DE2803025C2 - Photographisches Aufzeichnungsmaterial mit verbesserten antistatischen Eigenschaften - Google Patents

Photographisches Aufzeichnungsmaterial mit verbesserten antistatischen Eigenschaften

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DE2803025C2
DE2803025C2 DE2803025A DE2803025A DE2803025C2 DE 2803025 C2 DE2803025 C2 DE 2803025C2 DE 2803025 A DE2803025 A DE 2803025A DE 2803025 A DE2803025 A DE 2803025A DE 2803025 C2 DE2803025 C2 DE 2803025C2
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Description

Die Erfindung betrifft ein photographisches Aufzeichnungsmaterial mit mindestens einer Silberhalogenidemulsionsschicht und mindestens einer weiteren Schicht mit polymeren Alkylendiammoniumverbindungen ais Antistatika.
Bei photographischen Aufzeichnungsmaterialien besteht während der Herstellung und des Gebrauches die Neigung zur elektrostatischen Aufladung, wodurch eine Anzahl von Nachteilen verursacht wird. Eine elektrostatische Aufladung findet z. B. statt, wenn das photographische Aufzeichnungsmaterial in Berührung mit Walzen in der Produktionslinie gebracht wird oder wenn das photographische Aufzeichnungsmaterial von einer Walze abgewickelt oder auf eine Walze aufgewickelt wird, wobei Reibung und Trennung zwischen der mit der Emulsion überzogenen Seite und der zur emulsionsüberzogenen Seite gegenüberstehenden Seite des photographischen Aufzeichnungsmaterials auftreten. Nach Abgabe des photographischen Aufzeichnungsmaterials an den Verbraucher können elektrostatische Aufladungen ausgebildet werden, wenn es Bedingungen sehr hoher Feuchtigkeit ausgesetzt wird, die eine Haftung zwischen der emulsionsüberzogenen Oberfläche und der gegenüberliegenden Oberfläche verursachen, wobei beide Oberflächen später getrennt werden müssen oder wenn das photographische Aufzeichnungsmaterial in einer Kinokamera läuft oder in einem automatischen Behandlungsgerät, wie z. B. einem Röntgenfilmbehandlungsgerät, entwickelt wird. Wenn sich die angesammelten elektrostatischen Ladungen entladen, wird das photographische Produkt in ungewünschter Weise belichtet, was zu irregulären statischen Markierungen führt, die fleckenartige, baumartige oder federartige Muster nach der Entwicklung ergeben. Da diese statischen Markierungen erst nach der Entwicklung feststellbar sind und den Handelsweit des photographischen Aufzeichnungsmaterials in starkem Ausmaß beeinträchtigen, stellt die Ausbildung von statischen Markierungen sehr ernsthafte Schwierigkeiten in der photographischen lndur/:ie dar und das Problem ist sehr schwierig zu !ösen. Femer zeigen die angesammelten Ladungen είπε Neigung zum Anziehen von Staub auf die Oberfläche des photograptischen Aufzeichnungsmaterials, wodurch sekundäre Schwierigkeiten, wie Ungleichmäßigkeit des Überzuges, bedingt werden. Das Auftreten von statischen Markierungen nimmt zu, wenn die Behandlungsgeschwindigkeit erhöht wird.
Es wurde eine Vielzahl von Materialien verwendet, um die Ausbildung statischer Ladungen in photographischen Aufzeichnungsmaterialien zu verhindern. Diese Antistatika sind im allgemeinen elektrisch leitend oder haben eine hygroskopische Natur, durch welche dem photographischen Aufzeichnungsmaterial eine elektrische Leitfähigkeit erteilt wird, die es ermöglicht, daß die elektrostatischen Ladungen leicht abgeleitet und dadurch eine drastische Entladung der angesammelten Ladung vermieden wird. Solche Antistatika können einzeln oder in Kombination verwendet werden. Um den Träger eines photographischen Materials antistatisch zu machen, können die Antistatika direkt dem hochmolekularen Material für den Träger einverleibt werden oder sie können als Überzug auf die Trägeroberfläche aufgebracht werden. Im letzteren Fall kann ein Überzug aus dem Aniistatikum allein oder ein Überzug aus einem Gemisch aus dem Antistatikum und einem polymeren Material, wie Gelatine, Polyvinylalkohol, Celluloseacetat, Polyvinylbutyral oder Polyvinylformal, auf den Träger aufgebracht werden. Außerdem kann das Antistatikum in verschiedene, auf dem Träger ausgebildete Schichten, wie die lichtempfindliche Emulsionsschicht und weitere nicht-lichtempfindliche Hilfsschichten, beispielsweise Rückseitenschicht, Antilichthofschicht, Zwischenschicht oder Schutzschicht, einverleibt werden. Das Antistatikum kann auch auf die Oberfläche des behandelten photographischen Aufzeichnungsmaterials zur Verhinderung der Staubanhaftung während der anschließenden Handhabung aufgebracht werden. Die meisten der bekannten Antistatika sind jedoch nicht ausreichend wirksam für photographische AufzeichnungsmateriaJien mit einer hochempfindlichren photographischen Emulsion, insbesondere; unter Bedingungen niedriger Feuchtigkeit, beispielsweise einer relativen Feuchtigkeit von 30%, zeigen einen Abfall des antistatischen Effektes im Verlauf der Zeit, zeigen eine Neigung zur Verursachung von Haftschwierigkeiten unter feuchten Bedingungen oder besitzen einen nachteiligen Effekt auf das photographische Verhalten. E>a weiterhin die Mehrzahl der bekannten Antistatika infolge der genannten Gründe schwierig auf photographische Produkte anzuwenden sind, wurden verschiedene Versuche unternommen, in lexiter Zeit synthetisierte Antistatika in photographischen Aufzeichnungsmaterialien anzuwenden. Beispielsweise sind in der JA-OS 91 165/1973 (entsprechend der GB-PS 13 88 083) und der JA-OS 1 21 523/1974 (entsprechend der US·PS 38 76 430) photographische Silberhalogenidprodukte angegeben, worin sogenannte Polymere vom lonentyp mit dissoziierbaren Gruppen in Polymergerüst verwendet werden. Solche Materialien zeigen jedoch keinen annehmbaren Wert hinsichtlich des antistatischen Verhaltens. Aufgabe der Erfindung ist daher die Schaffung eines photographischen Aufzeichnungsmaterials mit mindestens einer Silberhalogenidemulsionsschicht und mindestens einer weiteren Schicht mit polymeren Alkylendiammoniumverbindungen als Antistatika, das verbesserte anti "tatische Eigenschaften aufweist, einen bemerkenswert niedrigen Oberflächenwiderstand und überlegene physikalische Eigenschaften als Film besitzt und keine Neigung zum Blocken zeigt.
Die Lösung dieser Aufgabe erfolgt gemäß den technischen Merkmalen des Anspruchs 1.
Nachstehend werden Verbindungen mit dem Molekulargewicht von etwa 1000 bis etwa 50000 und mit den wiederkehrenden Einheiten entsprechend der dllgemeinen Formel (I) zur Vereinfachung lediglich als »Verbindungen entsprechend der allgemeinen Formel (1)« bezeichnet.
Die Reste Rj und R2 in der vorstehenden allgemeinen Formel (I) können jeweils eine geradkettige oder cyclische Alkylgruppe, die gegebenenfalls mit einem oder mehreren Substituenten (beispielsweise einer Cycloalkylgruppe. Hydroxygruppe, Alkoxycarbonylgruppe oder Carbamoylgruppe) substituiert sein kann, eine Aralkylgruppe (beispielsweise eine Benzylgruppe oder eine Phenäthylgruppe), eine Arylgruppe (beispielsweise eine Phenylgruppe) oder eine Alkenylgruppe (beispielsweise eine Allylgruppe, Propenylgruppe oder Butenyl-
(ö gruppe), die bevorzugt 1 bis 10 Kohlenstoffatome insgesamt besitzen. Wie bereits festgestellt, können die Reste Ri und R2 auch miteinander unter Bildung einer Alkyleagruppe, beispielsweise einer Äthylengruppe, vereinigt sein. Beispiele für geradicettige Alkylgruppen mit 1 bis insgesamt 10 Kohlenstoffatomen für die Reste R1 und R2 umfassen eine Methyl-, Äthyl-, Propyl-, Butyl-, Hexyl-, Octyl-, Carboxyäthyl- oder Alkoxycarbonyläthyl-
gruppen, wie Methoxycarbonyläthyl-, Äthoxycarbonyläthyl-, Propoxycarbonylathyl- oder Butoxycarbonyläthylgruppe, eine Cyanoäthyl-, Hydroxyäthyl-, Hydroxypropyl- und Carbamoyläthylgruppe. Ein Beispiel für eine cyclische Alkylgruppe ist die Cyclohexylmethylgruppe, und geeignete Beispiele für Alkenylgruppen für die Reste R, und R. umfassen Propenylgruppen und Butenylgruppen.
Der Rest R-, in der vorstehenden Formel (1) bedeutet eine Alkylengruppe. eine Alkcnylgruppc oder cmc Ar;ilkylengruppe jeweils mit bis zu 10 Kohlenstoffatomen. Spezifische Beispiele für Alkylengruppen, Alkenylengruppen und Aralkylengruppen mit bis zu 10 Kohlenstoffatomen für R3 umfassen Äthylengruppen, Trimethylengruppen, Tetramethylengruppen, Hexamethylengruppen, Octamethylengruppen. Butenylengruppen, beispielsweise eine Gruppe -CH2CH = CHCH2- und Xylylengruppen.
Xf und Xf in der allgemeinen Formel (I) bedeuten vorzugsweise ein Halogenidion, ein Acetation, ein Perchloration. Gruppen
R4O-SO2Oe, R4-SO2-O0 oder (HO)1PO-Οθ,
worin R4 eine Methylgruppe, Äthylgruppe. Phenylgruppe oder eine mit einer oder mehreren Methylgruppen substituierte Phenylgruppe bedeuten. Besonders bevorzugt bedeuten Xf und Xf ein Halogenion, z. B. Chlorid oder Bromid.
Die Verbindungen entsprechend der allgemeinen Formel (I) können durch Umsetzung eines Diamins entsprechend der folgenden allgemeinen Formel
R1-N
CH2-CH2 \
CH2-
-CH2
N-R2
worin R| und R2 die vorstehend angegebenen Bedeutungen besitzen, mit einer Verbindung der allgemeinen Formel
X1-R3-X2 (Π1)
worin R, die vorstehend angegebenen Bedeutungen besitz; und X| und X2 jeweils ein Chloratom, Bromatom, Jodatom, eine Acetatgruppe, eine Perchloratgruppe, Gruppierungen
R4-OSO2O-, R4-SO2-O- oder (HO)2-PO-O-,
worin R4 eine Methylgruppe, eine Äthylgruppe oder eine Phenylgruppe oder eine mit einer oder mehreren Methylgruppen substituierte Phenylgruppe bedeutet, darstellt, hergestellt werden. X, und X2 können gleich oder unterschiedlich sein und sind vorzugsweise Cniöf öder Brom.
Die Verbindungen entsprechend der allgemeinen Formel (I), welche als Antistatika im Rahmen der Erfindung verwendet werden, können durch Zugabe einer Verbindung der allgemeinen Formel (II) und einer Verbindung der allgemeinen Formel (III) in äquimolaren Mengen zu einem geeigneten Lösungsmittelsystem, welches beispielsweise Wasser, Dimethylformamid, Dimethylsulfoxid, Methanol, Äthanol, Acetonitril oder Dioxan umfaßt, und Umsetzung bei Temperaturen zwischen etwa 20 und etwa 1500C, insbesondere zwischen 30 und 70°C. während eines Zeitraums von etwa 6 bis etwa 100 Stunden hergestellt werden.
Der geeignete Bereich des Molekulargewichtes des erfindungsgemäß eingesetzten antistatischen Mittels liegt im Bereich zwischen etwa 1000 und etwa 50000 und vorzugsweise zwischen 2000 und 10000.
Die Viskosität dhp/c) der Verbindungen der allgemeinen Formel (I), bestimmt bei einer Konzentration von 0,1 Gew.-% in einer l%igen wäßrigen NaCl-Lösung bei 300C, liegt zweckmäßig im Bereich von etwa 0,02 bis 0,2, insbesondere von 0.05 bis 0,15.
In der Tabelle I sind Beispiele für geeignete Verbindungen mit der allgemeinen Formel I aufgeführt.
Tabelle I Verbindung Struktur
Viskosität
20
30
50 55 60 65
(1)
(2)
CH3 CH2-CH2 CH2^f
0,12
VCH3 CH2-CH2 CH
0.08
Fortsetzung
Verbindung Struktur
Nr.
Viskosität !
CH2-CH2
-N
N-CH,
y χ
HOOCCH2CH2 CH2-CH2 CH2CH2COOH 0.07
(4)
50
(5)
(6)
(7)
55 (8)
60 65
(9)
a/
-N CH2-CH2 CH2CH2COOC4H,
CH2-CH2 CH2
CH2 CH2
—-N-CH2-CHj-N-CH2-
CH2 CH2
C H2— C H2
-N
N-CH2- ^ X-CH2 CH2-CH2 X CH2-
2Cle \
CH2
2Cle
"V-CH2-J-
CH5-CH2 N —CH2^f X-CH2--
CH2 CH2-CH2 CH2
2 CH3-X-SO?
CH2-CH2
N N-CH2-^f
I1CNCHjCHj CHj-CHj CHjCHjCN
2ClOf
-N
CH2-CH, N —CH2-< X-CH2--
C2H5 CH2-CH3 C2H5
2CH3COOe 0,05
0,12
0,05
OJO
0,11
0,10
Fortsetzung
Verbindung Nr.
Struktur
Viskosität
CH2
CH2 \
(10) —I-N —CH2-CH2-N-CH2CH2-I- 0,04
CH2 CH2
2 Cl9
Zu Vergleichszwecken wurden zwei Verbindungen, die als Verbindungen (A) und (B) bezeichnet sind und die in den JA-OS 91 165/1973 und 1 21 523/1974 angegeben sind, verwendet, wie aus der nachfolgenden Tabelle II ersichtlich ist.
Verbindung Nr.
Struktur
Viskosität
10
20
(A)
CH1
CH,
---N-CH2-CH2-N-CH2
■er,- —
(B)
CH,
CH3
CH, CH,
0,12
2Cle
N-CH2-CH2-N-CH2-C-O(CH^oCCH2--
\ CH3 CHj
0,10
Die eingesetzte Menge der erfindungsgemäß verwendeten Verbindung entsprechend der allgemeinen Formel (I) variiert in Abhängigkeit von Art und Konfiguration des photographischen Aufzeichnungsmaterial und weiterhin von dem angewandten Beschichtungsverfahren. Geeignet sind jedoch die erfindungsgemäi» eingesetzten Verbindungen in Mengen von etwa 0,01 bis etwa 1,0 g und insbesondere von 0,03 bis 0,4 g je m2 des photographischen Aufzeichnungsmaterials.
Die gemäß der Erfindung eingesetzte Verbindung der allgemeinen Formel (I) kann auf den Oberflächenüberzug des photographischen Aufzeichnungsmaterials aufgetragen werden, indem zunächst die Verbindung in einem geeigneten Lösungsmittelsystem, welches Wasser, organische Lösungsmittel beispielsweise Methanol, Äthanol, Aceton, Methyläthylketon, Äthylacetat, Acetonitril, Dioxan, Dimethylformamid, Formamid, Dimethylsulfoxid, Methylcellosolve, Äthylcellosolve, oder Gemische hiervon umfaßt, gelöst wird und dann die photographische Emulsionsschicht, eine lichtunempfindliche Hilfsschicht, beispielsweise eine Rückseitenschicht, eine Antilichthofschicht, eine Zwischenschicht oder eine Schutzschicht oder die Oberfläche des Trägers mit der erhaltenen Lösung durch Aufsprühen, Eintauchen oder Aufziehen behandelt wird. Schließlich wird die behandelte Schicht getrocknet.
Alternativ kann ein antistatischer Überzug, welcher eine Verbindung der allgemeinen Formel (I) und einen Binder, wie Gelatine, Polyvinylalkohol, Celluloseacetat, Celluloseacetatphthalat, Polyvinylformal oder Polyvinylbutyral enthält, als äußerste Schicht des photographischen Aufzeichnungsmaterials ausgebildet werden.
Ein besonders vorteilhaftes Ergebnis kann erhalten werden, falls eine Verbindung entsprechend derallgemeinen Formel (I) gemäß der Erfindung in einen Oberflächenüberzug mit einem Gehalt von etwa 5 bis etwa 1000 mg/m2, vorzugsweise 10 bis 300 mg/m2, eines fluorhaltigen oberflächenaktiven Mittels und etwa 30 bis etwa 500 mg/m2, vorzugsweise 50 bis 200 mg/m2, eines Mattierungsmittels einverleibt wird. Insbesondere verhindern fluorhaltige oberflächenaktive Mittel wirksam die Ausbildung statischer Markierungen. Ferner können weitere Zusätze, wie Härter, Antireibungsmittel und Lichthofverhütungsfarbstoffe im Oberflächenüberzug vorhanden sein.
Geeignete Mattierungsmittel umfassen Silberhalogenid, Barium- oder Strontiumsulfat, Polymethylmethacrylat, Methylmethacrylat/Methacrylsäure-Copolymere, kolloidale Kieselsäure und pulverisierte Kieselsäure.
Ferner sind fluorhaltige oberflächenaktive Mittel, die einen synergistischen Effekt mit der Verbindung entsprechend der allgemeinen Formel (I) zeigen, dh-: in der britischen Patentschrift 13 30 356, und den US-Patentschriften 36 66 478 und 35 89 906 aufgeführten Verbindungen. Typische Beispiele derartiger Verbindungen
25 30
40 45 50
60
65
Kaliun, N-perfluoroctylsulfonyl-N-propylglycinat,
2-(N-PerfiuoroctylsuIf"ony!-N-äthylarnino)-äthylnhosphat,
N-[4-(Pernuornonylo>;y)-b:nzyl]-N,N-dimethylaminaacetat,
N-i^iPerfiuornonyloxyj-benzyli-N.N'-dimethyl-tr-carbor.säure-betain, N-IJ-lN'.N'.N'-TrimsthylammoniolpropylJ-perfluoroctylsulfonamidjodid und N-iPolyoxyäthylenyh-N-propylperfluorociylsulfamid,
d. h. [C8Fi7SOzN(C3H7)(CHjCH2O)nH]. worin η den Wert von 3 bis 12 besitzt. Oberflächenüberzüge der photographischen Aufzeichnungsmaterialien umfassen den äußeren Rückseilenüberzug, der auf der Trägerseite gegenüber derjenigen ausgebildet ist, aufweicher die Silberhalogenidemulsionsschicht oder -schichten ausgebildet werden, und die äußerste Schicht, die über den photographischen Siberhalogenidemulsionsüberzugsschichten, beispielsweise Schutzüberzug, Deckemulsionsüberzug iiegt.
Die Verbindung entsprechend der allgemeinen Formel (I) kann weiterhin in eine Schicht angrenzend an die Haft- oder Grundierschicht für die Silberhalogenidemulsionsschicht und/oder in eine Schicht angrenzend an die äußerste Schicht einverleibt sein, die auf der Seite des Trägers vorhanden ist, welche gegenüber derjenigen, auf welchev die Silberhalogenidemulsionsschicht aufgebracht ist, vorliegt. Eine Schicht in Angrenzung an die Haftschicht umfaßt entweder eine zwischen dem Träger und der Haftschicht aufgebrachte lichlunempfindlicfce Schicht oder eine direkt auf der Haftschicht aufgebrachte üchtunempfindliche Schicht. Durch Einverleibung einer Verbindung der allgemeinen Forme! (I) gemäß der Erfindung in eine derartige Schicht können die Schwierigkeiten hinsichtlich einer elektrostatischen Aufzeichnung während ae-.r Herstellung des photographischen Materials virksam vermieden werden. Das Antistatikum gemäß der Erfindung ist vorzugsweise in einer Schicht unmittelbar oberhalb der Haftschicht vorhanden.
Eine Schicht in Angrenzung an die äußerste Schicht auf der Rückseite des Trägers umfaßt eine Schicht direkt unterhalb des sogenannten Rückseitenüberzuges, welcher einen Binder, wie einen Celluloseester, z. B. CeIIuIosediacetat, Cellulosetriacetat oder Nitrocellulose und erforderlichenfalls ein Mattierungsmittel, ein Antireibungsmittel und/oder einen Farbstoff enthält. Wenn die crfindimgsgemäß eingesetzte antistatische Verbindung in einer derartigen Schicht vorliegt, können Schwierigkeiten hinsichtlich der elektrostatischen Aulladung während der Herstellung und insbesondere während des Gebrauches des photographischen Materials vermieden werden.
jo Die Verbindung gemäß der Erfindung kann auf eine der vorstehend geschilderten Schichten des phoiographischen Aufzeichnungsmaterials als Überzug, wie vorstehend für die Einverleibung der antistatischen Verbindung in die äußerste Schicht des photographischen Materials bereits beschrieben wurde, aufgebracht werden. Geeignete, als Träger verwendbare Materialien in den Aufzeichnungsmaterialien gemäß der Erfindung umfassen beispielsweise Polymerfilme, z. B. Filme von Polyolefin, wie Polyäthylen, Cellulosederivate, wie CeI-lulosetriacetat. Polyester, wie Polyethylenterephthalat, verschiedene Papiere, wie barytüberzogenes Papier, synthetische Papiere, und verschiedene Schichtbahnen aus Papier, dessen beide Oberflächen mit synthetischen Harzfilmen, wie vorstehend aufgeführt, überzogen sind.
Ein Antilichthofüberzug kann auf dem Träger vorhanden sein. Solche Antilichthotuber/üge können RuLS und/ oder eine Anzahl von Farbstoffen unter Einschluß beispielsweise von Oxonolfarbstoffen, AzofarbstolVen, Aryl-
-fo idenfarbstoffen. Styrylfarbstoffe^ Anthrachinonfarbstoffe^ Merocyaninfarbstoffei, Tri- oder Diarylmethanfarbstoffen, und einem Binder für derartige Farbstoffe enthalten. Die geeigneten Binder umfassen Celluloseacetat unter Einschluß von Cellulosemonoacetat und Cellulosediacetat, Polyvinylalkohol, Polyvinylbutyral, Polyvinylacetat, Polyvinylformal, Polyalkylmethacrviat, Polyalkylacrylat, Polystyrol, Styrol/Maieinsäureanhydrid-Copolymere, Polyvinylacetat, Vinylacetat/Maleinsäureanhydrid-Copolymere, Methylvinyläther/Male-nsäureanhydrid-Copolymere. Polyvinylidenchlorid sowie Derivate hiervon.
Photographische Aufzeichnungsmaterialien gemäß der Erfindung umfassen gewöhnliche monochromatische photographische Filme, beispielsweise empfindliche monochromatische Kamerafilme, Röntgenfilme, lithographische Filme,gewöhnliche Farbfilme mit Mehrschichtenstruktur, beispielsweise Farbumkehrfilme, Farbnegativfilme, Farbpositivfilme. Die Erfindung ist besonders wertvoll für photographische Aufzeichnungsmaterialien, die einer Schnellentwicklung bei erhöhter Temperatur, beispielsweise 27 0C oder höher, unterworfen werden, und auch für solche Materialien mit einer relativ hohen photographischen Empfindlichkeit. Die Erfindung wird nachstehend anhand von Beispielen näher erläutert.
Beispiel 1
Herstellung der Probe
8 g jeweils der erfindungsgemäß eingesetzten Verbindungen (1) bis (10) und der Verbindungen (A) und (B) als übliche bekannte Materialien wurden in 10 ml Wasser gelöst, und weiterhin mit 650 ml Methanol und 350 ml Aceton verdünnt. Diese Lösung wurde auf eiiien Cellulosetriacetatfilm in einer Überzugsmenge von 50 mg/m2 aufgezogen und der Film wurde getrocknet. Über diesen Überzug wurde ein Überzugsgemisch aus 0,3 g kolloidaler Kieselsäure mit einem Teilchendurchmesser von 0,05 bis 3 am dispergiert in einem Lösungsmittelgemisch aus .HH) ml Aceton und 600 ml Methanol, aufgetragen. Auf die andere Seite des in dieser Weise behandelten Filmirägers wurde eine indirekte photographische Röntgensilberhalogenidemulsion mit einem Gehalt von 9 Gew.-% Gelatine und 9 Gew.-% Silberjodbromid mit einem Gehalt von 5 Mol-% Jodid aufgezogen. Unter Anwendung dieser Verfahren wurden die Proben Nr. 1 bis Nr. 13 hergestellt, von denen jede eines der als Verbindungen (A) und (B) und (1) bis (10) bezeichneten Antistatika enthielt, mit Ausnahme von Probe Nr. 13, die als Kontrolle diente.
Bewertung der Fähigkeit zur Verhinderung der statischen Aufladung
Die Fähigkeit zur Verhinderung einer statischen Aufladung wurde durch den Wert des Oberflächenwiderstandes und die Neigung zur Erzeugung von statischen Markierungen bewertet.
(1) Der Oberflächenwiderstand wurde unter Anwendung eines Isolierungsmeßgerätes unter Anwendung eines Probeteststückes bestimmt, worauf ein Paar Messingelektroden mit einer Länge von 10 cm mit einem Abstand von 0,14 cm zwischen den Elektroden angebracht waren. Der Teil der Elektrode, der dl·:. Oberfläche der Probeteststücke berührte, war aus rostfreiem Stahl gefertigt und der Wert des Oberflächenwiderstandes nach 1 Minute wurde ausgezeichnet
(2) DerTest für die Erzeugung statischer Markierungen wurde durchgeführt, indem eine Probe des unbelichteten photographischen Aufzeichnungsmaterials auf einen Kautschukbogen mit der durch die antistatische Schicht überzogenen Oberfläche des photographischen Materials nach unten gelegt, die Probe auf den Kautschukbogen unter Anwendung einer Kautschukwalze von oben gepreßt und dann das Stück von dem Kautschukbogen abgeschält wurde, wobei die statischen Markierungen auf dem photographischen Material erzeug; wurden.
Die Umgebungsbedingungen bei jeder Bestimmung waren 25°C und 30% relative Feuchtigkeit bei beiden Versuchen. Vor der Bestimmung wurden die Probeteststücke über Nacht in einer Atmosphäre von 25°C und 30% relativer Feuchtigkeit zur Bestimmung konditioniert.
Zur Bestimmung des Ausmaßes der Erzeugung von statischen Markierungen wurde jede Probe mit einem photographischen Entwickler der folgenden Zusammensetzung bei 200C während 5 Minuten entwickelt:
Entwicklerniasse
N-Methyl-p-aminophenolsulfat Natriumsulfit (wasserfrei) hydrochinon
Natriumcarbonat (Monohydrat) Kaliumbromid
Wasser zu
4g
60 g
10 g
53 g
25 g
1000 ml
Die Neigung zur Ausbildung statischer Markierungen wurde unter Anwendung der folgenden fünf Graduierungen bewertet:
A: Überhaupt keine statischen Markierungen erzeugt,
B: Statische Markierungen in geringem Ausmaß erzeugt,
C: Statische Markierungen in beträchtlichem Ausmaß erzeugt,
D: Statische Markierungen in bemerkenswertem Ausmaß erzeugt,
E: Statische Markierungen über die gesamte Fläche der Probe erzeugt.
Die gemessenen Werte des Oberflächenwiderstandes der Rückseitenoberfläche der Probe und die Bewertung der Erzeugung der statischen Markierungen sind in der nachfolgenden Tabelle III angegeben.
Tr.belle 111
Probe Nr.
Antistatisches Mittel
I Verbindung (1)
2 Verbindung (2)
3 Verbindung (3)
4 Verbindung (4)
5 Verbindung (5)
6 Verbindung (6)
7 Verbindung (7)
8 Verbindung (8)
9 Verbindung (9)
10 Verbindung (10)
I! Verbindung (A)
12 Verbindung (B)
13 ohne
Oberflächenwidersland
(Ohm)
Erzeugung statischer
Markierungen
8,7 x 109 A
1,2X10'° A
5,3X10" A-B
7,1X10" A-B
2,6X10' A
9.5X10'° A
2,4X10'° A
9,0x10' A
2,0 XlO10 A
8,9X10" A-B
6,5XlO12 B
4.0X10'3 B-C
1O3 oder mehr E
Bei Anwendung einer Verbindung der allgemeinen Formel (I) gemäß der Erfindung wurde der Oberflächen-
widerstand markant verringert und die Erzeugung statischer Markierungen wurde wesentlich verhindert. Im Gegensatz dazu ist ersichtlich, daß eine beträchtliche Neigung für die Erzeugung statischer Ladungen bei Filmen vorlag, die die üblichen bekannten antistatischen Mittel enthielten, oder die keine antistatischen Mittel enthielten.
Beispiel 2
Auf eine Oberfläche eines Polyäthylenterephthalatfilmes wurde eine Lösung mit dem Gehalt von 1,5% eines der folgenden antistatischen Mittel: Verbindung (1), (5) und (8) gemäß der Erfindung und Verbindungen (A) und (B) zum Vergleich aufgezogen. Der überzogene Film wurde getrocknet. Die aufgezogene Menge betrug 150 mg/m2. Auf die andere Oberfläche des Filmes wurde eine indirekte Röntgenemulsion mit einem Gehalt von 9% Gelatine und 9% Silberjodbromid mit einem Gehalt von 5 Mol-% Jodid aufgezogen. Die in dieser Weise hergestellten Proben Nr. 14 bis 19 sind in der nachfolgenden Tabelle IV zusammen mit den Werten des Oberflächenwiderstandes für die Rückseite und der Neigung zur Erzeugung von statischen Markierungen aufgeführt, die nach dem gleichen Verfahren wie in Beispiel 1 bestimmt wurden.
Tabelle IV Antistatisches Mittel Oberflachenwiderstand Erzeugung statischer
Probe Nr. (Ohm) Markierungen
Verbindung (1) 5,6XlO10 A
14 Verbindung (5) 3,0X10lu A
15 Verbindung (8) 2,2X10" A
16 Verbindung (A) 8,6XlO12 B-C
17 Verbindung (B) 1,9XlO13 C
18 ohne 1015 oder mehr E
19
Es ergibt sich aus den Werten der Tabelle IV, daß diejenigen Probefilme, die die antistatische Verbindung gemäß der Erfindung enthielten, eine verringerte Neigung zur Erzeugung statischer Markierungen hatten, während in beträchtlichem Ausmaß statische Markisrungen auf den Probefilmen erzeugt wurden, die die Vergleichsverbindungen enthielten.
Beispiel 3
Die erlindungsgemäß eingesetzte Verbindung (1) wurde in Methanol mit einem Gehalt von 5"h Wasser gelöst, wobei eine Lösung mit 0,5% erhalten wurde. Zu 500 ml der erhaltenen Lösung wurden 500 ml einer Methanollösung mit einem Gehalt von 0,1% N-H-PerfluornonyloxyJ-benzyll-N.N-dimethyl-a-carbonsäure-betain zugesetzt. Dieses Gemisch wurde auf eine Oberfläche eines Cellulosetriacetatfilmes in einer Überzugsmenge von 50 mg/m2 aufgezogen. Ferner wurde eine Dispersion aus 0,1 g kolloidaler Kieselsäure, dispergiert in 500 ml Methanol, darüber aufgezogen. Auf der anderen Seite des in dieser Weise hergestellten Filmes wurde eine Mehrschichtenstruktur aus farbphotographischen Silberhalogenidemulsionen aufgezogen, die in Beispiel 2 der japanischen Patentanmeldung 81 142/1976 beschrieben ist.
Hierzu wurde eine rot-empfindliche Emulsionsschicht in folgender Weise hergestellt.
1-a: Herstellung der Silberhalogenidemulsion für eine Emulsionsschicht \on niedriger Empfindlichkeit
Eine Silberiodbromidemulsion mit einem Gehalt von 6 Mol-% Jodid (durchschnittliche Korngröße 0,6 μηι die 100 g Silberhalogenid und 70 g Gelatine auf 1 kg Emulsion enthielt) wurde hergestellt. Zu 1 kg dieser Emulsion wurden 180 cm1 einer Lösung mit 0,1% Anhydro-5,5'-dichlor-9-äthyl-3,3'-di-(3-sulfopropyl)-thiacarbocyaninhydrokifi-Pyridiniumsalz in Methanol als rot-empfindliches Farbsensibilisiermittel zugegeben und dann wurden 20 crrr einer wäßrigen Lösung mit 5 Gew.-% S-Methyl^-hydroxy^^-triazaindolizin, 330 g Cyankuppleremulsion (l)der folgenden Zusammensetzung und 20gderCyankuppleremulsion(2) mit der folgenden Zusammensetzung zugegeben. Ferner wurden 50 cm' einer wäßrigen Lösung mit 2 Gew.-% 2-Hydroxy-4,6-dichlortriazin-Natriumsalz als Gelatine-Härtungsmittel zur Bildung einer Emulsion für die Emulsionsschicht von niedriger Empfindlichkeit zugegeben. Diese Emulsion wird als (IA) bezeichnet.
Emulsion (1):
(I) Gelatine (wäßrige Lösung mit 10 Gew.-% (J) N;ilnum-p-dodeeylbcn/olsulfonat Trikresylphosphal
Cyankuppler (C-Ii
Äthylacetat
1000 g 5 g
60 cm' 70 g 100 cm'
Nachdem das Gemisch (2) bei 55°C gelöst worden war, wurde es zu (1) zugegeben, das vorhergehend auf 55°C erhitzt worden war. Das erhaltene Gemisch wurde unter Anwendung einer Kolloidmühle emulgiert.
Cyankuppler (C-I)
OH
CONH—(CHj)3O
C5Hn-I
Emulsion (2):
(1) Gelatine (wäßrige Lösung mit 10 Gew.-%)
(2) Natrium-p-dodecylbenzolsulfonat Trikresylphosphat
Cyankuppler (C-I)
DIR-Cyankuppler (D-I)
Äthylacetat
1000 g
58 ,
60 cm3
6g
64 g
100 cm3
Die Emulgierung wurde unter Anwendung der gleichen Verfahren wie bei der Emulsion (1) durchgeführt.
DIR-Cyankuppler (D-I) OH
1-b: Herstellung einer Silberhalogenidemulsion für die Emulsionsschicht mit mittlerer EmpfiprUichkeit Die Verfahren gemäß vorstehend 1-a wurden mit folgenden Abänderungen wiederholt:
Durchschnittliche Korngröße des Silberhalogenids Menge des rot-empfindlichen Farbsensibilisiermittels Menge der zugesetzten Emulsion Emulsion (1)
Emulsion (2)
0,9 um
140 cm3
240 g
10 g
Diese Emulsion wird als (2B) bezeichnet.
l-c: Herstellung einer Silberhalogenidemulsion Tür die Emulsionsschicht mit einer hohen Empfindlichkeit Die Verfahren gemäß vorstehend 1-a wurden mit folgenden Abänderungen wiederholt.
Durchschnittliche Korngröße des Silberhalogenids
Menge des rot-empfindlichen Farbsensibilisiermittels Menge der zugesetzten Emulsion
1,1 um (jedoch war die Menge der Körner
mit einer Korngröße von mehr als 1,0 um 55 50 Gew.-% der gesamten Körner und 8,9%
der gesamten Körner hatten eine Teilchengröße von 2,0 um oder mehr)
100 cm'
Emulsion (1): 150 g 60
Diese Emulsion wird als (IC) bezeichnet.
Eine grün-empfindliche Emulsionsschicht wurde in folgender Weise hergestellt.
2-a: Herstellung einer Silberhalogenidemulsion für die Emulsionsschicht mit niedriger Empfindlichkeit 65
Eine Silberjodbromidemulsion mit einem Gehalt von 6 Moi-% Jodid (durchschnittliche Korngröße 0,6 um welche 100 g Silberhalogenid und 70 g Gelatine je kg der Emulsion enthielt) wurde nach dem üblichen Verfah-
11
ren hergestellt. Zu 1 kg dieser Emulsion wurden 200 cm3 einer Lösung mit 0,1% 3,3'-Di-(2-sulfoäthyl)-9-äthyI-
* benzoxacarbocyanin-Pyridiniumsalz in Methanol als grün-empfindliches Farbsensibilisiermittcl zugesetzt und
κ dann wurden 20 cm3 einer wäßrigen Lösung mit 5 Gew.-% 5-Methyl-7-hydroxy-2,3,4-triazaindoIizin hierzu zuge-
J: geben. Ferner wurden 380 g einer Magentakuppleremulsion (3) mit der folgenden Zusammensetzung und 20 g A 5 einer Magentakuppleremulsion (4) mit der folgenden Zusammensetzung hierzu zugegeben. Ferner wurden
ΐ 50 cm3 einer wäßrigen Lösung mit 2 Gew.-% 2-Hydroxy-4,6-dichlortriazin-NatriumsaIz als Gelatinehärtungs-
fl mittel zur Bildung einer Emulsion für die Emulsionsschicht von niedriger Empfindlichkeit zugegeben. Diese
; Emulsion wird als (2A) bezeichnet.
10 Emulsion (3):
(1) Gelatine (wäßrige Lösung mit 10 Gew.-%) 1000 g
(2) Natrium-p-dodecylbenzolsulfonat 5 g
'.-: Trikresylphosphat 65 cm3
/ 15 Magentakuppler (M-I) 63 g
:i Äthylacetat 110 cm3
';, Nachdem das vorstehende Gemisch (2) bei 55°C gelöst worden war, wurde es zu (1) zugegeben, das vorhergehend auf 55°C erhitzt worden war. Das erhaltene Gemisch wurde unter Anwendung einer Kolloidmühle emul-
: 20 giert.
Magentakuppier (M-I): l-(2,4,6-rrich!orpheRy!)-3-[3-(2,4-di-tert.-pentylphenoxy3ceta!T!ido> bep.zarr>.ido]-5-pyrazoion.
Emulsion (4):
(1) Gelatine (wäßrige Lösung mit 10 Gew.-%) 1000 g
(2) Natrium-p-dodecylbenzolsulfonat 5 g
Trikresylphosphat 65 cm3
Magentakuppler (M-I) 6 g
DIR-Magentakuppler (D-2) 60 g
Äthylacetat 110 cm'
Die Emulgierung wurde unter Anwendung des gleichem Verfahrens wie im Fall der Emulsion (3) durchgeführt.
DIR-Magentakuppler (D-2): l-4-[i/-(2.4-Di-tert.-pentylphenoxy)-butyramido]-phe.nyl-3-(l-pyrrolidinyl)-4-(lphenyltetrazolyl-5-thio)-5-pyrazolon.
2-b: Herstellung einer Silberhalogenidemulsion für die Emulsionsschicht mit mittlerer Empfindlichkeit
285 g der Emulsion (3) und 15 g der Emulsion (4) wurde wie vorstehend im Fall von (2 A) zugesetzt und das Material wird als (2B) bezeichnet.
2-c: Herstellung einer Silberhalogenidemulsion für die Emulsionsschicht mit hoher Empfindlichkeit
200 g der Emulsion (3) wurden wie vorstehend im Fall von (2 A) zugesetzt und dieses Material wird als HC) bezeichnet.
Eine blau-empfindliche Emulsionsschicht wurde in folgender Weise hergestellt.
3-a: Herstellung einer Silberhalogenidemulsion für eine Emulsionsschicht von niedriger Empfindlichkeit
Eine Silberjodbromidemulsion mit einem Gehalt von 5 Mol-% Jodid (durchschnittliche Korngröße 0,5 am welche IW) g Silberhalogenid und 70 g Gelatine je kg der Emulsion enthielt) wurde hergestellt. Zu 1 kg dieser Emulsion wurden 20 cm3 einer wäßrigen Lösung mit 5 Gew.-0/ 5-Methyl-7-hydroxy-2,3,4-triazaindolizin und 570 g der Gelbkuppleremulsion (5) der folgenden Zusammensetzung und 30 g der Emulsion (6) der folgenden Zusammensetzung zugegeben. Ferner wurden 500 cm3 einer wäßrigen Lösung mit 2 Gew.-% 2-Hydroxy-4,odichlortriazin-Natriumsalz als Gelatinehärtungsmittel zur Bildung einer Emulsion für die Emulsionsschicht von niedriger Empfindlichkeit zugegeben. Diese Emulsion wird mit (3A! bezeichnet.
Emulsion (5):
60
(1) Gelatine (wäßrige Lösung mit 10 Gew.-%) 1000 g
(2) Natrium-p-dodecylbenzolsulfonat 5 g
Trikresylphosphat 80 cm'
Gelbkuppler (Y-I) 100 g
(.5 Äthvlacetai 120 cm'
Gelbkuppler (Y-I)
NHCOC17H,,
H3CO
COC H2CONH-\y·
I Cl
Emulsion (6):
(1) Gelatine (wäßrige Lösung mit 10 Gew.-%)
(2) Natrium-p-dodecylbenzolsulfonat
Trikresylphosphat
Gelbkuppler (Y-I)
piR-Gelbkuppler (D-3)
Äthylacetat
g
5g
g
g
g
cm3
CH,
CHj—C — COCHCONH
DIR-Gelbkuppler (D-3) Cl
NHCO(CHj)3-O
Die Emulgierung wurde nach den gleichen Verfahren wie im Fall der Emulsion (1) durchgeführt.
3-b: Herstellung einer Silberhaiogenidemulsion für die Emulsionsschicht mit mittlerer Empfindlichkeit Die Verfahren gemäß 3-a wurden mit der folgenden Abänderung wiederholt:
Durchschnittliche Korngröße des Silberhalogenides 0,9 um Menge der zugegebenen Emulsion
Emulsion (5) 380 g
Emulsion (6) 20 g
Diese Emulsion wird mit (3B) bezeichnet.
3-c: Herstellung der Silberhalogenidemulsion für die Emulsionsschicht von hoher Empfindlichkeit Die Verfahren nach 3-a wurden mit folgender Abänderung wiederholt:
Durchschnittliche Korngröße des Silberhalogenides 1,1 um (jedoch betrug die Menge der Kör
ner mit einer Korngröße von mehr als
1,0 um 50 Gew.-% der gesamten Körner
und 8,9% der gesamten Körner hatten eine
Korngröße von 2,0 um oder mehr)
Menge der zugegebenen Emulsion Emulsion (7): 200 g
Diese Emulsion wird mit (3C) bezeichnet.
Emulsion (7):
(1) Gelatine (wäßrige Lösung mit 10 Gew.-%)
(2) Natrium-p-dodecylbenzolsulfonat
Trikresylphosphat
Gelbkuppler (Y-2)
Äthyiacetat
1000 g
5g
80 cm3 100 g 120 crn3
13
Gelbkuppler (Y-2) Cl
C5H11-I
NHCOC HO—<ζ~\_ C5H11-I C2H5
15 Die Emulgierung wurde unter Anwendung dergleichen Verfahren wie im Fall der Emulsion (1) durchgeführt. Auf einen Cellulosetriacetatträger wurden Emulsionsschichten so aufgezogen, daß sie den in der nachfolgenden Tabelle V angegebenen Silbergehalt hatten. Das Überziehen erfolgte in der in der nachfolgenden Tabelle V angegebenen Reihenfolge.
Tabelle V
Schicht
Film A Emulsion
Silbergehalt (mg/dm2)
(IA)
(IB)
(IC)
Gelatinezwischenschicht (Trockenstärke 1,0 ^m)
(2A)
(2B)
(2C)
Gelbfilterschicht, aufgebaut aus gelbem kolloidalem Silber
(Trockenstärke 1,2 am
(3A) (3B) (3C) Gelatineschutzschicht (Trockenstärke 1,2 am)
12 10 12
In ähnlicher Weise wurden weitere antistatische Mittel anstelle der Verbindung (1) eingesetzt, von denen einige im Rahmen der Erfindung liegen, während andere die üblichen bekannten antistatischen Mittel sind. Die antistatischen Eigenschaften der Rückseitenoberfläche der Filmproben wurden unter Anwendung der in Beispiel 1 beschriebenen Verfahren bewertet. Die Probezusammensetzungen und die erhaltenen Ergebnisse sind in der nachfolgenden Tabelle VI aufgeführt.
Tabelle Vl
Probe-Nr.
Antistatisches Mittel
20 Verbindung (1)
21 Verbindung (2)
22 Verbindung (5)
23 Verbindung (6)
24 Verbindung (8)
25 Verbindung (A)
26 Verbindung (B)
27 ohne
Oberflächenwiderstand
(Ohm, 3% relative Feuchtigkeit)
Erzeugung statischer Markierungen
6,3 x 109 A
3,5X10'° A
4,2 x 109 A
8,6 x 10!0 A
8,1 XlO10 A
8,3X10" B-C
!,3XlO13 C-D
1015 oder mehr E
Entsprechend den Weiten der vorstehenden Tabelle VI kann die elektrische statische Aufladung bei Anwen-
14
dung der Verbindungen der allgemeinen Formel (I) im Rahmen der Erfindur,,;, unierdrückt werden.
Beispiel 4
8 g jeder der Verbindungen (1), (2), (5), (8) und (9) gemäß der Erfindung und der Verbindungen (A) und (B) als übliche bekannte Verbindungen wurden in 10 ml Wasser gelöst und weiterhin mit 650 ml Methanol und 350 ml Aceton verdünnt. Diese Lösung wurde auf einen Cellulosetriacetatfilm in einer Menge von 50 mg/m2 aufgezogen und der Film wurde getrocknet.
Über diesen Überzug wurde eine Dispersion aus Cellulosediacetat, gelöst in 300 ml Aceton und 600 ml Methanol, und fein-verteiltem Siliciumdioxid mit einem Teilchendurchmesser von 0,1 bis 1 am in einer Überzugsmenge des Cellulosediacetats von 100 mg/m2 und des Siliciumdioxids von 10 mg/m2 aufgezogen. Auf die entgegengesetzte Seite des in dieser Weise überzogenen Filmträgers wurde eine indirekte Röntgenemulsion mit einem Gehalt von 9 Gew.-% Gelatine und 9 Gew.-% Silberjodbromid mit einem Gehalt von 5 Mol-% Jodid aufgezogen.
Unter Anwendung dieser Verfahren wurden die in Tabelle VlI aufgeführten Proben hergestellt, wobei die Proben Nr. 28 bis 32 der Erfindung entsprechen, während die Proben Nr. 33 und 34 jeweils die Vergleichsverbindung enthalten und die Probe Nr. 34 zur Kontrolle dient. Der Oberflächenwiderstand wurde, wie in Beispiel 1 beschrieben, bestimmt und zur Bewertung des Ausmaßes der Erzeugung statischer Markierungen wurde iede Probe bei 20°C während 5 Minuten mit einem Entwickler der in Beispiel 1 angegebenen Zusammensetzung behandelt. Die gemessenen Werte des Oberflächenwiderstandes der Rückseitenoberfläche und die Bewertung der Erzeugung statischer Markierungen sind aus der nachfolgenden Tabelle VlI ersichtlich.
Tabelle VII Antistatisches Mittel Oberflächenwiderstand Erzeugung statischer
Probe Nr. (Ohm) Markierungen
Verbindung (1) 8,7XlO9 A
28 Verbindung (2) 1,2X10'° A
29 Verbindung (5) 2,6XlO9 A
30 Verbindung (8) 9,0XlO9 A
31 Verbindung (9) 2,0 XlO10 A
32 Verbindung (A) 6,5XlO'2 B
33 Verbindung (B) Ί Au ΙΛίΐ
t,U Λ IU
B-C
Λ ohne ΙΟ15 oder mehr E
35
Bei Anwendung einer Verbindung der allgemeinen Formel (1) gemäß der Erfindung wurde der OberfläcVtenwiderstand markant verrin??.rt und die Erzeugung statischer Markierungen wurde praktisch verhindert. Im Gegensatz zeigte sich, daß eine beträchtliche Neigung zur Erzeugung statischer Markierungen bei den Filmen vorliegt, die die üblichen bekannten antistatischen Mittel enthielten oder die kein antistatisches Mittel enthielten.
Beispiel 5
Eine- Haftschicht der folgenden Zusammensetzung wurde auf eine 130 μηι dicke Cellulosetriacetatfolie aufgezogen und dann getrocknet.
Gelatine Essigsäure Wasser Methylcellosoive Methanol Aceton
Gew.-%
1,35
0,56
2,00
5,00
15,00
76,09
Auf diesen Haftüberzug wurde ein antistatischer Überzug unter Anwendung einer Überzugslösung der folgenden Zusammensetzung aufgezogen.
Antistatisches Mittel (siehe Tabelle VIII)
Wasser Methanol Aceton
8g
10 ml
600 ml
400 ml
Auf die antistatische Schicht wurden weiterhin drei Schichten gleichzeitig durch Extrudierüberztehen mit einer Überzugsgeschwindigkeit von 30 m/Min, aufgezogen. Diese drei Schichten waren eine rot-empfindliche
65
photographische Silberhalogenidemulsionsschicht, eine Zwischenschicht und eine grün-empfindliche photographische Silberhalogenidemulsionsschicht, wie sie sämtliche als Probe 2 bei Beispiel 1 der GB-PS 14 90 angegeben sind. Die rot-empfindliche Schicht war angrenzend an die antistatische Überzugsschicht, während die grün-empfindliche Schicht ganz außen lag.
In diesem Beispiel wurde das Ausmaß der Überzugsungleichformigkeit aufgrund der Aufladung während des Aufziehens durch genaue Untersuchung der Emulsionsschichten mittels des durchgelassenen Lichtes mit bloßem Auge geprüft. Die erhaltenen Ergebnisse sind in der nachfolgenden Tabelle VIII aulgeführt.
Tabelle VIII
ίο .
Probe Nr. Antistatisches Mittel Überzugsgleichformigkeil
Π Verbindung (1) im wesentlichen perfekt
12 Verbindung (5) im wesentlichen perfekt
13 Verbindung (A) Ungleichmäßigkeit vorhanden
14 Verbindung (B) Ungleichmäßigkeit vorhanden
ι/ LZCTyTOuZ
L^ZCTyTOuZ bcmcrkcnSw'cfic iJrigiciChme
Es ergibt iich aus den Werten der Tabelle VIII, daß eine Übeirzugsungleichmäßigkett bei solchen Probeillmen nicht beobachtet wurde, die den antistatischen Überzug gemäß der Erfindung hatten.
16

Claims (8)

Patentansprüche:
1. Photographisches Aufzeichnungsmaterial mit mindestens einer Silberhalogenidemulsionsschicht und mindestens einer weiteren Schicht mit polymeren Alkylendiammoniumverbindungen als Antistatika, dadurch gekennzeichnet, daß die antistatische Schicht mindestens eine polymere Verbindung mit einem Molekulargewicht von 1000 bis 50000, deren Monomereinheit folgende allgemeine Formel aufweist:
CH2-CH2
N N-R3+-
CH2—CH2 R2
Xf
X?
worin R1 und R2, die gleich oder verschieden sein können, eine Alkylgruppe, Cycloalkylgruppe, Aralkylgruppe, Arylgruppe oder Alkenylgruppe bedeuten und R1 und R2 auch unter Bildung einer -C-C-C:?dung verbunden sein können, R3 eine Alkylengruppe, Alkenylengruppe, oder eine Aralkylengruppe jeweils mit bis zu 10 Kohlenstoffatomen und Xf und Xf jeweils ein Anion bedeuten, enthält.
2. Photographisches Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Reste R| und R2jeweils eine Alkylgruppe mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen, die unsubstituiert oder mit einer oder mehreren Cycloalkylgruppen, Hydroxygruppen, Cyangruppen, Amidgruppen, Carboxylgruppen, Alkoxycarbonylgruppen und Carbamoylgruppen als Substituenten substituiert sein kann, eine Benzylgruppe, eine Phenäthylgruppe, eine Allylgruppe oder eine Cyclohexylgruppe bedeuten und falls R| und R2 verbunden sind, eine Äthylengruppe bilden, R3 eine o-Xylylengruppe, eine m-Xylylengruppe, eine p-Xylylengruppe, eine Äthylengruppe, eine Tetramethylengruppe, eine Hexamethyiengruppe, eine Octamethylengruppe, eine Propylengruppe oder Äthyläthylengruppe, Xf und Xf ein Chlorion, Bromion, Jodion, eine Gruppe
R4O-SO2θ, R4-SO2-O9 oder (HO)3PO-O9
und R4 eine Methylgruppe, Äthylgruppe, Phenylgruppe oder eine mit einer oder mehreren Methylgruppen substituierte Phenylgruppe bedeuten.
3. Photographisches Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die polymere Verbindung mit der Monomereinheit der allgemeinen Formel (I) aus Verbindungen mit den nachstehend aufgeführten wiederkehrenden Monomereinheiten der folgenden Formel
CH3-CH3 CH3
N N
CH3 CH2-CH2 CH2
CH3-CH2
N N-CH-CH2
CH, CH3-CH; CH3
CH2-CH3 \
HOOCCH3CH2 CH3
NN-CH3-^ \
/ \
CH3 CH2CH3COOH
2Bf9
CH2-CH3 CH2CH3COOC4H9
-N
H,C4OOCCH2CH3
CH3-CH3
CH2 CH2
--N-CH2-CH2-N-CH2-^f
CH2 CH2
2CI®
V-CH2 CH2-CH2 \
N-CH2-
VCNCH:CH2 CH1-CH2 CH2CH2CN
2ClOf
CH2-CH2
β/ \β λ κ
N N-CH2^f V-CH2--
CH2-CH2 C2H5
2CH3COO9
IC2H5
oder
CH2-
-CH2
35 40 45
-N-CH2-CH2-N-CH2CH2
\ / 50
CH2 CH2
2Cr9
besteht.
4. Photographisches Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die anti- 55 statische Schicht eine Rückseitenbeschichtung des photographischen Materials ist.
5. Photographisches Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die antistatische Schicht die polymere Verbindung mit der Monomereinheit der allgemeinen Formel (I) in Meneen von 0,01 bis 1,0 g/m2 enthält.
6. Photographisches Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die 60 antistatische Schicht zusätzlich ein Mattierungsmittel enthält.
7. Photographisches Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die antistatische Schicht zusätzlich ein fiuorhaltiges oberflächenaktives Mittel enthält.
8. Photographisches Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet daß es die antistatische Schicht auf der der Silberhalogenidemulsionsschicht gegenüberliegenden Oberfläche des 65 Trägers aufweist, wobei auf der antistatischen Schicht noch eine Cellulosediacetatschicht, die kolloidale Kieselsäure enthält, vorhanden ist.
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