DE1796166B2

DE1796166B2 - Verfahren und Vorrichtungen zum Bedampfen aufrechtstehender Substrate, insbesondere Glasscheiben

Info

Publication number: DE1796166B2
Application number: DE1796166A
Authority: DE
Inventors: Jose Fleurus Lelong; Emile Gilly Plumat
Original assignee: Glaverbel Mecaniver SA
Current assignee: Glaverbel Mecaniver SA
Priority date: 1967-09-18
Filing date: 1968-09-12
Publication date: 1978-05-03
Also published as: DE1796166C3; DE1796166A1; US3673006A

Description

Das Bedampfen von Substraten, insbesondere Glasscheiben zur Erzielung sehr dünner und gleichförmiger Oberflächenüberzüge ist auf unterschiedlichen technologischen Gebieten erforderlich, wobei mit einem Metall, einer Metallverbindung, Nichtmetallen oder Verbindungen von Nichtmetallen bedampft werden kann. Diese Bedampfung spielt insbesondere eine Rolle bei der Herstellung von lichtdurchlässigen Erzeugnissen, wie Linsen und Windschutzscheiben, welche zur Verringerung der Lichtrsflexion oder Strahlungswärme oder zur Erzielung elektrischer Leitfähigkeit verdampft

ίο werden, sowie bei Metall- und Kunststoffgegenständen, wo die Bedampfung zur Verzierung dient, bei der Herstellung von stark lichtreflektierenden Materialien, beispielsweise Spiegel, Scheinwerfer und dergleichen sowie auf elektronischem Gebiet bei der Herstellung gedruckter Schaltkreise.

Bei der Bedampfung zur Oberflächenbeschichtung macht man von zwei Grundarbeitsverfahren Gebrauch, wobei die zu beschichtende Fläche in einem ziemlich hohen Vakuum mit den Atomen oder Molekülen der Beschichtungssubstanz bedampft wird. Entweder wird die sogenannte Kathodenstrahlzerstäubung angewandt, wobei die Beschichtungssubstanz die Kathode eines Kathoden-Anoden-Systems bildet und durch Beschüß mit positiven Ionen zerstäubt wird, oder die Beschich tungssubstanz wird thermisch verdampft Ein Beispiel der erstgenannten Art zeigt die DT-PS 7 64 927, wo ein fokussierter Elektronenstrahl zur Verdampfung benutzt wird und die erzeugten Dämpfe dann in Kontakt mit den zu bedampfenden Flächen kommen. Die DT-PS 9 70 970 zeigt die thermische Verdampfung der aufzuschichtenden Substanz, wobei die entstandenen

Dämpfe dann jedoch geeignet abgelenkt und nach Ablenkung auf die zu verdampfende Fläche gelangen. Jedes dieser bisher benutzten Grundverfahren weist

jedoch Nachteile auf. Die Kathodenzerstäubung ist in der Anwenung beschränkt, da sich viele Beschichtungsmaterialien nicht zerstäuben lassen und außerdem wird oft die Lichtdurchlässigkeit der Materialien beeinträchtigt Beim Verdampfen unter Vakuum hat man die

to Schwierigkeit, daß der zu beschichtende Gegenstand im wesentlichen horizontal über der Dampfquelle angeordnet sein muß. Dies ist bei großen Scheiben nachteilig, beispielsweise Glasscheiben, da sie an den Rändern gestützt werden müssen und dann zur Durchbiegung aufgrund ihres Eigengewichtes neigen. Wegen dieser

Krümmung werden die Scheiben nicht gleichförmig

beschichtet, auch nicht wenn man die Dampfquelle horizontal unter der Scheibe bewegt

Ziel der Erfindung ist es, aufrechtstehende Substrate,

so insbesondere Glasscheiben, bedampfen zu können, insbesondere großflächige Scheiben. Dies wird dadurch erreicht, daß das aufzudampfende Material mittels Elektrodenbeschuß verdampft wird und der entstehende Dampf durch eine Elektrode des zur Verdampfung benutzten Elektrodensystems seitlich auf das zu bedampfende Substrat gelenkt wird. Der Dampferzeuger faßt also auch eine Ablenkeinrichtung durch welche der Dampf auf die Scheiben abgelenkt wird. Beispielsweise kann der Elektronenstrahl nach unten auf eine Länge der zu verdampfenden Substanz gerichtet werden, und der von dieser Substanz nach oben steigende Dampf kann seitlich auf die Scheibe abgelenkt werden. Wenn der Dampf in mehr als einer seitlichen Richtung von der senkrechten Achse des Elektronen-

M Strahls weg abgelenkt wird, können gleichzeitig mehrere Scheiben bedampft werden, die rund um die Achse an geeigneten Stellen angeordnet sind. Der Elektronenstrahlerzeuger und die zu verdampfende

Substanz können auch innerhalb eines senkrechten Rohres angeordnet sein und der hochsteigende Dampf kann radial nach außen abgelenkt werden, so daß die Innenseite des Rohres beschichtet wird. Die zu beschichtenden Flächen brauchen jedoch nicht senkrecht angeordnet sein, sondern sie können beliebig ausgerichtet sein, vorausgesetzt, daß Form und Anordnung der Dampfablenkeinrichtung geeignet ausgewählt sind, jedoch stehen die Substrate aus den schon genannten Gründen im wesentlichen aufrecht

Das Verfahren kann zur Oberflächenbeschichtung von Glas, Kunststoffen und beliebigen anderen Materialien verwendet werden, wobei als Bedampfungssubstanz jede Substanz verwendet werden kann, die durch Elektronenbeschuß verdampfbar ist Beispielsweise können auf Glas oder andere Substrate dünne gleichförmige Überzüge aus Sb₂S₃, CdS, CaF₂, CeO₂, Cr₂O₃, PbCl₂, LiF, MgF₂, AgCl, NaF, WO₃, V₃O₈ oder ZnS aufgebracht werden. Vorzugsweise wird der Dampf durch eine Elektrode des Elektrodensystens, das zur Erzeugung des Elektronenstroms verwendet wird, auf die zu bedampfende Fläche abgelenkt. Insbesondere kann die Anode oder die Hauptanode des zur Verdampfung benutzten Elektrodensystems in der Nähe der zu verdampfenden Materialmenge angeordnet oder von dieser zu verdampfenden Materialmenge gebildet werden und der Dampf auf die zu verdampfende Fläche durch die andere oder eine andere Elektrode dieses Systems abgelenkt werden, also insbesondere die Kathode des Elektrodensystems. Der Dampf kann auch durch die Anode oder die Hauptanode des Elektrodensystems auf die Fläche abgelenkt werden. Gemäß einer zweckmäßigen Ausführungsform wird der Elektronenstrom nach unten auf das zu verdampfende Material gerichtet und der Dampf bezüglich dieses Stroms seitlich auf die zu bedampfende Fläche abgelenkt, wobei vorzugsweise die Fläche eine von zwei oder mehr Flächen sein kann, die gleichzeitig beschichtet werden, indem Dampf bezüglich dieses Stroms seitlich auf diese Flächen abgelenkt wird.

Vorzugsweise liegen die zu verdampfenden Substanzen im flüssigen oder festen Zustand vor.

Die Erfindung betrifft auch eine Vorrichtung zum Bedampfen aufrechtstehender Substrate. Diese Vorrichtung enthält einen Dampferzeuger, der ein Elektrodensystem zur Erzeugung eines Elektronenstrahls sowie eine Ablenkvorrichtung für durch den Elektronenstrahl verdampfte Substanz und natürlich einen Vorrat an zu verdampfender Substanz aufweist, wobei gemäß einer bevorzugten Ausführungsform der Dampferzeuger und die zu bedampfende Scheibe relativ zueinander verschiebbar sind, so daß aufeinanderfolgende Flächenteile nacheinander beschichtet werden. Vorzugsweise wird ein Schmelztiegel zur Aufnahme der zu verdampfenden für diesen Fall flüssigen Substanz vorgesehen, der aus elektrisch leitendem Material besteht und die Anode oder die Hauptanode des Elektrodensystems bildet

Er kann zweckmäßig mit einer Schicht aus hitzebeständigem Material ausgekleidet oder an der Außenseite mit einer Wärmeisolierung versehen sein. Zweckmäßig sind noch Einrichtungen zur Aufheizung der Kathode des Elektrodensystems vorgesehen oder eine Kathodenheizeinrichtung zwischen Kathode und einem Wärmeschirm angeordnet.

Der Elektronenstrahl kann in an sich bekannter Weise von der Kathode des Elektrodensystems immitiert werden, das gleichzeitig zur Errichtung des elektrischen Feldes zur Beschleunigung und Leitung der Elektronen in Richtung des Vorrats anzuverdampfenden Materials verwendet wird oder die Elektronen können von einem Heizfaden immitiert werden, also durch eine Elektronenstrahlkanone.

Insbesondere bei der Bedampfung großer aufrechtstehender Scheiben können der Dampferzeuger, bestehend aus Elektronenstrahlerzeuger, Dampfablenkeinrichtungen und Menge an zu verdampfenden Material, als Einheit parallel zur Scheibe nach oben und/oder unten verschoben werden. Ein Dampferzeuger in Form einer solchen Baueinheit kann recht kompakt sein und hat nur geringes Gewicht Beim Elektronenstrahlerzeuger werden hohe Spannungen auf relativ niedrige Ströme angewandt so daß elektrische Verbindungen zu dieser Baueinheit gewichtsmäßig leichter ausgeführt werden können als Leitungen für elektrische Widerstandsheizelemente wie sie bei den üblichen Einrichtungen zur thermischen Verdampfung erforderlich sind.

Wenn die Dampfablenkeinrichtung gemäß einer vorzugsweisen Ausführungsform von der Kathode des Elektrodensystems gebildet wird, setzt dies voraus, daß die Anode nicht zwischen der Kathode und der zu verdampfenden Substanz angeordnet ist und die Elektronen des Strahles durch das elektrische Feld über die gesamte Entfernung von der Kathode zu dieser Substanz beschleunigt werden. Dabei wird überdies ein Teil der von dem verdampften Material abgestrahlten Wärme auf die Kathode gestrahlt, wodurch deren Immissionstätigkeit erhöht und eine Verringerung der elektrischen Leistung ermöglicht wird. Wenn das Elektrodensystem eine Anode aufweist, die eine Halteeinrichtung für das zu bedampfende Material bildet, zum Beispiel den Schmelztiegel dafür, trägt dies vorteilhaft dazu bei, die Anzahl der Bestandteile des Dampferzeugers oder Elektronenstrahlerzeugers möglichst klein zu halten. Das innere der Halteeinrichtung kann mit hitzebeständigem Material ausgekleidet sein oder es kann an der Außenseite eine Wärmeisolierung vorgesehen sein.

Bei Anlagen mit geringer Kapazität, beispielsweise für Laboranlagen, kann es vorteilhaft sein, wenn der Elektronenstrahlerzeuger unabhängig von jeglicher Halteeinrichtung für das zu verdampfende Material ist, so daß eine Halteeinrichtung einfach ausgewechselt und durch eine andere ersetzt werden kann, ohne daß dabei der Elektronenstrahlgenerator, beispielsweise die Elektronenstrahlkanone, beeinflußt wird. Wenn nämlich der Strahlerzeuger oder -generator von jeglicher Halteeinrichtung für das zu verdampfende Material unabhängig ist, kann eine beliebige Elektrode des Elektrodensystems die Dampfablenkeinrichtung bilden, die jedoch vorzugsweise von der Anode oder der Hauptanode des Systems gebildet wird. Bekanntlich kann durch Heizen der Kathode die Leistungsfähigkeit bzw. der Wirkungsgrad für die Elektronenstrahlerzeuger verbessert werden. Daher können auch hier Heizelemente an der Nähe der Kathode angeordnet werden, vorzugsweise zwischen Kathode und einem Wärmeschirm.

Weitere Einzelheiten und Vorteile der Erfindung werden im folgenden anhand verschiedener Ausführungsbeispiele unter Bezugnahme auf die Zeichnung erläutert. In dieser bedeuten

F i g. 1 und 2 Querschnittsansichten zweier Ausfüllen rungsformen der Vorrichtung gemäß der Erfindung,

Fig.3 bis 5 Querschnittsansichten verschiedener Ausführungsformen des Schmelztiegels, und
Fig.6 bis 8 Querschnittsansichten dreier weiterer

Ausführungsformen der Vorrichtung gemäß der Erfindung.

Bei der Ausführungsform nach F i g. 1 enthält ein Schmelztiegel 10 das zu verdampfende und auf die Oberfläche eines nicht dargestellten Gegenstandes aufzubringende Material U.

Die Form und die Abmessungen des Schmelztiegels können so gewählt werden, daß sie der speziellen Art und den Besonderheiten der zu beschichtenden Gegenstände angepaßt sind. Im Falle von Glastafeln kann der Schmelztiegel beispielsweise die Form einer länglichen Wanne aufweisen, deren Querschnitt die in F i g. 1 dargestellte Gestalt haben wird und deren Länge etwas größer als die Breite der zu behandelnden Tafeln sein wird. Der Schmelztiegel 10 besteht aus einem elektrisch gut leitenden Material wie Kupfer, Wolfram oder Molybdän, wobei das Material im Hinblick auf die Art des zu verdampfenden Materials und die Arbeitstemperatur gewählt wird, da das zu verdampfende Material nicht mit dem Material des Schmelztiegels reagieren soll. Das zu verdampfende Material 11 kann ein elektrisch leitendes Material oder ein nichtleitendes Material sein.

Der Schmelztiegel 10 bildet die Anode des Elektrodensystems zur Erzeugung des Elektronenstroms, bzw. des Elektronenstrahles. Die Kathode ist über dem Schmelztiegel angeordnet und erstreckt sich über die gesamte Länge und Breite dieses Tiegels. Die Kathode besteht beispielsweise aus einer Wolframplatte 12a, die mit Thoriomoxyd 126 zur Erhöhung ihrer Emissionsfähigkeit überzogen ist. Die Kathode 12 kann dadurch geheizt werden, daß ein Wechselstrom durch die Wolframplatte 12a geschickt wird. Im Anwendungsfalle ist die Vorrichtung in einer evakuierten Kammer angeordnet Zwischen dem die Anode bildenden Schmelztiegel 10 und der Kathode 12 wird eine Potentialdifferenz aufrechterhalten, die ausreicht, um eine Verdampfung des Materials 11 in dem Schmelztiegel als Folge des Beschüsses dieses Materials durch die von der Kathode 12 emittierten Elektronen zu bewirken. Die von der Oberfläche des Materials 11 vertikal nach oben steigenden Dämpfe werden durch die Kathode 12 seitlich abgelenkt. Der Abstand zwischen Kathode und Schmelztiegel ist derart gewählt, daß der abgelenkte Dampf zu ziemlich gut definierten Horizontalströmen konzentriert wird, wie dies durch die Pfeile 13, 14 angegeben ist. Diese horizontalen Darrtpfströme dienen dann zur Beschichtung von Tafeln, die in Vertikalebenenen ganz nahe an den gegenüberliegenden Seiten des Schmelztiegels angeordnet sind.

Die Kathode 12 wird nicht nur durch den Joule-Effekt, sondern auch durch Wärmestrahlung von dem Material 11 in dem Schmelztiegel aufgeheizt.

Zwei große Glastafeln können mittels der in Fig. 1 dargestellten Vorrichtung gleichförmig beschichtet werden, indem diese zwei Tafeln in der bereits erwähnten Weise in vertikalen Ebenen an gegenüberliegenden Seiten der Vorrichtung angeordnet werden, und zwar innerhalb eines evakuierten Behälters, wobei dann die in der Figur dargestellte Vorrichtung zwischen den Tafeln vertikal mit konstanter Geschwindigkeit unter Durchführung der Verdampfung verschoben wird. Die Vorrichtung kann zu Beginn unterhalb des Niveaus der unteren Ränder der Tafeln angeordnet sein und nach oben bewegt werden. Sie kann aber auch von einem über den Tafeln gelegenen Niveau nach unten bewegt werden. Die Vorrichtung kann ihre vertikale Bahn mehr als einmal durchlaufen, wenn eine größere Schichtdicke gefordert wird. Da die Tafeln in Vertikalebenen angeordnet sind, tritt keinerlei Verformung dieser Tafel auf.
Unter Verwendung einer Vorrichtung, wie sie in

s F i g. 1 dargestellt ist und soeben beschrieben wurde, wurden in einem durchgeführten Beschichtungsvorgang zwei Glasscheiben mit einer Schicht aus ZnS beschichtet. Die Dicke der auf jede Tafel aufgebrachten Schicht betrug 80 mm, so daß eine Glasur, bzw. ein Überzug

ίο gebildet wurde, der Wärmestrahlung reflektiert. Das ZnS befand sich in einem Schmelztiegel aus Molybdän. Die Beschichtungsvorrichtung wurde relativ zu den Glastafeln mit einer Geschwindigkeit von etwa 1 cm/sek. verschoben. Das Potential zwischen den Elektroden 10 und 12 lag in der Größenordnung von 1500 Volt Die Beschichtung wurde unter einem Druck von etwa 10~⁵ mm Hg durchgeführt.

Die in Fig.2 dargestellte Vorrichtung ist derart ausgebildet, daß jeweils nur eine Tafel beschichtet werden kann. Die Vorrichtung weist einen Schmelztiegel 20 aus einem elektrisch leitenden Material auf, der das zu verdampfende Material 21 enthält. Über dem Schmelztiegel ist die Kathode 22 angeordnet, die in der Weise geneigt ist, daß die von dem Material 21 emittierten und senkrecht nach oben steigenden Dämpfe in nur einer einzigen Richtung abgelenkt werden, wie dies durch die Pfeile angegeben ist.

Die Kathode 22 wird zur Erhöhung der Emissionsfähigkeit durch ein elektrisches Widerstandsheizelement 23 aufgeheizt, das zwischen der Oberseite der Kathode und einem wärmereflektierenden Schirm 24 aus Molybdän oder Tantal angeordnet ist. Die Kathode kann auch auf andere Weise aufgeheizt werden, z. B. durch Beschüß mit Elektronen von einer Sekundärelektronenquelle.

Bei Verwendung einer Vorrichtung nach den F i g. 1 und 2 kann das zu verdampfende Material schnell gewechselt werden, da es nur erforderlich ist, den das zum Aufbringen einer ersten Schichtart verwendete

■to Material enthaltenden Schmelztiegel durch einen anderen Schmelztiegel zu ersetzen, der das neue aufzubringende Material enthält.

Der in Fig.3 dargestellte Schmelztiegel kann verwendet werden, wenn das abzulagernde Material 31 aus einem elektrisch leitenden Material besteht. In diesem Falle besteht der Schmelztiegel 30 aus einem feuerfesten Material. Der elektrische Kontakt mit dem Material 31 wird durch eine Elektrode 32 gewährleistet, die sich durch den Boden des Schmelztiegels 30 erstreckt, so daß das Material 31 eine Elektrode oder eine Elektrodefortsetzung bildet.

Falls es erforderlich ist, einen Schmelztiegel aus einem elektrisch leitenden Material, z. B. Kupfer zu verwenden und das zu verdampfende Material mit

^ri5 diesem leitenden Material bei höherer Temperatur reagiert, kann eine Schicht aus hitzebeständigem Material, das nicht durch das zu verdampfende Material angegriffen wird, zwischen dem Schmelztiegelkörper und seinem Inhalt angeordnet werden, wie dies in F i g. 4

t,(i dargestellt ist. Diese F i g. 4 zeigt einen Schmelztiegel 40 aus Kupfer und eine Aluminiumoxydschicht 41, die zwischen dem Schmelztiegel 40 und einer Menge an zu verdampfendem Aluminium 42 angeordnet ist.

In allen Fällen kann der Schmelztiegel mit einer

i'·· wärmeisolierenden, hitzebeständigen Außenummantelung versehen sein, um Wärmeverluste zu verringern. Dies ist in Fig.5 dargestellt, in der der das zu verdampfende Material 51 enthaltende Schmelztiegel

50 mit einer wärmeisolierenden und hitzebeständigen Verkleidung 52 versehen ist.

Die F i g. 6 und 8 zeigen eine Vorrichtung, bei der der Elektronenstromerzeuger unabhängig von dem zu verdampfenden Material und dem dieses Material 5 enthaltenden Schmelztiegel ist. Diese Anordnung eignet sich besonders für Vorrichtungen mit geringer Abgabe, wie sie beispielsweise in Laboratorien für Versuchszwecke verwendet werden.

Bei der in Fig. 6 gezeigten Vorrichtung weist das abzulagernde Material die Form eines festen Blockes 60 auf. Die Anode wird von einem Rahmen 61 gebildet, der etwas größer als der Block 60 und direkt über diesem Block angeordnet ist. Die Ablenkeinrichtung für die von dem Block 60 hochsteigenden Dämpfe wird von einer Kathode 62 gebildet, die sowohl über der Anode 61 als auch über dem Block 60 angeordnet ist. Die Kathode 62 wird durch ein Strahlungsheizelement 63 aufgeheizt, das von einem wärmereflektierenden Schirm 64 umgeben ist.

Bei der in F i g. 7 dargestellten Vorrichtung wird das zu verdampfende und in einem Schmelztiegel 70 enthaltene Material 71 durch Elektronen beschossen, die von einer Elektronenkanone kommen. Die Elektronenkanone besteht aus einer indirekt mittels eines Heizfadens 72 geheizten Kathode 73, welche die Elektronenquelle darstellt, einer Fokussieranode 74 und Beschleunigungsanode 75, 76. Die Hauptanode 76 wirkt als Ablenkeinrichtung für die von dem Material 71 ausgesandten Dämpfe.

Bei der in Fig.8 dargestellten Vorrichtung wird die Ablenkeinrichtung für die von dem zu verdampfenden Material 80 hochsteigenden Dämpfe von der Fokussierelektrode 84 einer Elektronenkanone gebildet. Diese besteht aus einer mittels eines Heizfadens 81 geheizten Kathode 82, einem Wehnelt-Gitter 83 und einer Hauptanode 85, die wie bei der in Fig.6 dargestellten Ausführungsform in der Nähe des zu verdampfenden Materials angeordnet ist.

Hierzu 1 Blatt Zeichnungen

Claims

Patentansprüche:

1. Verfahren zum Bedampfen aufrechtstehender Substrate, insbesondere Glasscheiben, dadurch gekennzeichnet, daß das aufzudampfende Material mittels Elektronenbeschuß verdampft wird und der entstehende Dampf durch eine Elektrode des zur Verdampfung benutzten Elektrodensystems seitlich auf das zu bedampfende Substrat gelenkt wird.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Anode oder die Hauptanode des zur Verdampfung benutzten Elektrodensystems in der Nähe der zu verdampfenden Materialmenge gebildet wird und der Dampf auf die zu bedampfende Fläche durch die andere oder ein andere Elektrode dieses Systems angelenkt wird.

3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Dampf auf die Fläche durch die Kathode des Elektrodensystems abgelenkt wird.

4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Dampf durch die Anode oder Hauptanode des Elektrodensystems auf die Fläche abgelenkt wird.

5. Verfahren nach einem oder vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß Dampferzeuger und Scheibe relativ zueinander bewegt werden.

6. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Kathode des Elektrodensystems eine Platte (12; 22) ist, welche über der als Anode dienenden Verdampfungswanne (10; 20) angeordnet ist, wobei die Platte horizontal oder geneigt angeordnet ist

7. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß eine nichtleitende Verdampfungswanne (30) vorliegt, und eine gesonderte, durch den Boden der Wanne geführte Anode (32) in dieser angeordnet ist

8. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Verdampfungswanne (40,50) auf der Innen- oder Außenseite eine Auflage aus hitzebeständigem Material (4132) aufweist.

9. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Elektronenstromerzeuger unabhängig von der Verdampfungswanne ist und die als Anode dienende Elektronenkanone in Form eines etwas größeren Rahmens (61; 85) über dem festen zu verdampfenden Material (60; 80) angeordnet ist und die Kathode in Form einer waagerechten, beheizten, die Anode ganz oder teilweise überdekkenden Platte (62; 82) angeordnet ist, die zugleich als Ablenkplatte dient, wobei bei teilweiser Uberdekkung der Anode eine Fokussierelektrode (84) und ein Wehnelt-Gitter (86) zwischen Anode und Kathode angeordnet sind.

10. Vorrichtung nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Anode in Form einer Fokussierblende (76) über einer Verdampfungswanne (70) für flüssiges Material (71) angeordnet und zwischen Anode (76) und Kathode (73) zwei Beschleunigungsanoden (75,76) angeordnet sind.