JPS5914735B2 - 写真感光材料の処理方法 - Google Patents
写真感光材料の処理方法Info
- Publication number
- JPS5914735B2 JPS5914735B2 JP49115853A JP11585374A JPS5914735B2 JP S5914735 B2 JPS5914735 B2 JP S5914735B2 JP 49115853 A JP49115853 A JP 49115853A JP 11585374 A JP11585374 A JP 11585374A JP S5914735 B2 JPS5914735 B2 JP S5914735B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- solution
- photographic
- film
- processing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
- G03C1/85—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by antistatic additives or coatings
- G03C1/89—Macromolecular substances therefor
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S260/00—Chemistry of carbon compounds
- Y10S260/15—Antistatic agents not otherwise provided for
- Y10S260/17—High polymeric, resinous, antistatic agents
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S260/00—Chemistry of carbon compounds
- Y10S260/15—Antistatic agents not otherwise provided for
- Y10S260/17—High polymeric, resinous, antistatic agents
- Y10S260/18—High polymeric, resinous, antistatic agents containing pentavalent nitrogen
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S260/00—Chemistry of carbon compounds
- Y10S260/15—Antistatic agents not otherwise provided for
- Y10S260/19—Non-high polymeric antistatic agents/n
- Y10S260/20—Antistatic agent contains pentavalent nitrogen
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Degasification And Air Bubble Elimination (AREA)
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
- Polyamides (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は写真感光材料の処理方法に関するもの90であ
る。
る。
写真感光材料中には各種の界面活性剤が使われているこ
とは周知のとおりであるが、このような写真感光材料を
現像処理すると種々の界面活性剤が処理液中に流出し蓄
積することによつて泡立ち35を生ずるために種々の障
害を起すことがある。
とは周知のとおりであるが、このような写真感光材料を
現像処理すると種々の界面活性剤が処理液中に流出し蓄
積することによつて泡立ち35を生ずるために種々の障
害を起すことがある。
例えば写真感光材料の現像所における現像、停止、硬膜
、脱銀、定着またはこれらの複合処理は補充液を注加す
ることにより長時間連続して行われることが多いが、処
理液の撹拌が激しい場合には処理液が著しく起泡し、こ
のため隣接浴への処理液の混入、オーバーフローによる
浮遊異物の除去不完全など作業上大きな支障をきたす。
また泡が写真感光材料の感光乳剤面に附着すると現像ム
ラ、定着不完全、停止不完全などが起り、いわゆる処理
ムラを生ずる。このような欠陥を防止する手段として消
泡剤を処理液中に添加することが一般に行われている。
これまでに知られている消泡性物質としては、シリコー
ン系、ポリグリコール系、ポリエーテル系など多くの化
合物があるが、一般に消泡効果のすぐれてぃるものは水
に不溶または難溶のものが多く、溶媒として水を使用す
る処理液中に添加した場合、均一に分散することがむず
かしい。
、脱銀、定着またはこれらの複合処理は補充液を注加す
ることにより長時間連続して行われることが多いが、処
理液の撹拌が激しい場合には処理液が著しく起泡し、こ
のため隣接浴への処理液の混入、オーバーフローによる
浮遊異物の除去不完全など作業上大きな支障をきたす。
また泡が写真感光材料の感光乳剤面に附着すると現像ム
ラ、定着不完全、停止不完全などが起り、いわゆる処理
ムラを生ずる。このような欠陥を防止する手段として消
泡剤を処理液中に添加することが一般に行われている。
これまでに知られている消泡性物質としては、シリコー
ン系、ポリグリコール系、ポリエーテル系など多くの化
合物があるが、一般に消泡効果のすぐれてぃるものは水
に不溶または難溶のものが多く、溶媒として水を使用す
る処理液中に添加した場合、均一に分散することがむず
かしい。
このため感光乳剤面に附着し、あるいは処理液中に凝集
沈澱することによつて消泡効果が低下し、処理ムラや汚
染の発生、写真特性の変動などを十分に防止することが
困難である。また水溶性の消泡性物質もないではないが
、十分な効果をあげるには処理液中にかなり多量に含有
させなければならず、このため、かかる処理液で処理さ
れた写真感光材料の写真特性を劣化せしめたり、その他
写真感光材料に好ましくない影響を与え易く、一方これ
らの障害を避けるために使用量を少なくすれば十分な消
泡効果を得ることができないなど、期待する効果が十分
得られないのが実情である。本発明は、このような実情
に鑑み処理液中に容易に溶解し、かつ十分な消泡効果を
示し、処理の進行と共にその消泡効果を失わない消泡剤
を用いて写貞感光材料を処理する方法を提供することを
目的とするものである。
沈澱することによつて消泡効果が低下し、処理ムラや汚
染の発生、写真特性の変動などを十分に防止することが
困難である。また水溶性の消泡性物質もないではないが
、十分な効果をあげるには処理液中にかなり多量に含有
させなければならず、このため、かかる処理液で処理さ
れた写真感光材料の写真特性を劣化せしめたり、その他
写真感光材料に好ましくない影響を与え易く、一方これ
らの障害を避けるために使用量を少なくすれば十分な消
泡効果を得ることができないなど、期待する効果が十分
得られないのが実情である。本発明は、このような実情
に鑑み処理液中に容易に溶解し、かつ十分な消泡効果を
示し、処理の進行と共にその消泡効果を失わない消泡剤
を用いて写貞感光材料を処理する方法を提供することを
目的とするものである。
本発明者は、広範な探索研究の結果、下記一般式で示さ
れる構造を有する重合体が、前記目的に対して有効な特
性を具備したものであることを見出した。
れる構造を有する重合体が、前記目的に対して有効な特
性を具備したものであることを見出した。
一般式
〔式中Aは炭素数2乃至18のアルキレン基、アルケニ
レン基、アリーレン基、アラルキレン基、アリーレンア
ルキレン基、−RlCOR2一基、R3COR4COR
5一基、−R6−(−0R7+.基、R8COOR9O
CORlO一基、RllOCONHRl2NHCOOR
l3一基、一Rl4CONHRl5NHCORl6−基
;Bは単なる結合手、−NHCORl7CONll一基
あるいはAから選ばれる基(ただしR1乃至Rl7は炭
素数1乃至10のアルキレン基またはフエニレン基で、
mは1乃至4の整数を表わす。
レン基、アリーレン基、アラルキレン基、アリーレンア
ルキレン基、−RlCOR2一基、R3COR4COR
5一基、−R6−(−0R7+.基、R8COOR9O
CORlO一基、RllOCONHRl2NHCOOR
l3一基、一Rl4CONHRl5NHCORl6−基
;Bは単なる結合手、−NHCORl7CONll一基
あるいはAから選ばれる基(ただしR1乃至Rl7は炭
素数1乃至10のアルキレン基またはフエニレン基で、
mは1乃至4の整数を表わす。
);Z1及びZ2はN=α一基と共に5または6員環を
形成する史フに必要な非金属原子群(…N−なる4級塩
の形でBに連結していてもよい。
形成する史フに必要な非金属原子群(…N−なる4級塩
の形でBに連結していてもよい。
);X●はアニオン;nは正の整数を表わす。]すなわ
ち、本発明の目的は、前記一般式で示される重合体から
選ばれる少なくとも一種の存在下に写真感光材料を処理
する方法において達成された。
ち、本発明の目的は、前記一般式で示される重合体から
選ばれる少なくとも一種の存在下に写真感光材料を処理
する方法において達成された。
本発明の好ましい一実施態様によれば、本発明に係る重
合体を写真用各種処理液中に添加含有せしめることによ
り、写真感光材料を処理する際に生じる消泡を有効に抑
制することができる。
合体を写真用各種処理液中に添加含有せしめることによ
り、写真感光材料を処理する際に生じる消泡を有効に抑
制することができる。
また従来のこの種の高分子抑泡剤に見られた、処理によ
つて残滓を生じ、液がにごる、滓がフイルムに付着する
欠点も.解決できる。そしてその結果、従来の高分子抑
泡剤よりも高い濃度で使用することが可能である。さら
にまた本発明の別の実施態様によれば、本発明に係る重
合体を写真感光材料中に含有せしめることにより、同様
に処理における起泡を抑制することができる。
つて残滓を生じ、液がにごる、滓がフイルムに付着する
欠点も.解決できる。そしてその結果、従来の高分子抑
泡剤よりも高い濃度で使用することが可能である。さら
にまた本発明の別の実施態様によれば、本発明に係る重
合体を写真感光材料中に含有せしめることにより、同様
に処理における起泡を抑制することができる。
さらにまた本発明に係る重合体を写真感光材料を構成す
る層、特に好ましくは最外層に適用することにより、感
光材料の製造に際して発生する帯電を有効に防止するこ
とができる。即ち本発明に係る前記一般式で示される重
合体を写真材料に適用すると、従来の帯電防止剤に比較
して、経時あるいは湿度に対して安定に表面比抵抗を減
することが可能であり、かかる効果を有する本発明に係
る重合体は、従来知られているこの種の化合物と比較し
ても、著しく優れた性能を有するものである。次に前記
一般式で示される重合体の体表的な具※?体例を列挙す
るが、本発明に用いる重合体はこれらによつて限定され
るものではない。
る層、特に好ましくは最外層に適用することにより、感
光材料の製造に際して発生する帯電を有効に防止するこ
とができる。即ち本発明に係る前記一般式で示される重
合体を写真材料に適用すると、従来の帯電防止剤に比較
して、経時あるいは湿度に対して安定に表面比抵抗を減
することが可能であり、かかる効果を有する本発明に係
る重合体は、従来知られているこの種の化合物と比較し
ても、著しく優れた性能を有するものである。次に前記
一般式で示される重合体の体表的な具※?体例を列挙す
るが、本発明に用いる重合体はこれらによつて限定され
るものではない。
本発明にかかるこれらの重合体は、例えば2官能性・・
ラードと2官能性3級アミンを逐次的にメンシユトキン
反応させ、4級化をともなう重合により合成することが
できる。
ラードと2官能性3級アミンを逐次的にメンシユトキン
反応させ、4級化をともなう重合により合成することが
できる。
なお、2・4・6−トリス(ジメチルアミノメチル)フ
エノールの如き多官能性アミンを1部加え部分的に側鎖
を有するポリカチオンとして分子量を増した重合体も本
発明には有用である。
エノールの如き多官能性アミンを1部加え部分的に側鎖
を有するポリカチオンとして分子量を増した重合体も本
発明には有用である。
次に具体的合成例を以下に示す。合成例 1
(例示化合物(2))
α・β−ジ一(4−ピリジール)グリコール54y1パ
ラキシリレンプロマイド62tをN・N−ジメチルホル
ムアミド500m1に溶解し、70℃で25時間反応せ
しめた後、生成した固形物をアセトンで洗滌し、減圧下
に乾燥して113tの目的を得た。
ラキシリレンプロマイド62tをN・N−ジメチルホル
ムアミド500m1に溶解し、70℃で25時間反応せ
しめた後、生成した固形物をアセトンで洗滌し、減圧下
に乾燥して113tの目的を得た。
この化合物0.5%濃度の0.1モル食塩水(25.0
+.0.2℃)における比粘度(ηSp)は0.007
3であつた。この化合物は元素分析値の測定等により例
示化合物(2)である。元素分析分子式(C2OH2O
N2O2Br2)n合成例 2(例示化合物(6)) 1・10−ジブロモデカン15t1γ・γ−ジピリジー
ル7.8tをN−N−ジメチルホルムアミド50m1に
溶解し、60℃で20時間反応せしめた後、生成した固
形物をアセトンで洗滌し、減圧下に乾燥して21,5t
の目的物を得た。
+.0.2℃)における比粘度(ηSp)は0.007
3であつた。この化合物は元素分析値の測定等により例
示化合物(2)である。元素分析分子式(C2OH2O
N2O2Br2)n合成例 2(例示化合物(6)) 1・10−ジブロモデカン15t1γ・γ−ジピリジー
ル7.8tをN−N−ジメチルホルムアミド50m1に
溶解し、60℃で20時間反応せしめた後、生成した固
形物をアセトンで洗滌し、減圧下に乾燥して21,5t
の目的物を得た。
この化合物0.5%濃度の0.1モル食塩水(25.0
土0.2℃)における比粘度(ηSp)は0.0285
であつた。この化合物は元素分析値の測定等より例示化
合物(6)である。元素分析 分子式(C2OH28N
2Br2)n合成例 3(例示化合物(8)) ビス(クロルアセチル)エチレングリコール21.5t
11・3−ジ一4ピリジールプロパン19.8yをメタ
ノール150m1に溶解し、60℃で20時間反応せし
めた後、減圧下に濃縮し200m1のエーテル中に加え
て沈澱物を得た。
土0.2℃)における比粘度(ηSp)は0.0285
であつた。この化合物は元素分析値の測定等より例示化
合物(6)である。元素分析 分子式(C2OH28N
2Br2)n合成例 3(例示化合物(8)) ビス(クロルアセチル)エチレングリコール21.5t
11・3−ジ一4ピリジールプロパン19.8yをメタ
ノール150m1に溶解し、60℃で20時間反応せし
めた後、減圧下に濃縮し200m1のエーテル中に加え
て沈澱物を得た。
これを分離した後アセトンで洗滌し、減圧下に乾燥して
40.37の目的物を得た。この化合物の0.5%濃度
の0.1モル食塩水(25.0±0.2℃)における比
粘度(ηSp)は0.0524であつた。この化合物は
元素分析値の測定等より例示化合物(8)である。元素
分析 分子式(Cl9H22N2O4Cl2)n合成例
4(例示イヒイ5生勿(9)) 1・3−ジクロロアセトン12.77、1・3ジ一4−
ピリジールプロパン19.8yを100m1のメタノー
ルに溶解し、60℃で20時間反応せしめた後、減圧下
に濃縮し、200m1のエーテル中に加えて沈澱物を得
た。
40.37の目的物を得た。この化合物の0.5%濃度
の0.1モル食塩水(25.0±0.2℃)における比
粘度(ηSp)は0.0524であつた。この化合物は
元素分析値の測定等より例示化合物(8)である。元素
分析 分子式(Cl9H22N2O4Cl2)n合成例
4(例示イヒイ5生勿(9)) 1・3−ジクロロアセトン12.77、1・3ジ一4−
ピリジールプロパン19.8yを100m1のメタノー
ルに溶解し、60℃で20時間反応せしめた後、減圧下
に濃縮し、200m1のエーテル中に加えて沈澱物を得
た。
これを分離後アセトンで洗滌し減圧下に乾燥して32.
27の目的物を得た。この化合物の0.5%濃度の0.
1モル食塩水(25.0±0.2℃)における比粘度(
ηSp)は0.0684であつた。この化合物は元素分
析値の測定等より例示化合物(9)である。元素分析値
分子式(C,6Hl8N2OCl2)n合成例 5(
例示化合物02)) 1−(β−オキシエチル)イミダゾール22.4t11
・6−ヘキサメチレンジイソシアネート16.87を脱
水したトルエン200m1中で100℃8時間反応せし
めた後、減圧下に濃縮し、N・N−ジメチルホルムアミ
ド200d中に加え、引き続きパラキシリレンクロライ
ド17.57を加え70℃で20時間反応せしめた後、
減圧下に濃縮し200m1のエーテル中に加えると、沈
澱物が得られた。
27の目的物を得た。この化合物の0.5%濃度の0.
1モル食塩水(25.0±0.2℃)における比粘度(
ηSp)は0.0684であつた。この化合物は元素分
析値の測定等より例示化合物(9)である。元素分析値
分子式(C,6Hl8N2OCl2)n合成例 5(
例示化合物02)) 1−(β−オキシエチル)イミダゾール22.4t11
・6−ヘキサメチレンジイソシアネート16.87を脱
水したトルエン200m1中で100℃8時間反応せし
めた後、減圧下に濃縮し、N・N−ジメチルホルムアミ
ド200d中に加え、引き続きパラキシリレンクロライ
ド17.57を加え70℃で20時間反応せしめた後、
減圧下に濃縮し200m1のエーテル中に加えると、沈
澱物が得られた。
これを分離した後アセトンで洗滌し減圧下に乾燥して5
1.3tの目的物を得た。この化合物の0.5%濃度の
0.1モル食塩水(25.0±0.2℃)における比粘
度(ηSp)は0.0025であつた。この化合物は元
素分析値の測定等より例示化合物(代)である。元素分
析値 分子式(C26H36N6O4Cl2)n合成例
6(例示化合物(自)) 1・3−ジ一N−N′クロロアセチルアミノプロパン2
2.77、コハク酸−ジ一4−ピリジンプロピルエステ
ル35.67をN−N−ジメチルホルムアミド500m
1中で60℃25時間反応せしめた後、減圧下に濃縮し
300m1のエーテル中に加え沈澱物を得た。
1.3tの目的物を得た。この化合物の0.5%濃度の
0.1モル食塩水(25.0±0.2℃)における比粘
度(ηSp)は0.0025であつた。この化合物は元
素分析値の測定等より例示化合物(代)である。元素分
析値 分子式(C26H36N6O4Cl2)n合成例
6(例示化合物(自)) 1・3−ジ一N−N′クロロアセチルアミノプロパン2
2.77、コハク酸−ジ一4−ピリジンプロピルエステ
ル35.67をN−N−ジメチルホルムアミド500m
1中で60℃25時間反応せしめた後、減圧下に濃縮し
300m1のエーテル中に加え沈澱物を得た。
これを分離した後アセトンで洗滌し減圧下に乾燥して5
2.2tの目的物を得た。この化合物の0.5%濃度の
0.1モル食塩水(25℃±0.2℃)における比粘度
(ηSp)は0.0132であつた。この化合物は元素
分析値の測定等より例示化合物(自)である。元素分析
分子式(C27H36N4O6Cl2)n合成例 7(
例示化合物珀) 1・3ジクロルアセトン12.77、N−N′−4−ピ
リジールコハク酸アミド277をN−Nジメチルホルム
アミド200m1に溶解し、60℃で20時間反応せし
めた後、減圧下に濃縮し200m1のエーテル中に加え
て沈澱物を得た。
2.2tの目的物を得た。この化合物の0.5%濃度の
0.1モル食塩水(25℃±0.2℃)における比粘度
(ηSp)は0.0132であつた。この化合物は元素
分析値の測定等より例示化合物(自)である。元素分析
分子式(C27H36N4O6Cl2)n合成例 7(
例示化合物珀) 1・3ジクロルアセトン12.77、N−N′−4−ピ
リジールコハク酸アミド277をN−Nジメチルホルム
アミド200m1に溶解し、60℃で20時間反応せし
めた後、減圧下に濃縮し200m1のエーテル中に加え
て沈澱物を得た。
これを分離した後アセトンで洗滌し減圧下に乾燥して3
9.5tの目的物を得た。この化合物の0.5%濃度の
0.1モル食塩水(25℃±0,2゜C)における比粘
度(ηSp)は0.0087であつた。この化合物は元
素分析値の測定等より例示化合物6)である。元素分析
分子式(Cl7Hl8N4O3Cl2)n合成例 8
1・3ジクロロアセトン12.77、1・3−ジ4−ピ
リジールプロパン19.87および2・4・6トリス(
ジメチルアミノメチル)フエノール0.265tを20
0TIIIのN−N−ジメチルホルムアミドに溶解し6
0℃で20時間反応せしめた後生成した固形物をアセト
ンで洗滌し、減圧下に乾燥して32.57の目的物を得
た。
9.5tの目的物を得た。この化合物の0.5%濃度の
0.1モル食塩水(25℃±0,2゜C)における比粘
度(ηSp)は0.0087であつた。この化合物は元
素分析値の測定等より例示化合物6)である。元素分析
分子式(Cl7Hl8N4O3Cl2)n合成例 8
1・3ジクロロアセトン12.77、1・3−ジ4−ピ
リジールプロパン19.87および2・4・6トリス(
ジメチルアミノメチル)フエノール0.265tを20
0TIIIのN−N−ジメチルホルムアミドに溶解し6
0℃で20時間反応せしめた後生成した固形物をアセト
ンで洗滌し、減圧下に乾燥して32.57の目的物を得
た。
ηSp一0.2365この化合物は例示化合物(2)の
合成時に第3成分として3官能性アミンを1部加えたも
のであるが、例示化合物(2)より大巾に高分子化され
ている。なお、本発明において使用する重合体は、ハロ
ゲンイオンをアニオンとするものが合成法上得易いが、
これをさらに他の有機または無機のアニオンに置換する
ことも容易であり、これを用いても同様に本発明の目的
とする効果を得ることができる。
合成時に第3成分として3官能性アミンを1部加えたも
のであるが、例示化合物(2)より大巾に高分子化され
ている。なお、本発明において使用する重合体は、ハロ
ゲンイオンをアニオンとするものが合成法上得易いが、
これをさらに他の有機または無機のアニオンに置換する
ことも容易であり、これを用いても同様に本発明の目的
とする効果を得ることができる。
例えば弗素で置換されたアルキル基を含むカルボン酸も
しくはスルホン酸などをアニオンとするものは有効であ
り、またこれらのアニオンを共存させてもよい。また本
発明には、例えば2・4・6−トリス(ジメチルアミノ
メチル)フエノールの如き多官能性アミンを用いること
により、部分的に側鎖を有する重合体も有効であり、本
発明はこれらをも包含するものである。
しくはスルホン酸などをアニオンとするものは有効であ
り、またこれらのアニオンを共存させてもよい。また本
発明には、例えば2・4・6−トリス(ジメチルアミノ
メチル)フエノールの如き多官能性アミンを用いること
により、部分的に側鎖を有する重合体も有効であり、本
発明はこれらをも包含するものである。
本発明に使用する上記の如き重合体は、その目的から明
らかなように処理浴中に蓄積される発泡性物質の量に比
例して処理浴中に存在せしめるのが好ましい。
らかなように処理浴中に蓄積される発泡性物質の量に比
例して処理浴中に存在せしめるのが好ましい。
本発明においては、本発明に係る重合体を写真用各種処
理液中に添加含有せしめることによつて目的とする効果
が奏されるが、適要できる処理液としては、白黒および
カラー写真感光材料の前硬膜液、中和液、現像液、停止
液、硬膜液、漂白液、定着液などの各種処理液および一
浴現像定着液、漂白定着液などの複合液を挙げることが
できる。
理液中に添加含有せしめることによつて目的とする効果
が奏されるが、適要できる処理液としては、白黒および
カラー写真感光材料の前硬膜液、中和液、現像液、停止
液、硬膜液、漂白液、定着液などの各種処理液および一
浴現像定着液、漂白定着液などの複合液を挙げることが
できる。
上記重合体をこれらの液に添加する方法としては、直接
処理液に添加してもよく、また処理剤キツト中に添加し
てもよい。その際、重合体の処理液への添加量には、特
に制限はないが、処理液11当り0.005〜0.5t
で写真性能上何らの障害を生じることなしに、実質上の
障害となるような泡の発生を十分防止することができる
。
処理液に添加してもよく、また処理剤キツト中に添加し
てもよい。その際、重合体の処理液への添加量には、特
に制限はないが、処理液11当り0.005〜0.5t
で写真性能上何らの障害を生じることなしに、実質上の
障害となるような泡の発生を十分防止することができる
。
本発明の方法が適用される処理形態としてはシネ式長尺
現像、リール巻現像、スプレー式現像などの全ゆる形態
の現像処理が挙げられる。
現像、リール巻現像、スプレー式現像などの全ゆる形態
の現像処理が挙げられる。
また処理液の攪拌方法としては液循環、機器による攪拌
、窒素または空気などの気泡通入、液の噴射、写真感光
材料の移動振動、回転など一般に行われている全ての方
法が含まれる。また本発明において、前記一般式で示さ
れる重合体を写真感光材料中に含有せしめるには、これ
らの重合体を単独でもしくは2種以上を混合して適当な
溶媒、例えば水、有機溶媒もしくはこれらの混合溶媒に
溶解し、またはゼラチン水溶液に溶解もしくは分散して
0.01〜10%程度の溶液を゛調整し、この溶液を写
真感光材料の表面に被着含有せしめるのが最も簡便であ
る。
、窒素または空気などの気泡通入、液の噴射、写真感光
材料の移動振動、回転など一般に行われている全ての方
法が含まれる。また本発明において、前記一般式で示さ
れる重合体を写真感光材料中に含有せしめるには、これ
らの重合体を単独でもしくは2種以上を混合して適当な
溶媒、例えば水、有機溶媒もしくはこれらの混合溶媒に
溶解し、またはゼラチン水溶液に溶解もしくは分散して
0.01〜10%程度の溶液を゛調整し、この溶液を写
真感光材料の表面に被着含有せしめるのが最も簡便であ
る。
被着する手段としては、例えば、塗布、噴霧、浸漬など
全ゆる手段が適用できる。
全ゆる手段が適用できる。
重合体の被着量は、写真感光材料の種類や用途、あるい
は支持体であるプラスチツクフイルムの種類等によつて
異なり特に制限はないが、一般には1平方メートル当り
3〜300ηを被着含有せしめることによつて本発明の
目的とする抑泡効果および十分な帯電防止効果が奏され
る。重合体をプラスチツクフイルムに被着せしめるには
、上記のように重合体の溶液およびゼラチン分散液もし
くは溶液を用いるほかに重合体を誘導体ゼラチンポリビ
ニルアルコール、コロイド状アルブミン、セルロース誘
導体等の適当な結合剤中に溶解もしくは分散せしめ、こ
れを写真感光材料もしくはプラスチツク支持体上に塗布
して設層することもできる。
は支持体であるプラスチツクフイルムの種類等によつて
異なり特に制限はないが、一般には1平方メートル当り
3〜300ηを被着含有せしめることによつて本発明の
目的とする抑泡効果および十分な帯電防止効果が奏され
る。重合体をプラスチツクフイルムに被着せしめるには
、上記のように重合体の溶液およびゼラチン分散液もし
くは溶液を用いるほかに重合体を誘導体ゼラチンポリビ
ニルアルコール、コロイド状アルブミン、セルロース誘
導体等の適当な結合剤中に溶解もしくは分散せしめ、こ
れを写真感光材料もしくはプラスチツク支持体上に塗布
して設層することもできる。
これらの重合体を含有する層中にはさらに必要に応じて
他のカチオン性重合体、可塑剤、酸化防止剤、着色剤、
マツト剤など、写真感光材料に通常用いられる種々の添
加薬品を含有させることができる。本発明に係る重合体
を写真感光材料中に存在せしめた場合には、前述の如く
抑泡効果のみならず、感光材料の帯電を有効に防止でき
るが、その際重合体は感光材料を構成するいずれの層に
添加含有せしめられていても本発明の効果は奏されるが
、抑泡効果と帯電防止効果を同時にかつ十分有効に奏さ
せるためには、重合体は写真感光材料の最外層、例えば
保護層あるいはバツキング層に添加含有せしめるのが望
ましい。
他のカチオン性重合体、可塑剤、酸化防止剤、着色剤、
マツト剤など、写真感光材料に通常用いられる種々の添
加薬品を含有させることができる。本発明に係る重合体
を写真感光材料中に存在せしめた場合には、前述の如く
抑泡効果のみならず、感光材料の帯電を有効に防止でき
るが、その際重合体は感光材料を構成するいずれの層に
添加含有せしめられていても本発明の効果は奏されるが
、抑泡効果と帯電防止効果を同時にかつ十分有効に奏さ
せるためには、重合体は写真感光材料の最外層、例えば
保護層あるいはバツキング層に添加含有せしめるのが望
ましい。
また帯電防止性能が重視される場合には、感光材料の最
外層のみならず下引層の表面に被着含有せしめることも
好ましいことである。本発明が適用し得る写真感光材料
用の支持体は、例えば三酢酸セルロースフイルム、ポリ
エチレンテレフタレートなどのポリエステルフイルム、
ポリカーボネートフイルム、ポリスチレンフイルム、ポ
リオレフインフイルムなどであり、さらにこれらのフイ
ルムを構成基材として他の層を設けた複合材料としての
プラスチツクフイルムである。
外層のみならず下引層の表面に被着含有せしめることも
好ましいことである。本発明が適用し得る写真感光材料
用の支持体は、例えば三酢酸セルロースフイルム、ポリ
エチレンテレフタレートなどのポリエステルフイルム、
ポリカーボネートフイルム、ポリスチレンフイルム、ポ
リオレフインフイルムなどであり、さらにこれらのフイ
ルムを構成基材として他の層を設けた複合材料としての
プラスチツクフイルムである。
本発明を適用した写真感光材料は、卓越した帯電防止性
能を有し、低湿度における帯電防止性能の低下が少ない
優れた帯電防止特性を有するのみならず、写真性能にな
んらの悪影響も生じない。本発明の方法が適用できる感
光材料としては、白黒およびカラーのネガフイルム、な
らびに反転ポジフイルム、または印画紙などの通常の処
理過程で処理されるものの他に、拡散転写法、直接反転
法、銀色素漂白法、安定化法などによる各種の感光材料
が含まれる。次に試験例および実施例を挙げて、本発明
に使用する重合体の消泡性および帯電性について具体的
に説明する。
能を有し、低湿度における帯電防止性能の低下が少ない
優れた帯電防止特性を有するのみならず、写真性能にな
んらの悪影響も生じない。本発明の方法が適用できる感
光材料としては、白黒およびカラーのネガフイルム、な
らびに反転ポジフイルム、または印画紙などの通常の処
理過程で処理されるものの他に、拡散転写法、直接反転
法、銀色素漂白法、安定化法などによる各種の感光材料
が含まれる。次に試験例および実施例を挙げて、本発明
に使用する重合体の消泡性および帯電性について具体的
に説明する。
試験例 1
下記処方〔1〕で示されるカラーフイルム用現像液およ
び下記処方世で示される停止定着液に、写真感光材料か
ら流出する起泡性界面活性剤に相当する化合物として界
面活性剤A(ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム)
および界面活性剤B(ブチルフエノキシポリエチレング
リコールスルホン酸)を添加し、さらに消泡剤として例
示化合物(2)、(6)、(8)、比較化合物A〔ポリ
トリメチル(ビニルオキシメチル)アンモニウム−P−
トルオールスルホネート(平均分子量50000)〕お
よび比較化合物B〔ポリ−4−ビニル−N−アセトニト
リルピリジニウムブロマイド(平均分子量30000)
〕を添加して下記第1表に示される処方の試料8種を調
整し、振盪法によりそれぞれの液の起泡度を測定した。
び下記処方世で示される停止定着液に、写真感光材料か
ら流出する起泡性界面活性剤に相当する化合物として界
面活性剤A(ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム)
および界面活性剤B(ブチルフエノキシポリエチレング
リコールスルホン酸)を添加し、さらに消泡剤として例
示化合物(2)、(6)、(8)、比較化合物A〔ポリ
トリメチル(ビニルオキシメチル)アンモニウム−P−
トルオールスルホネート(平均分子量50000)〕お
よび比較化合物B〔ポリ−4−ビニル−N−アセトニト
リルピリジニウムブロマイド(平均分子量30000)
〕を添加して下記第1表に示される処方の試料8種を調
整し、振盪法によりそれぞれの液の起泡度を測定した。
処方〔0
適用した振盪測定方法は、表面を清浄にした内径20m
mの試験管に試料液20m1を採取し密栓し、10秒間
に30回25?の上下動を行い、10秒、30秒、60
秒、120秒後の泡高を測定するものであり、その測定
結果は第2表の如くであつた。
mの試験管に試料液20m1を採取し密栓し、10秒間
に30回25?の上下動を行い、10秒、30秒、60
秒、120秒後の泡高を測定するものであり、その測定
結果は第2表の如くであつた。
第2表から明らかなように、例示化合物(2)、(6)
および(8)を添加した試料の泡立ちぱ少なく、またそ
の泡も極めて急速に消滅し、さらに液面に滓が生じるこ
ともなかつた。なお、例示化合物Aおよび比較化合物B
を添加した試料においても消泡効果は認められるが、本
発明の例示化合物を添加した試料に較べるとその効力は
小さく、且つ液面や試験管に滓が生じた。試験例 2 第3表に示す如く、カチオン性帯電防止剤各々0.37
をメタノール70m1,アセトン30m1の混合溶媒に
溶かし、三酢酸セルロースフイルムに同一条件で塗布乾
燥して帯電防止された三酢酸セルロースフイルムを得た
。
および(8)を添加した試料の泡立ちぱ少なく、またそ
の泡も極めて急速に消滅し、さらに液面に滓が生じるこ
ともなかつた。なお、例示化合物Aおよび比較化合物B
を添加した試料においても消泡効果は認められるが、本
発明の例示化合物を添加した試料に較べるとその効力は
小さく、且つ液面や試験管に滓が生じた。試験例 2 第3表に示す如く、カチオン性帯電防止剤各々0.37
をメタノール70m1,アセトン30m1の混合溶媒に
溶かし、三酢酸セルロースフイルムに同一条件で塗布乾
燥して帯電防止された三酢酸セルロースフイルムを得た
。
各々の試料につき25℃で55%RHおよび20%RH
に十分調湿しそれらの表面比抵抗を測定した。
に十分調湿しそれらの表面比抵抗を測定した。
その結果を第3表に示す。以上のように本発明にかかる
化合物を加工した試料二、ホ、へ、卜の表面比抵抗は何
れも比較試料イ、口、ハに比べはるかに湿度への依存が
小さくなつていることがわかる。
化合物を加工した試料二、ホ、へ、卜の表面比抵抗は何
れも比較試料イ、口、ハに比べはるかに湿度への依存が
小さくなつていることがわかる。
実施例 1
窒素ガス通気攪拌方式のハンガー自動現像機2台を用い
、一方の現像液槽に前記処友1〕で示されるカラーフイ
ルム用現像液を入れ、他方の現像液槽には処方(1)1
1につき例示化合物(6)の1%水溶液0.5m1を添
加したカラーフイルム用現像液を入れた。
、一方の現像液槽に前記処友1〕で示されるカラーフイ
ルム用現像液を入れ、他方の現像液槽には処方(1)1
1につき例示化合物(6)の1%水溶液0.5m1を添
加したカラーフイルム用現像液を入れた。
その他、両方の現像機の停止液槽、硬膜液槽、漂白液槽
および定着液槽には、それぞれ同一処方の処理液を入れ
、それぞれの現像液でカラーフイルムを連続的に処理し
たところ、処方α〕を用いた現像液は次第に泡立つよう
になり、処理されたカラーフイルムに現像ムラを生ずる
ようになつたが、例示化合物(6)を添加した現像液は
長時間連続して処理を行なつても泡立ちはほとんど生ぜ
ず、また滓が浮いてくることもなく、常に良好な現像を
行なうことができた。なお、各処理液の濃度は補充によ
り常時変化しないように調整した。
および定着液槽には、それぞれ同一処方の処理液を入れ
、それぞれの現像液でカラーフイルムを連続的に処理し
たところ、処方α〕を用いた現像液は次第に泡立つよう
になり、処理されたカラーフイルムに現像ムラを生ずる
ようになつたが、例示化合物(6)を添加した現像液は
長時間連続して処理を行なつても泡立ちはほとんど生ぜ
ず、また滓が浮いてくることもなく、常に良好な現像を
行なうことができた。なお、各処理液の濃度は補充によ
り常時変化しないように調整した。
実施例 2
白黒印画紙用自動現像機2台を用い、それぞれの現像液
槽にアルカリ剤として炭酸ナトリウムを含む下記処方皿
で示される白黒印画紙用現像液を入れ、続く停止定着液
槽には、それぞれ前記処方で示される停止定着液および
処方ル11につき例示化合物(8)の0.5%水溶液0
.5m1を添加した停止定着液を入れた。
槽にアルカリ剤として炭酸ナトリウムを含む下記処方皿
で示される白黒印画紙用現像液を入れ、続く停止定着液
槽には、それぞれ前記処方で示される停止定着液および
処方ル11につき例示化合物(8)の0.5%水溶液0
.5m1を添加した停止定着液を入れた。
その他両方の現像機の安定液槽には同一処方の処理液を
入れ、それぞれの現像機で白黒印画紙を多量に処理した
ところ、処方川を用いた停止定着液は、印画紙と共に持
ち込まれる現像液中の炭酸ナトリウムの分解による炭酸
ガスの発生のため著しく起泡し、この泡が隣接する現像
液槽にまで侵入して印画紙の現像性能を悪化させた。こ
れに対し、例示化合物(8)を添加した停止定着液には
泡立ちが殆んど認められず、現像処理を行なう上でなん
らの支障も生じなかつた。処方なお、この時点で両現像
機からそれぞれの停止定着液の一部を採取し、試験例で
示したと同様の振盪測定法により起泡度を測定したとこ
ろ、第4表の如き結果を得た。
入れ、それぞれの現像機で白黒印画紙を多量に処理した
ところ、処方川を用いた停止定着液は、印画紙と共に持
ち込まれる現像液中の炭酸ナトリウムの分解による炭酸
ガスの発生のため著しく起泡し、この泡が隣接する現像
液槽にまで侵入して印画紙の現像性能を悪化させた。こ
れに対し、例示化合物(8)を添加した停止定着液には
泡立ちが殆んど認められず、現像処理を行なう上でなん
らの支障も生じなかつた。処方なお、この時点で両現像
機からそれぞれの停止定着液の一部を採取し、試験例で
示したと同様の振盪測定法により起泡度を測定したとこ
ろ、第4表の如き結果を得た。
第4表からも明らかなように、本発明に係る例示化合物
(8)を添加した停止定着液の起泡度は、処方の停止定
着液のそれに比較して、著しく小さいことがわかる。
(8)を添加した停止定着液の起泡度は、処方の停止定
着液のそれに比較して、著しく小さいことがわかる。
実施例 3
例示(2)の重合体57をメタノール3507rL1に
溶かし、アセトン650m1を加えて得た溶液囚を25
m1/TI(200即/Rrl)の割合で三酢酸セルロ
ースフイルム(1)の一方の面に塗布乾燥し、帯電防止
された三酢酸セルロースフイルム([[)を得た。
溶かし、アセトン650m1を加えて得た溶液囚を25
m1/TI(200即/Rrl)の割合で三酢酸セルロ
ースフイルム(1)の一方の面に塗布乾燥し、帯電防止
された三酢酸セルロースフイルム([[)を得た。
フイルム(1)の表面比抵抗は25゜C、50%RHに
おいて1015Ω以上であつた。これに対しフイルム(
I[)の処理された面の表面比抵抗は同条件下で3X1
085Ωであつた。実施例 4 二酢酸セルロース27をアセトン600m1に溶かし、
メタノール400m1を加え、これに粒径0.1〜1μ
の二酸化珪素粒子17を分散して得た液(ト)を、20
m1/Rrlの割合で三酢酸セルロースフイルム(1)
の一方の面に塗布乾燥し、中間層を有する三酢酸セルロ
ースフイルム叫を得た。
おいて1015Ω以上であつた。これに対しフイルム(
I[)の処理された面の表面比抵抗は同条件下で3X1
085Ωであつた。実施例 4 二酢酸セルロース27をアセトン600m1に溶かし、
メタノール400m1を加え、これに粒径0.1〜1μ
の二酸化珪素粒子17を分散して得た液(ト)を、20
m1/Rrlの割合で三酢酸セルロースフイルム(1)
の一方の面に塗布乾燥し、中間層を有する三酢酸セルロ
ースフイルム叫を得た。
次いで例示(6)の重合体(合成例2で製造した重合体
)17をメタノール700m1に溶かし、アセトン30
0m1を加えて得た溶液(Oを20m1/イ(20m′
/Trl)の割合でフイルム匝の中間層の上に塗布乾燥
して帯電防止された三酢酸セルロースフイルム(5)を
得た。フイルム(代)の処理された面の表面比抵抗は実
施例1と同条件で1×1011Ωであつた。これに対し
フイルム叫の表面比抵抗は同条件下で1015Ω以上で
あつた。実施例 5 例示(8)の重合体(合成例3で製造した重合体)37
とレゾルシノール507をメタノ一)I/1000m1
に溶かして得た溶液口を15m1/Rrl(8mg/m
゛)の割合でポリエチレンテレフタレートフィルム凹の
一方の面に塗布乾燥し、帯電防止されたポリエチレンテ
レフタレートフイルム(ロ)を得た。
)17をメタノール700m1に溶かし、アセトン30
0m1を加えて得た溶液(Oを20m1/イ(20m′
/Trl)の割合でフイルム匝の中間層の上に塗布乾燥
して帯電防止された三酢酸セルロースフイルム(5)を
得た。フイルム(代)の処理された面の表面比抵抗は実
施例1と同条件で1×1011Ωであつた。これに対し
フイルム叫の表面比抵抗は同条件下で1015Ω以上で
あつた。実施例 5 例示(8)の重合体(合成例3で製造した重合体)37
とレゾルシノール507をメタノ一)I/1000m1
に溶かして得た溶液口を15m1/Rrl(8mg/m
゛)の割合でポリエチレンテレフタレートフィルム凹の
一方の面に塗布乾燥し、帯電防止されたポリエチレンテ
レフタレートフイルム(ロ)を得た。
フイルムMの処理された面の表面比抵抗は実施例3と同
条件下で3X1010Ωであつた。これに対しフイルム
vの表面比抵抗は同条件下で1015Ω以上であつた。
実施例 6 アセトン400m1とメタノール600m1の混合液に
粒径0.1〜1μの二酸化珪素粒子0.17を分散して
得た液(Fl))を実施例3における帯電防止された三
酢酸セルロースフイルム(3)の処理された面の上に塗
布乾燥して、表面を粗面化した密着性のない帯電防止さ
れた三酢酸セルロースフイルム(4)を得た。
条件下で3X1010Ωであつた。これに対しフイルム
vの表面比抵抗は同条件下で1015Ω以上であつた。
実施例 6 アセトン400m1とメタノール600m1の混合液に
粒径0.1〜1μの二酸化珪素粒子0.17を分散して
得た液(Fl))を実施例3における帯電防止された三
酢酸セルロースフイルム(3)の処理された面の上に塗
布乾燥して、表面を粗面化した密着性のない帯電防止さ
れた三酢酸セルロースフイルム(4)を得た。
このフィルムの帯電防止性能は(6)と同様であつた。
実施例 7 実施例4における溶液(C)にステアリル燐酸酸性エス
テルトリエチルアミン塩0.17を加えて得た溶液じ)
を実施例4における溶′WIOの代りに中間層を有する
三酢酸セルロースフイルムの中間層の上に塗布乾燥して
滑り性の適切な帯電防止された三酢酸セルロースフイル
ム峰を得た。
実施例 7 実施例4における溶液(C)にステアリル燐酸酸性エス
テルトリエチルアミン塩0.17を加えて得た溶液じ)
を実施例4における溶′WIOの代りに中間層を有する
三酢酸セルロースフイルムの中間層の上に塗布乾燥して
滑り性の適切な帯電防止された三酢酸セルロースフイル
ム峰を得た。
このフイルムの帯電防止性能は(代)と同様であつた。
実施例 8実施例4における溶液(C)の代りに例示(
6)の重合体0.57とポリ−1−ビニル−3−メチル
イミダゾリウムパラトルオールスルホネート1yとをメ
タノール700m1に溶かし、アセトン300m1を加
えて得た溶液(G)を、中間層を有する三酢酸セルロー
スフイルム(転)の中間層の上に塗布乾燥して帯電防止
された三酢酸セルロースフイルムを得た。
実施例 8実施例4における溶液(C)の代りに例示(
6)の重合体0.57とポリ−1−ビニル−3−メチル
イミダゾリウムパラトルオールスルホネート1yとをメ
タノール700m1に溶かし、アセトン300m1を加
えて得た溶液(G)を、中間層を有する三酢酸セルロー
スフイルム(転)の中間層の上に塗布乾燥して帯電防止
された三酢酸セルロースフイルムを得た。
フイルムの処理された面の表面比抵抗は実施例3と同条
件下で3×109であつた。これに対し、ポリ−1−ビ
ニル−3−メチルイミダゾリウムパラトルオールスルホ
ネート1tのみをメタノール700m1に溶かし、アセ
トン30077Z1を加えて得た溶液(自)を、フィル
ムの中間層の上に塗布乾燥して得たフイルム〜の処理さ
れた面の表面比抵抗は同条件下で1×1014Ωであつ
た。実施例 9実施例3、4、5、6、7および8にお
ける帯電防止されたフイルム([[)、、(ロ)、、(
ニ)およびの帯電防止処理を行なわない面、フイルム(
1)、Vおよび(X)の一方の面、ならびにフイルム叫
の中間層を有しない面にそれぞれ常法に従つて下引処理
を施したのち高感度・・ロゲン化銀写真乳剤を塗布し乾
燥して写真感光材料を製造した。
件下で3×109であつた。これに対し、ポリ−1−ビ
ニル−3−メチルイミダゾリウムパラトルオールスルホ
ネート1tのみをメタノール700m1に溶かし、アセ
トン30077Z1を加えて得た溶液(自)を、フィル
ムの中間層の上に塗布乾燥して得たフイルム〜の処理さ
れた面の表面比抵抗は同条件下で1×1014Ωであつ
た。実施例 9実施例3、4、5、6、7および8にお
ける帯電防止されたフイルム([[)、、(ロ)、、(
ニ)およびの帯電防止処理を行なわない面、フイルム(
1)、Vおよび(X)の一方の面、ならびにフイルム叫
の中間層を有しない面にそれぞれ常法に従つて下引処理
を施したのち高感度・・ロゲン化銀写真乳剤を塗布し乾
燥して写真感光材料を製造した。
これらの写真感光材料を25℃、50%RHで24時間
調湿し、同一空調条件下で未露光試料を塩化ビニル製丸
棒で摩擦後、通常の現像処理を行ないスタチツクマーク
の発生状況を観察した。
調湿し、同一空調条件下で未露光試料を塩化ビニル製丸
棒で摩擦後、通常の現像処理を行ないスタチツクマーク
の発生状況を観察した。
その結果、帯電防止処理を施さないフイルム(1)、叫
、(至)および〜を基材とした写真感光材料には、いず
れもマスチツクマークの発生が極めて多く認められたの
に対し、帯電防止処理を施したフイルム(1)、(代)
、(ロ)、例、(至)およびを基材とした写真感光材料
にはいずれもスタチツクマークの発生は認められなかつ
た。なお、それぞれの填感光材料を現像する際に窒素ガ
ス攪拌方式の現像槽を具備した自動現像機を使用したと
ころ、フイルム(1)、、(至)およ?Xを基材とした
写真感光材料を処理した時には現像槽中の現像液が泡立
ち槽から液が溢流する支障を生じたが、フイルム仙、(
代)、(ロ)、(至)、燭およびを基材とした写真感光
材料を処理した時には、現像液はほとんど泡立たず、泡
による支障を生じなかつたのみならず、液面に滓が浮く
こともなかつた。
、(至)および〜を基材とした写真感光材料には、いず
れもマスチツクマークの発生が極めて多く認められたの
に対し、帯電防止処理を施したフイルム(1)、(代)
、(ロ)、例、(至)およびを基材とした写真感光材料
にはいずれもスタチツクマークの発生は認められなかつ
た。なお、それぞれの填感光材料を現像する際に窒素ガ
ス攪拌方式の現像槽を具備した自動現像機を使用したと
ころ、フイルム(1)、、(至)およ?Xを基材とした
写真感光材料を処理した時には現像槽中の現像液が泡立
ち槽から液が溢流する支障を生じたが、フイルム仙、(
代)、(ロ)、(至)、燭およびを基材とした写真感光
材料を処理した時には、現像液はほとんど泡立たず、泡
による支障を生じなかつたのみならず、液面に滓が浮く
こともなかつた。
また、それぞれの感光材料の写真特性はいずれも同一で
あり、帯電防止処理に用いた重合体の写真性能に及ぼす
悪影響は認められなかつた。実施例 10ポリエチレン
テレフタレートフイルム(7)の両面を常法により下引
し、さらにその各々の面にハロゲン化銀写真乳剤を塗布
し、さらに保護のためのゼラチン液を塗布し、乾燥して
両面に感光層を有する写真感光材料(自)を得た。
あり、帯電防止処理に用いた重合体の写真性能に及ぼす
悪影響は認められなかつた。実施例 10ポリエチレン
テレフタレートフイルム(7)の両面を常法により下引
し、さらにその各々の面にハロゲン化銀写真乳剤を塗布
し、さらに保護のためのゼラチン液を塗布し、乾燥して
両面に感光層を有する写真感光材料(自)を得た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 下記一般式で示される重合体から選ばれる少なくと
も一種の存在下に処理することを特徴とする写真感光材
料の処理方法。 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Aは炭素数2乃至18のアルキレン基、アルケニ
レン基、アリーレン基、アラルキレン基、アリーレンア
ルキレン基、−R_1COR_2−基、−R_3COR
_4COR_5−基、▲数式、化学式、表等があります
▼基、−R_8COOR_9OCOR_1_0−基、−
R_1_1OCONHR_1_2NHCOOR_1_3
−基、−R_1_4CONHR_1_5NHCOR_1
_6−基;Bは単なる結合手、−NHCOR_1_7C
ONH−基あるいはAから選ばれる基(ただしR_1乃
至R_1_7は炭素数1乃至10のアルキレン基または
フェニレン基で、mは1乃至4の整数を表わす。 );Z_1及びZ_2は−N=C¥H¥−基と共に5ま
たは6員環を形成するに必要な非金属原子群(▲数式、
化学式、表等があります▼なる4級塩の形でBに連結し
ていてもよい。);X^■はアニオン;nは正の整数を
表わす。〕。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP49115853A JPS5914735B2 (ja) | 1974-10-07 | 1974-10-07 | 写真感光材料の処理方法 |
US05/620,137 US3988158A (en) | 1974-10-07 | 1975-10-06 | Process for antistatic treatment of light-sensitive silver halide photographic material |
DE19752544841 DE2544841A1 (de) | 1974-10-07 | 1975-10-07 | Verfahren zur antistatischen behandlung eines lichtempfindlichen photografischen silberhalogenidmaterials |
GB41107/75A GB1525286A (en) | 1974-10-07 | 1975-10-07 | Polymers and their use in antistatic coating of photographic elements |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP49115853A JPS5914735B2 (ja) | 1974-10-07 | 1974-10-07 | 写真感光材料の処理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5142535A JPS5142535A (ja) | 1976-04-10 |
JPS5914735B2 true JPS5914735B2 (ja) | 1984-04-05 |
Family
ID=14672746
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP49115853A Expired JPS5914735B2 (ja) | 1974-10-07 | 1974-10-07 | 写真感光材料の処理方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3988158A (ja) |
JP (1) | JPS5914735B2 (ja) |
DE (1) | DE2544841A1 (ja) |
GB (1) | GB1525286A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01166905U (ja) * | 1988-05-17 | 1989-11-22 | ||
US7507426B2 (en) | 2003-02-06 | 2009-03-24 | Lg Chem, Ltd. | Unified polarizing plate and method for preparing the same |
US7524542B2 (en) | 2002-11-22 | 2009-04-28 | Lg Chem, Ltd. | Negative C-plate type optical anisotropic film comprising poly cycloolefin and method for preparing the same |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1604741A (en) * | 1977-01-24 | 1981-12-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | Silver halide photographic materials having antistatic properties |
US4975222A (en) * | 1986-09-23 | 1990-12-04 | Katsumi Yoshino | Radiation detecting elements and method of detection |
JPH02116843A (ja) * | 1988-10-27 | 1990-05-01 | Konica Corp | 帯電防止されたハロゲン化銀写真感光材料 |
JPH0468343A (ja) * | 1990-07-10 | 1992-03-04 | Konica Corp | 帯電防止プラスチックフィルム |
JPH04117436A (ja) * | 1990-09-05 | 1992-04-17 | Konica Corp | 帯電防止ポリエステルフィルムの製造法 |
CA2434693A1 (en) * | 2001-01-18 | 2002-10-17 | Genzyme Corporation | Ionene polymers and their use as antimicrobial agents |
WO2004046109A2 (en) * | 2002-11-19 | 2004-06-03 | Genzyme Corporation | Ionene oligomers and polymers |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3538053A (en) * | 1968-09-11 | 1970-11-03 | California Inst Of Techn | Nuclear alkylated pyridine aldehyde polymers and conductive compositions thereof |
JPS5025940B1 (ja) * | 1971-07-20 | 1975-08-27 | ||
BE792064A (fr) * | 1971-12-02 | 1973-05-29 | Bayer Ag | Polymeres antistatiques de l'acrylonitrile |
-
1974
- 1974-10-07 JP JP49115853A patent/JPS5914735B2/ja not_active Expired
-
1975
- 1975-10-06 US US05/620,137 patent/US3988158A/en not_active Expired - Lifetime
- 1975-10-07 DE DE19752544841 patent/DE2544841A1/de not_active Withdrawn
- 1975-10-07 GB GB41107/75A patent/GB1525286A/en not_active Expired
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01166905U (ja) * | 1988-05-17 | 1989-11-22 | ||
US7524542B2 (en) | 2002-11-22 | 2009-04-28 | Lg Chem, Ltd. | Negative C-plate type optical anisotropic film comprising poly cycloolefin and method for preparing the same |
US7507426B2 (en) | 2003-02-06 | 2009-03-24 | Lg Chem, Ltd. | Unified polarizing plate and method for preparing the same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US3988158A (en) | 1976-10-26 |
GB1525286A (en) | 1978-09-20 |
JPS5142535A (ja) | 1976-04-10 |
DE2544841A1 (de) | 1976-08-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US3068215A (en) | Quaternary salts of c-vinylpyridine polymers with haloacetone cyanohydrins | |
US4225665A (en) | Photographic element in which the antistatic layer is interlinked in the base | |
JPS5914735B2 (ja) | 写真感光材料の処理方法 | |
JPH02184843A (ja) | 感光性ハロゲン化銀写真材料 | |
US3539644A (en) | Bis(vinylsulfonylmethyl) ether | |
JPS5817152A (ja) | 耐水性被膜塗布用ラテツクス組成物 | |
US5578432A (en) | Addenda for an aqueous photographic stabilizing solution | |
US4582782A (en) | Antistatic photographic multi-layer base having a hydrophilic and hydrophoetic layer | |
US3552969A (en) | Photographic compositions and processes | |
US3816136A (en) | Photographic element and process of developing | |
JPH0359421B2 (ja) | ||
US3811889A (en) | Light-sensitive photographic material with antistatic layer | |
US3545970A (en) | Photographic processes utilizing siloxane water spotting inhibitors | |
US2940854A (en) | Gelatin silver halide emulsion plasticized with dicarboxylic acid esters | |
US3880660A (en) | Processing silver halide photographic material with a polymeric defoaming agent | |
US4267266A (en) | Photographic films | |
US4118231A (en) | Light-sensitive silver halide photographic materials containing antistatic agents | |
EP0300259A1 (en) | Light-sensitive silver halide photographic materials | |
US4497929A (en) | Latex compositions comprising loadable polymeric particles | |
US3876430A (en) | Antistatic photographic material | |
US3985564A (en) | Photographic element and process for developing | |
JPH07152135A (ja) | ハロゲン化銀写真要素をリンスするための水溶液及びハロゲン化銀写真要素の処理方法 | |
US2577127A (en) | Photographic element with colloid layer containing color former and nonionic wettingagent | |
US3515556A (en) | Photographic developing process utilizing hemlock tannin polymer | |
US3516833A (en) | Photographic material containing a hydrophilic colloid and a sucrose ester |