DE69633505T2 - Ablenksystem - Google Patents

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Description

  • Die Erfindung betrifft ein Ablenksystem für einen Korpuskularstrahl sowie ein Korpuskularstrahlgerät mit einem derartigen Ablenksystem.
  • In Korpuskularstrahlgeräten und hier insbesondere in Elektronenstrahlgeräten, wie Rastermikroskopen, Elektronenstrahlschreibern und Elektronenstrahltestern muss der Korpuskularstrahl schnell abgelenkt werden können. Dies ist sowohl zum Abrastern der Oberfläche im Abbildungsbetrieb als auch zur Strukturerzeugung in Elektronenstrahlschreibern der Fall. Es wird dabei angestrebt, die Abrasterung des Elektronstrahls möglichst schnell durchzuführen, um erstens einen schnellen Bildeindruck und zweitens eine schnelle Strukturierung im Schreiber zu ermöglichen.
  • Bei der Strahlablenkung unterscheidet man prinzipiell zwischen magnetischer und elektrostatischer Ablenkung.
  • Magnetische Ablenker haben den Vorteil, dass sie außerhalb des Vakuums angeordnet werden können und sind dadurch relativ problemlos in das Korpuskularstrahlgerät zu integrieren. Nachteilig wirken sich jedoch Wirbelströme aus, die durch elektrisch leitfähiges Material in der Nähe des magnetischen. Ablenkers entstehen. Diese Wirbelströme erzeugen ebenfalls Ablenkfelder, die denen des magnetischen Ablenkers entgegenwirken. Da diese Wirbelströme mit höheren Frequenzen zunehmen, sind magnetische Ablenker in ihrem Frequenzverhalten zu hohen Ablenkfrequenzen begrenzt.
  • Elektrostatische Ablenker hingegen sind in ihrem Frequenzverhalten nicht begrenzt. Die elektrischen Felder werden durch Elektroden in der Nähe des Korpuskularstrahls erzeugt. Der Nachteil dieser Elektroden besteht jedoch darin, dass sie verschmutzen können und sich isolierende Deckschichten ausbilden. Diese können vom Korpuskularstrahl aufgeladen werden und führen zu unkontrollierten Strahlablenkungen. Aus diesem Grund werden im allgemeinen magnetische Ablenksysteme bevorzugt, sofern es ihr Frequenzverhalten erlaubt.
  • Es wurden bisher die verschiedensten Anstrengungen unternommen, den Wirbelstromeinfluß so weit als möglich zu begrenzen bzw. zu minimieren. Generell existieren zwei Arten von Wirbelströmen:
    • 1. Die erste Art von Wirbelströmen entsteht im Strahlführungsrohr, welches das Ablenksystem vom Strahl trennt und im Inneren des Ablenkers angeordnet ist. Um diesen Einfluß zu minimieren, wird entweder die Wandstärke des Rohres so dünn wie möglich gemacht und/oder das Rohr wird aus elektrisch schlecht leitendem Material hergestellt. Eine weitere Herstellungsmethode ist die Verwendung eines elektrisch isolierenden Rohres, das auf der dem Strahl zugewandten Seite mit einer dünnen, leitfähigen Schicht beschichtet wird, um Aufladungen durch den Korpuskularstrahl zu vermeiden. Beide Maßnahmen haben das Ziel, den elektrischen Widerstand für die Wirbelströme so hoch wie irgend möglich zu machen, um diese zu dämpfen.
    • 2. Die zweite Art von Wirbelströmen entsteht im Material, das das Ablenksystem außen umgibt. Dieses Material wird beispielsweise durch die Eisenumgebung einer Magnetlinse gebildet, wenn das Ablenksystem in der Innenbohrung der Magnetlinse angeordnet ist. Die Ablenkströme erzeugen dann in dem umgebenden, massiven, elektrisch leitendem Material Wirbelströme, deren Magnetfeld die Ablenkfelder schwächen. Zur Vermeidung dieser äußeren Wirbelströme ist es aus der Praxis bekannt, die Ablenkeinrichtung mit einer Abschirmung zu umgeben. Diese Abschirmung wird üblicherweise durch einen Ferritzylinder gebildet. Diese Ferritzylinder haben die positiven Eigenschaften, dass sie den magnetischen Fluß leiten, da sie eine hohe Permeabilität aufweisen und zugleich elektrisch isolierend sind. Hierdurch können sie das äußere magnetische Feld aufnehmen und zur gegenüberliegenden Spulenhälfte der Ablenkeinrichtung leiten, ohne dass das Feld in das umliegende Material eindringt. Da das Ferritmaterial elektrisch nicht leitend ist, werden somit weder im Ferritzylinder noch im umliegenden Material, im allgemeinen dem Linsenkörper, Wirbelströme erzeugt.
  • JP-A-58103755 offenbart ein Ablenksystem gemäß dem Oberbegriff des Anspruches 1. Die Abschirmung besteht aus einer Ferritschicht, die auf die Spulenhalterung der Magnetlinse aufgebracht ist.
  • Die Abschirmungen aus Ferrit haben jedoch den Nachteil, dass sie sich sehr schwer verarbeiten lassen. Sie können im wesentlichen nur geschliffen werden. Zudem ist der vorhandene Einbauplatz für derartige Abschirmungen relativ gering, so dass möglichst dünne Abschirmungen wünschenswert sind. Mit dem Ferritmaterial sind jedoch aufgrund der schlechten Verarbeitbarkeit nur sehr schwer dünne Abschirmungen herstellbar. Schließlich hat das Ferritmaterial im allgemeinen eine hohe Remanenz, was nach dem Abschalten der Magnetfelder zu verbleibenden Restfeldern führt, die eine unkontrollierte Ablenkung des Korpuskularstrahles zur Folge haben.
  • Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, eine Abschirmung für das Ablenksystem zu schaffen, die die obigen Nachteile vermeidet und sich insbesondere leicht herstellen läßt.
  • Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe durch die kennzeichnenden Merkmale der Ansprüche 1, 6 and 13 gelöst.
  • Eine erfindungsgemäße Lösung besteht darin, dass die Abschirmung aus wenigstens einer weichmagnetischen Schicht und einer elektrisch isolierenden Schicht besteht, wobei die Schichten quer zur Richtung des Korpuskularstrahls hintereinander angeordnet sind.
  • Gemäß einer zweiten erfindungsgemäßen Lösung besteht die Abschirmung aus weichmagnetischem und elektrisch isolierendem Bandmaterial, das zu einem Zylinder aufgerollt ist.
  • Indem die weichmagnetische Schicht als Bandmaterial ausgebildet ist, läßt sich die Abschirmung besonders einfach als Wickelpaket herstellen. Die Wandstärke der Abschirmung richtet sich dabei insbesondere nach dem abzuschirmenden Magnetfeld.
  • Mit Hilfe des weichmagnetischen Bandmaterials lassen sich besonders dünne Zylinder herstellen, so dass die Abschirmung insbesondere bei engen räumlichen Verhältnissen besonders vorteilhaft eingesetzt werden kann.
  • Weitere Ausgestaltungen der Erfindung sind Gegenstand der Unteransprüche und werden anhand der Beschreibung eines Ausführungsbeispieles und der Zeichnung näher erläutert.
  • In der Zeichnung zeigen
  • 1 eine schematische Darstellung eines Korpuskularstrahlgerätes,
  • 2 eine schematische Darstellung des erfindungsgemäßen Ablenksystems und
  • 3 eine Schnittdarstellung längs der Linie III–III der 2.
  • 1 zeigt ein Korpuskularstrahlgerät 1, mit dem ein gebündelter Korpuskularstrahl 2, beispielsweise ein Elektronenstrahl, in einer optischen Säule 3 erzeugt werden kann. Diese Säule 3 weist neben einer Vielzahl hier nicht gezeigter magnetischer und/oder elektrischer Linsen und Blenden zur Strahlformung im wesentlichen eine Quelle 4 zur Erzeugung des Korpuskularstrahles 2 und eine Objektivlinse 6 zur Fokussierung des Korpuskularstrahls auf eine Probe 7 auf.
  • Innerhalb der Objektivlinse 5 ist ein Ablenksystem 6 vorgesehen, um den Korpuskularstrahl 2 abzulenken, wie dies beispielsweise bei der Rasterung der Probe 7 erforderlich ist. Ferner ist ein Detektor 8 oberhalb der Objektivlinse 5 angeordnet, um die an der Probe 7 ausgelösten Korpuskel zu empfangen. Ferner kann im Bedarfsfall ein Austastsystem 9 vorgesehen werden.
  • Die Objektivlinse 5 besteht im wesentlichen aus einer Magnetlinse 50, die im vorliegenden Fall als Einzelpol-Linse ausgebildet ist, sowie einer innerhalb der Magnetlinse angeordneten elektrostatischen Linse 51. Die elektrostatische Linse weist zwei Elektroden auf, die mit unterschiedlichen Potentialen derart beaufschlagbar sind, dass die geladenen Korpuskel, beispielsweise die Elektronen, im Feld der elektrostatischen Linse von einer ersten auf eine niedrigere zweite Energie abgebremst werden. Im dargestellten Ausführungsbeispiel wird die erste Elektrode durch ein Strahlrohr 51a und die zweite Elektrode durch das untere Ende des auf Masse liegenden inneren Polschuhs 50a gebildet. Die zweite Elektrode könnte jedoch auch durch eine separate Elektrode gebildet werden.
  • Die Magnetlinse 50 besteht aus dem inneren Polschuh 50a und einem, im dargestellten Ausführungsbeispiel, teilweise konisch ausgebildeten äußeren Polschuh 50b. Zur Anregung der Magnetlinse 50 ist eine Erregerspule 50c vorgesehen.
  • Der Detektor 8 ist seitlich von der optischen Achse der optischen Säule 3 angeordnet, wobei er zwei gegenüberliegende Detektorelemente umfasst. Ansonsten ist der Detektor in an sich bekannter Art und Weise ausgestaltet, beispielsweise mit einem Szintillator oder als Sekundärkorpuskelspektrometer.
  • In einem anderen, nicht näher dargestellten Ausführungsbeispiel, kann der Detektor auch koaxial zur optischen Achse der optischen Säule 3 angeordnet werden.
  • Je nach Anwendungsfall kann der Detektor eine unterteilte Detektorfläche aufweisen, deren Ausgangssignale getrennt voneinander verarbeitbar sind.
  • Das Ablenksystem 6 ist im Inneren der Magnetlinse 50 zwischen der durch den inneren Polschuh 50a gebildeten Innenwandung und dem Strahlrohr 51a angeordnet. Die nähere Ausgestaltung des Ablenksystems 6 wird nun im folgenden anhand der 2 und 3 näher erläutert:
  • Erfindungsgemäß besteht das Ablenksystem 6 aus einer Ablenkeinrichtung 60 zur Erzeugung eines auf dem Korpuskularstrahl 2 einwirkenden Magnetfeldes und einer Abschirmung 61 zur Vermeidung von Wirbelströmen, die die Ablenkeinrichtung umgibt und das entstehende äußere Magnetfeld führt.
  • Die Ablenkeinrichtung 60 wird beispielsweise durch eine Sattelspule oder eine Toroidspule gebildet.
  • Die Abschirmung 61 besteht quer zur Richtung des Korpuskularstrahls 2 aus wenigstens einer weichmagnetischen Schicht 61a und einer elektrisch isolierenden Schicht 61b. Vorzugsweise werden die beiden Schichten 61a, 61b zusammen in Form eines Zylinders gewickelt, wobei mehrere Schichten übereinanderliegen. Im dargestellten Ausführungsbeispiel besteht die Abschirmung aus zwei weichmagnetischen Schichten 61a und zwei elektrisch isolierenden Schichten 61b.
  • Eine besonders einfache Verarbeitung lässt sich dann erreichen, wenn die weichmagnetische Schicht 61a als Bandmaterial ausgebildet ist. Die elektrisch isolierende Schicht 61b besteht beispielsweise aus Kunststoff und wird als Klebeschicht auf die weichmagnetische Schicht aufgebracht. Es sind jedoch auch andere Verbindungsarten der beiden Schichten, beispielsweise durch Dampfbeschichtung oder ähnliche Verfahren denkbar. Die Schichtstärke der elektrisch isolierenden Schicht beträgt vorzugsweise weniger als 100 μm.
  • 3 zeigt einen Schnitt längs der Linie III–III der 2, wobei zusätzlich der innere Polschuh 50a der Magnetlinse 50 dargestellt ist. Mit dem Ablenksystem lässt sich im Inneren des Strahlrohrs 51a ein Ablenkfeld erzeugen, wie es in 3 beispielhaft mittels Feldlinien 60a dargestellt. Die Ablenkeinrichtung 60 und die Abschirmung 61 sind derart auszugestalten und anzuordnen, dass das entstehende äußere Magnetfeld (Feldlinie 60b) durch die Abschirmung 61 aufgenommen und auf die andere Seite der Ablenkeinrichtung geführt wird.
  • Ist der Abstand a zwischen Magnetlinse, d.h. inneren Polschuh 50a und der Abschirmung 61 zu klein, kann es zu einem unerwünschten Übertreten des Feldes in den inneren Polschuh kommen, wie das durch die gestrichelt dargestellten Feldlinien 60c gezeigt ist. Der gleiche Effekt tritt auch dann auf, wenn die Wandstärke der Abschirmung 61 zu gering ist, so dass es zu einer Sättigung in der Abschirmung 61 kommt.
  • Da es sich bei dem inneren Polschuh 50a um ein massives, elektrisch leitendes Material handelt, entstehen im Fall des Übertritts der Feldlinien unerwünschte Wirbelströme, die dem Ablenkfeld (Feldlinie 60a) entgegenwirken. Um die Entstehung des unerwünschten Feldes (Feldlinie 60c) im Inneren Polschuh 50a zu verhindern, wird einerseits die Wandstärke der Abschirmung 61c an das durch die Ablenkeinrichtung 60 erzeugte magnetische Feld derart angepasst, dass es in der Abschirmung nicht zu einer Sättigung kommt, und zum anderen muss der Abstand a ausreichend groß gewählt werden. Diesen beiden Bedingungen steht jedoch der geringe Einbauplatz innerhalb des Polschuhes 50a entgegen.
  • Erfindungsgemäß wird daher für die Abschirmung ein weichmagnetisches Material vorgeschlagen, das sich durch eine hohe Permeabilitätszahl und eine hohe Sättigungsinduktion auszeichnet.
  • Als weichmagnetische Materialien können insbesondere Eisen-Kobalt-Nickel-Legierungen eingesetzt werden.
  • Für die erfindungsgemäße Abschirmung 61 kommen, insbesondere weichmagnetische Materialien mit einer Permeabilitätszahl μr > 10.000, einer Sättigungsinduktion von mehr als 0,2 T in Frage.
  • Bei den bisher verwendeten Ferritabschirmungen hat sich auch besonders nachteilig die hohe Remanenz ausgewirkt, die nach dem Abschalten der Magnetfelder zu bleibenden Restfeldern Anlaß gibt. Bei Verwendung von weichmagnetischem Material mit einer Koerzitivfeldstärke von weniger als 4 A/m können diese Probleme weitgehend eingeschränkt werden.
  • Bei den der Erfindung zugrundeliegenden Versuchen hat es sich als besonders vorteilhaft herausgestellt, wenn man das weichmagnetische Bandmaterial mit einer Stärke von weniger als 500 um, vorzugsweise weniger als 100 μm verwendet. Dieses Bandmaterial wird dann zusammen mit der isolierenden Schicht auf einfache Weise zu einem Zylinder gewickelt, wobei die Wicklungszahl so groß gewählt wird, dass eine ausreichende Sättigungskapazität erreicht wird.
  • Bei Verwendung des Ablenksystems in einer Objektivlinse für ein Korpuskularstrahlgerät lassen sich auf diese Weise Abschirmungen mit einer Wandstärke von weniger als 1 mm erhalten. Durch diese im Vergleich zu üblichen Ferritzylindern relativ geringen Wandstärken lässt sich eine wesentlich kompaktere Bauweise des Ablenksystems erreichen.
  • In einem zweiten erfindungsgemäßen Ausführungsbeispiel wird die Abschirmung aus weichmagnetischem Bandmaterial gebildet, das zudem elektrisch isolierend ist und zu einem Zylinder aufgerollt wird. Auch bei dieser Abschirmung werden so viele Wicklungen für die Herstellung der Abschirmung vorgenommen, dass eine ausreichende Sättigungskapazität für das erzeugte Magnetfeld gegeben ist.
  • Die erfindungsgemäßen Abschirmungen zeichnen sich durch eine sehr einfache Herstellung und kompakte Bauweise aus. Durch letzteres Merkmal lässt sich das Ablenksystem besonders vorteilhaft in Objektivlinsen für Korpuskularstrahlgeräte einbauen, bei denen nur ein relativ kleiner Einbauplatz zur Verfügung steht.

Claims (13)

  1. Ablenksystem (6) für einen Korpuskularstrahl (2) mit – einer Ablenkeinrichtung (60) zur Erzeugung eines auf den Korpuskularstrahl einwirkenden Magnetfeldes und – einer Abschirmung (61) zur Vermeidung von Wirbelströmen, die wenigstens eine weichmagnetische Schicht (61a) umfasst, welche die Ablenkeinrichtung umgibt und das entstehende äußere Magnetfeld führt, dadurch gekennzeichnet, dass die Abschirmung (61) weiterhin wenigstens eine elektrisch isolierenden Schicht (61b) umfasst, wobei die Schichten quer zur Richtung des Korpuskularstrahls (2) hintereinander angeordnet sind.
  2. Ablenksystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Abschirmung (61) zylindrisch ausgebildet ist.
  3. Ablenksystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die weichmagnetische Schicht (61a) als Bandmaterial ausgebildet ist, die zusammen mit der elektrisch isolierenden Schicht (60b) zu einem Zylinder aufgerollt ist.
  4. Ablenksystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass für die weichmagnetische Schicht (61a) eine Eisen-Kobalt-Nickel-Legierung Verwendung findet.
  5. Ablenksystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die elektrisch isolierende Schicht (61b) eine Schichtstärke von weniger als 100 μm aufweist.
  6. Ablenksystem (6) für einen Korpuskularstrahl (2) mit – einer Ablenkeinrichtung (60) zur Erzeugung eines auf den Korpuskularstrahl einwirkenden Magnetfeldes und – einer Abschirmung (61) zur Vermeidung von Wirbelströmen, die wenigstens eine weichmagnetische Schicht (61a) umfasst, welche die Ablenkeinrichtung umgibt und das entstehende äußere Magnetfeld führt dadurch gekennzeichnet, dass die Abschirmung aus weichmagnetischem und elektrisch isolierendem Bandmaterial besteht, das zu einem Zylinder aufgerollt ist.
  7. Ablenksystem nach Anspruch 1 oder 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Schichtstärke der weichmagnetischen Schicht (61a) kleiner als 500 μm, vorzugsweise kleiner als 100 μm ist.
  8. Ablenksystem nach Anspruch 1 oder 6, dadurch gekennzeichnet, dass die relative Permeabilitätszahl μr der weichmagnetischen Schicht größer 10.000 ist.
  9. Ablenksystem nach Anspruch 1 oder 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Abschirmung (61) eine Wandstärke von weniger als 1 mm aufweist.
  10. Ablenksystem nach Anspruch 1 oder 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Koerzitivfeldstärke der weichmagnetischen Schicht (61a) weniger als 4 A/m beträgt.
  11. Ablenksystem nach Anspruch 1 oder 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Sättigungsinduktion der weichmagnetischen Schicht mehr als 0,2 T beträgt.
  12. Ablenksystem nach Anspruch 1 oder 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Anzahl der Schichten wenigstens so groß gewählt wird, dass durch das entstehende äußere Magnetfeld keine Sättigung in der Abschirmung (61) auftritt.
  13. Korpuskularstrahlgerät (1) mit a) einer Quelle (4) zur Erzeugung eines Korpuskularstrahls (2), b) und einer Objektivlinse (6) mit b1) einer Magnetlinse (50) zur Fokussierung eines Korpuskularstrahls (2) und b2) einem innerhalb der Magnetlinse (50) angeordneten Ablenksystem (6) nach Anspruch 1 oder 6. enthaltend.
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