SU652237A1 - Устройство дл непрерывного напылени на подвижную подложку в виде полосы - Google Patents
Устройство дл непрерывного напылени на подвижную подложку в виде полосыInfo
- Publication number
- SU652237A1 SU652237A1 SU752156945A SU2156945A SU652237A1 SU 652237 A1 SU652237 A1 SU 652237A1 SU 752156945 A SU752156945 A SU 752156945A SU 2156945 A SU2156945 A SU 2156945A SU 652237 A1 SU652237 A1 SU 652237A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- crucible
- screen
- substrate
- electron beam
- continuous coating
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/28—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation
- C23C14/30—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation by electron bombardment
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/305—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating or etching
- H01J37/3053—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating or etching for evaporating or etching
Description
(54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ НЕПРЕРЫВНОГО НАПЫЛЕНИЯ НА ПОДВИЖНУЮ ПОДЛОЖКУ В ВИДЕ ПОЛОСЫ концы рычагов 29, часть окружности 30, центр вращени 31, ось центров вращени 32, точка пересечени пере кладин 33, экранна камера 34, onojp ные ролики 35, 36, 37, 38, 39, отклон ющие ролики 40, 41, набегающий Iролик 42, защитное полотно 43, л угол наклона ленты, р - угол накло ной плоскости, у - угол наклона электронного луча, S - угол наклона экрана, & - угол наклона линии , соедин к цей отклон ющие ролики Изобретение иллюстрируетс приме рами. Примеры относ тс к электроннолучевой испытательной установке дл ленточной стали, в частности дл на пылени алюмини . Однако предложенное решение может найти применение и в установке в.акуумного напьшени с другими источниками энергии и/или другими пйдложками и/или другими испар емыми материалами. . . Обозначены и рассмотрены соответ ственно только устройства на:пылител ной позиции, П р и м е р 1. Движение тигл осуществл етс по наклонной плоскост расположенной параллельно напра:вл.енй электронного луча,Этот пример рассматриваетс на фиг. If 2, За и Зб, Посредстврм нвзначительных изменени этот npkKiep можно использовать дл случа движени -подставки тигл и направлени бомбардировки электронам в горизонтальной и вертикальной плЬс KOQTHx. В напылительной позиции 1 дв направл ющие 2 установлены в виде йаклонной плоскости, на которой в на пЕ авлёнии стальной полоски 3, проход щей через напылительную позицию 1 по углом об к горизонтали, на колёсах 20 установлена перемещающа с в одну и другую сторону тигельна каретка 4 С целью экономии Mecfа нап авл ющйе 2 дл подставки 5 тигл могут устанавливатьс в виде двух разнесенных (фиг.2), Тигельна каретка 4 приводитс в движение приводным органом, G целью Защиты от рассе нных паров тигельна каретка 4/ облицована защит ными полотнами б и 7, которые блдгодар телескопической конструкций обе печивают надежную защиту от нежелательного действи испарений. Угол |5 наклонной плоскостй, т.е, угол между направл ющими 2 и горизонтом в напылительной позиции 1 равен среднему углу у наклона электронного луча 8, проход щего от исто ника 9 электронов через отклон ющую систему 15, с помощью которой задаетс угол У к отклон ющей системе 10. На тигельной каретке 4 нахо-. дитс подставка 5, котора с целью экранировани от вытекающего жидкого испар емого материала через чашу тигл 13 выступает за нее и имеет пойн тыё вверх кра 11. С целью повышени стойкости к действию жидкого испар емого материала тигельна подставка 5 обложена огнеупорным материалом l2. На тигельной подставке 5 целесообразно устанавливать тигель 13, магнитную отклон ющую систему 10, котора размещаетс на боковых стенках 21, 22 тигл , а также датчики 14 электронного луча (фиг.За). В рассматриваемом примере источник у электронов, включа отклон ющую систему 15, предназначенную дл установлени направлени луча, размещаетс отдельно от тигельной каретки 4, однако-, вполне возможно и эти блоки жестко соединить с движением тигельной каретки. Электронный луч 8 целесообразно направл ть над торцовой стен кой 16 тигл , где имеетс наибольшее рассто ние между поверхностью 17 ван- ; ны и напыл емой Лентой 3, Технически минимальное рассто ние между стальной лентой 3 и тиглем 13 определ етс необходимым свободным пространством дл прохождени электронного луча 8 к поверхности. 17 ванны и гарантированным рассто нием между лентой 3 и верхней кромкой тигельной стеНки 18, 11ротйвоположндй направлению луча 8-. .Питание йспа:15 ёмым материалом 19 тигл 13; осуществл етс в двух рабочих йоложени х при минимальном и . .максимальном рассто: нии из двух, емкостей. Питание можно также осуществл ть из одн6й емкости. В этом случае:загрузочна длина 23 тигл 13 должна Ьыть больше его горизонтального пути движени . Тогда испар емый материал is вводитсй в двух рабочих положени х минимального -или максимального рассто ни вблизи, торцов 16 и 18 тигл . Дл усилени защиты от испарений геометри стенок 16, 21, 22 тигл Может быть подогнана по наклону ленты . В положении минимальное рас-, .сто ние верхн кромка торцовой тигельной стенки 16 достигает гарантированного рассто ни до 3. В этом рабочем положении приблизительно равйы рассто ни между стальной лентой .3 и боковыми тигельными стенками 21, 22. При этом верхние кра этих стенок могут на несколько миллиметров выступать над поверхностью стальной ленты 3. Торцова тигельна стенка. 16 имеет соответствующее геометрии электронного луча проходное отверстие 24. В боковой стенке 21 тигл дл наполнени ванны имеетс другое отверстие 25. При исполь-. зов.ании- лишь одной емкости дл испа- . р емого материала 19 необходимы два отверсти 25, которые должны находитьс вблизи торцовых стенок 16, 18 тигл , и рассто ни между которыми должно соответствовать смещению тигл из положени минимальное рас сто ние в положение максимальное рассто ние . Остающа с над поверхностью 17 ванны часть тигельных стенок 16, 1в, 21, 22 одновременно служит узлом экрана и вместе с ним образует единыйблок, либо на тигель 13 насаживаетс отдельна деталь.
Тигель 13 и блок экранировани выполнены из известных материалов.
Датчики 14 электронного луча размещены попарно горизонтально и вертикально , изолированно от отверсти 24 (фиг.За). Электронные токи, отводимые датчиками 1.4, могут использоватьс дл управлени положением луча через отклон ющие 15 благодар чему электронный 8 всегда попадает в проходное отверстие 24 и не воздействует на торцовую тигельную стенку 16. Использование датчиков 14 электронного луча особенно лредпсэчтительно в конструкции, в которой перемещение тигл происходит непараллельно направлению луча. В этом случае необходимое положение электронного луча автоматически, регулируетс датчиками 14.
. Принцип работы устройства следующий .
Во врем нагрева тигл .электроннолучевой напылительной установки экра 26,охлажденный с целью отвода конденсационной и лучевой энергии, отгораживает стальную ленту 3 от поверхности ванны 17. После того как готовность установки достигнута, экран 26 удал етс и тигель 13 на каретке 4 перемещаетс по наклонной плоскбсти в направлении к напыл емой стальной ленте 3. При этом;тигельные или экранирующие стенки 16, 18, 21 И, 22 предотвращают неконтролируемый расхо металлических паров в напылительной позиции 1. При прерывании напылени этот процесс протекает в обратном пор дке .
, Пример .2. Перемещение тигл 13 осуществл етс согласно фиг.4 на повйротно-рычажной подставке 27 с двум определенными конечными псэложе ни ми, которые соответствуют двум рабочим положени м - минимальному и .максимальному рассто нию между поверхностью ванны 17 и напыл емой лентой 3, и соединительные линии которых проход т параллельно направлению электронного луча. В непоказаиной напылительной позиции находитс поворотно-рычажна подставка 27 с четырьм рычагами 28, которые могут перемещатьс в направлении стальной ленты 3, проход щей через напылительную позицию под углом наклона оС..
При этом концы 29 рычагов описывают вокруг центров вращени 31 радиусом , равньлм длине рычага, .часть окружности 30. Поворотно-рычажна подставка 27 перемещаетс при помощи приводной системы, котора установлена с возможностью поворота вокруг оси, перпендикул рной направлению
движени поворотно-рычажной подставки. С целью придани жёсткости поворотнорычажной системе задние и/или передние рычаги 28 св заны перекрещивающимис перекладинами. Точка пересечени перекладин 33 при этом одновременно вл етс местом приложени приводного усили к рычажной подставке 27. Рассто ние от оси вращени 32 до точки пересечени перекладин 33 определ ет необходимый ход приводного
устройства. В остальном устройство и принцип действи этой конструкции соответствуют изложенному в примере 1 .,
Пример -3. На фиг. 5 изображен подъем напыл емой стальной ленты 3 в случае прерывани напылени при помощи выдвигаемого экрана 44.
В напылительной позиции, 1 тигель 13 и отклон юща система 10 размещены на неподвижной тигельной подставке 5. . . Возможно расположение отклон ющей системы 10 и на стенках камеры.
При выдвигаемом экране 44 (охлаждаемом , как и в первом примере) он находитс в экранной камере 34, котора вакуумируетс и имеет примерно такой же вакуум и в напылительной позиции 1. Экранна камера 34 отгорожена от напылительной позиции 1 соответствующим средством. Стабильное положение экрана 44 достигаетс при помощи опорных роликов 35, 36, 37, 38,
39.В рабочем положении минимальное рассто ние при убранном экране 44 направление движени напыл емой стальной ленты 3 над тиглем 13 соответствует соединительной линии между отклон ющими роликами 40 и 41. Угол наклона С стальной ленты 3, который
определ етс роликовым устройством
40,больше угла наклона 6 экрана 44.
С целью усилени защиты напылительной позиции 1 и ее узлов от конденсации металлических паров торцовые и
боковые стенки 16, 18, 21, 22 тигл 13 в соответствии с примером 1 могут вплоть до стальной ленты 3, с учетом необходимого дл выдвижени экрана 44 пространства, образовывать защитный
узел. Подача испар емого материала осуществл етс из емкости через отверстие 25 в боковой стенке 21. При необходимости прерывани напылени экран 44, который на обращенной к лёнте 3 стороне имеет набегающий ролик 42, выдвигаетс с помощью привода (не показан). Ролик 42 на экране 44 защищен от напылени .. Он .касаетс стальной ленты 3 и приподнимает ее при движении экрана. В выдвинутом конечном положении экран 44 стабилизируетс с помощью опорных роликов 35, 36, 37.
С целью усилени защиты от напылени ролик 42 по периферии покрыт
. защитным-слоем 43.
652237
Дл освобождени напылительной позиции 1 экран 44 выдвигаетс в экранную камеру 34.
Claims (5)
- Формула изобретени1 .Устрбйство дл непрерывного нап лени на подвижную подложку в виде полосы, содержащее вакуумную камеру с размещенным в ней тиглем, электронной глушкой, системой отклонени и поворота электронного и экранирующей заслонкой, отличающеес тем, что, с целью уменьшени потерь наносимого вещества, оно содержит механизм изменени рассто ни между тиглем и подложкой, выполненной в виде накйонных направл 1ющйх.
- 2. Устройство по П.1, отличающеес тем, что тигель сна8жен элементами качени , служащими дл перемещени по наклонным направл ющим .
- 3.Устройство по ПП.1 и 2,о т л и чающеес тем, что наклонные направл 1мцие выполйены в виде клиновидной опоры.
- 4.Устройство по ПП.1 и 2, о т личающеес тем, что наклонные направл ющие выполнены в виде шарнирного параллелограмма.
- 5.Устройство по П.1, отличающеес тем,что экранир тоща заслонка снабжена средством качени с возможностью взаимодействи с подложкой.Источники информации, прий тые во внимание при экспертизе1. Патент ГДР № 54154, кл. 48 С 13/12, 1967. 1-/ /У//////////////////7/.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DD18020974A DD113247A1 (ru) | 1974-07-31 | 1974-07-31 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU652237A1 true SU652237A1 (ru) | 1979-03-15 |
Family
ID=5496751
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU752156945A SU652237A1 (ru) | 1974-07-31 | 1975-07-25 | Устройство дл непрерывного напылени на подвижную подложку в виде полосы |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5825739B2 (ru) |
BE (1) | BE831989A (ru) |
DD (1) | DD113247A1 (ru) |
DE (1) | DE2527269A1 (ru) |
IT (1) | IT1036929B (ru) |
LU (1) | LU73127A1 (ru) |
SU (1) | SU652237A1 (ru) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2545977C2 (ru) * | 2010-12-16 | 2015-04-10 | Кабусики Кайся Кобе Сейко Се | Плазменное устройство для cvd |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4444538C2 (de) * | 1994-12-14 | 2001-02-01 | Ardenne Anlagentech Gmbh | Einrichtung zur langzeitstabilen Verdampfung von Elementen und Verbindungen für die reaktive Abscheidung auf bewegten Substraten, vorzugsweise breiten Bändern |
DE102021103354A1 (de) | 2021-02-12 | 2022-08-18 | VON ARDENNE Asset GmbH & Co. KG | Verfahren, Steuervorrichtung und Speichermedium |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1308291A (en) * | 1968-12-02 | 1973-02-21 | Parsons & Co Sir Howard G | Evaporation sources for depositing thin films |
JPS5315837B2 (ru) * | 1974-04-16 | 1978-05-27 |
-
1974
- 1974-07-31 DD DD18020974A patent/DD113247A1/xx unknown
-
1975
- 1975-06-19 DE DE19752527269 patent/DE2527269A1/de not_active Withdrawn
- 1975-07-21 IT IT5060375A patent/IT1036929B/it active
- 1975-07-25 SU SU752156945A patent/SU652237A1/ru active
- 1975-07-31 BE BE158832A patent/BE831989A/xx unknown
- 1975-07-31 JP JP50093665A patent/JPS5825739B2/ja not_active Expired
- 1975-07-31 LU LU73127A patent/LU73127A1/xx unknown
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2545977C2 (ru) * | 2010-12-16 | 2015-04-10 | Кабусики Кайся Кобе Сейко Се | Плазменное устройство для cvd |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
LU73127A1 (ru) | 1976-04-13 |
JPS5149183A (ja) | 1976-04-28 |
DE2527269A1 (de) | 1976-02-12 |
IT1036929B (it) | 1979-10-30 |
JPS5825739B2 (ja) | 1983-05-30 |
BE831989A (fr) | 1975-11-17 |
DD113247A1 (ru) | 1975-05-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5211824A (en) | Method and apparatus for sputtering of a liquid | |
JP5120960B2 (ja) | 蒸着システム用蒸着源の駆動軸及びこれを具備した蒸着システム | |
US5106474A (en) | Anode structures for magnetron sputtering apparatus | |
JPH06503855A (ja) | 回転マグネトロンスパッタリングシステムにおけるアーク抑制のためのシールディング | |
JP2018521875A5 (ru) | ||
US5538610A (en) | Vacuum coating system | |
US3570449A (en) | Sensor system for a vacuum deposition apparatus | |
SU652237A1 (ru) | Устройство дл непрерывного напылени на подвижную подложку в виде полосы | |
US7594970B2 (en) | Web coating apparatus with a vacuum chamber and a coating cylinder | |
IL33785A (en) | Apparatus for evaporation-coating with a metallic alloy | |
US3746502A (en) | Evaporation crucible | |
JPH01123033A (ja) | 方向性電磁鋼帯コイルへの焼鈍分離剤塗布装置 | |
JP6017799B2 (ja) | 電子ビーム蒸着装置 | |
GB2068935A (en) | Coating hot glass with metals or metal compounds, especially oxides | |
JP2010053438A (ja) | ロールツーロールタイプの薄膜形成装置 | |
US4349372A (en) | Process for coating glass | |
RU2458180C2 (ru) | Способ нанесения покрытия на подложку, установка для осуществления способа и устройство подачи металла для такой установки | |
KR20150015359A (ko) | 전자빔 증착장치 | |
US3575132A (en) | Vapor deposition apparatus | |
US2509390A (en) | Apparatus for feeding batch | |
JPS5834171A (ja) | 真空蒸着装置 | |
JPH108240A (ja) | 真空蒸着装置 | |
JPS6314861A (ja) | 真空蒸着装置 | |
JP2890686B2 (ja) | レーザ・スパッタリング装置 | |
JP2011065868A (ja) | 有機elデバイス製造装置及び成膜装置並びに液晶表示基板製造装置 |