DE2630542A1 - Verfahren zur herstellung von trichlorsilan und siliciumtetrachlorid - Google Patents
Verfahren zur herstellung von trichlorsilan und siliciumtetrachloridInfo
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Description
Troisdorf, den 1. Juli 1976 OZ: 76059 (2605) Br.Sk/Sch
I i
DYiJAMIT KOBEL AKTIENGESELLSCHAFT Troisdorf, Bez. Köln
Verfahren zur Herstellung von Trichlorsilan und Siliciumtetrachlorid
Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung von Trichlorsilan und Siliciumtetrachlorid, bei dem
Silicium oder siliciuinhaltige Materialien mit Chlorwasserstoff im Wirbelbett bei Temperaturen zwischen 250 und 500 0C umgesetzt
werden.
Die Reaktion zwischen Silicium und Chlorierungsmitteln wie
I Chlor oder Chlorwasserstoff ist bekannterweise stark exotherm.
Je höher die Reaktionstemperatur liegt, um so größer ist der ;
Anteil an Siliciumtetrachlorid. :
Die Exothermie des Prozesses, die Höhe des angestrebten Stoff- -Umsatzes
und das Verhältnis der gewünschten Endprodukte bebestimmen dabei weitgehend die angewandten Verfahren. Das Ar- j
beiten an festangeordnetem, stückigem Silicium oder silicium- t
haltigen Stoffen in Schachtöfen erschwert das Ableiten der }
Reaktionswärme; dies führt zu örtlichen Überhitzungen im Kontakt-r
bett bis zur Schmelze des eingesetzten Feststoffes. Dadurch wird die Raumzeitausbeute verringert und eine gezielte Beeinflussung
709882/0383 ί
-Υ
des stark temperaturabhängigen Verhältnisses der bei der Reaktion
i gebildeten Trichlorsilan- und Siliciumtetrachloridinengen außer- .
ordentlich erschwert. |
Diese Nachteile der ungleichmäßigen Temperaturverteilung im i Schachtofen werden durch das Arbeiten im Wirbelbett herabgesetzt.
] Beim Arbeiten im Wirbelbett ist bei Verwendung von Chlor als !
Chlorierungsmittel die Reaktion immer noch so heftig, daß !
lokale überhitzungen erfolgen. Es wurde deshalb in der DT-AS
12 19 454 bereits vorgeschlagen, die Chlorierung von Silicium \
bei Temperaturen oberhalb 400 0C in Gegenwart eines Verdünnungs- ;
mittels durchzuführen, um die Heftigkeit der Reaktion herab- j
zusetzen. Diese Maßnahmen sind aber hauptsächlich nur dann notwendig, wenn Chlor als Chlorierungsmittel eingesetzt wird
und die Chlorierung bei Temperaturen oberhalb 400 0C durchgeführt
werden soll, d.h., wenn also SiCl^ als Hauptprodukt gewünscht wird.
Beim Arbeiten im Wirbelbett hängt das Verhältnis der erhaltenen Chlorsilane Jedoch nicht nur direkt von der eingestellten
Reaktortemperatur ab, sondern weiterhin auch von einer homogenen Fließbettqualität. Diese läßt sich nur in engen Grenzen aufrechterhalten,
da sowohl das eingesetzte Fluidisationsmittel, der Chlorwasserstoff, als auch die fluidieierten Feststoff partikel
Reaktionspartner sind. Diese Grenzen sind gegeben durch
1. die Wirbelpunktsgeschwindigkeit,
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2. die Größe und Form der Feststoffpartikel,
3. dem Gasdurchsatz und
4. der Austragsmenge des Feststoffs aus dem Reaktor.
Wenn z.B. der Gasdurchsatz vermindert wird, erfolgt eine Ver
dichtung und damit ebenfalls eine starke überhitzung des Bettes j
mit der sich daraus ergebenden, in mancfiten Fällen unerwünschten,
Erhöhung der Ausbeute an SiCl^. Weiterhin führen höhere Strömungsgeschwindigkeiten
zu einem geringeren HCl-Umsatz und fördern den Austrag des Feststoffes. Dies bewirkt einen Rückgang!
der Ausbeute hinsichtlich der siliciumhaltigen Ausgangsstoffe und der Salzsäure und erhöht den Aufwand bei der Aufarbeitung
des Reaktionsproduktes.
Es bestand nun die Aufgabe, bei der Umsetzung von Silicium mit Chlorwasserstoff in der Wirbelschicht MaBnahmen zu ergreifen,
die eine Variation der Reaktorleistung und die Einstellung eines bestimmten Verhältnisses von SiCl^ : SiHCl- durch Steuerung
der Reaktionstemperatür ermöglichen.
In Erfüllung dieser Aufgabe wurde nun ein Verfahren zur Herstellung
von Siliciumtetrachlorid und Trlchlorsilan durch Umsetzung von Silicium oder.siliciumhaltig«! Feststoffen mit
Chlorwasserstoff bei erhöhter Temperatur in einer Wirbelschicht gefunden, das dadurch gekennzeichnet ist, daß man die Reaktion
in Anwesenheit von 0,2 bis 10 VolumenteiXen gasförmigen
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pro Volumenteil HCl und bei einer spezifischen Reaktorquerschnittsbelastung
von 250 bis 2500 kg/m2.h durchführt, wobei die Reaktionstemperatur zwischen 250 und 500 0C eingestellt wird.
Mit Hilfe dieser Verfahrensweise ist es möglich, die oben genannten
Schwierigkeiten weitgehend zu reduzieren, und die Reaktion so zu führen, daß man auch bei unterschiedlichen Reaktorleistungen
ein homogenes Wirbelbett, eine Konstanthaltung der eingestellten Temperatur und damit ein gewünschtes Verhältnis
von SiCl^/SiHCl-, erreicht. Die Produktionsleistung des Wirbelschichtreaktors
kann dabei je nach Menge des zusätzlich eingeleiteten
Siliciumtetrachlorid-Dampfes innerhalb weiter Grenzen variiert werden. Die Maximalleistung des Wirbelbettes hängt
selbstverständlich von der Reaktorgröße ab.
Die Menge des Siliciumtetrachlorid-Dampfes wird je nach gewünschter
Produktionsleistung und dem gewünschten Verhältnis
so gewählt, daß sich nach Mischung mit dem einge-
setzten Chlorwasserstoff eine spezifische Reaktorquerschnitts- j belastung im Bereich von 250 kg/m2.h bis 2500 kg/m2.h einstellt.
Der bevorzugte Bereich liegt zwischen 1200 und 1600 kg/m2.h.
Dabei soll das Verhältnis von zudosierter Menge an SiCl^ ι HCl
zwischen 0,2 : 1 bis 10 : 1 liegen.
Wenn eine geringere Produktionsleistung gewünscht wird, mischt man einen hohen Anteil an Siliciumtetrachlorid-Dampf mit dem
Chlorwasserstoff und betreibt den Reaktor mit niedrigen spezifischen Querschnittsbelastungen. Wird dagegen eine hohe Pro-
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duktionsleistung des Reaktors gewünscht, dann wird eine geringe
Menge Siliciumtetrachlorid-Dampf zugemischt und eine hohe
spezifische Querschnittsbelastung eingestellt.
Im allgemeinen wird die Reaktion in einer Reaktionssäule mit gleichbleibendem Durchmesser durchgeführt. Es ist jedoch auch
möglich, die Geometrie des Reaktors so auszubilden, daß sich die spezifischen Querschnittsbelastungen in zwei ineinander
übergehende Zonen mit verschiedenen Durchmessern ausbilden. Dabei ist der untere Teil des Reaktors mit hohen spezifischen
Querschnittsbelastungen und der obere, erweiterte Teil mit niedrigen zu fahren. Es ist somit nicht notwendig, daß die spezifische
Querschnittsbelastung gleichmäßig über den gesamten Reaktor hinweg gleich ist; sie muß nur innerhalb der angegebenen
Grenzen liegen.
Die Feststoffe des Wirbelbettes umfassen metallisches Silicium sowie Legierungen oder intermetallische Verbindungen des SiIiciums
mit Eisen, Kohlenstoff, Phosphor oder Stickstoff, deren Siliciumanteil über 50 % liegt. Als Beispiele seien Ferrosilicium,
Siliciumcarbid oder Siliciumnitrid genannt. Die Korngröße des Siliciums oder der siliciumhaltigen Feststoffe soll bevorzugt
zwischen 20 und 200 yum liegen. Es ist jedoch durchaus
möglich, Feststoffe mit einem Korngrößendurchmesser bis zu 500/am einzusetzen.
Das Molverhältnis zwischen Silicium und Chlorwasserstoff soll so gewählt werden, daß der Chlorwasserstoff mindestens in der
Menge zudosiert wird, die stöchiometrisch zur Bildung des ge-
709882/0383 '■
wünschten Verhältnisses von SiCl^/SiHCl^ notwendig ist.
Die Reaktionstemperatur liegt je nach gewünschter Produkt- I
zusammensetzung zwischen 250 und 500 °C>bevorzugt unter 400 0C,
ι wenn der Anteil an Trichlorsilan überwiegen soll.
Anhand beigefügter Skizze wird die erfindungsgemäße Verfahrensweise
kurz erläutert:
Durch die Leitung 1 wird auf etwa 300 0C überhitzter SiCl^-
Dampf in den Anströmteil am unteren Ende des Reaktors eingeleitet, in dem sich Silicium oder Ferrosilicium mit einem
mittleren Korndurchmesser von 150 bis 200/um befinden. Nach
Einstellen einer spezifischen Querschnittsbelastung von
1500 kg/m^.h und einer Systemtemperatur von ebenfalls 300 0C j
wird durch Leitung 2 oberhalb der SiCl^-Elnleitung Chlorwasser- ■
stoff, entsprechend.der gewünschten Produktionshöhe und gleich- !
falls auf 300 C erhitzt, eingespeist und dabei in entsprechendem Maße die SiCl^-Menge gedrosselt, so daß die spezifische
Reaktorquerschnittsbelastung konstant bleibt. Durch Leitung 3 wird nun kontinuierlich Silicium oder Ferrosilicium der oben
genannten Korngröße in die Reaktionszone 4 dosiert, in der sich der Umsatz von Chlorwasserstoff und Silicium vollzieht.
Die dabei entstehende Reaktionswärme wird durch ein im Reaktor installiertes Kühlsystem 7 abgeführt und damit die Temperatur
entsprechend dem gewünschten Trichloranteil im Reaktionsprodukt j
auf einen bestimmten Wert gehalten. Das Reaktionsprodukt verläßt durch Leitung 5 gasförmig den Apparat. Der Austrag des
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Feststoffrückstandes geschieht kontinuierlich oder absatzweise
durch Leitung 6 am unteren Teil des Reaktors.
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Claims (2)
- PatentansprücheMl Verfahren zur Herstellung von Siliciumtetrachlorid und Trichlorsilan durch Umsetzung von Silicium oder siliciumhaltigen Feststoffen mit Chlorwasserstoff bei erhöhter Temperatur in einer Wirbelschicht, dadurch gekennzeichnet , daß man die Umsetzung in Anwesenheit von 0,2 bis 10 Volumenteilen gasförmigen Siliciumtetrachlorids pro Volumenteil Chlorwasserstoff und bei einer spezifischen Reaktorquerschnittsbelastung von 250 bis 2500 kg/m .h durchführt, wobei die Temperatur entsprechend der gewünschten Reaktionsproduktzusammensetzung zwischen 250 und 500 0C gehalten wird, und anschließend die gasförmigen Reaktionsprodukte in an sich bekannter Weise aus dem Reaktor abführt und trennt.
- 2. Verfahren gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß nach < dem Abdestillieren und Trennen des Reaktionsgemisches ein jTeil des erhaltenen SiCl, dampfförmig dem Reaktor wieder i*t Izugeführt wird, wobei die erforderliche Destillationswärme \ durch die Reaktionswärme gedeckt wird.709882/0363
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NL7707499A NL7707499A (nl) | 1976-07-07 | 1977-07-06 | Werkwijze voor het bereiden van trichloorsilaan en siliciumtetrachloride. |
ES460451A ES460451A1 (es) | 1976-07-07 | 1977-07-06 | Procedimiento para la preparacion de tetracloruro de silicio y de triclorosilano. |
IT5015877A IT1112065B (it) | 1976-07-07 | 1977-07-06 | Procedimento per la produzione di triclorosinalo e tetracloruro di silicio |
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0355593A2 (de) * | 1988-08-20 | 1990-02-28 | Hüls Aktiengesellschaft | Verfahren zur Steigerung des Anteils an Siliciumtetrachlorid |
US5051248A (en) * | 1990-08-15 | 1991-09-24 | Dow Corning Corporation | Silane products from reaction of silicon monoxide with hydrogen halides |
EP0482312A1 (de) * | 1990-10-23 | 1992-04-29 | Hüls Aktiengesellschaft | Verfahren zur Gewinnung von chloridarmer Ofenasche bei der Umsetzung von Rohsilicium zu Chlorsilanen |
CN103443027A (zh) * | 2011-03-25 | 2013-12-11 | 赢创德固赛有限公司 | 具有凸缘或喇叭形端部的碳化硅管的应用 |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2704975C2 (de) * | 1977-02-07 | 1982-12-23 | Wacker-Chemie GmbH, 8000 München | Wärmeaustauschvorrichtung für Wirbelbettreaktoren zur Durchführung von Gas/Feststoff-Reaktionen, insbesondere zur Herstellung von Siliciumhalogenverbindungen mittels Silicium-enthaltender Kontaktmassen |
JPS5832011A (ja) * | 1981-08-17 | 1983-02-24 | Nippon Aerojiru Kk | 珪素と塩化水素からトリクロルシランと四塩化珪素を製造する方法 |
DE3303903A1 (de) * | 1982-02-16 | 1983-08-25 | General Electric Co., Schenectady, N.Y. | Verfahren zum herstellen von trichlorsilan aus silizium |
US5176892A (en) * | 1990-12-06 | 1993-01-05 | Dow Corning Corporation | Supported metal catalyzed production of tetrachlorosilane |
US5160720A (en) * | 1990-12-12 | 1992-11-03 | Dow Corning Corporation | Metal catalyzed production of tetrachlorosilane |
DE102006009954A1 (de) * | 2006-03-03 | 2007-09-06 | Wacker Chemie Ag | Wiederverwertung von hochsiedenden Verbindungen innerhalb eines Chlorsilanverbundes |
US8178051B2 (en) * | 2008-11-05 | 2012-05-15 | Stephen Michael Lord | Apparatus and process for hydrogenation of a silicon tetrahalide and silicon to the trihalosilane |
DE102012216356A1 (de) * | 2012-09-14 | 2014-03-20 | Evonik Industries Ag | Verfahren zur Herstellung von Chlorsilanen mittels hochsiedender Chlorsilane oder chlorsilanhaltiger Gemische |
KR102507061B1 (ko) | 2014-12-19 | 2023-03-07 | 다우 실리콘즈 코포레이션 | 모노하이드로겐트라이할로실란의 제조 공정 |
CN110002449A (zh) * | 2019-04-12 | 2019-07-12 | 四川永祥多晶硅有限公司 | 一种氯硅烷精制系统及精制方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1219454B (de) * | 1961-01-05 | 1966-06-23 | British Titan Products | Verfahren zur Herstellung von Siliciumtetrahalogenid |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SU120510A1 (ru) * | 1958-05-06 | 1958-11-30 | К.А. Андрианов | Способ одновременного получени трихлорсилана и четыреххлористого кремни |
US3704104A (en) * | 1970-06-01 | 1972-11-28 | Texas Instruments Inc | Process for the production of trichlorosilane |
-
1976
- 1976-07-07 DE DE19762630542 patent/DE2630542C3/de not_active Expired
-
1977
- 1977-07-04 GB GB2798277A patent/GB1530986A/en not_active Expired
- 1977-07-05 BE BE179082A patent/BE856480A/xx unknown
- 1977-07-06 CA CA282,169A patent/CA1085585A/en not_active Expired
- 1977-07-06 ES ES460451A patent/ES460451A1/es not_active Expired
- 1977-07-06 IT IT5015877A patent/IT1112065B/it active
- 1977-07-06 JP JP8088977A patent/JPS536297A/ja active Pending
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- 1977-07-06 NL NL7707499A patent/NL7707499A/xx not_active Application Discontinuation
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1219454B (de) * | 1961-01-05 | 1966-06-23 | British Titan Products | Verfahren zur Herstellung von Siliciumtetrahalogenid |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0355593A2 (de) * | 1988-08-20 | 1990-02-28 | Hüls Aktiengesellschaft | Verfahren zur Steigerung des Anteils an Siliciumtetrachlorid |
EP0355593A3 (de) * | 1988-08-20 | 1991-04-10 | Hüls Aktiengesellschaft | Verfahren zur Steigerung des Anteils an Siliciumtetrachlorid |
US5051248A (en) * | 1990-08-15 | 1991-09-24 | Dow Corning Corporation | Silane products from reaction of silicon monoxide with hydrogen halides |
EP0482312A1 (de) * | 1990-10-23 | 1992-04-29 | Hüls Aktiengesellschaft | Verfahren zur Gewinnung von chloridarmer Ofenasche bei der Umsetzung von Rohsilicium zu Chlorsilanen |
CN103443027A (zh) * | 2011-03-25 | 2013-12-11 | 赢创德固赛有限公司 | 具有凸缘或喇叭形端部的碳化硅管的应用 |
CN103443027B (zh) * | 2011-03-25 | 2016-07-06 | 赢创德固赛有限公司 | 具有凸缘或喇叭形端部的碳化硅管的应用 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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BE856480A (fr) | 1977-10-31 |
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CA1085585A (en) | 1980-09-16 |
FR2357481A1 (fr) | 1978-02-03 |
JPS536297A (en) | 1978-01-20 |
DE2630542B2 (de) | 1980-05-08 |
IT1112065B (it) | 1986-01-13 |
ES460451A1 (es) | 1978-06-01 |
NL7707499A (nl) | 1978-01-10 |
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