DE2913123C2

DE2913123C2 - Magnetische Objektivlinse für eine Elektronenabtasteinrichtung, insbesondere ein Rasterelektronenmikroskop

Info

Publication number: DE2913123C2
Application number: DE2913123A
Authority: DE
Inventors: Masatsugu Akishima Tokio Kikuchi; Seiichi Nakagawa; Akira Yonezawa
Original assignee: Nihon Denshi KK
Current assignee: Jeol Ltd
Priority date: 1978-04-07
Filing date: 1979-04-02
Publication date: 1989-07-20
Also published as: GB2018509B; FR2422254A1; JPS54133069A; FR2422254B1; NL7902627A; US4219732A; NL182601C; GB2018509A; JPS5842935B2; NL182601B; DE2913123A1

Description

0,2 < -^i- < 0,75

wobei

S\ den Abstand zwischen dem unteren Polstück

und dem ersten zusätzlichen Polstück,
S2 den Abstand zwischen dem ersten und zweiten

zusätzlichen Polstück und

S3 den Abstand zwischen dem zweiten zusätzlichen Polstück und dem oberen Polstück bedeuten.

7. Magnetische Objektivlinse nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß der minimale öffnungsdurchmeser des zusätzlichen Polstückes in der Nähe des oberen Polstückes (3) größer ist als der Öffnungsdurchmesser des oberen Polstückes.

Die Erfindung betrifft eine magnetische Objektivlinse für eine Elektronenabtasteinrichtung, insbesondere für ein Rasterelektronenmikroskop nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1.

Eine magnetische Elektronenlinse mit einem derartigen Aufbau ist aus der US-PS 35 85 546 bekannt Bei dieser bekannten Elektronenlinse weist der untere Polschuh die Form eines Kegelstumpfes auf. Durch geeignete Wahl des Kegelwinkels, des Durchmessers der Polfläche und des Öffnungsdurchmessers des unteren PoI-schuhs kann der sphärische Abberationskoeffizient der Linse zu einem Minimum gemacht werden. Die Verwendung einer magnetischen Objektivlinse, der obengenannten Art bei einem Röntgenstrahl-Microanalysator ist aus »Journal of Scientific Instruments«, Bd. 36, 1959, S. 360 - 365 bekannt.

Ferner ist die Verwendung von drei Polschuhen mit zwei Linsenspalten bei einer magnetischen Elektronenlinse für ein Elektronenmikroskop aus der DE-PS 9 14 167 bekannt.

In einer Elektronenabtasteinrichtung wie beispielsweise einem Rasterelektronenmikroskop, einem Röntgenstrahlmikroanalysator mit Elektronenabtastung u. dgl. wird ein Rasterbild auf einer Kathodenstrahlröhre für eine Probe dargestellt, welche durch einen scharf fokussierten Elektronenstrahl abgetastet wird. Um eine hohe Auflösung des Rasterbildes zu erzielen, muß der Durchmeser des Elektronenstrahls, mit dem die Probe bestrahlt wird, durch das magnetische Objektivlinsensystem maximal verringert sein. Theoretisch ist der Strahldurchmesser t/rdes Elektronenstrahls, der die Probe bestrahlt, durch folgende Gleichung wiedergegeben.

d\=d² _G+d¹ _d+d)+d\

(1)

dabei bedeuten:

de den Durchmesser der Gauss'schen Abbildung der Elektronenstrahlquelle, welche bestimmt ist durch die Helligkeit der Elektronenkanone und den halben öffnungswinkel der Strahlen (im folgenden Halbwinkel genannt), welche durch das Objektivlinsensystem beeinflußt werden am Fokussierungsfleck auf der Probe, wobei die Gauss'sche Abbildung durch das Linsensystem verkleinert wird;
da den Durchmesser der Abbildung bei Beugungsaberration, wobei diese Aberration durch die Blende der Objektivlinse oder durch die Endstufe des Kondensorlinsensystems hervorgerufen werden kann und der Durchmesser bestimmt ist durch die Beschleunigungsspannung der Elektronenkanone und des Halbwinkels <x;

de den Durchmesser der Abbildung bei chromatischer Aberration, welche bestimmt ist durch den Halbwinkel λ, die Schwankung der Beschleuni-

gungsspannung und den Erregerstrom für die Objektivlinsenspule;

da den Durchmesser bei einer Abbildung mit Astigmatismus auf der Achse. Dieser Astigmatismus kann zwar durch genaue Bearbeitung der Polstücke für die Objektivlinse oder durch einen Stigmator, der in beispielsweise das Rasterelektronenmikroskop eingebaut ist, vermieden werden;

d_s den Durchmesser der Abbildung mit sphärischer Aberration, wobei diese Aberration hervorgerufen wird durch die Objektivlinse und der Durchmesser bestimmt ist durch den Halbwinkel χ und den sphärischen Aberrationskoeffizienten Cs der Objektivlinse, welcher gegeben ist durch die Gleichung:

Unter Berücksichtigung der Veränderlichkeit der Instrumentparameter, wie beispielsweise der Elektronenerzeugerheüigkeit, des Eiektronensirahistroms, der Beschleunigungsspannung, des Halbwinkels λ u. dgL, ergibt sich, daß S₅ normalerweise einen größeren Wert besitzt als die übrigen Glieder in der Gleichung (1). Um den Durchmesser des Elektronenstrahls zu verringern und um dabei die Bildauflösung zu erhöhen, ist es notwendig, eine Objektivlinse vorzusehen, weiche einen geringeren sphärischen Aberrationskoeffizienten aufweist als ihn herkömmliche Objektivlinsen haben.

Die F i g. 1 zeigt einen Schnitt durch eine Polstückan-Ordnung einer Objektivlinse in einem bekannten Rasterelektronenmikroskop. Bei dieser Anordnung ist im Innern eines Linsenjoches 1 eine Erregerspule 2 angeordnet Ein oberes und ein unteres Polstück 3 und 4 sind symmetrisch zur Linsenachse 6 angeordnet, wobei zwisehen diesen beiden Polstücken ein zur Linsenachse 6 symmetrisches Magnetfeld aufgebaut wird. Die Polstükke besitzen Öffnungen, durch welche ein Elektronenstrahl 5 hindurchtreten kann. Ablenkspulen Ta und Tb bewirken, ciaß der Elektronenstrahl eine Probe 8 abtastet. Ein Detektor 9 erfaßt sekundäre und rückgestreute Elektronen, welche von der Probe 8 infolge der Bestrahlung durch den Elektronenstrahl abgegeben werden. Das Ausgangssignal des Detektors 9 wird an eine nicht näher dargestellte Kathodenstrahlröhre geliefert. Die unterbrochenen Linien 10 bedeuten charakteristische Röntgenstrahlen, welche von der Probenoberfläche mit einem Winkel β ausgesendet werden. Die Wellenlänge dieser Röntgenstrahlen wird durch ein nicht näher dargestelltes Röntgenstrahlspektrometer analysiert. Z₀ bedeutet den Abstand zwischen der Hauptebene der Objektivlinse und der Probenoberfläche. Dieser Abstand entspricht etwa der Brennweite der Objektivlinse.

Die F i g. 2 zeigt eine graphische Darstellung des sphärischen Aberrationskoeffizienten Cs der vorstehend beschriebenen Linse in Abhängigkeit der Halbwertsbreite d der axialen Magnetfeldverteilung zwischen dem oberen und unteren Polstück 3 und 4 und dem Wert des Parameters Zo. Aus dieser Darstellung ergibt sich, daß bei Verringerung von Z₃ eine Verfingerung der sphärischen Aberration möglich ist. Bei der Verringerung von 2ό verringert sich jedoch auch der Bearbeituiigsabstand (d. h. der Abstand zwischen der unteren Fläche des unteren Polstückes 4 und der Probenoberfläche). Dur^h die Verringerung des Bearbeitungsabstandes wird jedoch die Beweglichkeit der Probe, insbesondere ein Verkippen und Drehen der Probe, behindert. Die in der Fi g. 1 strichliert dargestellte Probenposition 8' ist extrem nahe dem unteren Polstück 4. Eine weitere Beeinträchtigung ergibt sich daraus, daß bei Verringerung des Bearbeitungsabstandes der Abstrahlungswinkel der Röntgenstrahlen sich verringert (ß' ist geringer als ß). Hieraus ergibt sich die Gefahr, daß bei der quantitativen Analyse von Elementen das Ke*- rektionsverfahren zur Gewinnung errechneter analytischer Daten nicht mehr verwendet werden kann. Wenn andererseits die Halbwertsbreite des Magnetfeldes der Linse erhöht wird, um die sphärische Aberration zu verringern, muß die Durchgangsöffnung im unteren Polstück vergrößert werden. Durch die Vergrößerung der Durchgangsöffnung im unteren Polstück wird jedoch das Magnetfeld der Linse, das durch diese Durchgangsöffnung hindurchdringt weiter nach unten gezogen. Hierdurch besteht die Gefahr, daß Beeinträchtigungen, insbesondere an ferromagnetischen Proben, hervorgerufen werden können. Auch wird das elektrische Feld beeinträchtigt das in der Nähe der Probe durch den Detektor erzeugt wird, um dit> 'Sekundärelektronen, welche von der Probe abgegeben weiden, einzufangen. Demzufolge ist es erwünscht die Durchgangsöffnung in dem unteren Polstück so klein wie möglich 2.0 halten. Die F i g. 3 zeigt das obere und untere Polstück 3 und 4, zwischen denen ein Spalt S, der relativ groß ist, vorhanden ist Die Durchmesser D\ und D₂ der Durchgangsöffnungen der Polstücke genügen der Gleichung Di > 2 ■ Di. Die F i g. 4 zeigt die magnetische Feldverteilung entlang der Linsenachse 6 für die Anordnung in

der F i g. 3. In der F i g. 4 bedeutet a die Magnetfeldverteilung bei vergleichsweise kleinem Spalt 5'. b stellt die Magnetfeldverteilung dar bei vergrößertem Spalt S". Das obere Polstück nimmt dann die strichliert dargestellte Stellung ein. fliund di sind die Halbwertsbreiten der beiden genannten Magnetfeldverteilungen. Wenn bei einer vorgegebenen magnetomotorischen Kraft der Abstand zwischen dem oberen und unteren Polstück vergrößert wird, erhöht sich, wie es in F i g. 5 dargestellt ist auch die Halbwertsbreite d Wenn jedoch der Spalt 5

vergrößert wird, wird das Magnetfeld nach oben zum oberen Polstück 3 gezogen, wie dies durch die magnetische Feldverteilungskurve b in der F i g. 4 dargestellt ist. Hieraus können Interferenzen zwischen dem Ablenkfeld der Ablenkspule Ta und dem Magnetfeld der Ob-

jektivlinse, welches durch die Vergrößerung des Spaltes 5 ebenfalls in seiner Ausdehnung verbreitert worden ist, entstehen. Hieraus können Bildstörungen des Rasterbildes entstehen, welche insbesondere dann vergleichsweise groß sind, wenn die Vergrößerungen gering sind. Da die Verteilungskurve b im wesentlichen glockenförmig ist, verschiebt sich außerdem die Hauptebene der (Jbjektivlinse in Richtung zum oberen Polstück hin, unabhängig von der Feldintensität. Hieraus ergibt sich außerdem eine Vergrößerung des Parameters Zn (welcher

etwa gleich der Brennweite /"ist) und des chromatischen Aberrationskoeffizienten Cc. Die Erhöhung von Cc ist grob genähert proportional dem Anwachsen von f. Demzufolge wächst der Durchmesser d_c für die Abbildung mit chromatischer Aberration in der Gleichung (1) an. Hieraus ergibt sich weiterhin eine Vergrößerung des Durchmessers drdes Elektronenstrahls. Demzufolge ist der Betrag, um den der Spalt S vergrößert werden kann, begrenzt.

Aufgabe der Erfindung ist es daher, den sphärischen

*5 Aberrationskoeffizienten einer magnetischen Objektivlinse der eingangs genannten Art zu verringern, ohne den Bearbeitungsabstand zwischen Linse und Probe zu verkleinern.

Durch die im kennzeichnenden Teil des Anspruchs I angegebenen Merkmale wird diese Aufgabe gelöst. Die Unteransprüche geben vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung an.

Bei der erfindungsgemäßen magnetischen Objektivhnse für ein Elektronenabtastsystem, insbesondere Rasterelektronenmikroskop, kann ein Objektivlinsenfeld zwischen Ablenkspulen, insbesondere einem Ablenkspulenpaar, und einer Probe erzeugt werden. Durch das (die) zusätzliches(n) Magnetpolstück(e) zwischen dem oberen und unteren Magnetpolstück, wird die Halbwertsbreite der axialen Magnetfeldverteilung der Objektivlinse vergrößert und die Hauptebene der Objektivlinse liegt in der Nähe des unteren Polstückes. Auf diese Weise läßt sich der sphärische Aberrationskoeffizient der Objektivlinse verringern und man gewinnt ein Rasterbild mit hoher Auflösung.

Durch mehrere zusätzliche Polstücke kann eine optimale Bemessung der Halbwertsbreite ddes Magnetfeldes der übjektiviinse erzielt werden kann, ohne daß eine Vielzahl von getrennten Maxima der Linsenfelder entstehen.

Ausführungsbeispiele der Erfindung werden an Hand der weiteren Figuren näher erläutert werden. Es zeigt

Fig. 6 und 7 ein Ausführungsbeispiel der Erfindung und dessen axiale Magnetfeldverteilung.

F i g. 8 eine graphische Darstellung für die Beziehung zwischen der Halbwertsbreite dund dem Abstand /zwischen unterem und oberem Polstück,

F i g. 9.10.12 und 13 schematische Darstellungen weiterer magnetischer Objektivlinsen und ihre axialen Magnetfeldverteilungen und Fig. 11 ein Polstück.

Bei dem in der Fig. 6 dargestellten Ausführungsbeispiel sind für gleichwirkende Teile die gleichen Bezugszeichen verwendet wie bei der Anordnung in der Fig. 1. Bei diesem Ausführungsbeispiel ist ein zusätzliches Magnetpolstück 11 zwischen dem oberen Polstück 3 und dem unteren Polstück 4 angeordnet. Auf diese Weise werden zwischen den einzelnen Polstücken zwei Spalte gebildet, die aus Magnetfeld der dargestellten Objektivlinse bilden. Die Polstücke sind mit dem Joch 1 über nicht magnetische Abstandhalter 12 und 13 sowie nicht magnetische Verbindungsglieder 14 und 15 verbunden. Eine Stigmatorspule 16 ist innerhalb des zusätzlichen Polstückes 11 angeordnet. Der Innendurchmesser Dt des zusätzlichen Polstückes 11 ist etwa gleich dem Innendurchmesser D₂ des oberen Polstückes 3 und größer als der doppelte Innendurchmesser D\ des unteren Polstückes 4. Demzufolge ergibt sich folgende Gleichung:

7 <" 3 _ *^2

(3)

des Abstandes / zwischen dem oberen Polstück 3 und dem unteren Polstück 4 zu erzielen.

Die Fig.8 zeigt experimentelle Ergebnisse, aus denen sich die Beziehung zwischen dem Abstand /und der Halbwertsbreite d ergibt, wobei bei verschiedenen Werten für 5V5i bei Durchmessern für die Durchgangsöffnungen von D\ = IO mm und Di =■■ 30 mm gemessen wurde. Um das Magnetfeld eines einzelnen Spaltes mit dem Magnetfeld des Doppelspaltes der Objektivlinse zu

ίο vergleichen, ist in der Fig.8 eine strichlierte Kurve L dargestellt, welche der Kurve in der Fig.5 entspricht. Diese Kurve ist so in der graphischen Darstellung angeordnet, daß die Spaltbreite 5(mm) in der Fig.5 dem Abstand /(mm) in der Fig.8 entspricht. Aus den Kurven der F i g. 8 ergibt sich, daß bei Erfüllung der Bedingungen in den unten stehenden Gleichungen (4) und (5) und unter der Voraussetzung von I > 15 mm die Halbwertsbreite für die Doppelspaltlinse größer ist als die Halbwertsbreite in einei herkömmlichen Finzelspaltün-

20 se.

25

35

40

45

50

Wenn man daher den Durchmesser D\ der Durchgangsöffnung des unteren Polstückes klein beimißt, wird verhindert, daß das Magnetfeld der Objektivlinse sich zur Probe hin erstreckt

Die F i g. 7 zeigt die Magnetfeldverteilung entlang der Achse 6 für das Ausführungsbeispiel in der F i g. 6. Die Kurve c gibt die Magnetfeldverteilung wieder, weiche im Spalt S, vorhanden ist Die Kurve egibt die Magnetfeldverteilung wieder, weiche im Spalt S2 vorhanden ist Die Kurve g zeigt die Summierung der Magnetfeldverteilungen, welche durch die Kurven cund e wiedergegeben sind. Demzufolge ist die Halbwertsbreite <U der Kurve £· größer als die Halbwertsbreite J₃ der Kurve c Es ist damit möglich, eine relativ große Halbwertsbreite bei entsprechender Bemessung der Spalte S\ und S₂ und -L>0,5
D

>0,4

(4)

(5)

Der We {!fur-^sollte 1,5 nicht übersteigen. Beispielsweise sind die Halbwertsbreiten für/ = 20 mm für-^ = 2 geringer als bei den Kurven, für die -? = 1,5 ist. Demzufolge soll die folgende Gleichung erfüllt sein.

(6)

Wenn S2 größer bemessen wird, d. h. wenn--!^ ist,

verschiebt sich die axiale magnetische Feldverteilung nach oben in Richtung zum oberen Magnetpolstück 3 hin. Hierdurch können unerwünschte Wechselwirkungen des Objektivlinsenfeldes und des Ablenkfeldes der Ablenkspule 7a auftreten. Außerdem ergeben sich dann zwei deutlich voneinander getrennte Maxima Pt und P₂ in der Magnetfeldverteilung, wie es in F i g. 9 dargestellt ist. Eine derartige Magnetfeldverteilung führt zur Erhöhung des sphärischen Aberrationskoeffizienten Cs. Ferner ergibt sich bei den in der Fig.9 dargestellten Verhältnissen, daß die Hauptebene der Objektivlinse nach oben verschoben wird, wodurch die Brennweite der Objektivlinse vergrößert wird und die chromatische Aberration (entspricht d² _c in der Gleichung (1) sich ebenfalls erhöht

Aus den vorstehenden Gründen und auf Grund experimenteller Ergebnisse hat es sich herausgestellt, daß die

besten Ergebnisse erzielt werden wenn 04 < γ~ < 0,7 erfüllt ist Wenn Bedingungen geschaffen sind, die diese Gleichung erfüllen, ist eine große Halbwertsbreite sichergestellt, ohne daß die Hauptebene der Linse in Richtung auf das obere Magnetpolstück zu verschoben wird. Auf diese Weise ist es möglich, den sphärischen Aberrationskoeffizienten Cy ohne Erhöhung des Parameters Zo und des chromatischen Aberrationskoeffizienten Cczu verringern.

Außerdem haben experimentelle Ergebnisse bestätigt, daß ein Astigmatismus, der sich aus einer ungenauen Bearbeitung der Polstücke ergibt, sich verringert

wenn der sphärische Aberrationskoeffizient sich verringert. Hierdurch wird die genaue Stigmatoreinstellung wesentlich erleichtert.

Die Fig. IO reigt ein weiteres Ausführungsbeispiel, das gegenüber dem Ausführungsbeispiel in der Fig. 6 etwas abgeändert ist. Bei diesem Ausführungsbeispiel besitzt das zusätzliche Magnetpolstück 17 zwei verschiedene Innendurchmesser, wobei der Innendurchmesser Dy in der Nähe des oberen Polstückes größer ist als der Innendurchmesser Ds in der Nähe des unteren Polstückes. Die Magnetfeldverteilung ent'ang der Achse der Objektivlinse ist durch die Kurve /dargestellt, de, ist die Halbwertsbreite. Für den Fall, daß beim zusätzlichen Magnetpolstück der gleiche Innendurchmesser Dj verwendet wird, ist in der Figur durch die strichliert gezeichnete Kurve h die Magnetverteilung dargestellt. Die Halbwertsbreite ist in diesem Fall mit dr angegeben. Beim Vergleich der Kurven / und h ergibt sich, daß durch das in der Fig. 10 modifizierte Ausfiihrungsbeispiel gegenüber dem Ausführungsbeispiel in der F i g. 6 noch eine Verbesserung erzielt werden kann. In der Fig. 11 ist ein zusätzliches Magnetpolstück 18 dargestellt, bei dem die Innenwand teilweise konisch verläuft. Dieses Magnetpolstück kann beim Ausführungsbeispiel der Fig. 10 an Stelle des dort gezeigten Magnetpolstükkes 17 verwendet werden.

Die Fig. 12 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel, das gegenüber dem Ausführungsbeispiel in der Fig.6 abgeändert ist. Bei diesem Ausführungsbeispiel werden zwei zusätzliche Magnetpolstücke 19 und 20 verwendet. Diese -zusätzlichen Magnetpolstücke sind zwischen dem oberen Magnetpolstück 3 und dem unteren Magnetpolstück 4 angeordnet. Mit Hilfe von Abstandhaltern 13 und 21 sowie Verbindungselementen 15 und 22 sind die zusätzlichen Magnetpolstücke am oberen Magnetpolstück 3 befestigt. Die 13 zeigt die axiale Magnetfeldverteilung der Objektivlinse, welche in der Fig. 12 darge-

stellt ist. Die große Halbwertsbreite dg der Magnetfeldverteilungskurve j läßt sich durch geeignete Wahl von / erhalten. Die strichlierte Kurve k zeigt die Feldverteilung wenn der Spalt zwischen den beiden zusätzlichen Polstücken 19 und 20 mit einem ferromagnetischen Material ausgefüllt ist. Man erhält dann ein einzelnes zusätzliches Polstück mit einem einheitlichen Innendurchmesser Dj. Um die Entstehung mehrerer Maxima zu vermeiden, und um außerdem eine Verschiebung der Hauptebene der Objektivlinse vom unteren Polstück 4 weg zu unterbinden, müssen die folgenden Gleichungen erfüllt werden:

0,5 <

0,2 < ψ- < 0,75

»3 ι

(8)

Bei dem Ausführungsbeispiel, bei welchem mehrere

Spalte vorgesehen sind, insbesondere wenn mehr als 4 Spalte verwendet werden, ist es von Vorteil, wenn die folgende Gleichung (9), welche der Gleichung (6) entspricht, erfüllt wird:

1,5

(9)

In dieser Gleichung bedeuten Gx die Gesamtbreite der Spalte in der unteren Hälfte des Bereichs zwischen den oberen und unteren Magnetpolstücken. Gj ist die Gesamtbreite der Spalte in der oberen Hälfte des Bereichs zwischen dem oberen und dem unteren Magnetpolstück. Bei der Anordnung gemäß Fi g. 13 gilt daher G\ = Sx + Si und G₂ = S₃.

Hierzu 6 Blatt Zeichnungen

Claims

Patentansprüche:

1. Magnetische Objektivlinse für eine Elektronenabtasteinrichtung, insbesondere für ein Rasterelektronenmikroskop, mit einem oberen und unteren Magnetpolstück, welche Durchgangsöffnungen für den von oben nach unten verlaufenden Elektronenstrahl aufweisen, bei denen der Öffnungsdurchmesser im oberen Polstück größer ist als im unteren Polstück, dadurch gekennzeichnet, daß ein oder mehrere zusätzliche ringförmige Polstücke (11; 17; 18; 19; 20) zwischen dem oberen und dem unteren Polstück (3 und 4) angeordnet ist bzw. sind und daß die Summe der Spaltbreiten (Qi) der zwischen den Polstücken gebildeten Spalte in der oberen Hälfte des Bereichs zwischen dem oberen und unteren Polstück kleiner ist als das l,5fache der Summe der Spaltbreiten (Gi) der zwischen den Polstücken gebildeten Spalte in der unteren Hälfte des Bereichs zwischen dem qberen und unteren Polstück.

1. Magnetische Objektivlinse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß bei Anordnung eines einzelnen zusätzlichen Magnetpolstückes zwischen dem oberen und unteren Magnetpolstück (3 und 4) folgende Bedingung erfüllt ist:

0,4 <4^L<1,5

wobei

Si den Abstand des zusätzlichen Magnetpolstükkes zum untren Magnetpolstück,

Si den Abstand zwischen der- zusätzlichen Magnetpolstück und den? oberen Magnetpolstück bedeuten.

3. Magnetische Objektivlinse nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Durchmesser (Di) der Durchgangsöffnung im oberen Polstück (3) etwa gleich dem Abstand (I) zwischen dem oberen polstück (3) und dem unteren Polstück (4) ist.

4. Magnetische Objektivlinse nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Durchgangsöffnung des zusätzlichen Magnetpolstücks (17) zwei Durchmesser (D$ und Dy) aufweist, von denen der untere Öffnungsdurchmesser kleiner ist als der obere Öffnungsdurchmesser (Fig. 10).

5. Magnetische Objektivlinse nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das zusätzliche Magnetpolstück (18) eine Durchgangsöffnung aufweist, deren unterer Teil zylindrisch ausgebildet ist und deren oberer Teil eine nach oben hin sich erweiternde konusförmige Innenwand besitzt (Fig. 11)₁

6. Magnetische Objektivlinse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß bei Anordnung von zwei zusätzlichen magnetischen Polstücken (19, 20) zwischen dem oberen und dem unteren Polstück (3 und 4) die folgenden Bedingungen erfüllt sind:

0,5 < A < 1