DE2636909C3 - Verfahren und Vorrichtung zum Ziehen eines Kristalls - Google Patents

Verfahren und Vorrichtung zum Ziehen eines Kristalls

Info

Publication number
DE2636909C3
DE2636909C3 DE2636909A DE2636909A DE2636909C3 DE 2636909 C3 DE2636909 C3 DE 2636909C3 DE 2636909 A DE2636909 A DE 2636909A DE 2636909 A DE2636909 A DE 2636909A DE 2636909 C3 DE2636909 C3 DE 2636909C3
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
crucible
coolant
vessel
space
iridium
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DE2636909A
Other languages
English (en)
Other versions
DE2636909B2 (de
DE2636909A1 (de
Inventor
Walter Dr. Schaffhausen Schmidt (Schweiz)
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Alcan Holdings Switzerland AG
Original Assignee
Schweizerische Aluminium AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Schweizerische Aluminium AG filed Critical Schweizerische Aluminium AG
Priority to GB3270877A priority Critical patent/GB1587249A/en
Priority to JP9405977A priority patent/JPS5328085A/ja
Priority to NL7708694A priority patent/NL7708694A/xx
Publication of DE2636909A1 publication Critical patent/DE2636909A1/de
Publication of DE2636909B2 publication Critical patent/DE2636909B2/de
Application granted granted Critical
Publication of DE2636909C3 publication Critical patent/DE2636909C3/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B15/00Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
    • C30B15/14Heating of the melt or the crystallised materials
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S117/00Single-crystal, oriented-crystal, and epitaxy growth processes; non-coating apparatus therefor
    • Y10S117/90Apparatus characterized by composition or treatment thereof, e.g. surface finish, surface coating
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T117/00Single-crystal, oriented-crystal, and epitaxy growth processes; non-coating apparatus therefor
    • Y10T117/10Apparatus
    • Y10T117/1004Apparatus with means for measuring, testing, or sensing
    • Y10T117/1008Apparatus with means for measuring, testing, or sensing with responsive control means
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T117/00Single-crystal, oriented-crystal, and epitaxy growth processes; non-coating apparatus therefor
    • Y10T117/10Apparatus
    • Y10T117/1024Apparatus for crystallization from liquid or supercritical state
    • Y10T117/1032Seed pulling
    • Y10T117/1068Seed pulling including heating or cooling details [e.g., shield configuration]

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Ziehen eines Kristalles aus einer Oxid-Schmelze in einem Iridium-Tiegel, der vom Boden her auf eine Temperatur oberhalb des Erstarrungspunktes gekühlt wird, sowie eine Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens mit einem Tiegel und einer an die Mitte des Tiegelbodens herangeführten Kühlmittelleitung.
Dem Journal of Crystal Growth (15/1972) ist eine Ziehvorrichtung mit einem Iridium-Tiegel und einer — Sauerstoff im Gegenstrom an das Tiegelbodenzentrum heran- und abführenden — koaxialen Kühlmittelführung zu entnehmen. Mit dieser Vorrichtung soll bei Einkristallen aus Barium-Natrium-Niob (Schmelzpunkt 1438° C) und Natrium-Lanthan-Tantalat (Schmelzpunkt bei ca. 19700C) die Dimensionierung des KristaiSs kontrollierbar werden.
Auch zur Züchtung von hochschmelzenden Kristallen, beispielsweise von Einkristallen aus Gadolinium-Gallium-Granat, finden im allgemeinen Tiegel aus dem Platinmetall Iridium mit einem Schmelzpunkt von 2454° C Verwendung. Als besonders nachteilig hat sich hier bei den herkömmlichen !ridiumtiegeln deren verhältnismäßig kurzlebige Einsatzfähigkeit erwiesen.
Dieser Mangel wird vor allem durch — trotz des gegenüber oxydierenden Stoffen relativ resistenten Verhaltens auftretende - Korrosion während des sich in der Regel über mehrere Stunden bis zu einigen Tagen erstreckenden Zuchtvorganges hervorgerufen; die Tiegelinnenseite wird von der Schmelze so stark angegriffen, daß sich die Oberfläche zunehmend aufrauht und — so vergrößert — verstärkt korrodiert
Das gelöste Iridium kann nun bei genügend hoher Lösungskonzentration an relativ kühlen Stellen, beispielsweise an der Schmelzenoberfläche oder an der Wachstumsfront, in Form kleiner bis zu einigen 100 μίτι großen Kristalliten ausfallen. Diese drei- bis sechseckigen Iridiuir-partikel können in den wachsenden Kristall eingeschlossen werden.
Derartige Iridium-Einschlüsse gehören zu den Kristalldefekten, die sehr schwer beherrschbar sind. Sie treten entweder vereinzelt auf oder sind bänderförmig im Kristall verteilt. Die Dichte der Einschlüsse schwankt von nahezu einschlußfreien Kristallen bis zu einigen hundert Einschlüssen je Kubikzentimeter Kristallkörper. Da jeder Einschluß ein weit über seine Größe hinausragendes Spannungsfeld erzeugt, stellen die Einschlüsse relativ große Defekte dar. Darüber hinaus ist jeder Einschluß potentieller Entstehungsort von Versetzungen, welche die Kristallqualität zusätzlich beeinträchtigen.
Angesichts dieser Gegebenheiten hat sich der Erfinder das Ziel gesetzt. Verfahren und Vorrichtung der eingangs erwähnten Art zu verändern, sowie zur Reinigung der Oxidschmelze von vagabundierendem Iridium heranzuziehen, d. h. das Entstehen von Einschlüssen in wachsenden Kristallen weitestgehend hintanzuhalten.
Zur Lösung dieser Aufgabe führt der Gedanke, auf eine solche Temperatur zu kühlen, daß Iridium am Tiegelboden ausfällt, und Kühlung beim Auslaufen des Ziehvorganges zu drosseln.
Bei dieser erfindungsgemäßen Problemlösung begegnet man einer Verunreinigung des Kristalles durch Korrosion der Tiegelinnenfläche dadurch, daß man der Schmelze gelöstes Iridium entzieht, und die Lösungskonzentration während des gesamten Zuchtvorganges unter der kritischen Ausscheidungskonzentration hält. An der gekühlten Stelle wird das Metall gesammelt und
bo kann somit nicht mehr in den Kristall eingebaut werden. In allen Fällen ist darauf zu achten, daß die Temperatur der Kühlstelle nicht unter die Erstarrungstemperatur der Schmelze absinkt, da ansonsten die Schmelze am Tiegelboden auskristallisicrt. Dies führt zu einem Verlust der Keimwirkung des Iridiums. Zudem ann der sich bildende Hügel aus festgewordenem Schmelzmaterial im Extremfalle mit dem wachsenden Kristall zusammenstoßen.
Da das erfindungsgemäße Verfahren um so wirksamer ist, je geringer der Abstand zwischen dem Temperaturniveau des Sammelpunktes und dem Schmelzpunkt der Schmelze liegt, wird die beschriebene Drosselung beim Auslaufen des Ziehvorgangs vorgenommen.
Im Rahmen der Erfindung lieg: es auch, die Außenflächen des Tiegels zu kühlen, beispielsweise mit inertem Gas zu umspülen; die Korrosion der Tiegelwandung wird gedämpft und damit auch die Lebensdauer des Tiegels gesteigert
Die erfindungsgemäße Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens zeichnet sich dadurch aus, daß der Stauraum durch Ausnehmungen in einem ihn umgebenden ringförmigen — den Tiegel tragenden — Kragen mit einem um den Stauraum liegenden Strömungsraum verbunden ist, so daß das Kühlmittel aus dem Stauraum in den nachgeschalteten Strömungsraum übertreten kann. Dieser Strömungsraum wird vorteilhafterweise in einen von der den Tiegel umfangenden Wandung eines an sich bekannten Gefäßes und dessen Bodenteil begrenzenden Raum fortgesetzt Der Bodenteil ist mit einer Isolierschicht versehen, um die Wirkung des Kühlmittels zu erhöhen.
Das Gefäß umgibt also den die Schmelze aufnehmenden Tiegel in Abstand, so daß der Strömungsraum für das den Tiegel umspülende Kühlmittel ohne besonderen technischen Aufwand hergestellt werden kann. Gerade die Einfachheit der Anordnung zeigt im Hinblick auf die mit ihr erzielbaren Verbesserungen für die Kristallzüchtung den der Erfindung innewohnenden erheblichen Fortschritt.
Erfindungsgemäß kann die Kühlmittelzuleitung ein Drosselventil oder ein ähnliches Regelelement enthalten, welches den Kühlmittelfluß in Abhängigkeit von der effektiven Schmelze-Temperatur steuert und — wie beschrieben — am Ende des Zuchtvorganges drosselt. Auch hat es sich als günstig erwiesen, in der Kühlmittelzuleitung einen Durchflußzähler anzuordnen und die Regeleinrichtung gegebenenfalls mit einer in dem Kühlmittelstrom angeordneten Fotozelle zu verbinden.
Nach einem weiteren Merkmal der Erfindung strömt das verbrauchte Kühlmittel in ein oberhalb des Tiegels angebrachtes Abgasrolir und kann von diesem — falls gewünscht — über einen Regenerator für das Kühlmittel der Kühlmittelleitung erneut zugeführt werden.
Nachfolgend wird die Erfindung anhand des in der Zeichnung wiedergegebenen bevorzugten Ausführungsbeispiels beschrieben; die Zeichnung zeigt in
F i g. 1 den teilweise geschnittenen Aufriß einer Kristallzuchtvorrichtung;
F i g. 2 ein vergrößertes Detail aus F i g. 1 in geschnittenem Aufriß;
Im Gehäuse 1 eines Ziehgerätes A zur Züchtung von Kristallen K — beispielsweise von Einkristallen nach dem sog. Czochralski-Verfahren — sitzt auf einem um die Geräteachse M aufragenden Traggestell 2 ein Gefäß 3, dessen Abstand b zur Bodenplatte 4 des Gehäuses 1 über ein Huborgan 5 in Richii'"1? der Geräteachse M verändert werden kann.
Das von einer Hochfrequenz-Induktionsspule 6 in Abstand czu seiner zylindrischen Wandung 7 umgebene Gefäß 3 weist einen hohlen Bodenteil 8 der Stärke e von etwa einem Drittel seiner Gesamthöhe A auf; der hohle Gefäßbodenteil 8 ist mit einem Isoliermaterial 9 gefüllt und im Bereich der Geräteachse M von einem zu dieser koaxialen Rohr 10 durchsetzt das oberhalb der — eine trichterähnliche Mulde 12 bildenden — Deckplatte 13 des Gefäßbodenteils 8 in den Innenrauni (?des Gefäßes 3 mündet und bodenwärts in einem beispielsweise quaderförmigen Behälter 14 endet Aus diesem ragt eine rohrförmige Leitung 15 vom Gehäuse 1 ab und ist an eine nicht weiter dargestellte Stickstoffleitung angeschlossen.
Wie F i g. 2 verdeutlicht enthält der quaderförmige
ίο Behälter 14 eine Fotozelle 16, die über eine Leitung 17 mit einem Regler 18 verbunden ist; dieser steuert in Abhängigkeit von Signalen der Fotozelle 16 ein Ventil 19 in der Gaszuführleitung 15 und bestimmt so das Maß des Gasdurchflusses, dessen Menge durch einen Durchflußzähier 19a registriert werden kann.
Im Gefäßraum Q ruht auf einem durch Ausnehmungen 21 perforierten — und sich auf einem Versteifungsring 22r des Gefäßbodenteils 8 abstützenden — ringförmigen Kragen 22 ein Tiegel Taus Iridium, dessen Innenraum P eine Schmelze 5 aufnimmt — im gewählten Beispiel eine Schmelze 5 aus Gadolinium-Gallium-Granat (GGG). Der im Verlaufe des Züchtungsvorgangs sinkende Schmelzenspiegel Sp kann dank des Huborgans 5 in konstantem Abstand h zur Bodenplatte 4 des Gehäuses 3 gehalten werden.
Die zylindrische Tiegelwand 30 bildet mit der diese umfangenden Wandung 7 des Gefäßes 3 einen Ringraum 31, welcher an einem Ende an den von der Deckplatte 13 des Gefäßbodenteils 8 und den
JO Tiegelboden 32 begrenzten Raum 33 sowie andernends an einem zwischen dem Tiegeldeckel 34 und dem Gefäßdeckel 35 vorhandenen Kopfraum 36 anschließt.
Als Tiegeldeckel 34 bzw. als Gefäßdeckel 35 dienen flache Ringelemente, welche mittige Ausnehmungen 37 bzw. 38 umgeben (F i g. 2).
Über den mittigen Ausnehmungen 37 bzw. 38 von Tiegeldeckel 34 bzw. Gefäßdeckel 35 ist ein vertikaler Ziehstab 40 mit an ihm — gemäß F i g. 1 unter Verwendung einer Klemmeinrichtung 41 — koaxial
«o festgelegtem Impfkristall 42 zu erkennen; an letzterem bildet sich während einer von einem Ziehorgan 43 gesteuerten Bewegung ein aus der Schmelze 5 bei etwa 18000C wachsender Kristall K.
Aus der Gaszufuhrleitung 15 strömt gemäß den
*s Pfeilen ζ (Fig.2) Stickstoff in den quaderförmigen Behälter 14 und von diesem durch das Steigrohr 10 in den Ringkragen 22. Innerhalb eines vom Ringkragen 22 umgebenen Stauraumes 33* wirkt der einströmende Stickstoff ζ als Kühlmittel auf den überspannenden Tiegelboden 32 und tritt — weiterhin kühlend — durch die Ausnehmungen 21 in den Tiegelbodenraum 33 über. Anschließend steigt der Stickstoff bzw. das Kühlmittel ζ im Ringraum 31 auf und verläßt das Gefäß 3 durch die Deckelausnehmung 38.
Auf dem Gefäßdeckel 35 sitzt zum Ableiten des Kühlmittels ζ ein Abgasrohr 45. Aus diesem kann das verbrauchte Kühlmittel ζ gemäß F i g. 1 über eine Leitung 50 sowie einen symbolisch angedeuteten Regenerator 51 zur Gaszuführleitung 15 zurückge-
f>" bracht werden.
In F i g. 2 ist in einem Feld Ffür das gewählte Beispiel dargestellt, daß sich an der durch die Induktionsspule 6 erhitzten Zylinderwand 30 des Iridiumtiegels Γ das in der Schmelze 5 vorhandene Ga2O3 in Ga2O + O2
t>5 zersetzt. Der anfallende Sauerstoff oxidiert das Iridium; das IrO2 zerfällt seinerseits in Ir + O2.
Der gekühlte Tiegelboden 32 bildet insbesondere in dem vom RingkraEen 22 erzeugten Stauraum 33Z eine
Keimstelle zum Ansammeln des in der Schmelze Sund aus der Zylinderwand 30 gelösten Iridiums Ir. Letzteres wird am Tiegelboden 32 festgelegt und so dem entstehenden Kristall K ferngehalten.
Um zu verhindern, daß die Temperatur des gekühlten Tiegelbodens 32 unter die Erstarrungstemperatur der Schmelze S absinkt — und so festes GGG am Tiegelboden 32 auskristallisiert — wird die Kühlmittelzufuhr mit Hilfe der Fotozelle 16 und des Reglers 18 durch das Ventil 19 gesteuert.
Hierdurch erreicht man die automatische Regelunj der Kühlmittel- bzw. Gaszufuhr für eine konstant! Bodentemperatur. Außerdem ist es möglich, dei Gasdurchfluß gegen Ende des Zuchtvorganges zi drosseln, um dem bekannten Absinken der effektivei Temperatur im Zentrum des Tiegelbodens 32 wahrem des Zuchtvorganges zum Erhalt der konstante! Bodentemperatur entgegenzuwirken.
Hierzu 2 Blatt Zeichnungen

Claims (11)

Patentansprüche:
1. Verfahren zum Ziehen eines Kristalls aus einer Oxid-Schmelze in einem Iridium-Tiegel, der vom Boden her auf ein*: Temperatur oberhalb des Erstarrungspunktes gekühlt wird, dadurch gekennzeichnet, daß auf eine solche Temperatur gekühlt wird, daß Iridium am Tiegelboden ausfällt, und daß die Kühlung beim Auslaufen des Ziehvorganges gedrosselt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Außenfläche (32) des Tiegels gekühlt wird.
3. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1 oder 2 mit einem Tiegel und einer an die Mitte des Tiegelbodens herangeführten Kühlmittelleitung, an die ein Hohlraum als Stauraum für das einströmende Kühlmittel angeschlossen ist, dadurch gekennzeichnet, daß der Stauraum (33,) durch Ausnehmungen (21) in einem ihn umgebenden ringförmigen Kragen (22) mit einem um den Stauraum liegenden Strömungsraum (33) verbunden ist
4. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Strömungsraum (33) in einer von der den Tiegel (T) umfangenden Wandung (7) eines Gefäßes (3) und dessen Bodenteil (8) begrenzten Raum (31) fortgesetzt ist.
5. Vorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Bodenteil (8) des Gefäßes (3) mit einer Isolierschicht (9) versehen ist
6. Vorrichtung nach Anspruch 4 und 5, dadurch gekennzeichnet, daß der den Tiegel (T) tragende ringförmige Kragen (22) an im Bodenteil (8) des Gefäßes (1) vorgesehene Versteifungselemente (22r) angefügt ist.
7. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 3 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Kühlmittelzuleitung (15) (10) ein Drosselventil (i9) aufweist.
8. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 3 bis 7, gekennzeichnet durch einen in die Kühlmittelzuleitung (15) (10) eingefügten Durchflußzähler (19.).
9. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 3 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß das Drosselventil (19) mit einer im Kühlmittelstrom (z) angeordneten Fotozelle (16) verbunden ist.
10. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 3 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß an den Kopf (36) des Strömungsraumes (33, 31) ein Abgasrohr (45) angeschlossen ist.
11. Vorrichtung nach den Ansprüchen 3 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß das Abgasrohr (45) unter Zwischenschaltung eines Regenerators (51) für das Kühlmittel (z) mit der Kühlmittelzuleitung (10) (15) verbunden ist.
DE2636909A 1976-08-05 1976-08-17 Verfahren und Vorrichtung zum Ziehen eines Kristalls Expired DE2636909C3 (de)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB3270877A GB1587249A (en) 1976-08-05 1977-08-04 Growing of crystals
JP9405977A JPS5328085A (en) 1976-08-05 1977-08-05 Method and apparatus for growing crystals
NL7708694A NL7708694A (nl) 1976-08-05 1977-08-05 Werkwijze en inrichting voor het kweken van kristallen.

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH1004376A CH624151A5 (de) 1976-08-05 1976-08-05

Publications (3)

Publication Number Publication Date
DE2636909A1 DE2636909A1 (de) 1978-02-09
DE2636909B2 DE2636909B2 (de) 1979-09-13
DE2636909C3 true DE2636909C3 (de) 1980-06-04

Family

ID=4358690

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2636909A Expired DE2636909C3 (de) 1976-08-05 1976-08-17 Verfahren und Vorrichtung zum Ziehen eines Kristalls

Country Status (3)

Country Link
US (1) US4233270A (de)
CH (1) CH624151A5 (de)
DE (1) DE2636909C3 (de)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5988398A (ja) * 1982-11-08 1984-05-22 Shin Etsu Chem Co Ltd ガリウムガ−ネツト単結晶の製造方法
US5302559A (en) * 1989-02-17 1994-04-12 U.S. Philips Corporation Mixed crystals of doped rare earth gallium garnet
US4971652A (en) * 1989-12-18 1990-11-20 General Electric Company Method and apparatus for crystal growth control
US5162072A (en) * 1990-12-11 1992-11-10 General Electric Company Apparatus and method for control of melt flow pattern in a crystal growth process
US5394830A (en) * 1993-08-27 1995-03-07 General Electric Company Apparatus and method for growing long single crystals in a liquid encapsulated Czochralski process
JP3242292B2 (ja) * 1995-06-15 2001-12-25 シャープ株式会社 多結晶半導体の製造方法および製造装置
US5863326A (en) * 1996-07-03 1999-01-26 Cermet, Inc. Pressurized skull crucible for crystal growth using the Czochralski technique
US5900060A (en) * 1996-07-03 1999-05-04 Cermet, Inc. Pressurized skull crucible apparatus for crystal growth and related system and methods
DE10348466B4 (de) * 2003-10-14 2007-05-31 Schott Ag Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung von hoch schmelzenden Gläsern oder Glaskeramiken und Verwendung einer Vorrichtung

Also Published As

Publication number Publication date
DE2636909B2 (de) 1979-09-13
US4233270A (en) 1980-11-11
DE2636909A1 (de) 1978-02-09
CH624151A5 (de) 1981-07-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE60015228T2 (de) Verfahren zur Herstellung von kristallinem Silizium
EP0567008B1 (de) Verfahren zur Züchtung mehrerer Einkristalle und Vorrichtung zu dessen Anwendung
DE2636909C3 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Ziehen eines Kristalls
DE1769069A1 (de) Wirbelschichtkristalhsiervornchtung und verfahren
DE69934643T2 (de) Verfahren zur herstellung eines einkristalls mit halbleitender zusammensetzung
DE102018203131A1 (de) Einkristallherstellungsvorrichtung
DE69201693T2 (de) Vorrichtung zur Züchtung von Einkristallen.
DD203747A5 (de) Vorrichtung zur durchflussverarbeitung eines stroms von fluessigem aluminium oder magnesium oder deren legierungen
DE3137741A1 (de) Verfahren zum herstellen von einkristallen
DE69905992T2 (de) Stahl mit darin dispergierten ultrafeinen oxideinschlüssen
DE3835646C2 (de)
CH625984A5 (de)
AT524311B1 (de) Vorrichtung zum Züchten eines künstlich hergestellten Saphir-Kristalls
EP0317500A1 (de) Vorrichtung zum Giessen von geschmolzenem Metall
DE1941968B2 (de) Verfahren und vorrichtung zur herstellung von einkristallen
DE69711565T2 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Kristallzüchtung
DE69116363T2 (de) Herstellungsverfahren von gusseisen mit vermiculargraphit
DE102005037393B4 (de) Verfahren sowie Vorrichtung zur Züchtung von grossvolumigen Einkristallen unter Ausbildung einer konvexen Phasengrenzfläche während des Kristallisationsprozesses
DE2442517B2 (de) Verfahren zum Züchten eines Bi4 Ti3 O12 -Einkristalls
DE3304060A1 (de) Verfahren und vorrichtung zur herstellung von einkristallen aus der gasphase
DE2430813B2 (de) Antrieb für eine Vorrichtung zur Einkristallzüchtung
DE2137088A1 (de) Verfahren zum Herstellen von Kristallen
DE2526072C3 (de) Tiegel zum Kristallziehen aus der Schmelze
DE2165645C3 (de)
DE1533062C (de) Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von Natrium

Legal Events

Date Code Title Description
OAM Search report available
OAP Request for examination filed
OC Search report available
OD Request for examination
C3 Grant after two publication steps (3rd publication)
8339 Ceased/non-payment of the annual fee