RU2614046C1 - Фокусирующе-отклоняющая система для электронных пушек - Google Patents

Фокусирующе-отклоняющая система для электронных пушек Download PDF

Info

Publication number
RU2614046C1
RU2614046C1 RU2015146091A RU2015146091A RU2614046C1 RU 2614046 C1 RU2614046 C1 RU 2614046C1 RU 2015146091 A RU2015146091 A RU 2015146091A RU 2015146091 A RU2015146091 A RU 2015146091A RU 2614046 C1 RU2614046 C1 RU 2614046C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
magnetic
focusing
electron
electron beam
lens
Prior art date
Application number
RU2015146091A
Other languages
English (en)
Inventor
Владимир Николаевич Балашов
Андрей Петрович Слива
Виктор Карпович Драгунов
Алексей Леонидович Гончаров
Original Assignee
федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский университет "МЭИ"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский университет "МЭИ" filed Critical федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский университет "МЭИ"
Priority to RU2015146091A priority Critical patent/RU2614046C1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2614046C1 publication Critical patent/RU2614046C1/ru

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
    • H01J37/147Arrangements for directing or deflecting the discharge along a desired path

Landscapes

  • Welding Or Cutting Using Electron Beams (AREA)

Abstract

Изобретение относится к электронно-оптическим устройствам. Технический результат - расширение области применения фокусируще-отклоняющей системы для реализации различных технологических процессов обработки материалов электронным пучком. Система содержит магнитную фокусирующую линзу [1], состоящую из обмотки возбуждения [2], магнитопровода [3], колец [4] из магнитного аморфного сплава из тонкой ленты с индукцией насыщения не хуже индукции насыщения материала магнитопровода [3] и немагнитных промежутков [5], двухполюсную отклоняющую систему тороидального типа [6], электронно-оптическую ось пушки [7], лучепровод [8], плоскость [9] кроссовера электронного пучка, плоскость [10] фокусировки электронного пучка. Электронный пучок, сформированный электронной пушкой и системой формирования, поступает по лучепроводу [8] в фокусирующе-отклоняющую систему вдоль электронно-оптической оси [7]. При подаче тока на обмотку возбуждения [2] магнитная фокусирующая линза [1] переносит кроссовер электронного пучка в плоскости [9], расположенного в районе ускоряющего промежутка, в плоскость фокусировки [10] на обрабатываемом объекте. Отклоняющая система [6] тороидального типа при подаче тока в ее обмотки отклоняет электронный пучок в пределах поля обработки в соответствии с заданной программой, при этом центр отклонения расположен в центре магнитной линзы. Кольца [4] из магнитомягкого материала экранируют магнитное поле внешних по отношению к оси витков обмоток отклоняющей системы [6] и увеличивают величину индукции отклоняющего поля на оси системы, создаваемого внутренними витками обмотки. При этом чередующиеся кольца [4] из магнитомягкого материала и промежутки [5] создают концентрацию магнитного поля фокусирующей системы на электронно-оптической оси пушки [7]. 5 ил., 2 табл.

Description

Изобретение относится к электронно-оптическим устройствам, а именно к конструкции электронных магнитных линз для фокусировки и отклонения электронного пучка, например, в технологических электронных пушках, применяемых для электронно-лучевой обработки материалов.
Известна система для фокусировки и отклонения электронного пучка в электронных сварочных пушках, содержащая фокусирующую магнитную линзу и расположенную за ней по ходу электронного пучка отклоняющую систему [Патент РФ №2518502, МПК H01J 37/06, Опубликовано: 10.06.2014].
Последовательное расположение фокусирующей линзы и отклоняющей системы увеличивает габариты электронной пушки и тем самым уменьшает рабочий объем вакуумной камеры в установках с внутрикамерным расположением пушки. В результате уменьшаются допустимые размеры обрабатываемого изделия и допустимая область обработки.
Наиболее близкой по технической сущности к изобретению является фокусирующе-отклоняющая система устройства для электронно-лучевой литографии [см. Авторское свидетельство SU №1127023, МПК H01J 37/147, Опубликовано: 30.11.1984], содержащая соосно установленные магнитную фокусирующую линзу с внутренним каналом в виде набора чередующихся магнитных и немагнитных колец, лучепровод и размещенную в канале линзы систему отклонения электронного пучка, при этом, обмотки системы отклонения магнитного типа нанесены по винтовым линиям на участок лучепровода, выполненного из немагнитного материала.
Однако, при такой конструкции системы магнитного отклонения использование магнитного сердечника, увеличивающего индукцию поля, невозможно, так как он исказит или замкнет магнитное поле фокусирующей линзы. Таким образом, отклонение электронного пучка возможно на малые углы (не более 0,2°), что недостаточно для применения в технологических электронных пушках, используемых в обработке материалов (сварка, термическая обработка, перфорация др.), где углы отклонения электронного пучка составляют 5-10°.
Техническое решение изобретения заключается в расширении области применения системы для реализации различных технологических процессов обработки материалов электронным пучком.
Техническим результатом предлагаемого изобретения является уменьшение габаритных размеров фокусирующе-отклоняющей системы электронной сварочной пушки при сохранении функциональных возможностей по величине угла отклонения электронного пучка.
Это достигается тем, что в фокусирующе-отклоняющей системе для электронных пушек, содержащей магнитную фокусирующую линзу, включающую обмотку и магнитопровод магнитной линзы, который выполнен из корпуса и колец из магнитного материала, установленных с немагнитными промежутками, отклоняющую систему и лучепровод из немагнитного материала, установленные соосно с линзой, согласно изобретению отклоняющая система установлена внутри магнитной линзы и выполнена из тороидальных обмоток, намотанных на кольца из магнитного материала, а кольца из магнитного материала образованы намоткой ленты из магнитомягкого аморфного сплава.
Сущность изобретения поясняется чертежами, где на фиг. 1 приведен общий вид фокусирующе-отклоняющей системы; на фиг. 2 показана расчетная схема электронной пушки с многощелевой фокусирующе-отклоняющей системой; на фиг. 3 представлена расчетная схема магнитопровода и обмотки возбуждения многощелевой линзы в компьютерной программе, предназначенной для расчета распределения индукции магнитного поля; на фиг. 4 показано распределение индукции магнитного поля в магнитопроводе линзы; на фиг. 5 показано распределение индукции фокусирующего магнитного поля на оси многощелевой линзы.
Фокусирующе-отклоняющая система для электронных пушек содержит магнитную фокусирующую линзу 1, состоящую из обмотки возбуждения 2, магнитопровода 3, колец 4 из магнитного аморфного сплава из тонкой ленты (не более 50 мкм) с индукцией насыщения не хуже индукции насыщения материала магнитопровода 3 и немагнитных промежутков 5, двухполюсную отклоняющую систему 6 тороидального типа, электронно-оптическую ось пушки 7, лучепровод 8, плоскость 9 кроссовера электронного пучка, плоскость 10 фокусировки электронного пучка.
Фокусирующе-отклоняющая система работает следующим образом.
Электронный пучок, сформированный электронной пушкой и системой формирования, поступает по лучепроводу 8 в фокусирующе-отклоняющую систему вдоль электронно-оптической оси 7. При подаче тока на обмотку возбуждения 2 магнитная фокусирующая линза 1 переносит кроссовер электронного пучка в плоскости 9, расположенного в районе ускоряющего промежутка, в плоскость фокусировки 10 на обрабатываемом объекте. Отклоняющая система тороидального типа 6 при подаче тока в ее обмотки отклоняет электронный пучок в пределах поля обработки в соответствии с заданной программой, при этом центр отклонения расположен в центре магнитной линзы.
Кольца 4 из магнитомягкого материала экранируют магнитное поле внешних по отношению к оси витков обмоток отклоняющей системы и увеличивают величину индукции отклоняющего поля на оси системы, создаваемого внутренними витками обмотки. При этом, чередующиеся кольца из магнитомягкого материала 4 и промежутки 5 создают концентрацию магнитного поля фокусирующей системы на электронно-оптической оси пушки 7, такую конструкцию магнитной линзы принято называть многощелевой.
Расположение двухполюсной отклоняющей системы 6 тороидального типа внутри фокусирующей магнитной линзы 1 позволяет уменьшить размер (высоту) технологической (сварочной) электронной пушки и увеличить расстояние от торца пушки до плоскости обработки l, что позволяет увеличить полезный объем технологической вакуумной камеры и соответственно увеличить габаритные размеры помещаемых внутрь камеры обрабатываемых изделий. Увеличение расстояния от торца пушки до плоскости обработки l позволяет уменьшить разогрев сварочной пушки излучением из области взаимодействия электронного пучка и мишени.
Для уменьшения паразитных токов Фуко, возникающих при работе двухполюсной отклоняющей системы 6 тороидального типа с высокими скоростями развертки пучка, кольца из магнитного материала 4 намотаны из тонкой ленты (не более 50 мкм) из магнитомягкого аморфного сплава с индукцией насыщения не хуже индукции насыщения материала магнитопровода 3. По своим характеристикам кольцевые сердечники из тонкой ленты из аморфного сплава значительно превосходят ферритовые и сохраняют магнитные характеристики в сильных магнитных полях, создаваемых обмотками фокусирующей и отклоняющей систем.
Центр отклонения отклоняющей системы совпадает с центром магнитной линзы, что позволяет отодвинуть плоскость сварки дальше от нижнего торца сварочной пушки.
В ФГБОУ ВО «НИУ «МЭИ» проведен расчет и моделирование фокусирующей многощелевой магнитной линзы согласно расчетной схеме (фиг. 2, 3). Анализ распределения индукции магнитного поля в магнитопроводе линзы (фиг. 4) показывает, что максимальное значение индукции в материале сердечника не превышает 0,153 Тл при допустимой индукции насыщения материала сердечника из аморфного сплава в 1 Тл. Таким образом, сердечник магнитной линзы обеспечивает с большим запасом необходимый режим фокусировки и отклонения электронного пучка.
Изменение геометрии колец 4 из магнитного материала позволяет в широких пределах изменять распределение индукции фокусирующего поля на оси многощелевой линзы (фиг. 5) и тем самым оптимизировать свойства линзы.
Расстояние от кроссовера пучка, расположенного в отверстии анода до нижней плоскости линзы в расчетная схеме сварочной пушки с многощелевой фокусирующе-отклоняющей линзой (фиг. 2), принято L=195 мм, ускоряющее напряжение - 60 кВ.
Проведен расчет положения плоскости фокусировки пучка в пушке и коэффициентов сферической и хроматической аберраций в плоскости фокусировки. Результаты расчета величины рабочего отрезка 1, линейного уменьшения и коэффициентов сферической Ссф и хроматической Схр аберраций приведены в Таблице 1. Расчетные значения диаметра пучка в линейном приближении, диаметров кружков сферической Ссф и хроматической Схр аберраций приведены в Таблице 2. В этих таблицах ω - половина апертурного угла пучка в кроссовере.
Figure 00000001
Figure 00000002
Анализ результатов показывает, что диаметры кружков хроматической аберрации пренебрежимо малы по сравнению с диаметром кружка сферической аберрации. Это показывает, что пульсации высокого напряжения мало влияют на увеличение диаметра электронного пучка в плоскости сварки.
Расчетная плотность тока возбуждения линзы I [А/см2] задается при расчете распределения индукции магнитного поля. Возбуждение линзы определяется путем умножения плотности тока на площадь сечения обмотки линзы.
Так, возможности фокусировки позволяют проводить сварку сходящимся электронным пучком. Суммарный диаметр пучка на расстоянии 260 мм от торца пушки равен:
Figure 00000003
Диаметр пучка на таком расстоянии до плоскости фокусировки существенно меньше, чем в электронной пушке традиционной конструкции.
Использование изобретения в электронных технологических пушках улучшает эксплуатационные характеристики, уменьшает размер (высоту) технологической (сварочной) электронной пушки и увеличивает расстояние от торца пушки до плоскости сварки, что приводит к увеличению полезного объема технологической вакуумной камеры и соответственно увеличивает габаритные размеры обрабатываемых изделий, кроме того, уменьшается разогрев торцевой поверхности пушки излучением из области обработки.

Claims (1)

  1. Фокусирующе-отклоняющая система для электронных пушек, содержащая магнитную фокусирующую линзу, включающую обмотку и магнитопровод магнитной линзы, который выполнен из корпуса и колец из магнитного материала, установленных с немагнитными промежутками, отклоняющую систему и лучепровод из немагнитного материала, установленные соосно с линзой, отличающаяся тем, что отклоняющая система установлена внутри магнитной линзы и выполнена из тороидальных обмоток, намотанных на кольца из магнитного материала, а кольца из магнитного материала образованы намоткой ленты из магнитомягкого аморфного сплава.
RU2015146091A 2015-10-27 2015-10-27 Фокусирующе-отклоняющая система для электронных пушек RU2614046C1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2015146091A RU2614046C1 (ru) 2015-10-27 2015-10-27 Фокусирующе-отклоняющая система для электронных пушек

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2015146091A RU2614046C1 (ru) 2015-10-27 2015-10-27 Фокусирующе-отклоняющая система для электронных пушек

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2614046C1 true RU2614046C1 (ru) 2017-03-22

Family

ID=58453164

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2015146091A RU2614046C1 (ru) 2015-10-27 2015-10-27 Фокусирующе-отклоняющая система для электронных пушек

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2614046C1 (ru)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109524282A (zh) * 2018-11-09 2019-03-26 电子科技大学 一种磁场线圈装置、磁聚焦系统及其配置方法
RU2769346C1 (ru) * 2020-05-19 2022-03-30 Гуйлинь Тхд Текнолоджи Ко. Лтд Автоматическая электронная пушка с анастигматическим устройством и способ коррекции астигматизма электронного пучка для электронной пушки

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3984687A (en) * 1975-03-17 1976-10-05 International Business Machines Corporation Shielded magnetic lens and deflection yoke structure for electron beam column
SU1127023A1 (ru) * 1983-06-29 1984-11-30 Предприятие П/Я А-7638 Фокусирующе-отклон юща система устройства дл электронно-лучевой литографии
US5847399A (en) * 1996-07-25 1998-12-08 Act Advanced Circuit Testing Gesellschaft Fur Testsystementwicklung Mbh Deflection system
RU2518502C1 (ru) * 2012-10-09 2014-06-10 Открытое акционерное общество "Научно-исследовательский технологический институт "Прогресс" Электронно-лучевая пушка
EP2827356A1 (en) * 2013-07-18 2015-01-21 Fei Company Magnetic lens for focusing a beam of charged particles

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3984687A (en) * 1975-03-17 1976-10-05 International Business Machines Corporation Shielded magnetic lens and deflection yoke structure for electron beam column
SU1127023A1 (ru) * 1983-06-29 1984-11-30 Предприятие П/Я А-7638 Фокусирующе-отклон юща система устройства дл электронно-лучевой литографии
US5847399A (en) * 1996-07-25 1998-12-08 Act Advanced Circuit Testing Gesellschaft Fur Testsystementwicklung Mbh Deflection system
RU2518502C1 (ru) * 2012-10-09 2014-06-10 Открытое акционерное общество "Научно-исследовательский технологический институт "Прогресс" Электронно-лучевая пушка
EP2827356A1 (en) * 2013-07-18 2015-01-21 Fei Company Magnetic lens for focusing a beam of charged particles

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109524282A (zh) * 2018-11-09 2019-03-26 电子科技大学 一种磁场线圈装置、磁聚焦系统及其配置方法
RU2769346C1 (ru) * 2020-05-19 2022-03-30 Гуйлинь Тхд Текнолоджи Ко. Лтд Автоматическая электронная пушка с анастигматическим устройством и способ коррекции астигматизма электронного пучка для электронной пушки

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4795847B2 (ja) 電子レンズ及びそれを用いた荷電粒子線装置
US7064325B2 (en) Apparatus with permanent magnetic lenses
TWI435362B (zh) 帶電粒子裝置
US7372195B2 (en) Electron beam source having an extraction electrode provided with a magnetic disk element
JP6389671B2 (ja) 荷電粒子ビームを集束させる磁気レンズ
US7067820B2 (en) Particle-optical apparatus with a permanent-magnetic lens and an electrostatic lens
CN108807119B (zh) 紧凑型致偏磁体
RU2614046C1 (ru) Фокусирующе-отклоняющая система для электронных пушек
JP2007280966A (ja) 電子光学レンズ装置
JPH01319236A (ja) 電界放射電子銃
JP6719509B2 (ja) 電子ビーム加工機
Mulvey Electron microprobes
JP2000090866A (ja) 電子銃、電子銃による電子ビーム発生方法及び電子銃を用いた露光装置
JP2012142139A (ja) イオンビーム生成方法及びイオンビーム生成装置
El-Shahat et al. Studies on the effect of pole piece shape for saturated single pole magnetic lens
Derdrian et al. The Effect of the Iron Arm's Relative Position to the Pole piece Tip Position on the Objective Snorkel Lens Type
JP3844253B2 (ja) 粒子ビーム色収差補償コラム
AL-Janan et al. Design and studying the effect of Polepiece shape on the magnetic and optical properties of the unipolar lens
US11430589B2 (en) Hybrid magnet structure
KR20180125608A (ko) 영구 자석 입자 빔 장치 및 조정성을 위한 비자성 금속 부분을 통합하는 방법
TW202201469A (zh) 混合磁鐵結構
Artikova et al. Studies on muon induction acceleration and an objective lens design for transmission muon microscope
JP2001244167A (ja) 電子線描画装置、電子線を用いた描画方法及び電磁コイルの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
QB4A Licence on use of patent

Free format text: LICENCE

Effective date: 20170724