NL7504118A - Werkwijze voor het aanbrengen van naast elkaar liggende, dicht aan elkaar aansluitende, ver- schillende lagen op een transparante onderlaag. - Google Patents

Werkwijze voor het aanbrengen van naast elkaar liggende, dicht aan elkaar aansluitende, ver- schillende lagen op een transparante onderlaag.

Info

Publication number
NL7504118A
NL7504118A NL7504118A NL7504118A NL7504118A NL 7504118 A NL7504118 A NL 7504118A NL 7504118 A NL7504118 A NL 7504118A NL 7504118 A NL7504118 A NL 7504118A NL 7504118 A NL7504118 A NL 7504118A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
coating
photo
applying
procedure
different layers
Prior art date
Application number
NL7504118A
Other languages
English (en)
Dutch (nl)
Original Assignee
Balzers Patent Beteilig Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Balzers Patent Beteilig Ag filed Critical Balzers Patent Beteilig Ag
Publication of NL7504118A publication Critical patent/NL7504118A/xx

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2022—Multi-step exposure, e.g. hybrid; backside exposure; blanket exposure, e.g. for image reversal; edge exposure, e.g. for edge bead removal; corrective exposure
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0035—Multiple processes, e.g. applying a further resist layer on an already in a previously step, processed pattern or textured surface

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
NL7504118A 1975-01-07 1975-04-07 Werkwijze voor het aanbrengen van naast elkaar liggende, dicht aan elkaar aansluitende, ver- schillende lagen op een transparante onderlaag. NL7504118A (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH17775A CH586118A5 (enrdf_load_stackoverflow) 1975-01-07 1975-01-07

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL7504118A true NL7504118A (nl) 1976-07-09

Family

ID=4181012

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL7504118A NL7504118A (nl) 1975-01-07 1975-04-07 Werkwijze voor het aanbrengen van naast elkaar liggende, dicht aan elkaar aansluitende, ver- schillende lagen op een transparante onderlaag.

Country Status (5)

Country Link
CH (1) CH586118A5 (enrdf_load_stackoverflow)
DE (1) DE2557667B2 (enrdf_load_stackoverflow)
FR (1) FR2297093A1 (enrdf_load_stackoverflow)
GB (1) GB1485097A (enrdf_load_stackoverflow)
NL (1) NL7504118A (enrdf_load_stackoverflow)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3712335A1 (de) * 1987-04-11 1988-10-20 Vdo Schindling Verfahren zur herstellung einer struktur
GB9203595D0 (en) * 1992-02-20 1992-04-08 Philips Electronics Uk Ltd Methods of fabricating thin film structures and display devices produced thereby
JP2500050B2 (ja) * 1992-11-13 1996-05-29 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション リム型の位相シフト・マスクの形成方法
DE102004034417B4 (de) 2004-07-15 2007-09-27 Schott Ag Verfahren zur Herstellung eines beschichteten Substrats mit gewölbter Oberfläche

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH284109A (de) * 1952-02-06 1952-07-15 Ernst Jun Dr Ruest Verfahren zur Herstellung von mit Teilungen, Gittern, Strichzeichnungen, Flächenmarken usw. versehenen Gegenständen.
DE1060717B (de) * 1956-04-13 1959-07-02 Franz Wagner Verfahren zur Herstellung von Rastern, Zeichnungen u. a. auf Filmen, Glaesern und anderen Traegern

Also Published As

Publication number Publication date
GB1485097A (en) 1977-09-08
FR2297093A1 (fr) 1976-08-06
DE2557667A1 (de) 1976-07-08
CH586118A5 (enrdf_load_stackoverflow) 1977-03-31
DE2557667B2 (de) 1978-08-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL7701376A (nl) Werkwijze en inrichting voor de vorming en af- zetting op een substraat van monomoleculaire lagen van amfifiele moleculen; evenals substra- ten behandeld onder toepassing van de werkwijze.
NL185510C (nl) Werkwijze en apparaat voor het vormen van een metaal- of metaalverbindingsdeklaag op een vlak van een glassubstraat.
NL185511B (nl) Werkwijze voor het vormen van een deklaag van metaal of een metaalverbinding op een oppervlak van een glazen substraat en apparaat ten gebruike daarbij.
GB1514109A (en) Method of making resist mask on a substrate
AR216975A1 (es) Procedimiento y aparato para el recubrimiento continuo de un sustrato transparente
NL7511714A (nl) Werkwijze voor het op een oppervlak met verhoogde gebieden opbrengen van een fotoresist vormende laag.
NL181689C (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van een patroonlaag voor een negatieve resist op een substraat.
NL189909B (nl) Werkwijze voor het bekleden van een glassubstraat met een tinoxidelaag.
NL7504118A (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van naast elkaar liggende, dicht aan elkaar aansluitende, ver- schillende lagen op een transparante onderlaag.
US2900255A (en) Fired photographically decorated ob-
NL7710607A (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van een laag met een structuur op een substraat.
NL7804394A (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van een oppervlakdeklaag op een substraat.
JPS51114120A (en) Photographic material
NL175328C (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van een gekleurde pigmentlaag op het oppervlak van een met asfalt geimpregneerd velvormig substraat.
SE7909393L (sv) Sett att ytgravera arbetsstycken genom etsning
JPS5276343A (en) Method of manufacturing goods with abrasion resistant film
JPS5680133A (en) Formation of pattern
JPS53147531A (en) Forming method for thin film pattern
JPS5688319A (en) Method for forming film pattern
JPS5646230A (en) Exposing method
JPS5691434A (en) Method for forming pattern of deposited film by lift-off method
ES477700A1 (es) Procedimiento foto-quimico-galvanico de grabado en bajo-re- lieve sobre metales.
JPS5896894A (ja) 加飾方法
JPS5443019A (en) Manufacture of diazo copying material
JPS52127173A (en) Pattern formation method

Legal Events

Date Code Title Description
BV The patent application has lapsed