DE3035065A1 - Fotografisches, lichtempfindliches silberhalogenidmaterial - Google Patents
Fotografisches, lichtempfindliches silberhalogenidmaterialInfo
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Description
Die Erfindung betrifft lichtempfindliche Silberhalogenidmaterialien,
und insbesondere fotografische, lichtempfindliche Sxlberhalogenidmaterialien, bei welchen eine statische Aufladung
verringert wird und die Bestandteile dieser Materialien in allenfalls vernachlässigbar kleinen Mengen auf eine Transportrolle
oder einen Fluoreszenzverstärkungsschirm für die Röntgenfotografie (nachfolgend einfach als "Schirm" bezeichnet) übertragen
werden.
Die statische Aufladung fotografisch empfindlicher Materialien wird von der fotografischen Industrie seit langem als störend
empfunden. Die statische Elektrizität kann während der Herstellung und der Verwendung der fotoempfindlichen Materialien erzeugt
werden, wenn sie auf Rollen gewickelt, von diesen abgewickelt, auf Rollen transportiert, oder wenn sie beim Transport
mit anderen Gegenständen in Berührung gebracht werden. Die Erzeugung und die Ansammlung von statischen Ladungen ist das Ergebnis
von beispielsweise der elektrischen Leitfähigkeit und den triboelektrischen Eigenschaften des fotografischen Materials,
der Feuchtigkeit, den Eigenschaften des Gegenstandes, mit dem die Berührung erfolgt, und der Atmosphäre, in welcher die Berührung
auftritt. Die angesammelte statische Elektrizität entlädt sich manchmal und verursacht eine unregelmäßige Schleierbildung
auf dem fotoempfindlichen Material. Dies kann so beeinträchtigend für das Material sein, daß es vollständig wertlos wird. Beispielsweise
kann ein Röntgenfilm, selbst wenn nur geringste Spuren von Schleierbildung auftreten, nicht nur den ihm zugedachten Zweck
nicht mehr erfüllen, sondern es kann dies zu einer unzutreffenden oder ungenauen Diagnose führen.
Es ist bekannt,in einem fotografischen Material eine antistatische
Schicht vorzusehen, um jeden nachteiligen Effekt einer statischen Aufladung zu vermeiden, und es wurden zahlreiche Arten
von fotografischen Materialien vorgeschlagen, die eine antistatische
Schicht aufweisen, die die statischen Ladungen ab-
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geben bzw. zerstreuen. Beispielsweise können hier genannt werden die US-PS'en 2 649 374, 3 033 679, 3 437 487, 3 525 621,
3 630 740 und 3 681 070, die japanische Patentveröffentlxchung Nr. 4380/73 und die japanische Patentveröffentlxchung (OPI) Nr.
113221/75 (der Ausdruck "OPI" wird nachstehend für eine veröffentlichte, nicht geprüfte japanische Patentanmeldung verwendet).
Diese Patentliteratur beschreibt zahlreiche Antistatika und antistatische Schichten, die diese Verbindungen enthalten. Jedoch
haben diese bekannten Antistatika bzw. antistatischen Schichten zahlreiche ernsthafte Nachteile, die sie nicht ganz geeignet erscheinen
lassen zur Verwendung als Bestandteil eines fotografischen, empfindlichen Materials. Beispielsweise können sie wegen
der unzulänglichen antistatischen Eigenschaften nicht in der
Lage sein, die Schleierbildung in einem hochempfindlichen fotografischen
Material zu verhindern; oder die antistatische Schicht kann sich in einem Entwicklerbad auflösen und zu einer Schaumbildung führen; oder die Schicht oder das fotografische Material,
das diese Schicht enthält, kann eine so geringe Festigkeit aufweisen,
daß sie bzw. es so viel weniger abriebbeständig und dauerhaft wird, daß eine Verwendung als Handelsprodukt nicht mehr
möglich ist, oder daß bei der Herstellung der Schicht bzw. des fotografischen Materials Schwierigkeiten auftreten.
Damit eine bestimmte Verbindung die gewünschte Wirkung als Äntistatikum
aufweist, ist es im allgemeinen erförderlich, daß die Verbindung in einer größeren Menge in ein fotografisches, lichtempfindliches
Material eingearbeitet wird, als wenn sie anderen Zwecken dienen soll (beispielsweise als Überzugshilfe, Emulgierungsmittel
oder Sensibilisierungsmxttel). Dies ist vermutlich darauf zurückzuführen, daß ein Antistatikum eine kontinuierliche
Schicht ausbilden muß, um in einer fotografischen Schicht elektrisch
leitend zu bleiben. Wenn jedoch das Antistatikum in einer großen Menge verwendet wird, bleibt eine größere Menge an der
Oberfläche eines fotoempfindlichen Materials, was zahlreiche Probleme bei der Herstellung oder der Verwendung des fotoempfindlichen
Materials verursacht, da es auf Transportrollen, eine Kamera oder einen Schirm, die mit der Oberfläche des Materials in
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Berührung kommen, übertragen werden kann. Beispielsweise kann ein auf eine Transportrolle übertragenes Antistatikum die Rolle
verschmutzen, und der Schmutzflecken kann dann auf einen Film übertragen werden,der nachfolgend zwischen den Rollen hindurchgeführt
wird. Wenn das Antistatikum auf einen Schirm übertragen wird, können sich die Eigenschaften des Schirmes ändern, oder es
können . auf dem röntgenfotografisehen Material Flecken oder Ver-Schmierungen
auftreten. Dies führt nicht nur zu einer Verschlechterung der Produktqualität, sondern kann auch zu einer ungenauen
Diagnose führen.
Als Ergebnis zahlreicher Untersuchungen ist nun festgestellt worden, daß ein fotografisches, lichtempfindliches Silberhalogenidmaterial,
das ein filmbildendes, wasserlösliches Polymeres, abgeleitet von einem Monomeren, umfassend eine Carboxylgruppe,
und Verbindungen der allgemeinen Formeln (I) und (II), welche nachfolgend beschrieben werden, enthält, die Nachteile von.herkömmlichen
Produkten nicht aufweist.
Die Verbindung der allgemeinen Formel (I) kann wie folgt dargestellt
werden:
ι1
R-A- N-R„
I 2 CD
CH-CCH) -B
I I x
R5 R.
,5 |5
wobei A die Reste -
oder eine chemische Bindung bedeutet; R einen gesättigten oder
ungesättigten Kohlenwasserstoffrest mit 8 bis 22 Kohlenstoffatomen
bedeutet, wenn A eine chemische Bindung ist, und einen gesättigten oder ungesättigten Kohlenwasserstoff mit 7 bis 21
Kohlenstoffatomen bedeutet, wenn A die Bedeutung der Reste
R5 R5
-SO2N(CH2)n-, -CON(CH2)n- oder -θ/' X\cH2-; hat; R5
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Wasserstoff, den Methylrest oder den Äthylrest bedeutet; B die
θ θ
Reste -COO oder -SO3 bedeutet; R. und R„ jeweils einen. Älkylrest oder Hydroxyalkylrest mit 1 bis 18 Kohlenstoffatomen oder einen Polyalkylenoxidkettenrest bedeuten; R-, und R. jeweils Wasserstoff oder einen Alkylrest mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen bedeuten; η eine Zahl von 2 bis 8 ist; und χ die Bedeutung von 0 oder 1 hat.
Reste -COO oder -SO3 bedeutet; R. und R„ jeweils einen. Älkylrest oder Hydroxyalkylrest mit 1 bis 18 Kohlenstoffatomen oder einen Polyalkylenoxidkettenrest bedeuten; R-, und R. jeweils Wasserstoff oder einen Alkylrest mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen bedeuten; η eine Zahl von 2 bis 8 ist; und χ die Bedeutung von 0 oder 1 hat.
Die Verbindung der allgemeinen Formel (II) kann wie folgt dargestellt
werden:
Rf-A-N-R2
I Cn·)
CH-CCH) -B J
I I x R3 R4
wobei A, B, R1^R. und χ die gleiche Bedeutung wie bei der allgemeinen
Formel (I) oben haben (es ist jedoch nicht erforderlich, daß sie in jedem besonderen Fall die gleiche Bedeutung haben wie
in der allgemeinen Formel (I)); Rf einen Perfluoralkylrest mit
8 bis 22 Kohlenstoffatomen bedeutet, wenn A eine chemische Bindung ist, und einen Perfluoralkylrest mit 7 bis 21 Kohlenstoffatomen
bedeutet, ^ς ^c
I I ί
wenn A die Reste -SO7NCCH-) -, -CONCCH9) -; oder ~°"
bedeutet; im Rahmen der vorliegenden Erfindung umfaßt ein Perfluoralkylrest
auch einen solchen Rest, der in der ^O -Stellung
einen Wasserstoffsubstituenten aufweist (siehe in diesem Zusammenhang
die später beschriebenen Verbindungen (II)-8 und (II)-9).
Hinsichtlich des filmbildenden, wasserlöslichen Polymeren, abgeleitet
von einem Monomeren, umfassend eine Carboxylgruppe (nachfolgend als Säurepolymeres bezeichnet), welches im Rahmen der
Erfindung verwendbar ist, bestehen keine besonderen Beschränkungen, jedoch werden Homopolymere oder Copolymere von Vinylmonomeren,
die eine Carboxylgruppe aufweisen, mit Vorteil verwendet.
1 3 η η 1 s / η R κ 9
Beispielhafte bevorzugte Säurepolymere sind solche, die sich von Vinylmonomeren ableiten, die eine Carboxylgruppe aufweisen,
wie Acrylsäure, Methacrylsäure, Maleinsäureanhydrid (einschließlich
Maleinsäure,, den Halbestern, den Halbamiden und anderen ■Derivaten davon), Zimtsäure, Crotonsäure, Citraconsäure, p-Carboxystyrol
und Vinyl-^L-carboxymethylather.
Beispiele für Monomere, die mit den Vinylmonomeren, die eine Carboxylgruppe enthalten, copolymerisierbar sind, umfassen
äthylenisch ungesättigte Monomere, wie Äthylen, Vinylacetat, Styrol, Alkylvinylather, wie Methylvinyläther, Acrylatester
(wie Äthylacrylat, Butylacrylat und Phenylacrylat), Methacrylatester
(wie Äthylmethacrylat, Butylmethacrylat und Phenylmethacrylat), Acrylamidderivate, wie Acrylamid, Äcryloylmorpholin,
Methacrylamid und seine Derivate und Vinylpyrrolidon. Um die physikalische Festigkeit der antistatischen Schicht zu erhöhen,
können die Vinylmonomeren mit Monomeren copolymeresiert werden^
die eine Hydroxylgruppe aufweisen, wie Hydroxyäthylacrylat, Hydroxyäthylmethacrylat-und Hydroxypropylacrylat, oder Monomeren,
die eine funktionelle Gruppe aufweisen, wie Chlormethylstyrol,
Acetoacetoxyäthylmethacrylat und Glycidylacrylat.
Das im Rahmen der Erfindung verwendete Carbonsäurepolymere muß ein ausreichendes Molekulargewicht aufweisen, um einen stark
vernetzten Film zu ergeben. Das Molekulargewicht hängt von dem jeweiligen Polymeren ab, liegt jedoch im allgemeinen in einem
Bereich von etwa 5000 bis 500.000, vorzugsweise in einem Bereich von etwa 10.000 bis 200.000. Carbonsäurepolymere, die im Rahmen
der vorliegenden Erfindung mit Erfolg eingesetzt werden können, umfassen beispielsweise die folgenden sich wiederholenden Einheiten:
•CH--C-
2 I
COOH
und / oder
-CH CH-
I I
COOH COOR1
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in welchen R Wasserstoff oder den Methylrest und R1 Wasserstoff
oder einen Alkylrest mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen bedeuten.
Beispielhafte polymere Säuren, die im Rahmen der Erfindung mit Erfolg eingesetzt werden können, werden nachfolgend anhand ihrer
sich wiederholenden Einheiten dargestellt:
Polymeres 1
COOH
Poylmeres 2
COOH
Polymeres 3
COOCH,
COOH
Polymeres 4
COOH COOH
COOH
Polymeres 5
COOH COOH
Polymeres 6
-CH^ OCOCH3
COOH COOH
130015/0852
Polymeres 7
-f CH2 -CH^q _ 5-(CH q _
OCH3 COOH COOH
Polymeres 8
Polymeres 9
-CHh0 >5-iCH
COOH COOH
COOC4H9Cn) COOH COOH
Polymeres
COOH
Polymeres | 11 | -f | 12 | -e | OCH3 | • | I COOCH3 |
CH2-CH^0 ri OCH3 |
|||||||
Polymeres | COOC4H9 Cn) ■ | ||||||
ecH-— I COOH |
|||||||
COOH | |||||||
CH,
COOH COOCH2CH2OH
. 130015/0852
ORIGINAL INSPECTED
Polymeres 14
303506S
! u I
COOH COOCH7CH9OH
Polymeres 15
Polymeres 18
Polymeres
CH
COOH
COOCfT2CH2OOCCH2COCH
2*-v ^n-T
Polymeres | 16 | T^ ·2 ■■': CONH2 |
Polymeres | ■e 17- · |
2-^.3 CON 0 ' I |
H | ||
:Η2-^ο.8^2 COOH |
||
COOH | ||
OH
OCH2COOH
CH- CH.
COOH COOCH
ifc -. "_ ^
130015/0852
ORIGINAL INSPECTED
Polymeres 20
COOH
Das Säurepolymere ist vorzugsweise wenigstens zum Teil mit
Alkali neutralisiert. Als Alkali kann eine anorganische oder organische Base von Erdalkalimetallen oder Alkalimetallen verwendet
werden, vorzugsweise Natriumhydroxid oder Kaliumhydroxid.
Bei einem bevorzugten Neutralxsxerungsgrad sind wenigstens 50 Mol% der Carboxylgruppen neutralisiert, und der pH-Wert liegt
zwischen 5,0 und 7,5. Das Säurepolymere wird im Rahmen der Erfindung
in einer Menge von 50 mg/m2 bis 5 g/m2, vorzugsweise
von 100 mg/m2 bis 1 g/m2 eingesetzt.
Nachfolgend werden die Verbindungen der allgemeinen Formel (I) näher erläutert. In der allgemeinen Formel (I) bedeuten vorzugsweise
^S ^5 A die Reste -SO^fCH^! °der j
(wobei Rj- vorzugsweise Wasserstoff ist) ,
θ
B den Rest -COO , R1 und R„ jeweils einen Alkylrest mit 1 bis Kohlenstoffatomen, einen Hydroxyalkylrest mit 2 bis 4 Kohlenstoffatomen oder einen Polyäthylenoxidkettenrest, R3 und R. ' jeweils Wasserstoff oder den Methylrest, und η eine Zahl von 2 bis 4. . -
B den Rest -COO , R1 und R„ jeweils einen Alkylrest mit 1 bis Kohlenstoffatomen, einen Hydroxyalkylrest mit 2 bis 4 Kohlenstoffatomen oder einen Polyäthylenoxidkettenrest, R3 und R. ' jeweils Wasserstoff oder den Methylrest, und η eine Zahl von 2 bis 4. . -
Bevorzugte Beispiele für Verbindungen der allgemeinen Formel (I) sind die folgenden:
CH3
C11H23CONHCCH2)3-6N-CH3
CH9COO^
130015/0852 ORIGINAL INSPECTED
C-^Ht
C11H23CONHCCH2) 3-^-N-C2H5
CH2COO-'
CH.
CH.
C17H„C0NHtCH,)_->
1/ JJ Δ Ο
CH.
C17H35CONHCCH2) 3-
130015/0852 ORIGINAL INSPEOTED^■-
Verbindung (I)-7
C4H9
Verbindung (I)-8
CH0CHCOO^ ί
2I '
CH-CH9OH C1 7H__C0NHCCH J -^-CH.CH^
cn cocP
Verbindung (I)-11
CH COO^
L*
130015/08
ORiGiNAL INSPECTED
p+q =
CH
CH2COC
CHT C13H27CONHCCH2) 3-®N-Ci
Bezüglich der Herstellung der Verbindungen der allgemeinen Formel (I) wird auf die japanische- Patentveröffentlichung Nr.
5048/75, Journal of American Chemical Society,' Band 67, Seite 2095
(1947) und die US-PS'en 2 777 872, 2 846 417, 3 411 912, 3 832 185 und 4 012 437 verwiesen.
Die Verbindung der allgmeinen Formel (I) wird im allgemeinen in Mengen von etwa 5 bis 500 mg/m2, vorzugsweise von 10 bis 200 mg/m2,
verwendet. ■ . · .■;_.,·■.,::·
Nachfolgend werden die Verbindungen.". der allgemeinen Formel (II)
näher erläutert. In der allgemeinen Formel (II) bedeuten vorzugsweise:
130015/0852-INSPECTED
Rr
A die Reste -CONCCH7) -, -SO7NCCH9) - oder -0
Tl
3035(^65
(wobei Rj- vorzugsweise Wasserstoff bedeutet) ,
θ B den Rest -COO , R1 und R_ jeweils einen Alkylrest mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen,
R3 und R4 jeweils Wasserstoff, und
η eine Zahl von 2 bis
Bevorzugte Beispiele für Verbindungen der allgemeinen Formel (II) sind nachfolgend angegeben:
C0F1 -CONHCCH9) ®NCCH.
öl/ CJi
C10F21CONHCCH2)
C9F19°
Verbindung (II)-5
; CCF9) _-«
,CH2CH3
CH2CH3
130015/085 ORIGINAL INSPECTED
3035055
/CH3
cf3 (cf2) 6-conh cch2) 3-^ - ch2ch2-coo^.
\h3
/CH3 C9F17CONHCCH2) 3®M -CH3
CH2CH2SO3-
/CH3
HCCF9CF9) n -CONHCCH9) 9 -^ - CH9CH-COO^'
ZZo ZZv LL
CH,
.CH2CH3
HCCF2CF2) 1O-SO2NHCCH2)2®N-CH2-COC
CH2CH3
Die Verbindungen der allgemeinen Formel (II) können auf ähnliche Weise hergestellt werden, wie die Verbindungen der allgemeinen
Formel (I).
Die Verbindungen der allgemeinen Formel (II) werden im Rahmen der vorliegenden Erfindung im allgemeinen in Mengen von etwa
0,5 bis 50 mg/m2, vorzugsweise von 1 bis 30 mg/m2, eingesetzt.
130015/0862
ORIGINAL INSPECTED
Die vorliegende Erfindung zeichnet sich dadurch aus, daß das Säurepolymere, die Verbindung der allgemeinen Formel (I) und
die Verbindung der allgemeinen Formel (II) in Kombination verwendet werden. Es besteht keine besondere Beschränkung hinsichtlich
der Mengenverhältnisse der drei Komponenten, im allgemeinen beträgt das Gewichtsverhältnis der Verbindung der allgemeinen
Formel (II) zu der Verbindung der allgemeinen Formel (I) zu dem Säurepolymeren 1:3 bis 150:10 zu 1000, vorzugsweise 1:10 bis
50:30 zu 300.
Erfindungsgemäß werden die drei Komponenten vorzugsweise zusammen in die Oberflächenschutzschicht, die Unterlagen- bzw. Verstärkungsschicht
oder die Zwischenschicht eingearbeitet, wobei die Einarbeitung in die Oberflächenschutzschicht besonders bevorzugt
wird. Wenn die Oberflächenschutzschicht oder die Unterlagenschicht bzw. Verstärkungsschicht aus zwei Schichten bestehen,
können die drei Komponenten zusammen in die äußerste Schicht eingearbeitet werden. Alternativ hierzu können die Verbindung der
allgemeinen Formel (I) und die Verbindung der allgemeinen Formel (II>
in die äußerste Schicht, und das Säurepolymere in eine benachbarte Schicht eingearbeitet werden.
Demzufolge müssen die drei Komponenten gemäß der Erfindung nicht in die gleiche Schicht eingearbeitet werden. Beispielsweise können
die Verbindung der allgemeinen Formel (I) und die Verbindung der allgemeinen Formel (II) in die äußerste Schicht, und
das Säurepolymere in eine benachbarte Schicht eingearbeitet werden. Weiterhin kann die Verbindung der allgemeinen Formel (I) in
die äußerste Schicht, und das Säurepolymere und die Verbindung der allgemeinen Formel (II) in eine benachbarte Schicht eingearbeitet
werden. Auf ähnliche Weise kann die Verbindung der allgemeinen Formel (II) in die äußerste Schicht und das Säurepolymere und die Verbindung der allgemeinen Formel (I) in eine, benachbarte
Schicht eingearbeitet werden. Vorzugsweise werden die drei Komponenten jedoch zusammen in die gleiche Schicht, vorzugsweise
in die äußerste Schicht eingearbeitet.
130015/08^2
ORIGINAL INSPECTED
Schichten, zu denen die drei Komponenten hinzugefügt werden, enthalten vorzugsweise Gelatine» Es kann jede herkömmliche Art
Gelatine verwendet werden, beispielsweise alkalibehandelte Gelatine, säurebehandelte Gelatine und enzymbehandelte Gelatine,
wobei säurebehandelte Gelatine bevorzugt wird. Die Schicht enthält etwa 10 bis 90 Gew.-%, vorzugsweise 20 bis 70 Gew.-%,.
Gelatine.
Die Schichten, zu denen die drei Komponenten der Erfindung zugesetzt
werden können, können gleichfalls ein Mattierungsmittel, ein Schmiermittel, kolloidales Siliciumdioxid, ein Kondensierungsmittel
vom Carbonsäureaktivierungstyp und ein oberflächenaktives
Mittel enthalten. Bevorzugte Mattierungsmittel sind Perlen (in einer Größe von etwa 0,1 bis 10 Mikron) von Kieselerde (Siliciumdioxid), Polymethylmethacrylat, Bariumsulfat,
Titandioxid, Polyolefinen, etc.
Beispiele für oberflächenaktive Mittel umfassen nichtionische oberflächenaktive Mittel, wie Saponin (Steroidtyp), Alkylenoxidderivate
(wie Polyäthylenglycol, Polyäthylenglycol/Polypropylenglycol-Kondensate,
Polyäthylenglycolalkyl- oder -alkylaryläther, Polyäthylenglycolester, Polyäthylenglycolsorbitester, Polyalkylenglycolalkylamine
oder -amide und Silicon/Polyäthylenoxid-Addukte), Glycidolderivate £ wie Alkenylbernsteinsäurepolyglyceride und
Alkylphenolpolyglyceride), aliphatische Säureester von Polyolen und Alkylester, Uretane und Äther von Sacchariden; anionische
oberflächenaktive Mittel, die saure Gruppen enthalten, wie eine Carboxylgruppe, eine Sulfogruppe, eine Phpsphogruppfe, eine Sulfatestergruppe
und eine Phosphatestergruppe,, wie Triterpenoidsaponin, Alkylcarboxylatsalze, Alkylsulfonatsalze, Alkylbenzplsulfonatsalze,
Alkylnaphthalinsulfonatsalze, Alkylsulfatester, Alkylphosphatester,
N-Acyl-N-alkyltaurine, .Sulfosuccinatester, SuIfoalkylpolyoxyäthylenalkylphenyläther
und Polyoxyät.hylenalkylphosphatester; amphotere oberflächenaktive Mittel wie .Aminosäuren,
Aminoalkylsulfonsäuren, Arainoalky!sulfat— und phosphatester,
Aminimide und Aminoxide; kationische oberflächenaktive Mittel wie Alkylaminsalze, aliphatische oder aromatische quaternäre Ammonium-
und ein Gelatine-Vernetzungsmittel
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salze, heterocyclische quaternäre Ammoniumsalze, wie Pyridin und Imidazolin, und Phosphonium- und Sulfoniumsalze, die einen
aliphatischen Rest oder einen heterocyclischen Ring enthalten; und Flupr-haltige oberflächenaktive Mittel (anionische , nichtionische, kationische und solche vom Betain-Typ).
Spezielle Beispiele für derartige oberflächenaktive Mittel sind
beschrieben in den US-PS1en 2 240 472, 2 831 766, 3 158 484,
3 210 191, 3 294 540, 3 507 660, 2 739 891, 2 823 123,
3 068 101, 3 415 649, 3 666 478, 3 756 828, 3 133 816,
3 441 413, 3 475 174, 3 545 974, 3 726 683, 3 843 368,
2 271 623, 2 288 266, 2 944 900, 3 253 919, 3 671 247,
3 722 021, 3 589 906, 3 666 478, 3 574 924, den GB-PS'en
1 012 495, 1 022 878, 1 179 290, 1 198 450, 1 397 218,
1 138 514, 1 159 825, 1 374 780, 1 570 961, 1 503 218, der BE-PS 731 126, den DE-OS1en 19 61 638 und 25 56 670 und
in den japanischen Patentveröffentlichungsnummern (OPI) 117414/75, 59025/75, 21932/78, und 77135/77.
Kolloidales Siliciumdioxid ist im Handel erhältlich, beispielsweise
unter der Bezeichnung Ludox AM (von E.I. DuPont) oder SNOW Tex O (von Nissan Chemical Industries, Ltd.).
In eine Schicht, in der die drei erfindungsgemäßen Komponenten zusammen enthalten sind, kann auch ein Carbonsäureaktivierungs-Kondensierungsmittel
eingearbeitet werden, zur Einwirkung auf das Säurepolymere, wobei die physikalische Festigkeit der
Schicht verbessert wird. Das heißt, daß das Carbonsäureaktivierungs-Kondensierungsmittel
vorzugsweise in eine Schicht eingearbeitet wird, die das Säurepolymere enthält, oder es kann auch
in eine benachbarte Schicht eingearbeitet werden. Beispiele für Carbonsäureaktivierungs-Kondensierungsmittel umfassen N-Äthyl-5-phenylisoxazolium-3'-sulfonat,
bekannt als .Woorword's Reagens K, N-tert.-Butyl-5-methylisoxazoliumperchlorat, bekannt als Woodword's
Reagens L, Isoxazoliumsalze, beschrieben in der japanischen Patentveröffentlichung Nr. 30069/69 und in den US-PS'en
3 060 028, 3 316 095, 3 321 313 und 3 543 292, Ν,Ν-Dicyclohexyl-
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carbodiimid, bekannt als DCC, wasserlösliches 1~Äthyl-3-(3-dimethylaminopropyl)-carbodiimidhydrachlorid,
die Carbodiimide, die in der US-PS 3 619 236 und in der japanischen Patentveröffentlichung
Nr. 38715/71 beschrieben werden,. Dihydrochinolin-N-carboxylsäureester,
Carbamoylpyridiniumsalze, Carbamoyloxypyridiniumsalze
und e-Chlor-i-p-chlorbenzolsulfonyloxybenzotriazol.
Die Herstellung einer Schicht, die die erfindungsgemäßen Komponenten
enthält, kann auf jede herkömmliche Art und Weise erfolgen, die zum Beschichten mit einer wäßrigen Überzugszusammensetzung
verwendet werden, wie Tauchüberziehen, Überziehen mit Hilfe einer
Schlitzdüsen-Auftragsmaschine bzw. einer Luftbürste, das sogenannte
"Curtain"-überziehen/ Überziehen mit einem Sprühtrichter
und Extrudierungsüberziehen mit einem Gleittrichter,
Das erfindungsgemäße fotoempfindliche Material ist sehr wirksam
hinsichtlich der Kontrolle von statischen Aufladungen, verglichen mit den kürzlich vorgeschlagenen antistatischen, fotografischen,
lichtempfindlichen Materialien, und darüber hinaus wird keine
Komponente des Materials auf Transportrollen, eine Kamera oder einen Schirm übertragen, aufgrund einer Berührung mit diesen
Gegenständen. Dieser Vorteil macht sich besonders dann bemerkbar, wenn ein hochempfindliches Material, wie beispielsweise ein
Farbnegativfilm oder ein Röntgenfilm, das erfindungsgemäße fotoempfindliche Material bildet.
Geeignete Träger für diese fotografischen Materialien umfassen Zelluloseacetat, Zellulosenitrat, Polyvinylaeetal, Polycarbonat,
Polyester (beispielsweise Polyäthylenterephthalat), Polystyrol und Barytpapier sowie auch mit Polystyrol, Zelluloseacetat, Polyester
und Polyolefinen beschichtete fotografische Papiere.
Nachfolgend werden die belichtungsempfindlichen Emulsionsschichten
beschrieben, die in dem erfindungsgemäßen fotografischen, lichtempfindlichen
Material verwendet werden. Für die Emulsionen können alle herkömmlichen Silberhalogenide verwendet werden, beispiels-
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weise Silberchlorid, Silberbromid, Silberbromojodid, Silberchlor
obromid, Silberchlorojodid und Siblerchlorobromojodid.
Diese Halogenide können unabhängig voneinander oder in Form einer Mischung verwendet werden. Als Binder wird gewöhnlich ein
hydrophiles Kolloid gewählt. Typische Beispiele für Kolloide umfassen Proteine, wie Gelatine und seine Abkömmlinge, Zellulosederivate,
Stärke, Saccharide einschließlich Polysaccharide wie Dextran, pflanzlichen Kautschuk bzw. Gummi und synthetische Polymere,
wie Polyvinylalkohol, Polyacrylamid und Polyvinylpyrrolidon. Die erfindungsgemäßen fotografischen empfindlichen Materialien
können weiterhin herkömmliche Zusätze enthalten, wie beispielsweise ein Antischleiermittel, fotografische Stabilisierungsmittel,
Sensibilisierungsmittel, Entwicklerzusätze, Härtungsmittel, Plastifizierungsmittel,
oberflächenaktive Mittel, Farbkuppler und Polymerenlatizes. Bezüglich dieser Zusätze wird verwiesen auf
Product Licensing Index, Band 92, Seiten 107-110 (Dezember 1971)
und Research Disclosure, Band 176, Seiten 22-31 (Dezember 1978).
Zur Herstellung und Entwicklung eines Röntgenfilms, in welchem
ein erfindungsgemäßes fotoempfindliches Material verwendet werden
kann, wird auf Research Disclosure, Band 184, Seiten 433-441 (August 1979) verwiesen, wo auch ein damit verwendbarer Schirm
beschrieben wird.
Anhand der nachfolgenden Beispiele wird die Erfindung näher erläutert,
wobei die Erfindung nicht auf diese Beispiele beschränkt ist.
Die Proben (1) bis (8), jeweils umfassend eine Kombination, in der nachfolgend angegebenen Reihenfolge, aus einer Schutzschicht,
einer Emulsionsschicht, einer Polyäthylterephthalatfilmbasis,
einer Emulsionsschicht und einer Schutzschicht, wurden mit herkömmlicheiBeschichtungs-
und Trocknungsverfahren hergestellt. Die Basisformulierungen der Schutz- und Emulsionsschichten waren wie
folgt:
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Binder:
Siberbeschichtung:
Silberhalogenid:
Härter:
Schleierunterdrückungsmittel:
2,5 g/m2 Gelatine
5 g/m2
1,5 Mol% AgJ +98,5 Mol% AgBr 0,8 g Chromalaun pro 100 g Binder
0,5 g i-Phenyl-5-mercaptotetrazol
pro 100 g Ag
Binder:
Härter:
Überzugshilfsmittel:
Mattierungsmittel:
1,7 g/m^ Gelatine
0,4 g Natrium-2-hy-droxy-4,6-dichlors-triazin
pro 100 g Binder 20 mg/m2 Natrium-4-(p-nonylphenoxy)-butansulfonat
25 mg/m2 Polymethylmethacrylat
(durchschnittliche Teilchengröße 5μ).
In Probe (1) wurden eine Emulsionsschicht und eine Schutzschicht verwendet, die identisch mit den oben angegebenen Formulierungen
waren. Die Proben (2) bis (8) waren die gleichen wie die Probe (1), mit der Ausnahme, daß bei ihnen eine Schutzschicht verwendet wurde,
die das Polymere-1 und die Verbindungen (I)-1 und (II)-1
in den in Tabelle 1 unten angegebnen Mengen enthielten (wobei 60 Mol% der Carboxylgruppe des Polymeren-1 mit Natriumhydroxid
neutralisiert waren). Jede Probe wurde hinsichtlich der statischen Aufladung,des Beeinträchtigungsausmaßes des Schirms und der auf
eine Rolle übertragenen Menge untersucht. Jeder Faktor wurde durch die nachfolgend angegebene Methode ermittelt. Die Ergebnisse
sind in Tabelle 1 dargestellt.
I. Bestimmung der Wirksamkeit bei der Kontrolle der statischen Aufladung
Ein Probestück wurde einen Tag bei 250C und einer rel. Feuchtigkeit
von 25 % konditioniert, durch ein AOT (Produkt der Firma Siemens Elema) mit einem LT-II (ein Schirm der Firma Dai Nippon Toryo
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Co., Ltd.) unter den gleichen Bedingungen hindurchgeführt und entwickelt, um die Bildung von statischen Punkten zu ermitteln.
II. Bestimmung des Beeinträchtigungsgrades eines Schirms
Ein Probestück und ein LT-II (ein Schirm der Firma Dai Nippon Toryo Co., Ltd.) wurden einen Tag bei 300C und einer rel. Feuchtigkeit von 80 % konditioniert und 100 Stücke wurden durch eine
Kassette mit einem LT-II unter den gleichen Bedingungen hindurchgeführt
und mit Röntgenstrahlen belichtet, um die Anwesenheit von Flecken oder Verschmierungen festzustellen.
III. Bestimmung der auf eine Rolle übertragenen Menge
Ein Probestück wird auf eine Bahnenführungsvorrichtung gegeben, welche eine Antriebsvorrichtung für die Gummirollen (10 cm im
Durchmesser) und zehn chromplattierte Rollen umfaßt, und dann unter einer Spannung von 5 kg bei einer Geschwindigkeit von
50 m/min während 30 Minuten bei Normaltemperatur und normaler
Feuchtigkeit transportiert. Die Anwesenheit von Staub oder Schmutz auf den Rollen wurde überprüft.
Polymeres-1 | Verbindung | Probe | 50 | Statische Aufladung: | Verbindung | Statische | Schirm | auf Rollen | |
(D-I | 50 | (HM | Aufladung | beeinträchtigung | übertragene | ||||
Probe | (mg/m2) | (mg/m2) | 50 | (mg/m2) | Menge | ||||
Nr. | — | *) | **) | *") | |||||
1 | 300 | — | — | C | A | A | |||
2 | 50 | — | C | ß | B | ||||
3 | — | 4 | C | C | B | ||||
4 | erfindungsgemäße | C | B | B | |||||
S = | 300 | 4 | |||||||
300 | — | A | A | A | |||||
6 | — | 4 | C | C | C | ||||
7 | 300 | 4 | C | B | B | ||||
8 | C | B | . B | ||||||
*) | A: Es wurden einige statische Punkte beobachtet | ||||||||
Schirmbeeinträchtigung:
auf Rollen übertragene Menge:
B: Es wurden zahlreiche statische Punkte beobachtet
C: Es wurden durchwegs statische Punkte beobachtet.
A: Es wurden keine Flecken oder Verschmierungen erzeugt
B: Es wurden merklich FJecken oder Verschmierungen erzeugt
C: Es wurden durchwegs Flecken oder Verschmierungen erzeugt.
A: An einer Rolle haftete kein Schmutz oder Staub
B: An einer Rolle hafteten merkliche Mengen Staub oder Schmutz
C: An der gesamten Rolle haftete Staub oder Schmutz,
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Aus Tabelle 1 ist ersichtlich, daß die Kombination aus einem Säurepolymeren, einer Verbindung der allgemeinen Formel (I) und
einer Verbindung der- allgemeinen Formel (II) einen Röntgenfilm ergibt, auf welchem die statische Aufladung wirksam kontrolliert
werden kann, und bei welchem keine Probleme hinsichtlich einer Schirmbeeinträchtigung oder einer Schmutzbildung auf Rollen auftreten
-
Auf die gleiche Weise, die zur Herstellung der Probe (1) in Beispiel 1 verwendet wurde, wurde die Probe (11) hergestellt.
Die Proben (12) bis (18) waren die gleichen wie die Probe (11), mit der Ausnahme, daß bei ihnen eine Schutzschicht verwendet
wurde, die das Polymere-4, und die Verbindungen (I)-3 und (II)-3, in den in Tabelle 2 unten angegebenen Mengen, enthielt
(wobei 80 Mol% der Carboxylgruppe^ des Polymeren-4 mit KOH neutralisiert
waren). Diese Proben wurden hinsichtlich ihrer Wirksamkeit bei der Kontrolle der statischen Aufladung und dem Ausmaß
der Schirmbeeinträchtigung auf die gleiche Weise, wie oben beschrieben, untersucht. Die Ergebnisse sind in Tabelle 2 angegeben.
Polymeres-4 | Verbindung | Verbindung | Statische | Schirm- | |
Probe | (D-. | (ID-3 | Aufladung | besinträchtigung | |
Nr. | (mg/m2) | (ring/m^) | (mg/m2) | ||
11 | C | A | |||
12 . | 400 | 50 | 2 | A | A |
13 | 1000 | 50 | 2 | A | A |
14 | 6000 | 50 | 2 | A | C |
15 | 400 | 600 | 2 | B | C |
16 | 400 | 50 | 30. | A | A |
17 | 400 | 50 | 60 | C | C |
18 | 400 | 50 | C | C |
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copy
Aus Tabelle 2 ist ersichtlich, daß der optimale Bereich für den Gehalt an den drei Verbindungen gemäß der Erfindung wie folgt
ist: 50 bis 5000 mg/m2 für das Säurepolymere, 5 bis 500 mg/m2
für die Verbindung der allgemeinen Formel (I) und 0,5 bis 50 mg/m2 für die Verbindung der allgemeinen Formel (II).
Gemäß herkömmlicher Beschichtungs- und Trocknungsverfahren wurden die Proben (21) bis (24) hergestellt, die jeweils bestanden
aus: einer Triacetylzellulosefilmbasis, deren eine Seite mit
einer Unterlagen- bzw. Verstärkungsschicht und einer Schutzschicht für diese Schicht, in dieser Reihenfolge, und die auf
der anderen Seite mit einer Antilichthofschicht, einer rotempfindlichen Schicht, einer Zwischenschicht, einer grünempfindlichen
Schicht, einer Gelbfilterschicht, einer blauempfindlichen
Schicht und einer Schutzschicht, in dieser Reihenfolge, überzogen waren. Die Basisformulierungen der jeweiligen Schichten waren wie
folgt:
Auf der einen Seite:
(Unterlagen- bzw. Verstärkungsschicht)
Binder:
Salz:
Härter:
(Schutzschicht für die
oben genannte Schicht)
oben genannte Schicht)
Binder: Mattierungsmittel:
Härter: überzugsmittel:
Auf der anderen Seite:
(Antilichthofschicht)
Binder:
Binder:
6,2 g/m2 Gelatine 0,1 g/m2 Kaliumnitrat
0,6 g Bis-(vinylsulonfylmethyl)-äther pro 100 g Binder
2,2 g/m2 Gelatine 20 mg/m2 Polymethylmethacrylat
(durchschnittliche Teilchengröße: 2,5μ) 1,2 g Bis-(vinylsulfonylmethyl)-äther
pro 100 g Binder 60 mg/m2 NaO3S-CHCOOCH2CHCC2H5)C4H9
CH2COOCH2CH(C2H5)C4H9
4,4 g/m2 Gelatine
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COPY 1.
Härter:
Überzugshilfsmittel:
wirksame Komponente: 5 g Bis-(vinylsulfony!methyl)-äther
pro 100 g Binder
4 mg/m2 Natriumdodecylbenzolsulfonat 0,4 g/m2 schwarzes kolloidales Silber.
(rotempfindliche Schicht) Binder:
Härter:
Überzugshilfsmittel:
Silberüberzug: Silberhalogenid:
Schleierunterdrückungsmittel:
Kuppler:
Sensibilisierungsfarbstoff: 7 g/m2 Gelatine
0,7 g Natrium-2-hydroxy-4,6-dichlors-triazin
pro 100 g Binder +2g Bis-(vinylsulfony!methyl)-äther
pro 100 g Binder
10 mg/m2 Natriumdodecylbenzolsulfonat 3,1 g/m2
2 Mol% AgJ + 98 Mol% AgBr
2 Mol% AgJ + 98 Mol% AgBr
0,9 g 4-Hydroxy-6-methy1-1,3,3a,7-Tetrazainden
pro 10 0 g Ag 38 g 1-Hydroxy-4-(2-acetylphenyl)-azo-N-/4-(2,
4-di-tert. -amy!phenoxy}-i>utyl/-2-naphthamid
pro 100 g Ag
0,3 g Pyridiniumsalz von Anhydro-5,5'-dichlor-9-äthyl-3,3'-di(3-sulfopropyl)
thiacarbocyaninhydroxid pro 100 g Ag
(Zwischenschicht) Binder: Härter:
Überzugshilfsmittel:
2,6 g/m2 Gelatine
6 g Bis-(Vinylsulfonylmethyl)-äther pro 100 g Binder
12 mg/m2 Natriumdodecylbenzolsulfonat
(grünempfindliche Schicht) Binder: Härter: 6,4 g/m2 Gelatine
0,7 g Natrium-2-hydroxy-4,6-dichlors-triazin
pro 100 g Binder +2g Bis-(vinylsulfonylmethyl)-äther
pro 100 g Binder
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Überzugshilfsmittel:
Silberüberzug: Silberhalogenid: Stabilisierungsmittel:
Kuppler:
Sensibilisierungsfarbstoff:
9 mg/m2 Natriumdodecylbenzolsulfonat
2.2 g/m2
3.3 Mol% AgJ +96,7 Mol% AgBr
0,6 g 4-Hydroxy-6-methyl-1,3,3a,7-tetrazainden
pro 100 g Ag 37 g 1-(2,4,6-trichlorphenyl)-3-{3-/Ϊ2,
4-di-tert. ~amylphenoxy)-acetamido7-benzamid^
-4-(4-methoxyphenyl)-azo-5-pyrazolon pro 100 g Ag
0,3 g Pyridiniumsalz von Anhydro-5,5'-diphenyl-9-äthyl-3,3'-di-(2-sulfoäthyl)
oxacarbocyaninhydroxid pro 100 g Ag
(Gelbfilterschicht) Binder: Filterkomponente:
Härter:
Oberflächenaktives Mittel: 2,3 g/m2 Gelatine
0,7 g/m2 gelbes kolloidales Silber 5 g Bis-(vinylsu]fbnylmethyl)-äther
pro 100 g Binder
7 mg/m2 Natrium-bis-(2-äthylhexyl)-2-sulfonatosuccinat
(Blauempfindliche Schicht)
Binder: Härter:
Überzugshilfsmittel:
Silberüberzug: Silberhalogenid: Stabilisierungsmittel:
Kuppler:
7 g/m2 Gelatine
0,7 g Natrium-2-hydroxy-4,-6-dichlors-triazin
pro 100 g Binder +2g Bis-(vinylsulfonylmethyl)-äther pro
100 g Binder
8 mg/m2 Natriumdodecylbenzols.ulfonat
2.2 g/m2
3.3 Mol% AgJ + 96,7 Mol% AgBr
0,4 g 4-Hydroxy-6-methyl-1,3,3a,7-tetrazainden
pro 100 g Ag 45 g 2'-Chlor-5I-/2-(2,4-di-tert.-amylphenoxy)
-butyramidg/-ötr (5,5'-diinethyl-2,4-dioxo-3-oxazolidinyl)
-OL-(4-methoxybenzoyl)-acetanilid pro 100 g Ag
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(Schutz schicht)
Binder: 2 g/m2 Gelatine+ 0,3 g/m2 eines
Styrol/Maleinsäureanhydrid-Copolymeren (1:1) mit einem durchschnittlichen
Molekulargewicht von etwa 100.000
Härter: 5 g Bis-(vinylsulfonylmethyl)-äther
pro 100 g Binder
Überzugshilfsmittel: 5 g/m2 Natriumdioctylsulfosuccinat
Mattierungsmittel: 500 mg/m2 Silberhalogenidmattierungs-
mittel als AgBr (durchschnittliche Teilchengröße: 2μ).
Bei der Probe (21) wurden nur diese Schichten verwendet. Die Probe (22) war identisch mit der Probe (21), mit der Ausnahme,
daß eine Unterlagen- bzw. Verstärkungsschicht verwendet wurde,
die das Polymere-2 (350 mg/m2), die Verbindung (I)-6 (75 mg/m2)
und die Verbindung (II)-5 (5 mg/m2) enthielt, wobei das Polymere-2 mit Natriumhydroxid auf einen pH-Wert von 7,0 neutralisiert
war. Die Probe (23) war identisch mit der Probe (21), mit der Ausnahme, daß eine Unterlagen- bzw. Verstärkungsschicht
verwendet wurde, die 250 mg/m2 des Polymeren-19, 3 mg/m2 der
Verbindung \ /„ \ / ' ,50 mg/m2 der Verbin-
dung (I)-3 und 10 mg/m2 der Verbindung (II)-8 enthielt, wobei
das Polymere-19 mit Natriumhydroxid auf einen pH-Wert von 6,5
neutralisiert war. Die Probe (24) war identisch mit der Probe (21), mit der Ausnahme, daß eine Unterlagen- bzw. Verstärkungsschicht verwendet wurde, die 400 mg/m2 des Polymeren-1, 100 mg/m2
der Verbindung (I)-14 und 5 mg/m2 der Verbindung (II)-2 enthielt,
wobei das Polymere-1 mit Kaliumhydroxid auf einen pH-Wert von 6,5 neutralisiert war. -
Diese Proben wurden hinsichtlich ihrer Wirksamkeit bei der Kontrolle
der statischen Aufladung und der auf Rollen übertragenen Menge, gemäß dem in Beispiel 1 beschriebenen Verfahren, unter-
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sucht. Die Ergebnisse sind in Tabelle 3 unten zusammengefaßt.
Tabelle .3 | auf Rollen | |
statische | übertragene Menge | |
Probe | Aufladung | A |
(21) | C | A |
(22) | A | A |
(23) | A | A |
(24) | A | |
Die Ergebnisse zeigen, daß man mit den erfindungsgemäß zu verwendenden
Verbindungen einen Film erhält, bei dem wesentlich geringere Mengen auf eine Rolle übertragen werden, als wenn
bekannte Verbindungen verwendet werden, und die Ergebnisse zeigen auch, daß die statische Aufladung auf dem Film äußerst wirksam
kontrolliert werden kann.
Während die Erfindung anhand von speziellen Ausführungsformen näher erläutert wurde, ist es für den Fachmann offensichtlich,
daß zahlreiche Modifizxerungen und Änderungen möglich sind, ohne den Rahmen der Erfindung zu verlassen.
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Claims (1)
- pate:ntanwalve a. gruneckerDIPPINGH. KINKELDEYDK.-ING3035065 W. STOCKMAlRDR-IfXi - AeE[CAUTECH)K. SCHUMANNDFl RER MAT DIPL-PHYSP. H. JAKOBDIPL-INGG. BEZOLDDR RER NAT- DH=L-CHEM.8 MÜNCHEN 22MAXlMlLlANSTFiASSE 43P 15 465 MJJI PHOTO FIIM CO., HPD.o„o *t ■< 17· September 1980Mo. 210 WakanumaMinami Äshigara-Shi
Kanagawa, JapanFotografisches, lichtempfindliches SilberhalogenidmaterialPatentansprüche1. Fotografisches, lichtempfindliches' Silberhalogenidmacerial, enthaltend:ein filmbildendes, wasserlösliches Polymeres, abgeleitet von einem Monomeren, das eine Carbonsäuregruppe umfaßt;
eine Verbindung der allgemeinen Formel (I)•R
I
R-A-^N-R92 (DCH-(CH)--BIlR3 R4Rc R1-Is /—\in welcher A die Reste -SO2N-CCH2^-, -CONCCH2^, -O-i* N )*CH2" » oder eine chemische Bindung bedeutet; R einen gesättigten130015/0852TELEFON (ΟΘΘ) OO0362 TELEX O5-2938O TELEGRAMME MONAPAT TELEKOP1ERERORIGINAL INSPECTEDoder ungesättigten Kohlenwasserstoffrest mit 8 bis 22 Kohlenstoffatomen bedeutet, wenn A eine chemische Bindung ist, und einen gesättigten oder ungesättigten Kohlenwasserstoff rest mit 7 bis 21 Kohlenstoffatomen bedeutet, wenn Adie Reste .s0^cH2J-P1 -CONfCH^-ofler -0</ y-CH2-bedeutet; R Wasserstoff, ein Methylrest oder ein Äthylrestθ θ B die Bedeutung von -COO oder -SO3 hat; R1 und R„ jeweils einen Alkylrest oder Hydroxyalkylrest mit 1 bis 18 Kohlenstoffatomen oder einen Polyalkylenoxidkettenrest bedeuten;.R^ und R. jeweils Wasserstoff oder einen Alkylrest mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen bedeuten;η eine Zahl von 2 bis 8 ist und χ entweder 0 oder 1 ist;eine Verbindung der allgemeinen FormelflRf-A-^k-R, I
CH-CCH)-BI I xR3 R4•in welcher A, B, R1 bis R. und χ die gleichen Bedeutungen wie oben in der allgemeinen Formel I haben; Rf einen Perfluoralkylrest mit 8 bis 22 Kohlenstoffatomen bedeutet, wenn A eine chemische Bindung ist, und einen Perfluoralkylrest mit 7 bis 21 Kohlenstoffatomen bedeutet, wenn A dieReste -sO-N-fcCH,·}—, -CONfCH-i~ oder _0 bedeutet.13001S/08S22. Fotografisches, lichtempfindliches Silberhalogenidmaterxal nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das filmbildende, wasserlösliche Polymere ein Homopolymerös oder oder Copolymeres eins Vinylmonomeren, umfassend eine Carboxylgruppe, ist.3. Fotografisches, lichtempfindliches Silberhalogenidmaterxal nach mindestens einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Vinylmonömere, umfassend eine Carboxylgruppe, ausgewählt ist aus der Gruppe bestehend aus Acrylsäure, Methacrylsäure, Maleinsäureanhydrid, Zimtsäure, Crotonsäure, Citraconsäure, p-Carboxystyrol und Vinyl-CC-carboxymethyläther.4. Fotografisches, lichtempfindliches Silberhalogenidmaterxal nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Molekulargewicht des Polymeren im Bereich von etwa 5000 bis 500.000 liegt.5. Fotografisches, lichtempfindliches Silberhalogenidmaterxal nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Molekulargewicht des Polymeren in einem Bereich von etwa 10.000 bis 200.000 liegt.6. Fotografisches, lichtempfindliches Silberhalogenidmaterxal nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß das filmbildende, wasserlösliche Polymere in einer Menge von etwa 50 mg/m2 bis 5 g/m2 verwendet wird*7. Fotografisches, lichtempfindliches Silberhalogenidmaterxal nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß das filmbildende, wasserlösliche Polymere in einer Menge von etwa 100 mg/m2 bis 1 g/m2 verwendet wird.8. Fotografisches, lichtempfindliches Silberhalogenxdmaterial nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß in der allgemeinen Formel (I) A die Reste130015/0852R Rc-SO^NfCH0) - oder -CONCCH-) -,{ R Wasserstoff, B den 2 ^ 2J.n Λ " ι ■ οRest -COO , R1 und R- jeweils einen Alkylrest mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen, einen Hydroxyalkylrest mit 2 bis 4 Kohlenstoffatomen oder einen Polyäthylenoxidkettenrest, R-, und R. jeweils Wasserstoff oder den Methylrest, und η eine Zahl von 2 bis 4 bedeuten.-9. Fotografisches, lichtempfindliches Silberhalogenidmaterial nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Verbindung der allgemeinen Formel(I) in einer Menge von etwa 5 bis 500 mg/m2 verwendet wird.10. Fotografisches, lichtempfindliches Silberhalogenidmaterial nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Verbindung der allgemeinen Formel (I) in einer Menge von etwa 10 bis 200 mg/m2 verwendet wird.11. Fotografisches, lichtempfindliches Silberhalogenidmaterial nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis -\q dadurch gekennzeichnet, daß in der allgemeinen Formel (II) A die ResteRr Rrι ι)-· oder -1 θ l ■R5 Wasserstoff, B den Rest COO , R1 und R jeweils einen Alkylrest mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen, R3 und R4 jeweils Wasserstoff, und η eine Zahl von 2 bis 4 bedeuten.12. Fotografisches, lichtempfindliches Silberhalogenidmaterial nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis. .11, dadurch gekennzeichnet, daß die Verbindung deT allgemeinen Formel (II) in einer Menge von 0,5 bis 50 mg/m2 verwendet wird.13. Fotografisches, lichtempfindliches Silberhalogenidmaterial nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 12,13 001 B/08523035015dadurch gekennzeichnet, daß die Verbindung der allgemeinen-Formel (II) in einer Menge von 1 bis 30 mg/m2 verwendet wird.14. Fotografisches, lichtempfindliches Silberhalogenidmaterial nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß das Gewichtsverhältnis der Verbindung der allgemeinen Formel (II) zu der Verbindung der allgemeinen Formel (I) zu dem Polymeren 1:3 bis 150:10 zu 1000 beträgt.15. Fotografisches, lichtempfindliches Silberhalogenidmaterial nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 14, dadurch gekennzeichnet, daß das Gewichtsverhältnis der Verbindung der allgemeinen Formel (II) zu der Verbindung der allgemeinen Formel (I) zu dem Polymeren 1:10 bis 150:30 zu 300 beträgt.16. Fotografisches, lichtempfindliches Silberhalogenidmaterxal nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 15, dadurch gekennzeichnet, daß das Polymere, die Verbindung der allgemeinen Formel (I) und die Verbindung der allgemeinen Formel (II) zusammen in eine Oberflächenschutzschicht, eine Unterlagen- bzw. Verstärkungsschicht, oder in eine Zwischenschicht eingearbeitet sind.17. Fotografisches, lichtempfindliches Silberhalogenidmaterial nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 16, dadurch gekennzeichnet,, daß das Polymere, die Verbindung der allgemeinen Formel (I) und die Verbindung der allgemeinen Formel (II) zusammen in die äußerste Schicht des fotografischen Materials eingearbeitet sind.18. Fotografisches, lichtempfindliches Silberhalogenidmaterial nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 15, dadurch gekennzeichnet, daß die Verbindung der allgemeinen Formel (I) und die Verbindung der allgemeinen Formel (II) in der äußersten Schicht des fotografischen Materials und das Polymere130015/08523035085in einer benachbarten Schicht eingearbeitet sind.19. Fotografisches, lichtempfindliches Silberhalogenidmaterial nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 18, dadurch gekennzeichnet, daß das Polymere in einer Menge von 5 bis 5000 mg/m2, die Verbindung der allgemeinen Formel (I) in einer Menge von 5 bis 500 mg/m2 und die Verbindung der allgemeinen Formel (II) in einer Menge von 0,5 bis 50 mg/m2 anwesend sind.130015/08 5 2
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Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5719735A (en) * | 1980-07-10 | 1982-02-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photographic sensitive material |
JPS57207243A (en) * | 1981-06-16 | 1982-12-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photographic sensitive silver halide material |
JPS57212427A (en) * | 1981-06-24 | 1982-12-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | Silver halide photosensitive material |
JPS5816233A (ja) * | 1981-07-22 | 1983-01-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
JPS58200235A (ja) * | 1982-05-18 | 1983-11-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
JPS61203445A (ja) * | 1985-03-05 | 1986-09-09 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
JPS62109044A (ja) * | 1985-11-08 | 1987-05-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
JPS62240952A (ja) * | 1986-04-14 | 1987-10-21 | Konika Corp | 寸法,生産,保存安定性にすぐれたハロゲン化銀写真感光材料 |
EP0245090A3 (de) * | 1986-05-06 | 1990-03-14 | Konica Corporation | Photographisches Silberhalogenid mit antistatischen Eigenschaften und Eigenschaften gegen Reibung |
DE3760488D1 (en) * | 1986-05-26 | 1989-10-05 | Agfa Gevaert Nv | A sheet or web carrying an antistatic layer |
FR2620445B1 (fr) * | 1987-09-16 | 1990-07-20 | Centre Nat Rech Scient | Nouveaux derives fluores d'acides amines, utilisables en particulier comme agents tensioactifs ou cotensioactifs et preparations a usage biomedical comprenant ces derives |
JPH01216831A (ja) * | 1988-02-26 | 1989-08-30 | Shin Kobe Electric Mach Co Ltd | 積層板 |
EP0692796B1 (de) * | 1994-07-12 | 1998-09-02 | Imation Corp. | Antistatischer Röntgenstrahlenverstärkungsschirm mit Sulfonylmethid- und Sulfonylimidlithiumsalzen |
US5683862A (en) * | 1996-10-31 | 1997-11-04 | Eastman Kodak Company | Poly(ethylene oxide) and alkali metal salt antistatic backing layer for photographic paper coated with polyolefin layer |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2639234A (en) * | 1950-09-22 | 1953-05-19 | Eastman Kodak Co | Antistatic photographic film |
JPS4843807B1 (de) * | 1970-09-04 | 1973-12-20 | ||
CA983306A (en) * | 1971-07-16 | 1976-02-10 | Gilden R. Vannorman | Controlled surface charging of photographic elements |
JPS505048B2 (de) * | 1971-10-08 | 1975-02-27 | ||
US4013696A (en) * | 1973-07-25 | 1977-03-22 | Eastman Kodak Company | Element comprising a coating layer containing a mixture of a cationic perfluorinated alkyl and an alkylphenoxy-poly(propylene oxide) |
US4201586A (en) * | 1974-06-17 | 1980-05-06 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photographic light-sensitive material |
JPS5384712A (en) * | 1976-12-30 | 1978-07-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photographic material |
JPS6021371B2 (ja) * | 1977-07-04 | 1985-05-27 | コニカ株式会社 | ハロゲン化銀写真感光材料の製造方法 |
-
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-
1980
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- 1980-09-17 DE DE19803035065 patent/DE3035065A1/de not_active Withdrawn
- 1980-09-18 FR FR8020076A patent/FR2466038A1/fr active Granted
- 1980-09-19 US US06/188,783 patent/US4304852A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
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FR2466038A1 (fr) | 1981-03-27 |
GB2060922B (en) | 1983-05-18 |
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8130 | Withdrawal |