DE2557667B2 - Verfahren zur Aufbringung von nebeneinanderliegenden, dicht aneinander anschließenden unterschiedlichen Belägen auf einer lichtdurchlässigen Unterlage - Google Patents
Verfahren zur Aufbringung von nebeneinanderliegenden, dicht aneinander anschließenden unterschiedlichen Belägen auf einer lichtdurchlässigen UnterlageInfo
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 18
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 18
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 18
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 12
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 23
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 16
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 14
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 230000001464 adherent effect Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2022—Multi-step exposure, e.g. hybrid; backside exposure; blanket exposure, e.g. for image reversal; edge exposure, e.g. for edge bead removal; corrective exposure
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0035—Multiple processes, e.g. applying a further resist layer on an already in a previously step, processed pattern or textured surface
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH17775A CH586118A5 (enrdf_load_stackoverflow) | 1975-01-07 | 1975-01-07 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2557667A1 DE2557667A1 (de) | 1976-07-08 |
DE2557667B2 true DE2557667B2 (de) | 1978-08-24 |
Family
ID=4181012
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2557667A Withdrawn DE2557667B2 (de) | 1975-01-07 | 1975-12-20 | Verfahren zur Aufbringung von nebeneinanderliegenden, dicht aneinander anschließenden unterschiedlichen Belägen auf einer lichtdurchlässigen Unterlage |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
CH (1) | CH586118A5 (enrdf_load_stackoverflow) |
DE (1) | DE2557667B2 (enrdf_load_stackoverflow) |
FR (1) | FR2297093A1 (enrdf_load_stackoverflow) |
GB (1) | GB1485097A (enrdf_load_stackoverflow) |
NL (1) | NL7504118A (enrdf_load_stackoverflow) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3712335A1 (de) * | 1987-04-11 | 1988-10-20 | Vdo Schindling | Verfahren zur herstellung einer struktur |
GB9203595D0 (en) * | 1992-02-20 | 1992-04-08 | Philips Electronics Uk Ltd | Methods of fabricating thin film structures and display devices produced thereby |
JP2500050B2 (ja) * | 1992-11-13 | 1996-05-29 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション | リム型の位相シフト・マスクの形成方法 |
DE102004034417B4 (de) | 2004-07-15 | 2007-09-27 | Schott Ag | Verfahren zur Herstellung eines beschichteten Substrats mit gewölbter Oberfläche |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CH284109A (de) * | 1952-02-06 | 1952-07-15 | Ernst Jun Dr Ruest | Verfahren zur Herstellung von mit Teilungen, Gittern, Strichzeichnungen, Flächenmarken usw. versehenen Gegenständen. |
DE1060717B (de) * | 1956-04-13 | 1959-07-02 | Franz Wagner | Verfahren zur Herstellung von Rastern, Zeichnungen u. a. auf Filmen, Glaesern und anderen Traegern |
-
1975
- 1975-01-07 CH CH17775A patent/CH586118A5/xx not_active IP Right Cessation
- 1975-04-07 NL NL7504118A patent/NL7504118A/xx not_active Application Discontinuation
- 1975-12-20 DE DE2557667A patent/DE2557667B2/de not_active Withdrawn
- 1975-12-23 GB GB52523/75A patent/GB1485097A/en not_active Expired
-
1976
- 1976-01-05 FR FR7600096A patent/FR2297093A1/fr not_active Withdrawn
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB1485097A (en) | 1977-09-08 |
FR2297093A1 (fr) | 1976-08-06 |
NL7504118A (nl) | 1976-07-09 |
DE2557667A1 (de) | 1976-07-08 |
CH586118A5 (enrdf_load_stackoverflow) | 1977-03-31 |
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