B1 (de) 1979-08-20 1980-07-30 Ätzmittel und Verfahren zur Korrektur verchromter Tiefdruckzylinder
ES494321A ES8106753A1 (es) 1979-08-20 1980-08-18 Procedimiento para corregir cilindros de impresion cromados
US06/180,059 US4308091A (en) 1979-08-20 1980-08-20 Etching medium and process for the correction of chromed gravure cylinders
JP11358180A JPS5629674A (en) 1979-08-20 1980-08-20 Etching agent and compensating method of chromium plated gravure cylinder

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19792933686 DE2933686A1 (de) 1979-08-20 1979-08-20 Aetzmittel und verfahren zur korrektur verchromter tiefdruckzylinder

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE2933686A1 true DE2933686A1 (de) 1981-03-26

Family

ID=6078865

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19792933686 Withdrawn DE2933686A1 (de) 1979-08-20 1979-08-20 Aetzmittel und verfahren zur korrektur verchromter tiefdruckzylinder
DE8080104496T Expired DE3062036D1 (en) 1979-08-20 1980-07-30 Etching composition and process for correcting chromium coated cylinders for intaglio printing

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE8080104496T Expired DE3062036D1 (en) 1979-08-20 1980-07-30 Etching composition and process for correcting chromium coated cylinders for intaglio printing

Country Status (5)

Country Link
US (1) US4308091A (de)
EP (1) EP0024318B1 (de)
JP (1) JPS5629674A (de)
DE (2) DE2933686A1 (de)
ES (1) ES8106753A1 (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3508920A1 (de) * 1985-03-13 1986-09-18 Wilfried 7014 Kornwestheim Philipp Metallische druckplatte fuer den tampondruck und verfahren zum herstellen eines klischees fuer den tampondruck

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4376057A (en) * 1980-11-26 1983-03-08 International Business Machines Corporation Etchant composition and use thereof
DE9218056U1 (de) * 1992-04-21 1993-06-03 Albert-Frankenthal Ag, 6710 Frankenthal Vorrichtung zum Erzeugen eines druckenden Musters auf einer Druckform-Hülse
US5630950A (en) * 1993-07-09 1997-05-20 Enthone-Omi, Inc. Copper brightening process and bath
US20090139568A1 (en) * 2007-11-19 2009-06-04 Applied Materials, Inc. Crystalline Solar Cell Metallization Methods
WO2009067483A1 (en) * 2007-11-19 2009-05-28 Applied Materials, Inc. Solar cell contact formation process using a patterned etchant material
TWI390756B (zh) 2008-07-16 2013-03-21 Applied Materials Inc 使用摻質層遮罩之混合異接面太陽能電池製造
EP2324509A2 (de) 2008-08-27 2011-05-25 Applied Materials, Inc. Rückseitenkontakt-solarzellen mit gedruckter dielektrischer barriere
WO2013106225A1 (en) 2012-01-12 2013-07-18 Applied Materials, Inc. Methods of manufacturing solar cell devices

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2687345A (en) * 1950-11-22 1954-08-24 Printing Dev Inc Etching composition for lithographic plates
GB823854A (en) * 1955-01-14 1959-11-18 Quod Bonum Nv Improvements in or relating to the retouching of etchings in intaglio printing
US3701698A (en) * 1971-01-04 1972-10-31 Clarence W Forestek Method for producing fissures in metallic surfaces of chromium
DE2654408A1 (de) * 1976-12-01 1978-08-10 Badenia Verlag Und Druckerei G Saeure zum nachaetzen von verchromten tiefdruckzylindern

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2599914A (en) * 1950-01-04 1952-06-10 Lithographic Technical Foundat Etching process
DE2234272C3 (de) * 1972-07-12 1975-09-11 Clarence Walter Broadview Heights Ohio Forestek (V.St.A.) Verfahren zur Ausbildung von Rissen in einer Chromfläche
DE2240585A1 (de) * 1972-08-18 1974-02-28 Kries Sophie Von Zinkchloridfreie aetze mit einem zusatz von hypophosphit eines alkalimetalles zum wegaetzen des chrombelages auf bi- und trimetallplatten
NL7500133A (en) * 1975-01-07 1976-07-09 Grafimex Europ Bv Aq. biodegradable etching liq. for chromium - contg. aluminium chloride phosphoric acid and calcium chloride, giving rapid etching at room temp.
US4022619A (en) * 1975-04-14 1977-05-10 Printing Developments, Inc. Composite developer-etch composition for chromium-plated lithographic printing plates

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2687345A (en) * 1950-11-22 1954-08-24 Printing Dev Inc Etching composition for lithographic plates
GB823854A (en) * 1955-01-14 1959-11-18 Quod Bonum Nv Improvements in or relating to the retouching of etchings in intaglio printing
US3701698A (en) * 1971-01-04 1972-10-31 Clarence W Forestek Method for producing fissures in metallic surfaces of chromium
DE2654408A1 (de) * 1976-12-01 1978-08-10 Badenia Verlag Und Druckerei G Saeure zum nachaetzen von verchromten tiefdruckzylindern

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Gygax: Moderne chemigraphie in Theorie und Praxis,Frankfurt 1957, S. 267 *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3508920A1 (de) * 1985-03-13 1986-09-18 Wilfried 7014 Kornwestheim Philipp Metallische druckplatte fuer den tampondruck und verfahren zum herstellen eines klischees fuer den tampondruck

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5629674A (en) 1981-03-25
JPS6331558B2 (de) 1988-06-24
US4308091A (en) 1981-12-29
EP0024318A1 (de) 1981-03-04
EP0024318B1 (de) 1983-02-16
DE3062036D1 (en) 1983-03-24
ES494321A0 (es) 1981-09-01
ES8106753A1 (es) 1981-09-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0249752B1 (de) Feuchtmittel mit einem darin enthaltenen Kolloidgemisch
DE1091433B (de) Vorsensibilisierte Flachdruckplatte
EP0024318B1 (de) Ätzmittel und Verfahren zur Korrektur verchromter Tiefdruckzylinder
DE1118009B (de) Verfahren zur Herstellung einer vorsensibilisierten Flachdruckplatte
DE1471706A1 (de) Verfahren zur Herstellung von lithographischen Platten
DE1254965B (de) Lichtempfindliches Platten- bzw. Folienmaterial
DE2905633C2 (de)
DE652900C (de) Mittel zum lithographischen AEtzen und bzw. oder Feuchten von Flachdruckformen aus Zink oder Aluminium
DE1956795A1 (de) Verfahren zur Herstellung von Offsetdruckplatten aus eloxiertem Aluminium
EP0012956A2 (de) Verfahren zum Herstellen von Flachdruckformen
DE1447900A1 (de) Verfahren zur Herstellung von lithographischen Druckformen
DE743162C (de) Verfahren zur Herstellung von Flachdruckformen
DE2226164B2 (de) Verwendung einer waessrigen, perjodationen enthaltenden loesung zum entfernen einer unloeslich gemachten, polyvinylalkohol enthaltenden oberflaechenschicht
DE1421385B2 (de) Verfahren zur herstellung einer zwischen traeger und kopierschicht befindlichen hydrophilen zwischenschicht bei lithographischen flachdruckplatten
DE2657900A1 (de) Verfahren zum aetzen und praeparieren von offsetdruckplatten
DE410828C (de) Verfahren zur Herstellung von lithographischen Druckformen
DE159875C (de)
DE585398C (de) Trocken-Flachdruckverfahren, bei dem eine Druckplatte direkt beschrieben oder durch UEbertragung mit einem in Umdruckfarbe hergestellten Druckbilde versehen wird
AT99011B (de) Verfahren zur Herstellung von Vervielfältigungen.
DE1961316C3 (de) Verfahren zur Herstellung einer Stahlstichdruckplatte
AT328473B (de) Atzmittel fur die herstellung von druckformen aus linoleum
CH102550A (de) Verfahren zur Erzeugung einer Druckform für Vervielfältigungszwecke.
AT160055B (de) Verfahren zur Herstellung von Flachdruckformen auf galvanischem Wege.
DE537514C (de) Verfahren zum Erzeugen von Druckbildern auf Druckplatten, insbesondere Metallplatten fuer den Offsetdruck
DE399621C (de) Herstellung von Druckformen fuer Vervielfaeltigungen

Legal Events

Date Code Title Description
OM8 Search report available as to paragraph 43 lit. 1 sentence 1 patent law
8139 Disposal/non-payment of the annual fee