DE2636909B2 - Verfahren und Vorrichtung zum Ziehen eines Kristalls - Google Patents

Verfahren und Vorrichtung zum Ziehen eines Kristalls

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Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Ziehen eines Kristalles aus einer Oxid-Schmelze in einem Iridium-Tiegel, der vom Boden her auf eine Temperatur oberhalb des Erstarrungspunktes gekühlt wird, sowie eine Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens mit einem Tiegel und einer an die Mitte des Tiegelbodens herangeführten Kühlmittelleitung.
Dem Journal of Crystal Growth (15/1972) ist eine Ziehvorrichtung mit einem Iridium-Tiegel und einer — Sauerstoff im Gegenstrom an das Tiegelbodenzentrum heran- und abführenden — koaxialen Kühlmittelführung zu entnehmen. Mit dieser Vorrichtung soll bei Einkristallen aus Barium-Natrium-Niob (Schmelzpunkt ϊ 1438°C) und Natrium-Lanthan-Tantalat (Schmelzpunkt bei ca. 19700C) die Dimensionierung des Kristalls kontrollierbar werden.
Auch 2ur Züchtung von hochschmelzeixlen Kristallen, beispielsweise vow Einkristallen aus Gadolinium-
U) Gallium- Granat finden im allgemeinen Tiegel aus dem Platinmetall Iridium mit einem Schmelzpunkt von 2454° C Verwendung. Als besonders nachteilig hat sich hier bei den herkömmlichen Iridiumtiegeln deren verhältnismäßig kurzlebige Einsatzfähigkeit erwiesen.
Γι Dieser Mangel wird vor allem durch — trotz des gegenüber oxydierenden Stoffen relativ resistenten Verhaltens auftretende — Korrosion während des sich in der Regel über mehrere Stunden bis zu einigen Tagen erstreckenden Zuchtvorganges hervorgerufen; die Tie-
■?o gelinnenseite wird von der Schmelze so stark angegriffen, daß sich die Oberfläche zunehmend aufrauht und — so vergrößert — verstärkt korrodiert
Das gelöste Iridium kann nun bei genügend hoher Lösungskonzentration an relativ kühlen Stellen, bei-
_'"> spielsweise an der Schmelzenoberfläche oder an der Wachstumsfront, in Form kleiner bis zu einigen 100 μπι großen Kristalliten ausfallen. Diese drei- bis sechseckigen Iridiumpartikel können in der. wachsenden Kristall eingeschlossen werden.
;<> Derartige Iridium-Einschlüsse gehören zu den Kristalldefekten, die sehr schwer beherrschbar sind. Sie treten entweder vereinzelt auf oder sind bänderförmig im Kristall verteilt Die Dichte der Einschlüsse schwankt von nahezu einschlußfreien Kristallen bis zu einigen
>> hundert Einschlüssen je Kubikzentimeter Kristallkörper. Da jeder Einschluß ein weit über seine Größe hinausragendes Spannungsfeld erzeugt, stellen die Einschlüsse relativ große Defekte dar. Darüber hinaus ist jeder Einschluß potentieller Entstehungsort von Versetzungen, welche die Kristallqualität zusätzlich beeinträchtigen.
Angesichts dieser Gegebenheiten hat sich der Erfinder das Ziel gesetzt, Verfahren und Vorrichtung der eingangs erwähnten Art zu verändern, sowie zur
r> Reinigung der Oxidschmelze von vagabundierendem Iridium heranzuziehen, d.h. das Entstehen von Einschlüssen in wachsenden Kristallen weitestgehend hintanzuhalten.
Zur Lösung dieser Aufgabe führt der Gedanke, auf
·'>" eine solche Temperatur zu kühlen, daß Iridium am Tiegelboden ausfällt und Kühlung beim Auslaufen des Ziehvorganges zu drosseln.
Bei dieser erfindungsgemäßen Problemlösung begegnet man einer Verunreinigung des Kristalles durch
>> Korrosion der Tiegelinnenfläche dadurch, daß man der Schmelze gelöstes Iridium entzieht, und die Lösungskonzentration während des gesamten Zuchtvorganges unter der kritischen Ausscheidungskonzentration hält An der gekühlten Stelle wird das Metall gesammelt und
w> kann somit nicht mehr in den Kristall eingebaut werden. In allen Fällen ist darauf zu achten, daß die Temperatur der Kühlstelle nicht unter die Erstarrungstemperatur der Schmelze absinkt, da ansonsten die Schmelze am Tiegelboden auskristallisiert Dies führt zu
'■ einem Verlust der Keimwirkung des Iridiums. Zudem kann der sich bildende Hügel aus festgewordenem Schmelzmaterial im Extremfalle mit dem wachsenden Kristall zusammenstoßen.
Da das erfindungsgemäße Verfahren um so wirksamer ist, je geringer der Abstand zwischen dem Temperaturniveau des Sammelpunktes und dem Schmelzpunkt der Schmelze liegt, wird die beschriebene Drosselung beim Auslaufen des Ziehvorgangs vorgenommen.
Im Rahmen der Erfindung liegt es auch, die Außenflächen des Tiegels zu kühlen, beispielsweise mit inertem Gas zu umspulen; die Korrosion der Tiegelwandung wird gedämpft und damit auch die Lebensdauer ι υ des Tiegels gesteigert
Die erfindungsgemäße Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens zeichnet sich dadurch aus, daß der Stauraum durch Ausnehmungen in einem ihn umgebenden ringförmigen — den Tiegel tragenden — ι Kragen mit einem um den Stauraum liegenden Strömungsraum verbunden ist, so daß das Kühlmittel aus dem Stauraum in den nachgeschalteten Strömungsraum übertreten kann. Dieser Strömungsraum wird vorteilhafterweise in einen von der den Tiegel umfangenden Wandung eines an sich bekannten Gefäßes und dessen Bodenteil begrenzenden Raum fortgesetzt Der Bodenteil ist mit einer Isolierschicht versehen, um die Wirkung des Kühlmittels zu erhöhen.
Das Gefäß umgibt also den die Schmelze aufnehmen- 2i den Tiegel in Abstand, so daß der Strömungsraum für das den Tiegel umspülende Kühlmittel ohne besonderen technischen Aufwand hergestellt werden kann. Gerade die Einfachheit der Anordnung zeigt im Hinbück auf die mit ihr erzielbaren Verbesserungen für die Kristallzüch- jo tung den der Erfindung innewohnenden erheblichen Fortschritt
Erfindungsgemäß kann die Kühlmittelzuleitung ein Drosselventil oder ein ähnliches Regelelement enthalten, welches den Kühlmittelfluß in Abhängigkeit von der a effektiven Schmelze-Temperatur steuert und — wie beschrieben — am Ende des Zuchtvorganges drosselt Auch hat es sich als günstig erwiesen, in der Kühlmittelzuleitung einen Durchflußzähler anzuordnen und die Regeleinrichtung gegebenenfalls mit einer in dem Kühlmittelstrom angeordneten Fotozelle zu verbinden.
Nach einem weiteren Merkmal der Erfindung strömt das verbrauchte Kühlmittel in ein oberhalb des Tiegels angebrachtes Abgasrohr und kann von diesem — falls gewünscht — über einen Regenerator für das Kühlmittel der Kühlmittelleitung erneut zugeführt werden.
Nachfolgend wird die Erfindung anhand des in der Zeichnung wiedergegebenen bevorzugten Ausfüh- ">o rungsbeispiels beschrieben; die Zeichnung zeigt in
F i g. 1 den teilweise geschnittenen Aufriß einer Kristallzuchtvorrichtung;
F i g. 2 ein vergrößertes Detail aus F i g. 1 in geschnittenem Aufriß;
Im Gehäuse 1 eines Ziehgerätes A zur Züchtung von Kristallen K — beispielsweise von Einkristallen nach dem sog. Czochralski-Verfahren — sitzt auf einem um die Geräteachse M aufragenden Traggestell 2 ein Gefäß 3, dessen Abstand b zur Bodenplatte 4 des Gehäuses 1 μ über ein Huborgan 5 in Richtung der Geräteachse M verändert werden kana
Das von einer Hochfrequenz-Induktionsspule 6 in Abstand czu seiner zylindrischen Wandung 7 umgebene Gefäß 3 weist einen hohlen Bodenteil 8 der Stärke e von *> > etwa einem Drittel seiner Gesamthöhe /"auf; der hohle Gefäßbodenteil 8 ist η«Λ einem Isoliermaterial 9 gefüllt und im Bereich der Gerateachse M von einem zu dieser koaxialen Rohr 10 durchsetzt, das oberhalb der — eine trichterähnliche Mulde 12 bildenden - Deckplatte 13 des Gefäßbodenteils 8 in den Innenraum Q des Gefäßes 3 mündet und bodenwärts in einem beispielsweise quaderförmigen Behälter 14 endet Aus diesem ragt eine rohrförmige Leitung 15 vom Gehäuse 1 ab und ist an eine nicht weiter dargestellte Stickstoffleitung angeschlossen.
Wie F i g. 2 verdeutlicht enthält der quaderförmige Behälter 14 eine Fotozelle 16, die über eine Leitung 17 mit einem Regler 18 verbunden ist; dieser steuert in Abhängigkeit von Signalen der Fotozelle 16 ein Ventil 19 in der Gaszuführleitung IS und bestimmt so das Maß des Gasdurchflusses, dessen Menge durch einen Durchflußzähler 19j registriert werden kann.
Im Gefäßraum Q ruht auf einem durch Ausnehmungen 21 perforierten — und sich auf einem Versteifungsring 22r des Gefäßbodenteils 8 abstützenden — ringförmigen Kragen 22 ein Tiegel Taus Iridium, dessen Innenraum P eine Schmelze -5" aufnimmt — im gewählten Beispiel eine Schmelze S aus Gadolinium-Gallium-Granat (GGG). Der im Verlaufe des Züchtungsvorgangs sinkende Schmelzenspiegel 5p kann dank des Huborgans 5 in konstantem Abstand h zur Bodenplatte 4 des Gehäuses 3 gehalten werden.
Die zylindrische Tiegelwand 30 bildet mit der diese umfangenden Wandung 7 des Gefäßes 3 einen Ringraum 31, welcher an einem Ende an den von der Deckplatte 13 des Gefäßbodenteils 8 und den Tiegelboden 32 begrenzten Raum 33 sowie andemends an einem zwischen dem Tiegeldeckel 34 und dem Gefäßdeckel 35 vorhandenen Kopfraum 36 anschließt
Als Tiegeldeckel 34 bzw. als Gefäßdeckel 35 dienen flache Ringelemente, welche mittige Ausnehmungen 37 bzw. 38 umgeben (F i g. 2).
Über den mittigen Ausnehmungen 37 bzw. 38 von Tiegeldeckel 34 bzw. Gefäßdeckel 35 ist ein vertikaler Ziehstab 40 mit an ihm — gemäß F i g 1 unter Verwendung einer Klemmeinrichtung 41 — koaxial festgelegtem Impfkristall 42 zu erkennen; an letzterem bildet sich während einer von einem Ziehorgan 43 gesteuerten Bewegung ein aus der Schmelze S bei etwa 1800° C wachsender Kristall K.
Aus der Gaszuführleitung 15 strömt gemäß den Pfeilen ζ (Fig.2) Stickstoff in den quaderförmigen Behälter 14 und von diesem durch das Steigrohr 10 in den Ringkragen 22. Innerhalb eines vom Ringkragen 22 umgebenen Stauraumes 33* wirkt der einströmende Stickstoff ζ als Kühlmittel auf den überspannenden Tiegelboden 32 und tritt — weiterhin kühlend — durch die Ausnehmungen 21 in den Tiegelbodenraum 33 über. Anschließend steigt der Stickstoff bzw. das Kühlmittel ζ im Ringraum 31 auf und verläßt das Gefäß 3 durch die Deckelausnehmung 38.
Auf dem Gef?J3deckel 35 sitzt zum Ableiten des Kühlmittels ζ ein Abgasrohr 45. Aus diesem kann das verbrauchte Kühlmittel ζ gemäß Fig. 1 über eine Leitung 50 sowie einen symbolisch angedeutetr.n Regenerator 51 zur Gaszuführleitung 15 zurückgebracht werden.
In F i g. 2 ist in einem Feld Ffür das gewähl'e Beispiel dargestellt, daß sich an der durch die Induktionsspule 6 erhitzten Zylinderwand 30 des Iridiumtiegels T das in der Schmelze 5 vorhandene GajO3 in Ga2O + O2 zersetzt Der anfaiWnde Sauerstoff oxidiert das Iridium; das IrO2 zerfällt seinerseits in Ir + O2.
Der gekühlte Tiegelboden 32 bildet insbesondere in dem vom Ringkragen 22 erzeugten Stauraum 33* eine
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Keimstelle zum Ansammeln des in der Schmelze 5 und durch das Ventil 19 gesteuert
aus der Zylinderwand 30 gelösten Iridiums Ir. Letzteres Hierdurch erreicht man die automatische Regelung
wird am Tiegelboden 32 festgelegt und so dem der Kühlmittel- bzw. Gaszufuhr für eine konstante
entstehenden Kristall K ferngehalten. Bodentemperatur. Außerdem ist es möglich, den
Um zu verhindern, daß die Temperatur des gekühlten > Gasdurchfluß gegen Ende des Zuchtvorganges zu Tiegelbodens 32 unter die Erstarrungstemperatur der drosseln, um dem bekannten Absinken der effektiven Schmelze 5 absinkt — und so festes GGG am Temperatur im Zentrum des Tiegelbodens 32 während Tiegelboden 32 auskristallisiert - wird die Kühlmittel- des Zuchtvorganges zum Erhalt der konstanten
zufuhr mit Hilfe der Fotozelle 16 und des Reglers 18 Bodentemperatur entgegenzuwirken.
Hierzu 2 Blatt Zeichnungen

Claims (11)

Patentansprüche:
1. Verfahren zum Ziehen eines Kristalls aus einer Oxid-Schmelze in einem Iridium-Tiegel, der vom Boden her auf eine Temperatur oberhalb des Erstarrungspunktes gekühlt wird, dadurch gekennzeichnet, daß auf eine solche Temperatur gekühlt wird, daß Iridium am Tiegelboden ausfällt, und daß die Kühlung beim Auslaufen des Ziehvorganges gedrosselt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Außenfläche (32) des Tiegels gekühlt wird.
3. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1 oder 2 mit einem Tiegel und einer an die Mitte des Tiegelbodens herangeführten Kühlmittelleitung, an die ein Hohlraum als Stauraum für das einströmende Kühlmittel angeschlossen ist, dadurch gekennzeichnet, daß der Stauraum (;i3;) durch Ausnehmungen (21) in einem ihn umgebenden ringförmigen Kragen (22) mit einem um den Stauraum liegenden Strömungsraum (33) verbunden ist
4. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Strömungsraum (33) in einer von der den Tiegel (T) umfangenden Wandung (7) eines Gefäßes (3) und dessen Bodenteil (8) begrenzten Raum (31) fortgesetzt ist
5. Vorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Bodenteil (8) des Gefäßes (3) mit einer Isolierschicht (9) versehen ist
6. Vorrichtung nach Anspruch 4 und 5, dadurch gekennzeichnet, daß der den Tiegel (T) tragende ringförmige Kragen (22) an im ßodenteil (8) des Gefäßes (1) vorgesehene Verste.rungselemente (22r) angefügt ist
7. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 3 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Kühlmittelzuleitung (15) (10) ein Drosselventil (19) aufweist
8. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 3 bis 7, gekennzeichnet duich einen in die Kühlmittelzuleitung (15) (10) eingefügten Durchflußzähler (19.).
9. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 3 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß das Drosselventil (19) mit einer im Kühlmittelstrom (z) angeordneten Fotozelle (16) verbunden ist
10. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 3 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß an den Kopf (36) des Strömungsraumes (33, 31) ein Abgasrohr (45) angeschlossen ist
11. Vorrichtung nach den Ansprüchen 3 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß das Abgasrohr (45) unter Zwischenschaltung eines Regenerators (51) für das Kühlmittel (z) mit der Kühlmittelzuleitung (10) (15) verbunden ist
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