JPS5825739B2 - タカイジヨウチヤクリツデキタイニジヨウチヤクオオコナウソウチ - Google Patents

タカイジヨウチヤクリツデキタイニジヨウチヤクオオコナウソウチ

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JPS5825739B2
JPS5825739B2 JP50093665A JP9366575A JPS5825739B2 JP S5825739 B2 JPS5825739 B2 JP S5825739B2 JP 50093665 A JP50093665 A JP 50093665A JP 9366575 A JP9366575 A JP 9366575A JP S5825739 B2 JPS5825739 B2 JP S5825739B2
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strip
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BEBU BANTOSHUTAARUKONBINAATO HERUMAN MAATERUN
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    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/28Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation
    • C23C14/30Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation by electron bombardment
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/305Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating or etching
    • H01J37/3053Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating or etching for evaporating or etching

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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、電子ビーム蒸着設備において高い蒸着率で特
に帯状の素材すなわち基体に蒸着を行なうための装置に
関する。
真空中において、たとえば電子ビームによって点状に加
熱されたるつぼから素材に蒸着する場合、蒸着率の関係
、すなわち単位時間当りおよび単位面積当りの素材の上
に蒸着する蒸発材料の質量は、蒸着角度ψによって与え
られ、この場合蒸着角度φは蒸着源と受けとめ点の直線
とるつぼバスの垂線との間の角度である。
点状の蒸発源に対してランベルト放射器(Lamber
tstrahler)が採用される場合、受けとめ点に
おける蒸着率αは、蒸着角度ψの下では次式で与えられ
る。
α=α。
cOS3φ ・・・・・・・・・(1)この場合、α。
はφ−〇における蒸着率である。電子ビームで加熱する
場合、ランベルト放射器との相違は、蒸発材料における
バス鏡面の湾曲に基づいて生ずるので、一般には、 α=α。
Co5nψ(3くnで6)・・・・・・・・・(2)で
与えられる。
蒸着距離が比較的大きい場合、複数の点状蒸発源の配置
構造によって、あるいは相応した分配量をもった表面蒸
発器によって、ないしは蒸発材料の個々の場所に所定の
滞留時間で電子ビームを動的に偏向することによって、
平板状の素材の上の均一な厚さの膜が、蒸着室における
少ない飛散蒸気で得られる。
というのは、素材の外における蒸着率の低下は、前記(
1) 、 (2)式から判るように蒸着角度の大きな余
角成分の下で行われるからである。
素材と蒸発るつぼとの間で蒸発材料の上に電子ビームを
入射するため、および蒸着を中断するために必要な遮蔽
用ブラインドを挿入するために、比較的大きな蒸着距離
が必要である。
たとえば、定格出力250kWの電子ビームを急傾斜し
て入射しかつ帯材送り方向に対して横方向に移動する遮
蔽用ブラインドを移動するためには、素材と蒸発るつぼ
との間に平均400〜450mvtの間隔が必要である
大きな生産能力の蒸着設備を得るために、毎秒数メート
ルの大きな帯材送り速度が必要である。
蒸着領域の長さは技術的に制限されるので、・この大き
な帯材送り速度は高い蒸着率をも必要とする。
すなわら、帯材は蒸着領域において比較的厚い蒸気雲を
通して導かれなければならない。
たとえば、毎秒数メートルの帯材送り速度で数100山
の蒸着領域の長さで、帯材に数μmの厚さのアルミニウ
ム皮膜を蒸着する場合、蒸着領域におけるアルミニウム
蒸気圧力は10−’〜1トールの範囲にしなければなら
ない。
この蒸気圧力の場合、蒸発るつぼと素材との間で強い相
互干渉、すなわち蒸気粒子間に多重分解が生じ、それに
よって蒸気噴射の拡散は上述の規則をもはや守れない。
素材の外の蒸着率の低下は、蒸着角度の非常に小さな余
角成分の下でも行なわれる。
というのは蒸発るつぼと帯材との間から膨張する蒸気が
四方に飛散してしまうので、蒸着する蒸気が少なくなり
、蒸着率が低下する。
上述の効果の結果として、蒸発室における飛散蒸気は、
素材の上の蒸着皮膜厚の均一性が同時に損われる場合、
小さな蒸着率の場合に予想される損失に対してかなり増
大する。
たとえば、幅400mmの帯材を蒸着する場合、蒸着室
に蒸発して飛散されるアルミニウムの量は、電子ビーム
で照射される蒸発材料の面の幅が300 mm、素材と
蒸発るつぼとの平均距離が450mmの場合、蒸発され
たアルミニウム全体の45〜50%になる。
帯材の幅に亘る皮膜の厚さの差は、この場合平均の厚さ
のほぼ15%になる。
蒸着を中断するための遮蔽用ブラインドの移動を省略し
たような帯材蒸着設備は既に公知である。
この設備の場合、帯材は蒸着の中断の間、可動的に吊下
されたローラによって、蒸気噴射から遮蔽された室の中
に導かれる。
この構成によって蒸着は最も短かい蒸着距離の下ででき
る。
しかし、中断後再び蒸着を始める際、蒸気噴射の中に移
動する前に、亀裂のために駆動故障を生じてしまうよう
な過熱を防止するために、その駆動速度はほぼ全速力に
しなければならない。
更に、帯材を移動するローラを1メ一トル〜数メートル
の距離だけ戻さなければならない。
この行程は技術的に最低約10分から1時間の時間で実
現できる。
従って、この方法は、大きな帯材送り速度をもつ高い生
産能力の蒸着設備への応用には適していない。
なぜならば、蒸着中断の後、たとえば蒸着すべき新たな
帯材をつなげるため、あるいは、るつぼへ補給するため
、不十分な品質で作られた約10〜100山の蒸着済の
帯材が不合格品として捨てられるからである。
この配置構造の別の欠点は、素材の蒸着中に蒸気の陰に
位置していた蒸着室の一部が、蒸着中断中に厚い皮膜で
蒸着されることである。
この部分は蒸着中においては帯材によって遮蔽されるた
めに熱の受は入れが僅かであるので、冷たい枠板に付着
された厚い皮膜は外れ、移動する帯材の上に落ち、駆動
の故障を惹起する。
本発明の目的は、良好な膜厚の均一性を同時に保証した
状態において、蒸着室における飛散蒸発を十分に防止す
ることにあり、この場合、十分な駆動の安定性および不
合格品の最小化を、不十分に蒸着される帯材の防止によ
って得ようとするものである。
本発明の課題は、蒸発るつぼと素材との間の平均距離が
素材蒸着処理中において非常に小さく、素材蒸着処理の
中断のためにこの距離が素材と蒸発るつぼとの間に遮蔽
用ブラインドが挿入できる程度に変更できるような高い
蒸着率で素材を蒸着するための装置を得ることにある。
この課題を解決するために、本発明に基づく装置は、電
子ビーム銃、電子ビーム偏向装置および電子ビーム転向
装置、遮蔽用ブラインド、並びにるつぼ台材の蒸発るつ
ぼから構成され、蒸着場所の中には蒸発用るつぼが素材
に対して遠近可能に支持され、素材と蒸発用るつぼとの
相対距離を変化しうる相対距離調節装置が配置されてい
る。
るつぼを可動的に配置する場合、るつぼ台の上のるつぼ
は、1個ないし数個の電子ビーム転向装置および場合に
よっては電子ビームセンサと共に、傾斜した平面の上で
蒸着場所を適当な形で貫通する素材の方向に向って遠近
しうる台車の上に配置され、この場合、傾斜平面の傾斜
角は、電子ビーム銃から電子ビーム転向装置に向う電子
ビームの方向を制御する電子ビーム偏向装置によって与
えられた平均傾斜角と同じである。
場所的な都合上、傾斜した平面上でるつぼ台を案内する
レールは、中断された2つの組に配置すると有利である
別の可能性は、るつぼを水平平面ないし垂直平面におい
て往復移動可能にすることにある。
本発明に基づくるつぼの運動は、るつぼ台が振動レバー
装置の上に置かれている場合には、別の解決方法でもで
きる。
本発明によれば上述の課題は、素材を適当な案内要素に
よって静止している蒸発用るつぼから遠近できるように
しても解決できる。
素材を持ち上げる手段として、その素材側に配置された
はね上げ要素たとえばローラをもった挿入可能な遮蔽用
ブラインドを使用することができる。
素材とるつぼとの間の距離を変化するために、その軸心
が蒸着すべき材料の運動方向に対して横に走りかつそれ
に対して相対的に移動しうるローラも使用することがで
きる。
本発明に基づく装置によって、電子ビーム転向装置が司
どる転向フィールドにおける電子ビームの入射場所およ
び傾斜角、ならびにその転向フィールドにおける電子ビ
ームの入射場所とバス面との距離が、すべての作動工程
において同じかほぼ同じになり、それによって電子ビー
ムの電子ビーム偏向装置による偏向パラメータおよび電
子ビーム転向装置による転向パラメータの変動はなくな
る。
るつぼ壁の形は、るつぼの幅および長さにおいてるつぼ
と素材との距離が最小の蒸着で安全(限界)距離が存在
するように、素材の案内の幾何学的関係に合わせられ、
この場合側壁は飛散蒸発に対する付加的な遮蔽体として
素材案内平面よりも突き出すことができる。
電子ビームおよび蒸発材料を入れるために、るつぼの壁
には相応した開口が設けられている。
蒸着工程の中断のため、中断前、および中断中に対する
蒸気源と素材との間の距離を変える本発明の装置によれ
ば、飛散蒸気量はかなり減少される。
というのは蒸着処理中、素材は技術的に最も小さな距離
でるつぼの上に近接させることができ、蒸気の凝縮は蒸
着室における隣接した面ではほとんど起らず、特にるつ
ぼは相応して作られるか、帯材の形に合った遮蔽壁が設
けられているからである。
この飛散蒸気量の減少によって相関的に蒸発材料の利用
率が高められる。
設備の始動甲部分的に強く蒸着されるかないし過熱され
た素材によって生ずる運転の故障は、もはや生じない。
同様にして設備が比較的大きな作動速度の場合、蒸着さ
れない素材部分は同じ工程においては避けられる。
すなわら、表面処理材料の品質は改善される。煩わしい
中間運転準備における困難性は、蒸着室の構成群ないし
構成要素への損失凝縮の減少によって減じられる。
たとえば、4001nπの幅の帯鋼を蒸着する場合のア
ルミニウムの利用率は、バス表面と帯鋼との間の平均蒸
着距離が440 mvtl))ら240mmに変化する
場合、本発明の装置によって50%から75%に高めら
れる。
このアウトプットの増大は蒸着中の帯材の送り速度を5
0%だけ高めることができ、アルミニウムおよび蒸発エ
ネルギを33%だけ節約でき、かつ蒸着室準備時間に対
する蒸着サイクル時間の比を100%に改善することが
できる。
この場合、蒸着サイクル時間は連続する2回の室洗浄の
間の作動時間であり、室準備時間は、室洗浄時間と汲み
上げ時間との和である。
更に、皮膜厚さの横方向分布が改善され、これは帯材の
幅における皮膜厚さ分布Squを特色づけ、次式の関係
において10〜20%から5〜10%に制限される。
8−皮膜厚5″平均値−皮膜厚8″最小値00060.
(3)皮膜厚さの平均値 以下、図面に基づいて本発明の実施例を詳細に説明する
実施例は特に帯鋼にアルミニウムを蒸着するための電子
ビーム蒸着設備に関するものであるが、本発明による解
決方法は、別のエネルギ源ないし別の素材あるいは別の
蒸着材料をもった真空蒸着設備にも適用することができ
る。
こ5では蒸着設備の蒸発場所だけが示されかつ説明され
ている。
例す るつぼの移動は、電子ビームの入射方向に対して平行に
おかれた傾斜面の上で行われる。
以下この実施例を第1図、第2図、第3a図および第3
b図により説明する。
この実施例は僅かな変化によって、るつぼ台の運動方向
および電子ビームの入射方向の水平方向および垂直方向
の勾配を変換させる。
蒸発場所1には傾斜面として2本のレール2が第1図紙
面と垂直方向に平行にして配置され、このレール2の上
にはるつぼ台車4が車輪20を介して支持されている。
このるつぼ台車とレール2とにより相対距離調節装置が
形成される。
るつぼ台車4は、水平線に対して傾斜角αをなして蒸発
場所1を貫通する帯鋼3の方向に遠近するようにして往
復移動することができる。
場所の都合上、傾斜面の上にるつぼ台5を案内するレー
ル2を、継続的な2組のレール(第2図参照)にするこ
とができる。
るつぼ台車4は図示されていない駆動装置によって駆動
される。
飛散蒸気に対して保護するために、るつぼ台車4には変
換可能な遮蔽板6,7が設けられている。
この内側の遮蔽板7は外側の遮蔽板6中に鉛直方向摺動
自在にして取付けられており、るつぼ台車4の移動に伴
って自重により遮蔽板6より下方へ突出入して望ましく
ない蒸着からの確実な保護を保証する。
傾斜平面の角βすなわち蒸発場所1におけるレール2と
水平線との角度は、電子ビーム銃9から電子ビーム転向
装置10へ向う電子ビーム8の方向を制御する電子ビー
ム偏向装置15によって与えられる平均傾斜角γと同じ
である。
るつぼ台車4の上にはるつぼ台5があり、これはあふれ
出る液状の蒸着物に対して保護するために、るつぼ13
の基礎面の上に突き出しかつ上方に向って曲げられた縁
11がある。
液状の蒸着物に対する別の保護手段として、るつぼ台車
5には耐火材12が張りつけられている。
るつぼ台5の上に、るつぼ13、るつぼの側壁21.2
2におかれた磁気式の電子ビーム転向装置10、および
場合によっては電子ビームセンサ14(第3a図)を配
置すると良い。
図示された実施例の場合、電子ビーム銃9は電子ビーム
偏向装置15を含めて、入射方向を決定するためにるつ
ぼ台車4から分離されているが、これをるつぼ台車の運
動と固く接続することもできる。
電子ビーム8はバス表面17と蒸着すべき帯鋼3との間
に最も大きな距離をもつるつぼ端面壁16の上に入射す
ると良い。
蒸着工程中における帯鋼3とるつぼ13との間の技術的
に最も小さい間隔(以下、最小距離と称す)は、バス表
面17への電子ビーム8の入射に対して必要な自由空間
と、帯鋼3と電子ビームの反入射側にあるるつぼ端面壁
18の上側端との間の安全距離とによって決まる。
また、るつぼ13と帯鋼3とが最も離れている場合(第
1図実線状態)の間隔を「最大距離」とする。
るつぼ13への蒸着材料の供給は、それ自体公知の2個
のマガジン(図示せず)から「最小距離」と「最大距離
」の2つの作動位置において行われる。
1個のマガジンからの供給も可能である。
この場合、るつぼ13のつぼ部の長さ23は水平移動長
さよりも太きくしなければならない。
蒸着材料19は「最小距離」ないし「最大距離」の2つ
の作動位置においてるつぼ端面壁16.18の近くで入
れられる。
蒸発の保護を高めるために、第3a図および第3b図に
基づいて、るつぼの壁16,21,22を帯材の傾きの
幾何学的な関係に合わせることができる。
「最小距離」の作動位置において、るつぼの端面壁16
の上端縁は、帯材3における安全距離にまで届くように
形成されている。
この作動位置において、帯鋼3の側面とるつぼの側壁2
1゜22との間にはほぼ同一の距離が生ずる。
この場合、このるつぼの側壁21.22の上端は、帯鋼
3の表面を数量越えることができる。
るつぼの端面壁16は、電子ビームの入射に対しビーム
の形に相応した入射開口24を有している。
るつぼ側壁21にはバス補充用の別の開口25が設けら
れている。
唯1個の蒸発材料19用のマガジンを使用する場合は2
個の開口が必要であり、これらの開口はるつぼの端面壁
16.18の近くに設けなければならず、その間隔は「
最小」位置から「最大」位置へのるつぼの水平移動に相
応している。
バス表面17の上にあるるつぼ壁16.18゜21.2
2の部分は同時に保護体として使用し、これらによって
ひとつのユニットを形成するかあるいは部品としてるつ
ぼ13の上に載置することができる。
るつぼ13および保護体は、周知の材料で作られる。
電子ビームセンサ14は入射開口24の前方に水平およ
び垂直に対となって絶縁して設けられている(第3a図
)。
電子ビームセンサ14から出されたビーム電流は、偏向
装置15を介してビームの案内を制御するために用いる
ことができるので、電子ビーム8は常に入射開口24の
中に入り、るつぼ端面壁16が傷つけられることはない
電子ビームセンサ14の使用は、特にるつぼが電子ビー
ムの入射方向に対して非平行的に移動するような設備の
場合に有利である。
この場合、必要な電子ビームの追従はビームセンサ14
によって自動的に制御される。
次に、この配置構造の作用について説明するに、電子ビ
ーム蒸発設備のるつぼの加熱工程中、凝縮エネルギおよ
びビームエネルギ゛を排出するために冷却される遮蔽用
ブラインド26は、蒸着すべき帯鋼3をバス表面17か
ら保護する。
この設備の運転準備が整った後、遮蔽用のブラインド2
6は取り除かれ、るつぼ13は傾斜平面上にあるるつぼ
台車4によって蒸着すべき帯鋼3の近くに移される。
この場合、るつぼの壁ないし遮蔽壁16゜18.21.
22は、蒸発場所1における金属蒸気の手に負えない排
出を防止する。
蒸着を中断する場合、この工程を逆方四に行う。
例2 るつぼ13の運動は第4図に基づいて限定された2個の
終端点をもった揺動レバ一台27の上で行われる。
この2個の終端点は、バス表面17と蒸着すべき帯材3
との間の「最小距離」および「最大距離」の2つの作動
位置を決め、その連結線は電子ビーム入射方向に対して
平行に走っている。
蒸発場所(図示せず)の中には、4個のレバー28をも
った揺動レバ一台27があり、これは傾斜角αで蒸発場
所を貫通する帯鋼3の方向に移動することができる。
この揺動レバ一台27とレバー28とにより相対距離調
節装置が形成されている。
この場合、レバー28の端29はレバーの長さと同じ半
径で回転点31のまわりを円弧30に沿って移動する。
揺動レバ一台27は揺動レバ一台の運動方向に対して垂
直な軸心のまわりを回転しうる駆動装置(図示せず)に
よって動かされる。
揺動レバ一台27を補強するために、後方およびないし
前方のレバー28は十字形の補強部材によって結合され
ている。
この場合、各々の補強部材の点33は、揺動レバ一台2
7の駆動軸に対する取手部である。
回転点軸32から補強部材の一部33までの距離は、力
伝達装置の必要なストロークを決める。
この配置構造の他の横取および作動工程は、第1の実施
例の原理に相応している。
例3 第5図に示すように、本例は静止しているるつぼ13に
対して帯鋼3を上下動させる遮蔽用ブラインド261に
より、相対距離調節装置を形成したものである。
すなわら、蒸着を中断する場合蒸着すべき帯鋼3の持上
げは入れるべき遮蔽用ブラインド261によって行われ
る。
蒸発場所1において、るつぽ13および必要な転向装置
10が強固なるつぼ台5の上にある。
同様に転向装置10を室壁に配置することもできる。
第1実施例と同じように冷却される遮蔽用ブラインド2
61は、図示されていない装置を介して抽気されかつ蒸
発場所1のようにほぼ同じ真空状態にある遮蔽用ブライ
ンド室34の中にある。
ブラインド室34は適当な手段によって蒸発場所1に対
して遮蔽されている。
遮蔽用ブラインド261の安定した支持は、支持ローラ
35,36,37゜38によって得られる。
遮蔽用ブラインド261が戻された場合、作動位置「最
小距離」において、るつぼ13の上の蒸着すべき帯鋼3
の案内方向は、転向ローラ40と41との間の結合線に
相応している。
転向ローラ40,41によって決められる帯鋼3の傾斜
角εは、遮蔽用ブラインド261の傾斜角δよりも大き
い。
蒸発場所の保護および凝縮する金属蒸気の形成を高める
ために、るつぼ13の端面壁16.18および側壁21
,22は第1の実施例に相応して、引き入れるべき遮蔽
用ブラインド261に対して必要な空間を考慮した場合
、帯鋼3の近くにまで遮蔽体として形成することができ
る。
蒸発材料19の供給はマガジンから側壁21の開口25
を通して行われる。
蒸着処理の中断が必要な場合、素材3側の面にはね上げ
要素としてローラ42をもった遮蔽用ブラインド261
は、適当な駆動装置(図示せず)によって動かされる。
ブラインド261にあるローラ42は、蒸発に対して広
く保護され、これは帯鋼3に接触し、かつブラインドが
移動する際に帯鋼3を持ち上げる。
引き抜かれた終端位置において、遮蔽用ブラインド26
1の安定した支持は、支持ローラ35,36.37によ
って得られる。
ローラ42の蒸着保護を高めるために、ローラ42の端
面には遮蔽板43が設けられている。
蒸発場所1の解放のために、遮蔽用ブラインド261は
遮蔽用ブラインド室34の中に入れられる。
本発明は次のような態様で実施される。
(1)るつぼ台5の上におかれた蒸発るつぼ13を転向
装置10と電子ビームセンサ14と共に、傾斜平面の上
に蒸着場所1を周知の適当な形で貫通する素材3の方向
に往復運動できるるつぼ台車4の上に配置し、この場合
、傾斜平面の傾斜角βを電子ビーム銃9から転向装置1
0へ向う電子ビーム8の偏向装置15によって与えられ
る平均傾斜角γと同じにしたことを特徴とする特許請求
の範囲記載の装置。
(2)傾斜平面の上でるつぼ台5を案内するレール2を
、中断された2組に配置したことを特徴とする特許請求
の範囲および実施の態様(1)記載の装置。
(3)るつぼ13を水平面ないし垂直面において移動で
きるようにしたことを特徴とする特許請求の範囲および
実施の態様(1)記載の装置。
(4)るつぼ台5を、2つの作動位置を決めかつその結
合線が電子ビーム入射方向に対して平行に走るような2
つの終端点をもつ揺動レバ一台27の上に配置したこと
を特徴とする特許請求の範囲記載の装置。
(5)素材の案内手段として蒸発用るつぼの上を素材の
送り方向に移動しうる遮蔽用ブラインド261を利用し
、このブラインドの素材3の側にたとえばローラ42を
設けるかあるいは素材3の方向に移動しうるローラのよ
うなはね上げ要素を設けたことを特徴とする特許請求の
範囲記載の装置。
(6)素材を持ち上げるために素材3の傾斜角εを遮蔽
用ブラインド261の傾斜角δより大きくしたことを特
徴とする特許請求の範囲および実施の態様(5)記載の
装置。
(7)るつぼのすべての壁16.18,21.22の形
を、るつぼの幅および長さにおいてるつぼ13の素材3
からの最小距離の作動位置において安全距離が存在する
ように、素材の案内の幾何学的関係に合わせ、その場合
側壁21.22を帯材案内面の上にまで突き出し、電子
ビーム7および蒸発材料補給のためるつぼの壁16゜2
1に開口24,25を設けたことを特徴とする特許請求
の範囲ないし実施の態様(1)〜(6)記載の装置。
(8)るつぼ台5をるつは13の底面よりも大きくし、
上方に曲げられた縁11を設け、かつ耐火性材料12で
内張すしたことを特徴とする特許請求の範囲ないし実施
の態様(1)〜(7)記載の装置。
【図面の簡単な説明】
第1図は移動可能なるつぼをもった蒸着設備の概略断面
図、第2図はるつぼの別の案内装置を示す概略断面図、
第3a図はるつぼの端面壁を示す斜視図、第3b図はる
つぼの側壁を示す斜視図、第4図は揺動レバ一台をもっ
た蒸着設備の斜視図、第5図は挿入する遮蔽用ブライン
ドをもった蒸着設備の断面図である。 1・・・・・・蒸着場所、2・・・・・・レール、3・
・・・・・帯鋼(素材)、4・・・・・・るつぼ台車、
5・・・・・・るつぼ台、6.7・・・・・・遮蔽板、
8・・・・・・電子ビーム、9・・・・・・電子ビーム
銃、10・・・・・・電子ビーム転向装置、11・・・
・・・縁、12・・・・・・耐火材料、13・・・・・
・るつぼ、14・・・・・・電子ビームセンサ、15・
・・・・・電子ビーム偏向装置、16,18・・・・・
・るつぼ端面壁、17・・・・・・バス表面、19・・
・・・・蒸発材料、20・・・・・・車輪、21.22
・・・・・・るつぼ側壁、23・・・・・・つぼ長さ、
24・・・・・・電子ビームの投射開口、25・・・・
・・蒸発材料の補給開口、26,261・・・・・・ブ
ラインド、27・・・・・・揺動レバ一台、28・・・
・・・レバー、29・・・・・・レバ一端、30・・・
・・・円弧部分、31・・・・・・回転点、32・・・
・・・回転軸心、33・・・・・・補強部材点、34・
・・・・・遮蔽用ブラインド室、35,36,37,3
8・・・・・・支持ローラ、40,41・・・・・・転
向ローラ、42・・・・・・はね上げローラ、43・・
・・・・遮蔽板、α・・・・・・帯材傾斜角、β・・・
・・・傾斜平面の角度、γ・・・・・・電子ビームの傾
斜角、δ・・・・・・遮蔽ブラインドの傾斜角、ε・・
・・・・転向ローラ間の結合線の傾斜角。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 密閉状態にある蒸着場所中の下部にるつぼ台材の蒸
    発用るつぼを設け、この蒸発用るつぼの上方に位置する
    基体の下面を閉塞、解放する遮蔽用ブラインドを設け、
    前記基体に向けて電子ビームを発射する電子ビーム銃を
    設け、この電子ビームの方向を制御する電子ビーム偏向
    装置を設け、この電子ビーム偏向装置を経た電子ビーム
    を前記蒸発用るつぼ内の蒸発材料に導ひく電子ビーム転
    向装置を設け、前記蒸発用るつぼと基体との相対距離を
    変化調整する相対距離調節装置を設けたことを特徴とす
    る高い蒸着率で基体に蒸着を行なう装置。
JP50093665A 1974-07-31 1975-07-31 タカイジヨウチヤクリツデキタイニジヨウチヤクオオコナウソウチ Expired JPS5825739B2 (ja)

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BE (1) BE831989A (ja)
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SU (1) SU652237A1 (ja)

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JPS50134986A (ja) * 1974-04-16 1975-10-25

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BE831989A (fr) 1975-11-17
LU73127A1 (ja) 1976-04-13
DD113247A1 (ja) 1975-05-20
JPS5149183A (ja) 1976-04-28
IT1036929B (it) 1979-10-30
DE2527269A1 (de) 1976-02-12

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