DE2856782A1 - Elektronenoptik-objektiv - Google Patents
Elektronenoptik-objektivInfo
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Description
Patentanwälte
E. Prinz - Dr. G. Hauser - G. Leiser
8 München 60
29. Dezember 1978
THOMSON - CSP
173, Bd. Haussmann
75008 PARIS / Frankreich
Unser Zeiohen: T 3199
Elektronenopt ik-Ob j ekt iv
Die Erfindung betrifft ein Elektronenoptik-Objektiv nach dem
Oberbegriff des Anspruchs "1, das insbesondere bei der Mikrolitb.ograph.ie
Anwendung finden kann.
Die hierfür verwendeten Objektive enthalten im allgemeinen eine Elektronenlinse und ein Ablenksystem, das aus Spulen
gebildet ist, die es ermöglichen, je nach der stärke des sie durchfließenden elektrischen Stromes das Elektronenbündel
In einer vorbestimmten Riohtung abzulenken, wobei die Stärke dieser Ablenkung in vorbestimmter Weise, vorzugsweise
linear und zunehmend, von dieser Stärke abhängig ist. Die bekannten Objektive weisen bestimmte Nachteile auf. Insbesondere
sind sie die Ursaοhe für Aberrationen, und das
Auftreten von Wirbelströmen verlängert die Ansprechzeit. Außerdem sind sie nicht linear.
98982 8/0831
Aufgabe der Erfindung ist es, die vorstehend dargelegten, bei den bekannten Objektiven auftretenden Mängel zu beheben.
Die Erfindung geht aus von einem Ablenkobjektiv, das eine rotationssymmetrische magnetische Linse aufweist, mit
Polstücken, die einen Magnetkreis bilden,der auf seiner optischen Achse ein axiales Magnetfeld erzeugt, dessen
Intensität von einem Ende der Linse zum anderen variiert, und mit wenigstens einem aus Magnetspulen gebildeten Ablenkelement,
das ein Feld mit in Abhängigkeit von dem die Spulen durchlaufenden Strom variabler Intensität erzeugt
und die Ablenkung des Elektronenstrahls in den vorbestimmten Richtungen verursacht. Gemäß der Erfindung ist dieses
Objetiv im wesentlichen dadurch gekennzeichnet, daß dieses
Ablenkelement eine erste Stufe und eine zweite Stufe enthält, von denen die erste stromaufwärts von dem Elektronenstrahl
und die zweite stromabwärts von dem Elektronenstrahl angeordnet ist, wobei die erste Stufe in einem Bereich
angeordnet ist, wo das axiale Magnetfeld ungefähr ein Zehntel seines Maximalwertes aufweist und wobei die zweite
Stufe in einem Bereich angeordnet ist, wo dieses Feld die Hälfte dieses Wertes erreicht, daß das Magnetfeld entlang
der Elektronenbahn zunächst mit einer relativ geringen Steigung zunimmt und seinen Maximalwert in der unmittelbaren
Nähe der Austrittspupille erreicht und in der Ebene dieser Blende verschwindet, und daß die zwei Stufen gleich
ausgebildet, jedoch gegeneinander um einen bestimmten Winkel θ verdreht sind, wobei die Polstücke der Elektronenlinse
ein Ferritelement enthalten, das von einem Weicheisenelement durch einen Luftspalt getrennt ist.
Weitere Merkmale und Vorteile der Erfindung ergeben sich aus der Beschreibung von Ausführungsbeispielen anhand der
Figuren. Von den Figuren zeigen:
909828/0831
Fig. 1 eine Querschnittsansicht dea erfindungsgemäßen
Objektivs;
Fig. 2 die Kurve der Änderung des axialen Magnetfeldes
entlang der optischen Aoh.se der Linse und die jeweilige Lage der Ablenkeinrichtungen auf dieser
Achse;
Fig. 3 eine Draufsicht eines Ausführungsbeispiels einer bei der erfindungsgemäßen Vorrichtung verwendeten
Ablenkeinrichtung und
Fig. 4 eine Seitenansicht von zwei Ablenkeinrichtungen,
wobei die Winkelverschiebung dazwischen dargestellt ist.
Das Objektiv ist in bezug auf seine Achse ζ ζ1 rotationssymmetrisch.
Es enthält einen aus zwei Teilen 1, 2 gebildeten Kern, wovon der eine den anderen umgibt.
Der innere Teil 2 ist aus Ferrit und enthält einen zylindrischen
Teil 21, der mit zwei Kegelstümpfen 22, 23 verbunden ist, die in der Nähe der Austrittsblenkde 3 eine Aufweitung
bilden.
Der äußere Teil 1 aus Weicheisen umgibt eng anliegend den Teil 2. Der äußere Teil ist durch einen Luftspalt von dem
Teil 2 getrennt und schließt sich über die Austrittspupille. Die Austrittspupille wird durch einen Aufbau 5 aus Dural
gehaltert, der wiederum von dem unteren Teil des Polstücks gehalten wird. Erfindungsgemäß sind zwei magnetische Ablenkeinrichtungen
6, 7 vorgesehen, von denen die Einrichtung 6 stromaufwärts in dem Teil 21 der Linse und die andere
auf der Höhe des Kegelstumpfes 22 angeordnet ist.
9Θ9828/0831
Ü856782
Eine auf der Einlaßseite des Objetivs angeordnete Blende
begrenzt den Durchmesser des Elektronenbündels.
Die zwei Ablenk- bzw. Umlenkeinrichtungen sind jeweils
aus einem Spulensystem gebildet, das ein zur Achse ζ ζ· senkrechtes Magnetfeld erzeugt.
Eine Wicklung 9 umgibt die Teile 1 und 2.
Pig. 2 zeigt als Beispiel die Änderung der Intensität des Magnetfeldes, die durch die Linse entlang ihrer Achse erzeugt
wird, wobei der Ursprung ζ = 0 in der Ebene der Austrittsblende liegt und die Abszisse in Zentimetern und
die Ordinate in Gauß unterteilt ist. Die stromaufwärts liegende Ablenkeinrichtung 6 liegt in einem Bereich» wo
das Feld 10 Gauß nicht überschreitet und die andere Ablenkeinrichtung 7 liegt stromabwärts in einem Bereich, wo
das Feld zwischen 100 und 200 Gauß variiert.
Das Magnetfeld erreicht nach Durchlaufen einer relativ geringen Steigung seinen Maximalwert von 300 Gauß bei
ungefähr ζ = -1 cm und fällt für ζ = 0 auf den Wert Null ab. Für diese Voraussetzungen zeigt Fig. 3 eine Draufsicht
einer der Ablenkeinrichtungen, wobei die andere gleich ausgebildet ist, und Fig. 4 zeigt eine Perspektivansicht
der beiden Ablenkeinrichtungen. Aus Gründen der Klarheit ist in Fig. 4 nur ein Teil jeder Ablenkeinrichtung gezeigt.
Gemäß Fig. 3 enthält jede Ablenkeinrichtung zwei Teile 61 und 62 bzw. 71 und 72, wovon das eine zur x-Ablenkung und
das andere zur y-Ablenkung bestimmt ist. Jedes Teil ist in
zwei bezüglich der Achse ζ ζ1 symmetrische Wicklungen unterteilt,
die in Reihe geschaltet sind. Jede dieser Wicklungen ist, wie in Fig. 4 gezeigt, um einen Drehzylinderabschnitt
mit einem Öffnungswinkel von 120° gewickelt.
99-9828/083 T
Die zwei Teile sind so angeordnet, daß ihre transversalen
Symmetrieachsen zueinander senkrecht sind.
Bei einem Ausführungsbeispiel beträgt die gemeinsame Höhe der Zylinder 3 cm, der Durchmesser des inneren Zylinders
liegt in der Größenordnung von 2,4 cm, und der Durchmesser des äußeren Zylinders liegt in der Größenordnung von 5 cm.
Jede Ablenkeinrichtungsha'- fte 61, 62 bzw. 71, 72 wird von
einem variablen Strom durohlaufen. Die die Wicklungen 61, 71 bzw. 62, 72 durchlaufenden Ströme sind jeweils proportional
den Ablenkungsamplituden des Bündels entlang den beiden zueinander senkrechten Achsen Ox und Oy, die zusammen
mit der ζ ζ'-Achse ein dreidimensionales rechtwinkliges
Bezugskoordinatensystem bilden, wobei die Achsen
Ox und Oy in der Ebene des abzutastenden Objektes liegen.
Gemäß der Darstellung in Pig. 4 sind die beiden Ablenkeinrichtungen
gegeneinander um einen Winkel θ = 180° + α verdreht,
wobei α zwischen 35° und 45° liegt. Das Intensitätsverhältnis der beiden Ablenkeinrichtungen ist konstant und
beträgt etwa gleich 2.
Durch Versuche und Rechnung kann gezeigt werden, daß das erfindungsgemäße Objektiv folgende Vorteile aufweist:
a) Durch die Trennung des Ferritteils 2 von dem Metallteil 1
wird das Auftreten von Wirbelströmen verhindert, die den Aufbau des Magnetfeldes in der Mitte jeder Ablenkeinrichtung
verzögern, wenn ein Stromimpuls durch die Wicklungen geschickt wird.
Durch das Vorhandensein eines Weicheisenpolstücks wird jedoch jegliche Sättigung des Perritteils dann verhindert,
wenn die Linse eine starke Konvergenz aufweist.
θ 0·9 828/0831
Die Ablenkung durch zwei aufeinanderfolgende Ablenkstufen und deren gegenseitige Winkelversetzung ermöglicht
die Erzielung minimaler Aberrationen, insbesondere dann, wenn die obere Ablenkeinrichtung in
einem Bereich angeordnet ist, wo das Axialfeld schwach ist, und die zweite Ablenkeinrichtung in einem Bereioh
angeordnet ist, wo das Axialfeld stark ist. Die zweite Ablenkeinrichtung muß von der Austrittspupille und den
aus Eisen gebildeten Polstücken weit genug entfernt sein, damit das davon erzeugte transversale Feld sich
nicht in dem unteren Polstück schließt.
9 0 9 B 7 M / Π R 3 1
Leerseite
Claims (3)
- PatentanwälteDipl.-Ing. Dipl.-Chem. Dipl.-Ing.E. Prinz - Dr. G. Hauser - G. LeiserErnsbergerstrasse 198 München 6029. Dezember 1978THOMSON - CSP173, Bd. Hausstnann75008 PARIS / FrankreichUnser Zeichen: T 3199"PatentansprücheElektronenoptik-Objektiv mit einer rotationssymmetrischen magnetischen Linse, die entlang ihrer optischen Achse ein axiales Magnetfeld erzeugen kann, das von der Eintrittsblende zur Austrittsblende variiert, und mit wenigstens einer aus Magnetspulen gebildeten Ablenkeinrichtung, die ein Magnetfeld variabler Intensität erzeugt und die Ablenkung des Elektronenstrahls in einer bestimmten Richtung bewirkt, dadurch gekennzeichnet, daß zwei Spulensysteme (6, 7) vorgesehen sind, von denen das eine in der Nähe der Eintrittspupille (8) und das andere in der Nähe der Austrittspupille (3) angeordnet ist, wobei ersteres System (6) in einem Bereich angeordnet ist, wo das Axialfeld ungefähr ein Zehntelseines Maximalwertes aufweist, und wobei das zweite Spulensystem (7) in einem Bereich angeordnet ist, wo das Axialfeld ungefähr die Hälfte dieses Wertes beträgt, daß das Axialfeld von der Eintrittpupille (8) zur Austrittspupille (3) hin mit einer relativ geringen Steigung zunimmt, seinen Maximalwert in der unmittelbarenLei/GlNähe der Austrittspupille (3) annimmt und in der Ebene der Austrittspupille verschwindet, daß die beiden Spulensysteme (6, 7) einander gleich, sind und um einen bestimmten winkel θ gegeneinander verdreht sind und daß die Polstücke der Linse ein Weicheisenelement (1) und ein Eerritelement (2) enthalten, die voneinander durch einen Luftspalt getrennt sind.
- 2. Elektronenoptik-Objektiv nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Winkel θ zwischen 215° und 225° liegt.
- 3. Elektronenoptik-Objektiv nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß jedes Spulensystem (6, 7) ein System aus vier Spulen enthält, die jeweils paarweise einander gegenüber angeordnet sind und zwei Paare bilden, und daß die Spulen auf Abschnitte eines Drehzylinders aufgewickelt sind, dessen Rotationssymmetrieachse die Linsenachse ist.4· Elektronenoptik-Objektiv nach einem der Ansprüche 1 bis 3, gekennzeichnet durch seine Verwendung in einem Mikrolithographiesystem.989R7 3/Π831
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Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5738544A (en) * | 1980-08-19 | 1982-03-03 | Matsushita Electronics Corp | Electromagnetic deflection system picture tube system equipment |
JPS5788659A (en) * | 1980-11-21 | 1982-06-02 | Jeol Ltd | Electron ray device |
JPS57206173A (en) * | 1981-06-15 | 1982-12-17 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Focusing deflecting device for charged corpuscule beam |
NL8301712A (nl) * | 1983-05-13 | 1984-12-03 | Philips Nv | Kleurenbeeldbuis. |
US4544846A (en) * | 1983-06-28 | 1985-10-01 | International Business Machines Corporation | Variable axis immersion lens electron beam projection system |
NL8801208A (nl) * | 1988-05-09 | 1989-12-01 | Philips Nv | Geladen deeltjes bundel apparaat. |
DE69633505T2 (de) * | 1996-07-25 | 2005-03-03 | Advantest Corp. | Ablenksystem |
FR2837931B1 (fr) * | 2002-03-29 | 2004-12-10 | Cameca | Dispositif de mesure de l'emission de rayons x produite par un objet soumis a un faisceau d'electrons |
US8642959B2 (en) * | 2007-10-29 | 2014-02-04 | Micron Technology, Inc. | Method and system of performing three-dimensional imaging using an electron microscope |
US10008360B2 (en) * | 2015-01-26 | 2018-06-26 | Hermes Microvision Inc. | Objective lens system for fast scanning large FOV |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3736423A (en) * | 1970-05-13 | 1973-05-29 | Hitachi Ltd | Electron lens of magnetic field type for an electron microscope and the like |
US3753034A (en) * | 1969-10-10 | 1973-08-14 | Texas Instruments Inc | Electron beam apparatus |
US3801792A (en) * | 1973-05-23 | 1974-04-02 | Bell Telephone Labor Inc | Electron beam apparatus |
US3978338A (en) * | 1974-04-16 | 1976-08-31 | Nihon Denshi Kabushiki Kaisha | Illumination system in a scanning electron microscope |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS561744B2 (de) * | 1973-06-26 | 1981-01-14 | ||
JPS5169327A (en) * | 1974-12-03 | 1976-06-15 | Canon Kk | Ekishoku dosochi |
US4162403A (en) * | 1978-07-26 | 1979-07-24 | Advanced Metals Research Corp. | Method and means for compensating for charge carrier beam astigmatism |
-
1978
- 1978-01-03 FR FR7800049A patent/FR2413776A1/fr active Granted
- 1978-12-29 DE DE19782856782 patent/DE2856782A1/de active Granted
- 1978-12-31 JP JP16436778A patent/JPS54101276A/ja active Granted
-
1979
- 1979-01-02 GB GB7968A patent/GB2012105B/en not_active Expired
-
1980
- 1980-05-30 US US06/154,911 patent/US4330709A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3753034A (en) * | 1969-10-10 | 1973-08-14 | Texas Instruments Inc | Electron beam apparatus |
US3736423A (en) * | 1970-05-13 | 1973-05-29 | Hitachi Ltd | Electron lens of magnetic field type for an electron microscope and the like |
US3801792A (en) * | 1973-05-23 | 1974-04-02 | Bell Telephone Labor Inc | Electron beam apparatus |
US3978338A (en) * | 1974-04-16 | 1976-08-31 | Nihon Denshi Kabushiki Kaisha | Illumination system in a scanning electron microscope |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2413776A1 (fr) | 1979-07-27 |
FR2413776B1 (de) | 1980-09-19 |
DE2856782C2 (de) | 1991-03-07 |
GB2012105A (en) | 1979-07-18 |
US4330709A (en) | 1982-05-18 |
JPS54101276A (en) | 1979-08-09 |
JPS6216502B2 (de) | 1987-04-13 |
GB2012105B (en) | 1982-09-15 |
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Representative=s name: PRINZ, E., DIPL.-ING. LEISER, G., DIPL.-ING., PAT. |
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