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Vorrichtung zum Bedampfen von Substraten mit hohen Bedampfungsraten
,)ie Erfindung betrifft eine Vorrichtung zun Bedampfen von vorzugsweise bandförmigen
Substraten in Elektronenstrahlbedampfungsanlagen mit hoben Bedampfungsraten.
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Beim Bedampfen von Gegenständen im Vakuum aus beispielsweise mit Elektronenstrahl
punktförmig beheizten Tiegeln ergibt sich eine Abhängigkeit der Bedampfungsrate,
d.h. der pro Zeit-und Flächeneinheit kondensierten Masse des Verdampfungsgutes auf
dem Substrat, vom Bedampfungswinkel r, vrobei der Bedampfungswinkel # der Winkel
zwischen den Geraden Dampfquelle - Aufpunkt und Tiegelbadnormale ist. Wird für die
punktförmige Dampfquelle ein Lambertstrahler angenommen, 30 ergibt sicb die Bedampfungsrate
a im Aufpunkt unter dem Bedampfungswinkel # nacb der Beziehung (1) a = aO cos3 wobei
aO die Bedampfungsrate für # = O ict.
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Bei der Bebeizung durch einen Elektronenstrahl ergeben sich Abweichungen
vom Lambertstrabler auf Grund der Einwölbung des Badspiegels im Verdampfungsgut,
so daß im allgemeinen gilt: (2) a = aO cos@ f mit 3 < n s 6
Durch
eine mögliche Anordnung von mehreren punktförmigen Dampfquellen oder durch einen
Flächenverdampfer mit entsprechender Intensitätsverteilung bzw. durch die dynamische
Auslenkung des Elektronenstrahls mit bestimmter Aufenthaltszeit an den einzelnen
Orten des Verdampfungsgutes läßt sich dadurch nocb ei relativ großen Bedampfungsabständen
eine gleich raäßige Schichtdicke auf dem ebenen substrat bei relativ geringer Streuverdampfung
in der Bedampfungskammer erreichen, da der Abfall der Bedampfungsrate außerhalb
des Substrates mit einer hohen Potenz des Kosinus des Bedampfungswinkels erfolgt.
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Relativ große Bedampfungsabstände sind erforderlich, um zwischen Subtrat
und Verdampfertiegel den Elektronenstrahl auf das Verdampfungsgut einzuschießen
und eine zur Unterbrechung der Bedampfung erforderliche Abschirmblende einzuschieben.
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Beispielsweise ist zum steilen Einschuß eines Elektronenstrahls von
250 kW Nennleistung und zum Einschwenken einer quer zur Bandlaufrichtung bewegbaren
Abschirmblende ein mittlerer abstand zwischen Substrat und Verdampfertiegel von
400 - 450 mm erforderlich. Um eine hohe Produktivität von Bedampfungsanlagen zu
erreichen, sind große Bandgeschwindigkeiten mit mehreren extern pro Sekunde notwendig.
Da die Länge der Bedampfungszone technisch begrenzt ist, erfordern diese bohen Bandgescbwindigkeiten
uch bohe Bedampfungsraten, d.h. das Band muß in der Bedampfungszone durch eine relativ
dichte Dampfwolke geführt werden. Beispielsweise muß der Aluminiumdampfdruck in
der Bedampfungszone bei der Bedampfung von Bildern mit Aluminiumschichten von mehreren
jim Schichtdicke, mit Bandgeschwindigkeiten von mehreren Metern pro Sekunde und
einer Länge der Bedampfungszone von mehreren 100 mm im Bereich von 10 bis n Torr
liegen. Bei diesen Drücken des Dampfes zwischen Verdampfertiegel und Substrat findet
eine intensive Wechselwirkung, d.h. eine Vielfach streuung zwischen den Dampfteilchen
statt, und die Ausbreitung des Dampfstrahles gehorcht somit nicht mehr den angefiIhrten
Gesetzen. Der Abfall der Bedampfungsrate außerhalb des Substrates erfolgt mit einer
bedeutend niedrigen Potenz des Rosinus vom Bedampfungswinkel,
da
der. gesamte Halbraum über dem Verdamofertiegel für die nach allen Seiten expantierende
Dampfwolke als Dampfsenke gilt.
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Als Folge des geschilderten Affekets steigt die Streuverdampfung in
der Bedampfungskammer gegenüber den theoretisch bei kleinen bedampfungsraten zu
erwartenden Verlusten bei gleichzeitiger Verschlechterung der Schichtdickengleichmäßigkeit
auf dem Substrat erheblich an. Beispielsweise beträgt der Anteil des in der Bedampfungskammer
ges-treut verdamoften Aluminiums bei der Bedampfung von 40: mm breiten Bändern,
bei einer 3reite der elektronenstrahlbombardierten Flache des Verdampfungsgutes
von 30G mm und einem mittleren Abstand Substrat - Verdampftertiegel von 450 mm 45
- 50 % des gesamt verdampften Aluminiums. Die Schichtdickendifferenzen über die
Bandbreite liegen dabei bei ca. 15 L der mittleren Schichtdicke, 5 ist eine Bandbedampfungsanlage
bekannt, bei der auf das Sinschwenken von Absebirmblenden zur Bedampfungsunterbrechung
verzichtet wird. Bei dieser Anordnung wird das Band bei der Bedampfungsunterbrechung
durch beweglich augehängte Rollen in eine vom Dampf strahl abgescbirmte Rammer geführt.
Mit dieser Konstruktion wäre eine Bedampfung unter minimalen Bedampfungsabständen
möglich, Zur Wiederaufnahme der Bedampfung nach einer Unterbrechung muß das Band
aber vor dem Binschwenken in den Dampf strahl zur Vermeidung von thermischen über
hitzungen, was zu Betriebsstörungen infolge Bandriß führen würde, annähernd seine
volle Betriebsgeschwindigkeit haben.
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Des weiteren müssen die das Band bewegenden Rollen einen Weg von ein
bis mehreren Metern zurücklegen. Dieser Vorgang ist technisch in einer Zeit von
minimal ca. 10 Sekunden realisierbar. Für den einsatz von hochproduktiven Bedampfungsanlagen
mit großen Bandgeschwindigkeiten ist desbalb dieses Verfahren ungeeignet, da nach
jeder Bedampfungsunterbrechung, z.B. für das Ankoppeln eines neuen zu bedampfenden
Bundes oder für das Nachfüllen des Tiegels ca. 10 bis 100 m bedampftes, mit unzureichender
Qualität produziertes Band als Ausschuß anfallen würden.
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Ein weiterer Nachteil dieser Anordnung bestebt darin, daß während
der Bedam?fungsunterbrechung noch Bereiche in der Bedampfungskammer mit dicken Schichten
bedampft werden, die während der Bedampfung des Substrates im Dampfschatten liegen.
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Auf Grund der Verringerung der tberraiscben Beaufscblagung dieser
Bereiche während der Bedampfung infolge Abschirmung durch das 3and lösen sich die
auf den kalten Unterlagen aufgedampften dicken Schichten, fallen auf das bewegte
Band und verursachen Retriebsstörungen.
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Der Zweck der Erfindung ist das weitgehende Verhindern der Streuverdampfung
in der Bedampfungskammer bei gleichzeitiger Gewährleistung guter Schichtdickengleichmäßigkeit,
wobei eine ausreichende Betriebssicherheit und eine Minimierung des Ausschusses
durch das Verbindern von unbedampften Bandlängen erreicht werden soll.
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Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung zum Bedampfen
von Substraten mit hohen Bedamofungsraten zu schaffen, ;)ei welcher der mittlere
Abstend zwischen Verdampfertiegel und Substrat während der Substratbedampfung sehr
klein ist und zur Unterbrechung der Substratbedampfung der Abstand so veränderbar
ist, daß eine Abschirmblende zwischen Substrat und Verdampfertiegel eingeführt werden
kann, wobei der Elektronenstrahl in allen Arbeitsphasen ohne Änderung der Elektronenstrahlumlenk-
und ablenkparameter auf die Badfläche des Verdampfertiegels auftrifft, bzw. eine
erforderliche Änderung der Ablenkparameter selbstregelnd erfolgt.
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Die erfindungsgemäße Vorrichtung zur Lösung der Aufgabe bestebt aus
einer Elektronenkanoe, Elektronenstrahlablenk- und -umlenkeinheiten, einer Abschirmblende
sowie dem Verdampfertiegel mit der Tiegelbühne als an sich bekannte Elemente, wobei
in der Bedampfungsstation der Verdampfertiegel gegenüber dem Substrat bewegbar gelagert
und/oder zum Substrat ortsveränderbare Substratführungsmittel angeordnet sind.
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Bei einer beweglichen Tiegelanordnung ist der Tiegel auf einer Tiegelbühne
zusammen mit ein oder mehreren Umlenkeinheiten und gegebenenf alls Strahlenfühlern
auf einen sich auf einer
schiefen ß>bene in Richtung des durch
eine Bedampfungsstation in geneigter Form durchgeführten Substrates wechselseitig
bewegbaren ragen angeordnet, wobei der Neigungswinkel der schiefen Ebene gleich
dem mittleren von dem Ablenksystem vorgegebenen Neigungswinkel des Elektronenstrahls
von der Elektronenquelle zu@ Ablenksystem ist.
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Aus Platzgründen ist es vorteilhaft, daß die schienen zur Führung
der Tiegelbühne auf einer schiefen ebene in zwei unterbrochenen haaren angeordnet
sind. ine andere Möglichkeit besteht darin, daß der Tiegel in waPge rechter bzw.
senkrecbter Ebene wechselseitig verfahrbar ist. iine erfindungsgemäße Tiegelbewegung
wird in einer weiteren Lösungsform auch dnn erreicht, wenn di Tiegelbühne auf einem
Schwinghebelsystem lagert.
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Erfindungsgemäß tann die Aufgabe auch dadurch gelöst werden, daß das
Substrat vom Verdampfertiegel durch geeignete Führungselemente auslenkbar ist. Als
Mittel zum Anheben des Substrates kann die einfahrbare Abschirmblende mit an dieser
angeordneten zum Substrat hinweisenden Auflaufelementen z.B. eine Rolle, dienen.
Zur Abstandsveränderung des Substrates vom Tiegel können auch Rollen, deren Achsen
quer zur Bewegungsrichtung des zu bedampfenden Gutes stehen und die gegen dasselbe
bewegbar sind, verwendet werden.
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Durch die erfindungsgemäßen Vorrichtungen wird erreicht, daß der Auftreffort
und der Neigungwinkel des Elektronenstrahl es im Umlenkfeld und der Abstand zwischen
Auftreffort des Elektronenstrahl es im Umlenkfeld und der Badoberfläche in allen
Arbeitsphasen gleich bzw. annähernd gleich sind und somit eine Veränderung der Elektronenstrahlablenk-
und -ualenkparameter entfällt.
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Die Formen der Tiegeiwände sind den jeweiligen geometrischen Verhältnissen
der Substratführung so angepaat, daß in Tiegelbreite und -länge in der Arbeitsstellung
minimaler Abstand des Tiegels zum Substrat ein Sicherheitsabstand vorhanden ist,
wobei die Seitenwände @ls zusätzliche Abschirmung gegen Streuverdampfung über die
Substratführungsebene ragen können, Zum Durchtritt des Elektronenstrahles und des
Verdampfungsfüllgutes
sind in den Tiegelwänden -ntsprechende @@fnungen
vorbanden.
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Nit den enfindungsgemäßen Vorrichtungen der Abstandsvariationen Dampf@uelle
- Substrat vor, wäbrend und zur Unterbrechung des Bedampfungsprosesses wird der
Streudampfanteil wesentlich verringert, da währand des Bedampfens das Substrat in
einem technisch minimalen @bstand über den Tiegel geführt werden kann und Dampf@iederschläge
auf benachbarte Flächen in der Bedampfungskam er kaum möglich sind, zumal der Tiegel
lurch entsrech nd gestaltete, sich der Geometrie der Bandführung anpassende Abschirmwände
ausgerüstet ist. Durch diese Verringerung des Streudamfanteiles wird somit zwangsläu@ig
das Ausbringen des Verdampfungsgutes erhöht. betriebsstörungen, verursacht durch
abschnittsweise zu stark bedamoftes bzvi, überhitztes Substrat während der Anfahrphase
einer Anlage treten nicht mehr auf. Desgleichen werden bei den relativ bohen Arbeitsgeschwindigkeiten
einer Anlage unbedampfte Substratabsohnitte in der gleichen base vermieden, d.h.
die Qualität des oberflächenveredelten Materials wird verbessert.
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Erschwernisse bei den unumgänglichen Zwischenrüstungen der Bedampfungskammer
durch die Verringerung der Verlustniederschläge auf Baugruppen oder Bestandteile
der Kammer werden reduziert.
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Beispielsweise erhöht sich das Aluminiunausbringen bei der Bedampfung
von Bandstahl mit einer Bandbreite von 400 mm auf Grund der Veränderung des mittleren
Badempfungsabstandes zwischen Badoberfläche und Bandstahl von 440 mm auf 240 mm
durch die erfindungsgemäßen Vorrichtungen von 50 % auf 75 %. Diese Ausbringenserhöhung
ermöglicht eine Steigerung der Bandgeschwindigkeit während der Bedampfung un 50
?%, eine Aluminium- und Verdampfungsenergieeinsparung um 33 ,' und eine Verbesserung
des Verhältnisses Bedampfungszykluszeit zur Kammerrüstzeit um 130 %. Dabei ist die
Bedampfungszykluszeit die Betriebszeit zwischen jeweils zwei aufeinanderfolgenden
Kammerreinigungen und die Kammerrüstzeit die Zeit der Kammerreinigung plus der Anpumpzeit.
Außerdem verbessert sich die Schichtdickenquerverteilung, welche die Schichtdickenverteilung
5qu in
Bandbreite charakterisiert und durch das Verhältnis Schichtdickenmittelwert
- Schichtdickenminimum (3) squ = Schichtdickenmittelwert definert ist, von 10 -
20 % auf 5 - 10 %.
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Die Erfindung soll nachstehend an einigen Ausführungsbeispielen näher
erläutert werden. Die dazugehörenden Zeichnungen zeigen in Fig. 1: Bedampfungsanordnung
mit verfahrbarem Tiegel Fig. 2: Tiegelführung Fig. 3a: vordere Tiegelstirnwand Fig.
3b: Tiegelseitenwand Fig. 4: Bedampfungsanordnung mit einer Schwinghebelbühne Fig.
5: Anordnung mit einzufahrender Abschirmblende Die Beispiele beziehen sich auf eine
Elektronenstrahlbedampfungsanlage für Bandstahl, insbesondere zur Bedampfung mit
Aluminium.
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Die erfindungsgemäße Lösung kann aber auch in Vakuumbedampfungsanlagen
mit anderen Energiequellen und/oder anderen Substraten und/oder anderen Verdampfungsmaterialien
zum Einsatz kommen.
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Gezeichnet und erläutert werden die Anordnungen jeweils nur für eine
Bedampfungsstation.
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Beispiel 1: Die Bewegung des Tiegels erfolgt auf einer schiefen Ebene,
die parallel zur Einschußrichtung des Elektronenstrabls liegt. Erläutert wird dieses
Beispiel an dPr Fig. 1,2, 3a und 3b. Durch geringfügige Änderungen läßt sich dieses
Beispiel auf die Fälle der Tiegelbühnenbewegung und der Elektronenstrahleinschußrichtung
in horizontaler und vertikaler Richtung übertragen. In der Bedampfungsstation 1
sind zwei Schienen 2 als schiefe Ebene angeordnet, auf welcher in Richtung des durch
die Bedampfungsstation 1 mit einem Neigungswinkel α zur Horizontalen durchgeführten
Bandatahles 3 ein wechselseitig bewegbarer Tiegeiwagen 4 auf Rädern 20 gelagert
ist. Aus Platzgründen können die Schienen 2 zur Führung der Tiegelbühne 5 auf einer
schiefen Ebene in zwei unterbrochenen Paaren (Fig. 2) angeordnet sein. Der Tiegeiwagen
4 wird durch ein nicht näher dargestelltes Antriebsorgan, angetrieben. Zum Schutz
gegen Streudampf wird der Tiegelwagen 4 mit auswechselbaren Abschirmblechen 6 und
7 verkleidet, die durch eine teleskopartige
Anordnung einen sicheren
Schutz vor der unerwünschten Bedampfung gew-hrleisten.
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Der Winkel ß der schiefen Ebene, d.h. der Winkel der Schiene 2 in
der Bedampfungsstation 1 tuit der Horizontalen ist gleich dem mittleren von dem
Ablenksystem 15 vorgegebenen Neigungswinkel γ des Elektronenstrahles 8 von
der Elektronenquelle 9 zum Jmlenksystem 10. Auf dem Tiegelwagen 4 befindet sich
die Tiegelbühne 5, die zum Schutz vor überlaulendem flüssigen Verdampfunsgut über
die Grundfläche des Tiegels 13 hinausragt und nach oben abgebogene Kanten 11 besitzt.
Zur weiteren Sicherung vor flüssigem Verdampfungsgut ist die Tiegelbühne 5 mit einem
feuerfesten Material 12 ausgekleidet. Auf der Tiegelbühne 5 sind in vorteilhfter
Weise der Tiegel '13, die magnetischen Umlenksysteme 10, die sich an den Tiegelseitenwänden
21, 22, befinden und gegebenenfalls die Elektronenstrahlfühler 14 (Fig. 3a) angeordnet.
In dem beschriebenen Beispiel befindet sich die Elektronenstrahlquelle 9, einschließlich
dem Ablenksysteme 15 zur festlegung der tinschußrichtung getrennt vom Tiegelwagen
4, loch ist es durchaus möglicb, daß diese ebenfalls mit den TiegClwagenbewegungen
starr gekoppelt sind.
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Der Elektronenstrahl 8 wird vorteilhafterweise über der Tiegelstirnwand
16, die den größten Abstand zwischen Badoberfläche 17 und dem zu bedampfenden Band
3 aufweist, eingeschossen.
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Der technisch kleinste Abstand zwischen dem Bandstahl 3 und dem Tiegel
13 wird durch den erforderlichen freien Raum für den Elektronenstitleinschuß 8 auf
die Badoberfläche 17 und einen Sicherheitsabstand zwischen dem Bandstahl 3 und der
Oberkante der dem Elektronenstrahl-Einschuß gegenüberliegenden Tiegelwand 18 bestimmt.
Die Einspeisung des Verdampfungsgutes 19 in den Tiegel 13 erfolgt in den zwei Arbeitsstellungen
"minimaler" und "maximaler" Abstand aus znvei ans ich bekannten, nicht näher dargestellten
Magazinen. Eine Einspeisung aus einem Magazin ist auch möglich, In diesem Fall muß
die Hafenlänge 23 des Tiegels 13 größer sein als seine horizontale Bewegungslänge.
Das Verdampfungsgut 19 wird dann in den zwei Arbeitsstellungen "minimaler" bzw.
"maximaler Abstand" in der Itähe der Tiegelstirnwände 16 und 18 eingeführt.
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Zur Erhöhung des Verdampfungsschutzes können gemäß den Fig 3a und
3b, die Tiegelwände 16, 21, 22 den geometrischen Verhaltnissen der Bandneigung angepaßt
werden In der Arbeitsstellung "minimaler Abstand'1 ist die Oberkante der Tiegelstirnwand
16 so ausgebildet, daß sie bis auf einen Sicherheitsabstand an das Band 3 heranreicht.
Der snnähernd gleiche Abstand ist in dieser Arbeitsstellung zwischen den Seitenkanten
des Bandstables 3 und den Tiegelseitenwinden 21, 22 gegeben. Die Oberkanten dieser
Seiten 21, 22 können dabei einige mm über die Oberfläche des Bandstahles 3 hinaus
reichen. Die Tiegelstirnwand 16 besitzt eine für den Elektronenstrahleinschuß der
Straihlgeometrie entsprechende Einschußöffnung 24.
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In der Tiegelseitenw-nd 2-l ist für die Badauffüllung eine weitere
Sffnung 25 vorhsnden. Bei Verwendung von nur einem Magazin für d?s Verdampfungsgut
19 sind zwei Ö@fnungen 29 erforderlich, de in der Nähe der Tiegelstirnwände 16,
18 vorhanden sein müssen und deren Abstand der horizontalen Tiegelverschiebung vom
Zustand "minimaler" in den Zustand "maximaler Absand" entspricht. Der über Badoberfläche
17 vorhandene Teil der Tiegelwände 16, 18, 21, 22 dient gleichzeitig als Abschirmeinheit
und bildet mit diesen eine Binheit oder ist als Einzelteil auf dem Tiegel 13 aufsetzbar.
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Der Tiegel 13 und die Abschirmeinheit sind aus ansich bekannten Materialien
aufgebaut.
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Die Elektronenstrahlfühler 14 sind paarweise horizontal und vertikal
isoliert vor der Einschußöffnung 24 angebracht.
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(Fig. 3a) mie von den Strahlfühlerm 14 abgeleiteten Elektronenströme
können zur Steuerung der Strahlführung über die Ablenkeinbeiten 15 verwendet werden,
so daß der Elektronenstrahl 8 immer in die Einschußöffnung 24 trifft und nicht die
Tiegelstirnwand '16 beschädigt. Die Verwendung der Elektronenstrahlfühler 14 ist
besonders in einer Anordnung bei der die Tiegel bewegung nicht parallel zur Elektronenstrahl-Einschußrichtung
verläuft, vorteilhaft. In diesen Fall wird die erforderliche Elektronenstrahlnachführung
selbstregelnd durch die Strahlfühler 14 gesteuert.
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Die Arbeitsweise der Anordnung ist wie folgt: Während der Tiegelaufheizphose
iner Elektronenstrahlbedamofungsanlage schirmt die Blende 26, die zur Abführung
der Kondensations- und @@r hlungsenergie gekühlt wird, den zu beda@p@nden Bandstahl
3 von der Badoberfläche 17 ab. Hachdem der betriebsfähige Zustand der Analge erreicht
ist, wird die Abschirmblende 26 ent it@ernt und der Tiegel 13 wird durch den Tiegelwagen
4 auf der schiefen Ebene in Nähe des zu bedamofenden Bandstahles 3 gefahren. Die
Tiegelwände bzw. Abschirmwände 16, 18, 21 und 22 verhindern labei einen unkontrollierbaren
Austritt des i..etalldampfes in die Bedampfungsstation 1. Bei der Bedampfungsunterbrechung
verläuft dieser Prozeß umgekehrt.
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Beispiel 2: Die Bewegung des Tiegels 13 erfolgt gemäß Fig. 4 auf einer
Schwinghebelbühne 27 mit zwei definierten Endpunkten, die die wei Arbeitsstellungen
"minimaler" und "maximaler" Abstand zwischen der Badoberfläche 17 und dem zu bedampenden
Band 3 festlegen und deren Verbindungslinie parallel zur Elektronenstrahleinschußrichtung
verläuft. In der nicht dargestellen Bedampfungsstation befindet sich eine Schwinghebelbühne
27 mit vier Hebelarme 28, die in Richtung des durch die Bedamofungsstation mit einem
Neigungswinkel α durchgeführten Bandstables 3 w chselseitig bewegbar sind.
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Die Hebelarmenden 29 beschreiben dabei um die Drehpunkte 31 mit einem
Radius, der gleich der Hebelarmlänge ist, Kreisbogenausschnitte 30. Die Schwinghebelbühne
27 wind durch ein sicht näher dargestelltes Antriebssystem, des um eine Achse senkrecht
zur Richtung der Schwinghebelbühnenbewegung schwenkbar angebracht ist, bewegt. Zur
Versteifung der Schwnghebelbühne 27 sind die hinteren und/oder vorderen Hebelarme
28 durch sich kreuzende Versteifungen verbunden. Der jeweilige Versteifungssclnittpunkt
33 ist dabei gleichzeitig Angriffspunkt für &ie Antriebskraft der Hebelbühne
27. Der Abstand von der Drehpunktachse 32 zum Versteifungsschnittpunkt 33 bestimmt
den erforderlichen Hub der Kraftübertragungseinrichtung. Der weitere Aufbau und
die Arbeitsweise dieser Anordnung entsprechen dem Prinzip des ersten Beispiels.
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Beispiel 3: Iri der Fig. 5 wird das Anh@ben des zu bedn'pfcnden Banstahlss
3 im Fall der Bedampfungsunterbrechung durch eine einzufahrende Aschirmblende 261
dargestellt.
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In der bedampfungsstation 1 stehen der Tiegel 13 und die erforderlichen
Umlenksysteme 10 auf einer festen Tiegelbühne 5.
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Die Anordnung der Umlenksysteme 10 an den ammerwänden ist ebenfalls
möglich, Bei zurückgefahrener Abschirmblende 2G1, die wie lt ersten Beispiel gekühlt
wird, befindet sich diece im Abschirmelendenraum 34, der über eine nicht näher darg@stelite
inrichtung evakuiert wird und annähernd das gleiche Vakiim wie die Bedampfungsstation
1 aufweist. Der blendenraum 34 wird durch geeignete Mittel zur Bedampfungsstation
1 hin abgeschirmt.
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Sine stabile Lagerung der Abschirmblende 251 wird durch die Stätzrollen
35, 36, 37, 38, 39 erreicht. In der Arbeitsstellung "Minimaler Abstand" bei zurückgefahrener
Abschirmblende 281 entspricht die Führungsrichtung des zu bedampfenden Bandstahles
3 über dem Tiegel 13 der Verbindungslinie zwischen den Umlenkrollen 40 und 41. Der
Neigungswinkel # des Bandstahles 3, der durch die Umlenkrollenanordnung 40, 41 bestimmt
wird, ist grö3er als der Neigungswinkel # der bschirmblende 261.
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Zur Erhöhung des Schutzes der Verdampfungsstation 4 und deren Einbauten
vor kondensierendem Metalldampf können die Stirn-und Seitenwände 16, 'i8, 21, 22
des Tiegels 13 entsprechend dem ersten Beispiel bis in Nähe des Bandstahles 3 bei
Beachtung des erforderlichen Raumes für die einzufahrende Abschirmblende 261 als
Abschirmeinheit ausgebildet sein. Die Zuführung des Verdampfungsgutes 19 erfolgt
aus einem Magazin durch die Öffnung 25 in der Seitenwand 2l. Bei einer erforderlichen
Bedampfungsunterbrechung wird die Abschirmblende 261, die an der zum Substrat 3
hinweisenden Seite als Auflaufeiement eine Rolle 42 aufweist, durch ein nicht näher
gezeichnetes Antriebsorgan eingefahren. Die Rolle 42 an der Blende 261 ist weitestgehend
gegen Bedampfung geschützt. Sie berührt den Bandstahl 3 und hebt diesen bei der
Blendenbewegung an.
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In der ausgefahrenen Endstellung wird die stabile Lage der hbschirmblende
261 durch die Stützrollen 35, 36, 37 erreicht.
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Zur Erhöhung des Bedampfungsschutzes der Rolle 42 sind an ihren Strins@iten
Abschirmbleche 43 angebracht.
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Zur Freigabe der Bedampfungsstation 1 wird die Abschirmblende 261
in den Abschirmblendenraun 34 eingefahren.