DE2636909C3 - Verfahren und Vorrichtung zum Ziehen eines Kristalls - Google Patents
Verfahren und Vorrichtung zum Ziehen eines KristallsInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Ziehen eines Kristalles aus einer Oxid-Schmelze in einem
Iridium-Tiegel, der vom Boden her auf eine Temperatur oberhalb des Erstarrungspunktes gekühlt wird, sowie
eine Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens mit einem Tiegel und einer an die Mitte des
Tiegelbodens herangeführten Kühlmittelleitung.
Dem Journal of Crystal Growth (15/1972) ist eine Ziehvorrichtung mit einem Iridium-Tiegel und einer —
Sauerstoff im Gegenstrom an das Tiegelbodenzentrum heran- und abführenden — koaxialen Kühlmittelführung
zu entnehmen. Mit dieser Vorrichtung soll bei Einkristallen aus Barium-Natrium-Niob (Schmelzpunkt
1438° C) und Natrium-Lanthan-Tantalat (Schmelzpunkt bei ca. 19700C) die Dimensionierung des KristaiSs
kontrollierbar werden.
Auch zur Züchtung von hochschmelzenden Kristallen, beispielsweise von Einkristallen aus Gadolinium-Gallium-Granat,
finden im allgemeinen Tiegel aus dem Platinmetall Iridium mit einem Schmelzpunkt von
2454° C Verwendung. Als besonders nachteilig hat sich hier bei den herkömmlichen !ridiumtiegeln deren
verhältnismäßig kurzlebige Einsatzfähigkeit erwiesen.
Dieser Mangel wird vor allem durch — trotz des gegenüber oxydierenden Stoffen relativ resistenten
Verhaltens auftretende - Korrosion während des sich in der Regel über mehrere Stunden bis zu einigen Tagen
erstreckenden Zuchtvorganges hervorgerufen; die Tiegelinnenseite wird von der Schmelze so stark angegriffen,
daß sich die Oberfläche zunehmend aufrauht und — so vergrößert — verstärkt korrodiert
Das gelöste Iridium kann nun bei genügend hoher Lösungskonzentration an relativ kühlen Stellen, beispielsweise
an der Schmelzenoberfläche oder an der Wachstumsfront, in Form kleiner bis zu einigen 100 μίτι
großen Kristalliten ausfallen. Diese drei- bis sechseckigen Iridiuir-partikel können in den wachsenden Kristall
eingeschlossen werden.
Derartige Iridium-Einschlüsse gehören zu den Kristalldefekten,
die sehr schwer beherrschbar sind. Sie treten entweder vereinzelt auf oder sind bänderförmig
im Kristall verteilt. Die Dichte der Einschlüsse schwankt von nahezu einschlußfreien Kristallen bis zu einigen
hundert Einschlüssen je Kubikzentimeter Kristallkörper. Da jeder Einschluß ein weit über seine Größe
hinausragendes Spannungsfeld erzeugt, stellen die Einschlüsse relativ große Defekte dar. Darüber hinaus
ist jeder Einschluß potentieller Entstehungsort von Versetzungen, welche die Kristallqualität zusätzlich
beeinträchtigen.
Angesichts dieser Gegebenheiten hat sich der Erfinder das Ziel gesetzt. Verfahren und Vorrichtung
der eingangs erwähnten Art zu verändern, sowie zur Reinigung der Oxidschmelze von vagabundierendem
Iridium heranzuziehen, d. h. das Entstehen von Einschlüssen in wachsenden Kristallen weitestgehend
hintanzuhalten.
Zur Lösung dieser Aufgabe führt der Gedanke, auf eine solche Temperatur zu kühlen, daß Iridium am Tiegelboden ausfällt, und Kühlung beim Auslaufen des Ziehvorganges zu drosseln.
Zur Lösung dieser Aufgabe führt der Gedanke, auf eine solche Temperatur zu kühlen, daß Iridium am Tiegelboden ausfällt, und Kühlung beim Auslaufen des Ziehvorganges zu drosseln.
Bei dieser erfindungsgemäßen Problemlösung begegnet man einer Verunreinigung des Kristalles durch
Korrosion der Tiegelinnenfläche dadurch, daß man der Schmelze gelöstes Iridium entzieht, und die Lösungskonzentration während des gesamten Zuchtvorganges
unter der kritischen Ausscheidungskonzentration hält. An der gekühlten Stelle wird das Metall gesammelt und
bo kann somit nicht mehr in den Kristall eingebaut werden.
In allen Fällen ist darauf zu achten, daß die Temperatur der Kühlstelle nicht unter die Erstarrungstemperatur der Schmelze absinkt, da ansonsten die
Schmelze am Tiegelboden auskristallisicrt. Dies führt zu einem Verlust der Keimwirkung des Iridiums. Zudem
ann der sich bildende Hügel aus festgewordenem Schmelzmaterial im Extremfalle mit dem wachsenden
Kristall zusammenstoßen.
Da das erfindungsgemäße Verfahren um so wirksamer ist, je geringer der Abstand zwischen dem
Temperaturniveau des Sammelpunktes und dem Schmelzpunkt der Schmelze liegt, wird die beschriebene
Drosselung beim Auslaufen des Ziehvorgangs vorgenommen.
Im Rahmen der Erfindung lieg: es auch, die Außenflächen des Tiegels zu kühlen, beispielsweise mit
inertem Gas zu umspülen; die Korrosion der Tiegelwandung wird gedämpft und damit auch die Lebensdauer
des Tiegels gesteigert
Die erfindungsgemäße Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens zeichnet sich dadurch aus, daß
der Stauraum durch Ausnehmungen in einem ihn umgebenden ringförmigen — den Tiegel tragenden —
Kragen mit einem um den Stauraum liegenden Strömungsraum verbunden ist, so daß das Kühlmittel
aus dem Stauraum in den nachgeschalteten Strömungsraum übertreten kann. Dieser Strömungsraum wird
vorteilhafterweise in einen von der den Tiegel umfangenden Wandung eines an sich bekannten
Gefäßes und dessen Bodenteil begrenzenden Raum fortgesetzt Der Bodenteil ist mit einer Isolierschicht
versehen, um die Wirkung des Kühlmittels zu erhöhen.
Das Gefäß umgibt also den die Schmelze aufnehmenden Tiegel in Abstand, so daß der Strömungsraum für
das den Tiegel umspülende Kühlmittel ohne besonderen technischen Aufwand hergestellt werden kann. Gerade
die Einfachheit der Anordnung zeigt im Hinblick auf die mit ihr erzielbaren Verbesserungen für die Kristallzüchtung
den der Erfindung innewohnenden erheblichen Fortschritt.
Erfindungsgemäß kann die Kühlmittelzuleitung ein Drosselventil oder ein ähnliches Regelelement enthalten,
welches den Kühlmittelfluß in Abhängigkeit von der effektiven Schmelze-Temperatur steuert und — wie
beschrieben — am Ende des Zuchtvorganges drosselt. Auch hat es sich als günstig erwiesen, in der
Kühlmittelzuleitung einen Durchflußzähler anzuordnen und die Regeleinrichtung gegebenenfalls mit einer in
dem Kühlmittelstrom angeordneten Fotozelle zu verbinden.
Nach einem weiteren Merkmal der Erfindung strömt das verbrauchte Kühlmittel in ein oberhalb des Tiegels
angebrachtes Abgasrolir und kann von diesem — falls
gewünscht — über einen Regenerator für das Kühlmittel der Kühlmittelleitung erneut zugeführt
werden.
Nachfolgend wird die Erfindung anhand des in der Zeichnung wiedergegebenen bevorzugten Ausführungsbeispiels
beschrieben; die Zeichnung zeigt in
F i g. 1 den teilweise geschnittenen Aufriß einer Kristallzuchtvorrichtung;
F i g. 2 ein vergrößertes Detail aus F i g. 1 in geschnittenem Aufriß;
Im Gehäuse 1 eines Ziehgerätes A zur Züchtung von
Kristallen K — beispielsweise von Einkristallen nach dem sog. Czochralski-Verfahren — sitzt auf einem um
die Geräteachse M aufragenden Traggestell 2 ein Gefäß 3, dessen Abstand b zur Bodenplatte 4 des Gehäuses 1
über ein Huborgan 5 in Richii'"1? der Geräteachse M
verändert werden kann.
Das von einer Hochfrequenz-Induktionsspule 6 in Abstand czu seiner zylindrischen Wandung 7 umgebene
Gefäß 3 weist einen hohlen Bodenteil 8 der Stärke e von etwa einem Drittel seiner Gesamthöhe A auf; der hohle
Gefäßbodenteil 8 ist mit einem Isoliermaterial 9 gefüllt und im Bereich der Geräteachse M von einem zu dieser
koaxialen Rohr 10 durchsetzt das oberhalb der — eine trichterähnliche Mulde 12 bildenden — Deckplatte 13
des Gefäßbodenteils 8 in den Innenrauni (?des Gefäßes
3 mündet und bodenwärts in einem beispielsweise
quaderförmigen Behälter 14 endet Aus diesem ragt eine
rohrförmige Leitung 15 vom Gehäuse 1 ab und ist an eine nicht weiter dargestellte Stickstoffleitung angeschlossen.
Wie F i g. 2 verdeutlicht enthält der quaderförmige
Wie F i g. 2 verdeutlicht enthält der quaderförmige
ίο Behälter 14 eine Fotozelle 16, die über eine Leitung 17
mit einem Regler 18 verbunden ist; dieser steuert in Abhängigkeit von Signalen der Fotozelle 16 ein Ventil
19 in der Gaszuführleitung 15 und bestimmt so das Maß des Gasdurchflusses, dessen Menge durch einen
Durchflußzähier 19a registriert werden kann.
Im Gefäßraum Q ruht auf einem durch Ausnehmungen
21 perforierten — und sich auf einem Versteifungsring 22r des Gefäßbodenteils 8 abstützenden —
ringförmigen Kragen 22 ein Tiegel Taus Iridium, dessen Innenraum P eine Schmelze 5 aufnimmt — im
gewählten Beispiel eine Schmelze 5 aus Gadolinium-Gallium-Granat (GGG). Der im Verlaufe des Züchtungsvorgangs
sinkende Schmelzenspiegel Sp kann dank des Huborgans 5 in konstantem Abstand h zur
Bodenplatte 4 des Gehäuses 3 gehalten werden.
Die zylindrische Tiegelwand 30 bildet mit der diese umfangenden Wandung 7 des Gefäßes 3 einen
Ringraum 31, welcher an einem Ende an den von der Deckplatte 13 des Gefäßbodenteils 8 und den
JO Tiegelboden 32 begrenzten Raum 33 sowie andernends
an einem zwischen dem Tiegeldeckel 34 und dem Gefäßdeckel 35 vorhandenen Kopfraum 36 anschließt.
Als Tiegeldeckel 34 bzw. als Gefäßdeckel 35 dienen flache Ringelemente, welche mittige Ausnehmungen 37
bzw. 38 umgeben (F i g. 2).
Über den mittigen Ausnehmungen 37 bzw. 38 von Tiegeldeckel 34 bzw. Gefäßdeckel 35 ist ein vertikaler
Ziehstab 40 mit an ihm — gemäß F i g. 1 unter Verwendung einer Klemmeinrichtung 41 — koaxial
«o festgelegtem Impfkristall 42 zu erkennen; an letzterem
bildet sich während einer von einem Ziehorgan 43 gesteuerten Bewegung ein aus der Schmelze 5 bei etwa
18000C wachsender Kristall K.
Aus der Gaszufuhrleitung 15 strömt gemäß den
*s Pfeilen ζ (Fig.2) Stickstoff in den quaderförmigen
Behälter 14 und von diesem durch das Steigrohr 10 in den Ringkragen 22. Innerhalb eines vom Ringkragen 22
umgebenen Stauraumes 33* wirkt der einströmende Stickstoff ζ als Kühlmittel auf den überspannenden
Tiegelboden 32 und tritt — weiterhin kühlend — durch die Ausnehmungen 21 in den Tiegelbodenraum 33 über.
Anschließend steigt der Stickstoff bzw. das Kühlmittel ζ im Ringraum 31 auf und verläßt das Gefäß 3 durch die
Deckelausnehmung 38.
Auf dem Gefäßdeckel 35 sitzt zum Ableiten des Kühlmittels ζ ein Abgasrohr 45. Aus diesem kann das
verbrauchte Kühlmittel ζ gemäß F i g. 1 über eine Leitung 50 sowie einen symbolisch angedeuteten
Regenerator 51 zur Gaszuführleitung 15 zurückge-
f>" bracht werden.
In F i g. 2 ist in einem Feld Ffür das gewählte Beispiel
dargestellt, daß sich an der durch die Induktionsspule 6 erhitzten Zylinderwand 30 des Iridiumtiegels Γ das in
der Schmelze 5 vorhandene Ga2O3 in Ga2O + O2
t>5 zersetzt. Der anfallende Sauerstoff oxidiert das Iridium;
das IrO2 zerfällt seinerseits in Ir + O2.
Der gekühlte Tiegelboden 32 bildet insbesondere in dem vom RingkraEen 22 erzeugten Stauraum 33Z eine
Keimstelle zum Ansammeln des in der Schmelze Sund
aus der Zylinderwand 30 gelösten Iridiums Ir. Letzteres wird am Tiegelboden 32 festgelegt und so dem
entstehenden Kristall K ferngehalten.
Um zu verhindern, daß die Temperatur des gekühlten Tiegelbodens 32 unter die Erstarrungstemperatur der
Schmelze S absinkt — und so festes GGG am Tiegelboden 32 auskristallisiert — wird die Kühlmittelzufuhr
mit Hilfe der Fotozelle 16 und des Reglers 18 durch das Ventil 19 gesteuert.
Hierdurch erreicht man die automatische Regelunj der Kühlmittel- bzw. Gaszufuhr für eine konstant!
Bodentemperatur. Außerdem ist es möglich, dei Gasdurchfluß gegen Ende des Zuchtvorganges zi
drosseln, um dem bekannten Absinken der effektivei Temperatur im Zentrum des Tiegelbodens 32 wahrem
des Zuchtvorganges zum Erhalt der konstante! Bodentemperatur entgegenzuwirken.
Hierzu 2 Blatt Zeichnungen
Claims (11)
1. Verfahren zum Ziehen eines Kristalls aus einer Oxid-Schmelze in einem Iridium-Tiegel, der vom
Boden her auf ein*: Temperatur oberhalb des Erstarrungspunktes gekühlt wird, dadurch gekennzeichnet,
daß auf eine solche Temperatur gekühlt wird, daß Iridium am Tiegelboden ausfällt,
und daß die Kühlung beim Auslaufen des Ziehvorganges gedrosselt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Außenfläche (32) des Tiegels gekühlt wird.
3. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1 oder 2 mit einem Tiegel und einer
an die Mitte des Tiegelbodens herangeführten Kühlmittelleitung, an die ein Hohlraum als Stauraum
für das einströmende Kühlmittel angeschlossen ist, dadurch gekennzeichnet, daß der Stauraum (33,)
durch Ausnehmungen (21) in einem ihn umgebenden ringförmigen Kragen (22) mit einem um den
Stauraum liegenden Strömungsraum (33) verbunden ist
4. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Strömungsraum (33) in einer von
der den Tiegel (T) umfangenden Wandung (7) eines Gefäßes (3) und dessen Bodenteil (8) begrenzten
Raum (31) fortgesetzt ist.
5. Vorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Bodenteil (8) des Gefäßes (3) mit
einer Isolierschicht (9) versehen ist
6. Vorrichtung nach Anspruch 4 und 5, dadurch gekennzeichnet, daß der den Tiegel (T) tragende
ringförmige Kragen (22) an im Bodenteil (8) des Gefäßes (1) vorgesehene Versteifungselemente (22r)
angefügt ist.
7. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 3 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Kühlmittelzuleitung
(15) (10) ein Drosselventil (i9) aufweist.
8. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 3 bis 7, gekennzeichnet durch einen in die Kühlmittelzuleitung
(15) (10) eingefügten Durchflußzähler (19.).
9. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 3 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß das Drosselventil (19)
mit einer im Kühlmittelstrom (z) angeordneten Fotozelle (16) verbunden ist.
10. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 3 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß an den Kopf (36) des
Strömungsraumes (33, 31) ein Abgasrohr (45) angeschlossen ist.
11. Vorrichtung nach den Ansprüchen 3 bis 10,
dadurch gekennzeichnet, daß das Abgasrohr (45) unter Zwischenschaltung eines Regenerators (51) für
das Kühlmittel (z) mit der Kühlmittelzuleitung (10) (15) verbunden ist.
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