DE1796166A1

DE1796166A1 - Verfahren und Vorrichtung zum Aufbringen duenner Schichten auf die Oberflaeche von Gegenstaenden

Info

Publication number: DE1796166A1
Application number: DE19681796166
Authority: DE
Inventors: Jose Lelong; Emile Plumat
Original assignee: Glaverbel Belgium SA
Current assignee: AGC Glass Europe SA
Priority date: 1967-09-18
Filing date: 1968-09-12
Publication date: 1972-06-08
Also published as: DE1796166C3; US3673006A; DE1796166B2

Description

DR. MÜLLER-BORE DIPL.-ΙΝΘ. GRALFS . ■

DlPL-PHVS. DR. MANITZ DIPL.-CHEM. DR. DEUFEL I 7 9 0 1 Q Q

PATENTANWÄLTE

München, den 12. September 1968 Fi/Sch - G 1762

166, Chaussee de la Hulpe Watermael-Boitsfort, Belgien

Verfahren und Vorrichtung zum Aufbringen dünner Schichten auf die Oberfläche von Gegenständen

Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Beschichtung der Oberfläche von Gegenständen mit einem Metall, einer Metallverbindung, Nichtmetallen oder Verbindungen von Nichtmetallen.

Das Aufbringen von Metallen und Metallverbindungen sowie von Nichtmetallen und deren Verbindungen in Form sehr dünner und gleichförmiger Oberflächenüberzüge ist auf unterschiedlichen technologischen Gebieten erforderlich. Unter anderem ist dies der Fall bei der Herstellung von lichtdurchlässigen Materialien und Gegenständen wie Linsen und Windschutzscheiben, welche mit

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Oberflächenüberzügoiversehen sind, die zur Verringerung der Reflexion von Licht oder Strahlungswärme oder zur Erzielung einer elektrischen Leitfähigkeit dienen, sowie bei der Verzierung von Metall- und Kunststoffgegenständen, bei der Herstellung von stark lichtreflektierenden Materialien für Spiegel, Scheinwerfer und andere

bei der Erzeugnisse, und auf elektronischem Gebiet . Her-

stellung gedruckter Schaltkreise.

Bei der Herstellung dieser Erzeugnisse wird von zwei Verfahren zur Oberflächenbeschichtung Gebrauch gemacht, bei denen die zu beschichtende Fläche in einem ziemlich hohen Vakuum mit den Atomen oder Molekülen der Beschichtungssubstanz in Berührung gelangt. Bei einem dieser Verfahren wird von der sogenannten Technik der Kathodehzerstäubung Gebrauch gemacht, wobei die Beschichtungssubstanz die Kathode eines Kathoden-Anoden-Systems bildet und durch Beschüß mit positiven Ionen zerstäubt wird, und bei dem anderen Verfahren wird die Be!Schichtungssubstanz thermisch verdampft.

Jedes dieser bisher benutzten Verfahren weist jedoch Nachteile auf. Das Verfahren zur Kathodenzerstäubung wirkt sich auf bestimmte Materialien schädlich aus, wenn diese nach diesem Verfahren aufgebracht werden.

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Wenn dieses Verfahren beispielsweise zur Beschichtung der Oberfläche bestimmter lichtdurchlässiger Kunststoffmaterialien verwendet wird, so wird die lichtdurchlässigkeit der Materialien beeinträchtigt. Außerdem gibt es viele BeSchichtungsmaterialien, die nicht zerstäubt werden können. Bei Anwendung des bisher benutzten Verfahrens der Verdampfung unter Vakuum ergeben sich ganz ernsthafte Einschränkungen bezüglich der möglichen Ausrichtungen des zu beschichtenden Gegenstandes bezüglich der Dampfquelle. Wird demgemäß eine Glastafel beschichtet, so muß diese im we seitlichen horizontal über der Dampf quelle angeordnet sein. Diese Ausrichtung ist jedoch ±_m Falle einer großen Tafel nachteilig, da diese Tafel an den Rändern gestützt werden muß. und zur Durchbiegung aufgrund ihres Eigengewichtes neigt. Aufgrund dieser Krümmung wird die Tafel nicht gleichförmig beschichtet, und sogar auch dann nicht, wenn die Dampfquelle horizontal verschoben wird, sodaß sie sich fortschreitend unter der gesamten Fläche der Tafel, bewegt.

Gemäß der Erfindung wird ein Beschichtungsverfahren geschaffen, das zum Aufbringen eines größeren Bereichs von Substanzen als mittels des Verfahrens der Kathodenzerstäubung aufgebracht werden können, verwendbar ist und das im Bezug auf die Ausrichtung des zu beschichtenden Gegenstandes eine Vielzahl von Möglichkeiten zuläßt.

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Nach, dem erfindungsgemäßen Verfaliren zum Aufbringen eines Metalls, einer Metalbrerbindung, von Nichtmetallen oder deren Verbindungen auf eine Oberfläche zur Bildung eine s Überzugs wird eine Menge des Metalle, der Metallverbindung, des Nichtmetalls oder der Nichtmetallverbindung im Vakuum

bzw. Elektronenstroms durch Beschüß mittels eines Elektronenstrahls/verdampft, und der vom Ort seiner Entstehung ausgehende Dampf wird auf diese Oberfläche gelenkt.

Dieses Verfahren kann zur Beschichtung einer großen Tafel, die in der Vertikalebene gehalten wird, verwendet werden.

Beispielsweise kann der Elektronenstrahl nach unten auf

zu
eine Menge der/verdampfenden Substanz gerichtet werden, und der von dieser Substanz nach oben steigende Dampf kann seitlich auf die iüafel abgelenkt werden· Wenn Dampf in mehr als einer seitlichenRichtung von der vertikalen Achse des Elektronenstrahlas weg abgelenkt wird, können gleichzeitig die Flächen von zwei oder mehr ÜJafeln beschichtet werden, indem diese Tafeln rund um diese Achse an geeigneten Stellen angeordnet werden. Gemäß einem anderen Anwendungsbeispiel der Erfindung können der Generator zur Erzeugung des Elektronenstrahls und die zu verdampfende Substanz innerhalb eines vertikalen Rohrs angeordnet werden und der hochsteigende Daapf kann radial nach außen gelenkt werden, so daß die Innenseite

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des Rohrs beschichtet wird. Die zu beschichtende Fläche oder die zu beschichtenden Flächen braucht bzw. brauchen nicht vertikal angeordnet zu sein. Diese Fläche oder Flächen kann bzw. können in beliebiger gewünschter Weise gerichtet sein, vorausgesetzt daß die Form und die Anordnung der Dampfablenkeinrichtungen geeignet ausgewählt sind.

Das erfindungsgemäße Verfahren kann zur Oberflächenbeschichtung von Glas, Kunststoffen und beliebigen anderen Materialien verwendet werden, wobei als Beschichtungssubstanz jedes Substanz verwendet werden kann, die durch Elektronenbeschuß verdampft werden kann. Beispielsweise kann die Erfindung dazu benutzt werden, auf Glas oder ein anderes Substrat einen dünnen gleichförmigen Überzug aus einer der folgenden Verbindung aufzubringen: Sb₂S₃, CdS, CaF₂, CeO₂, Cr₃O₅, PbCl₂, LiF, MgF₂, AgCl, NaF, WO₅, V₃O₈, ZnS.

Die Erfindung betrifft auch eine Vorrichtung zur Durchführung des vorstehend beschriebenen Verfahrens. Eine Vorrichtung gemäß der Erfindung weist Einrichtungen eLnschlLeßlich eines Systems von Elekbroden zur Erzeugung ei.no3 Kl.3ktr0nerLstrah.ls zum Beschüß einer tlenge von Metall, einer Mi:L'illverbindung odor von Nichtmetall odor Nichtmetall-

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Verbindungen in festem oder flüssigem Zustand auf, um deren Verdampfung zu "bewirken, und ist mit Einrichtungen zur Ablenkung des von der Stelle seiner Entstehung ausgehenden Dampfes auf eine Oberfläche versehen.

Bei dem Elektronenstrahlerzeuger kann es sich um eine Einrichtung handeln, bei der die Elektronen von der Kathode des Elektrodensystems emittiert werden, das zur Errichtung des elektrischen Feldes verwendet wird, welches die Elektronen in Sichtung der zu verdampfenden Menge von Metall, einer Metallverbindung, eines Nichtmetalls oder einer Nichtmetallverbindung beschleunigt und führt. Die Elektronen können jedoch auch von einem Heizfaden emittiert werden. Der Generator kann somit die Form einer Elektronenstrahlkanone besitzen.

Der Elektronenstrahlerzeuger, die Einrichtungen zur Dampfablenkung und die Menge an zu verdampfendem Material (das sich im festen oder flüssigen Zustand befinden kann) einerseits und die zu beschichtende Fläche andererseits können während der Periode der Durchführung der Verdampfung relativ zueinander verschoben werden, so daß aufeinanderfolgende Bereiche längs der Oberfläche nacheinander beschichtet werden. Wird beispielsweise eine große Tafel beschichtet, so kann diese

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vertikal angeordnet werden, und der Elektronenstrahlerzeuger, die Dampfablenkeinrichtungen und die Menge an zu verdampfendem Material können als Einhit parallel zu der Tafel nach oben und/oder nach unten verschoben werden. Der Elektronenerzeuger, die Dampfablenkeinrichtungen und eine Halteeinrichtung für die zu verdampfende Substanz können strukturmäßig eine Einheit bilden, die kompakt sein und ein sehr geringes Gewicht aufweisen kann. Beim Elektronenstrahlerzeuger werden hohe Spannungen, aber lelativ niedrige Ströme verwendet, so daß die elektrischen Verbindungen zu der Einheit gewichtsmäßig leichter ausgeführt werden können, als diejenigen Leitungen, die für elektrische Widerstandsheizelemente erforderlich sind, die be^/Ö.aiüblichen Einrichtungen zur thermischen Verdampfung verwendet werden.

Die Dampfablenkeinrichtungen können von einer Elektrode des Elektrodensystems gebildet werden, welches zur Erzeugung des Elektronenstrahls verwendet wird. Vorzugsweise wird die Anode des Elektrodensystems oder die Hauptanode, wenn mehr als eine Anode verwendet werden, in der Nähe des zu verdampfenden Materials angeordnet oder selbst von der zu verdampfenden Materialmenge gebildet, und die Dampfablenkeinrichtungen werden von der anderen oder einer anderen Elektrode dieses Systems

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gebildet. Die Dampfablenkeinrichtung wird vorzugsweise von der Kathode des Elektrodensystems gebildet. Dies setzt voraus, daß die Anode nicht zwischen der Kathode und der zu verdampfenden Substanz angeordnet ist und die Elektronen des Strahles durch das elektrische Feld über die gesamte Entfernung von der Kathode zu dieser Substanz beschleunigt werden. Überdies wird ein Teil der von dem verdampften Material abgestrahlten Wärme auf die Kathode gestrahlt, wodurch deren EmI ssionstätigkeit erhöht und eine Verringerung der elektrischen Leistung ermöglicht wird.

Das Elektrodensystem kann eine Anode aufweisen, die eine Halteeinrichtung, z.B. einen Schmelztiegel für das zu verdampfende Material bildet. Dies trägt vorteilhaft dazu bei, die Anzahl der Bestandteile des Generators oder Strahlerzeugers auf einem Minimum zu halten. Das Innere der Halte einrichtung kann mit hitzebeständigem Material ausgekleidet sein. An der Außenseite kann eine Wärmeisolierung vorgesehen sein.

Bei Anlagen mit geringer Kapazität kann es vorteilhaft sein, wenn der Elektronenstrahlerzeuger unabhängig von jeglicher Halteeinrichtung für das zu veiäampfende Material

so
ist,/daß eine Halteeinrichtung einfach ausgewechselt und

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durch, eine andere ersetzt werden kann, ohne daß dabei der Strahlerzeuger in irgendeiner Weise selbst beeinflußt wird. Beispielsweise kann der Strahlerzeuger die Form einer Elektronenstrahlkanone besitzen. Wenn der Strahlerzeuger oder Generator von jeglicher Halteinrichtung für das zu verdampfende Itfcerial unabhängig ist, so kann eine beliebige Elektrode des Elektrodensystems die Dampfablenkeinrichtung bilden, aber vorzugsweise wird diese Einrichtung von der Anode oder der Hauptanode des Systems gebildet.

Durch Heizen der Kathode kann die Leistungsfähigkeit, bzw. der Wirkungsgraddes Generators verbessert werden. Zu diesem Zweck kann ein Heizelement oder es können Heizelemente in der Nähe der Kathode angeordnet werden, und zwar vorzugsweise zwischen der Kathode und einem Wärmeschirm.

Weitere Einzelheiten und Vorteile der Erfindung werden im folgenden anhand verschiedener Ausführungsbeispiele unter Bezugnahme auf die Zeichnung erläutert} in dieser zeigt:

Die Fig. 1 und 2 Querschnittsansichten zweier Ausführungsformen der Vorrichtung gemäß der Erfindung,

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die Pig. J bis 5 Querschnittsansichten verschiedener

Ausführungsformen des Schmelztiegels, und

die Pig. 6 bis 8 Querschnittsansichten dreier weiterer

Ausführung sformen der Vorrichtung gemäß der Erfindung.

Bei der Ausführungsform nach Pig. 1 enthält ein Schmelztiegel 10 das zu verdampfende und auf die Oberfläche eines nicht dargestellten Gegenstandes aufzubringende Material 11·

Sie Porm und die Abmessungen des Schmslztiegels können so gewählt werden, daß sie der speziellen Art und den Besonderheiten der zu beschichtenden Gegenstände angepaßt sind. Im Palle von Glastafeln kann der Schmelztiegel beispielsweise die Porm einer länglichen Wanne aufweisen, deren Querschnitt die in Pig. 1 dargestellte Gestalt haben wird und deren Länge etwas größer als die Breite der zu behandelnden !Tafeln sein wird. Der Schmelztiegel 10 besteht aus einem elektrisch gut leitenden Material wie Kupfer, Wolfram oder Molybdän, wobei das Msfeerial im Hinblick auf die Art des zu verdampfenden Materials und die Arbeite temperatur gewählt wird, da das zu verdampfende Material nicht mit dem Material des Schmelztiegels

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reagieren soll. Das zu verdampfende Material 11 kann ein elektrisch leitendes Material oder ein nichtleitendes Material sein.

Der Schmelztiegel 10 bildet die Anode des Elektrodensystems zur Erzeugung des Elektronenstroms, bzw. des Elektronenstrahles. Die Kathode ist über dem Schmelztiegel angeordnet und erstreckt sich über die gesamte Länge und Breite dieses Tiegels. Die Kathode besteht beispielsweise aus einer Wo„lframplatte 12a, die mit Thoriomoxyd 12b zur Erhöhung ihrer Emi ss ions fahigk ei t überzogen ist. Die Kathode 12 kann dadurch geheizt werden, daß ein Wechselstrom durch die Wolframplatte 12a geschickt wird. Im Anwendungsfale ist die Vorrichtung in einer evakuierten Kammer angeordnet. Zwischen dem die Anode bildenden Schmelztiegel 10 und der Kathode 12 wird eine Potentialdifferenz aufrecht erhalten, die ausreicht, um eine Verdampfung des Materials 11 in dem Schmelztiegel als Folge des Beschüsses dieses Materials durch die von der Sfchode 12 emittierten Elektronen zu bewirken. Die von der Oberfläche des Materials 11 vertikal nach oben steigenden Dämpfe werden durch die Kathode 12 seitlich abgelenkt. Der Abstand zwischen Kathode und Schmelztiegel ist derart gewählt, daß der abgelenkte Dampf au ziemlich gut definierten Horizontal-

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strömen konzentriert wird, wie dies durch die Pfeile 13» 14 angegeben ist. Diese horizontalen Dampfströme dienen dann zur Beschichtung von Tafeln, die in Vertikalebenen ganz nahe an den gegenüberliegenden Seiten des Schmelztiegels angeordnet sind.

Die Kathode 12 wird nicht nur durch den Joule-Effekt, sondern auch durch Wärmestrahlung von dem Material 11 in dem Schmelztiegel aufgeheizt.

Zwei große Glastafeln können mittels der in Fig. 1 dargestellten Vorrichtung gleichförmig beschichtet werden, indem diese zwei Tafeln in der bereits erwähnten Weise in vertikalen Ebenen an gegenüberliegenden Seiten der Vorrichtung angeordnet werden, und zwar innerhalb eines evakuierten Behälters, wobei dann die in der Figur dargestellte Vorrichtung zwischen den Täfeln vertikal mit konstanter Geschwindigkeit unter Durchführung der Verdampfung verschoben wird. Die Vorrichtung kann zu Beginn unterhalb des Niveaus der unteren Ränder der Tafeln angeordnet sein und nach oben bewegt werden. Sie kann aber auch von einem über den Tafeln gelegenen Niveau nach unten bewegt werden. Die Vorrichtung kann ihre vertikale Bahn mehr als einmal durchlaufen, wenn eine größere Schichtdicke gefordert wird. Da die Tafeln in Vertikalebenen

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angeordnet sind, tritt keinerlei Verformung dieser Tafel auf.

Unter Verwendung einer Vorrichtung, wie sie in Fig. 1 dargestellt ist und soeben beschrieben wurde, wurden in einem durchgeführten BeSchichtungsvorgang zwei Glastafeln mit einer Schicht aus ZnS beschichtet. Die Dicke der auf jede Tafel aufgebrachten Schicht betrug 80 Millimikron, so daß eine Glasur, bzw. ein Überzug gebildet wurde, der Wärmestrahlung reflektiert· Das ZnS befand sich in einem Schmelztiegel aus Molybdän. Die BeSchichtungsvorrichtung wurde relativ zu den Glastafeln mit einer Geschwindigkeit von etwa 1 cm/sek. verschoben.Das Potential zwischen den Elektroden 10 und lag in der Größenordnung von 15OO Volt. Die Beschichtung wurde unter einem Druck von etwa 10""''mm Hg durchgeführt.

Die in Fig. 2 dargestellte Vorrichtung ist derart ausgebildet, daß jeweils nur eine Tafel beschichtet werden kann. Die Vorrichtung weist einen Schmelztiegel 20 aus einem elektrisch leitenden Material auf, der das zu verdampfende Material 21 enthält. Über dem Schmelztiegel Lst die Kathode 22 angeordnet, die in der Weise geneigt Ist, daß die von dem Material 21 emittierten und senkrecht nach oben steigenden Dämpfe in nur einer einzigen

²⁰⁹⁸²⁴

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Richtung abgelenkt werden, wie dies durch die Pfeile angegeben ist.

Die Kathode 22 wird zur Erhöhung der Emissionsfähigkeit durch ein elektrisches Widerstandsheizelea^nt 23 aufgeheizt, das zwischen der Oberseite der Kathode und einem wärmereflektierenden Schirm 24 aus Molybdän oder Tantal angeordnet ist. Die Kathode kann auch auf andere Weise aufgeheizt werden, z. B. durch Beschul mit Elektronen von einer Sekundärelektronenquelle.

Bei Verwendung einer Vorrichtung nach den Figuren 1 und 2 kann das zu verdampfende Material schnell gewechselt werden, da es nur erforderlich ist, den das zum Aufbringen einer ersten Schichtart verwendete Material enthaltenden Schmelztiegel durch einen anderen Schmelztiegel zu ersetzen, der das neue aufzubringende Material enthält.

Der in Fig. 3 dargestellte Schmelztiegel kann verwendet werden, wenn das abzulagernde Material eiaea. 3'¹ aus einem elektrisch leitenden Material besteht. In diesem Falle besteht der Schmelztiegel 30 aus einem hitzebeständigen Material. Dex· elektrische Kontakt mit dem Material 3' wird durch eine Elektrode 32 gewährleistet,

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JMW)WC Wl

die sich durch den Boden des Schmelztiegels $0 erstreckt, so daß das Material 31 eine Elektrode oder eine Elektrodefortsetzung bildet.

Falls es erforderlich ist, einen Schmelztiegel aus einem elektrisch leitenden Material, z.B. Kupfer zu verwenden und das zu verdampfende Material mit diesem leitenden Material bei höherer Temperatur reagiert, kann eine Schicht aus hitzebeständigem Material, das nicht durch das zu verdampfende Material angegriffen wird, zwischen dem Schmelztiegelkörper und seinem Inhalt angeordnet werden, wie dies in Fig. 4 dargestellt ist. Diese Fig. 4 zeigt einen Schmelztiegel 40 aus Kupfer und eine Aluminiumoxydschicht 41, die zwischen dem Schmelztiegel 40 und einer Menge an zu verdampfenden Aluminium 42 angeordnet ist.

In allen Fällen kann der Schmelztiegel mit einer wärmeisolierenden, hitzebeständigen Außenummantelung versehen sein, um Wärmeverluste zu verringern. Dies ist in Fig. 5 dargestellt, in der der das zu verdampfende Material 51 enthaltende Schmelztiegel 50 mit einer wärmeisolierenden und hitzebeständigen Verkleidung 52 versehen ist.

Die Figuren 6 bis 8 zeigen eine Vorrichtung, bei der der

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Elektronenstromerzeuger unabhängig von dem zu verdampfenden Material und dem dieses Material enthaltenden Schmelztiegel ist. Diese Anordnung eignet sich besonders für Vorrichtungen mit geringer Abgabe, wie sie beispielsweise in Laboratorien für Versuchszwecke verwendet werden.

Bei der in Fig. 6 gezeigten Vorrichtung weist das abzulagernde Material die Form eines festen Blockes 60 auf. Die Anode wird von einem Rahmen 61 gebildet, der etwas größer als der Block 60 und direkt über diesem Block angeordnet ist. Die Ablenkeinrichtung für die von dem Block 60 hochsteigenden Dämpfe wird von einer Kathode 62 gebildet, die sowohl über der Anode 61 als auch über dem Block 60 angeordnet ist. Die Kathode 62 wird durch ein ßtrahlungsheizelement 63 aufgeheizt, das von einem wärmereflektierenden Schirm 64- umgeben ist.

Bei der in Fig. 7 dargestellten Vorrichtung wirdAas zu verdampfende und in einem Schmelztiegel 70 enthaltene Material 71 durch Elektronen beschlossen, die von einer Elektronenkanone kommen. Die Elektronenkanone besteht aus einer indirekt mittels eines Heizfadens 72 geheizten Kathode 73, welche die Elektronenquelle darstellt, einer Fokussieranode 74 und Beschleunigungsanode 75, 76. Die

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Hauptanode 76 wirkt als Ablenkeinrichtung für die von dem Material 71 ausgesandten Dämpfe.

Bei der in 3?ig. 8 dargestellten Vorrichtung wird die Ablenkeinrichtung für die von dem zu verdampfenden Material 80 hochsteigenden Dämpfe von der Fokussierelektrode 84 einer Elektronenkanone gebildet. Diese besteht aus einer mittels eines Heizfadens 81 geheizten Kathode 82, einem Wehnelt-Gitter 83 und einer Hauptanode 85, die wie bei der in Fig. 6 dargestellten Ausführungsform in der Nähe des zu verdampfenden Materials angeordnet ist.

- Patentansprüche -

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Claims

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Patentansprüche

1. Verfahren zum Aufbringen eines Metalls, einer Metallverbindung, eines Nichtmetalls oder Verbindungen τοπ Nichtmetallen auf eine Oberfläche zur Bildung eines Oberflächenüberzugs, dadurch gekennze lehnet , daß eine Menge des Metalls, der Ketallverbin-dung, des Nichtmetalls oder der Verbindung von nichtmetallen in Vakuum durch Elektronenbeschuß verdsaspft wird und daß der vom Ort seiner Entstehung ausgehende Dampf auf die Fläche abgelenkt wird.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennaeichn e t , daß der Dampf durch eine Elektrode des Blektrodensystems, das air Erzeugung des Elektronenstromes verwendet wird, auf diese Fläche abgelenkt wird«

3· Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennz e i c hnet , daß die Anode oder die Hauptanode des zur Erzeugung des Elektronenstroms verwendeten ElektrodensyBtems in der Nähe der zu verdampfenden Materialmenge angeordnet oder von dieser zu verdampfenden Materialmenge gebildet wird und daß der Dampf auf die Fläche durch die andere oder eine andere Elektrode dieses Systems abgelenkt wird·

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. Verfahren nach Anspruch 5» dadurch gekennzeich

durch net , daß der Dampf auf die Fläche dee die Kathode

des Elektrodensystems abgelenkt wird.

5· Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet , daß der Dampf durch die Anode oder die Hauptanode des Elektrodensystems auf die Fläche abgelenkt wird.

6. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet , daß der Elektronenstrom nach unten auf das zu verdampfende Material gerichtet ist und daß der Dampf bezüglich dieses Stromes seitlich auf die Fläche abgelenkt wird.

7» Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennz e ic h n e t , daß die Fläche eine von zwei oder mehr Flächen ist, die gleichzeitig beschichtet werden, indem Dampf bezüglich dieses Stromes seitlich auf diese Flächen abgelenkt wird.

8. Verfahren nach Anspruch 6 oder 71 dadurch g e k e η η zeichnet , daß jede zu beschichtende Fläche die Oberfläche einer Tafel ist, die in einer vertikalen oder im wesentlichen vertikalen Ebene gehalten wird.

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9» Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet , daß der Elektronenstromerzeuger, die Dampfablenkeinrichtungen und die zu verdampfende Substanz einerseits und die zu beschichtende Fläche andererseits während der Verdampfung relativ zueinander verschoben werda^ so daß aufeinanderfolgende Flächenteile nacheinander beschichtet werden.

10. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet , daß die verdampfte Substanz aus einer der folgenden Verbindungen besteht: Sb₂S,, CdS, CaF₂, CeO₂, Cr₂Ox, PbCl₂, LiF, MgF₂, AgCl, NaF, VO₃, V₅O₈, ZnS.

11. Verfahren mch einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet , daß sich. die verdampfte Substanz im flüssigen Zustand befindet.

12. Verfahren nach eiim der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet , daß die verdampfte Substanz im festen Zustand vorliegt.

13. Vorrichtung zum Aufbringen eines Metalls, einer Metallverbindung, eines Nichtmetalls oder einer Nichtmetall-

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verbindung auf eine Fläche zur Bildung eines Oberflächenüberzugs, gek ennze ichne t durch ein Elektrodensystem zur Erzeugung eines Elektronenstroms zum Beschüß einer Menge eines Metalls, einer Metallverbindung, eines Nichtmetalls oder einer Nichtmetallverbindung in festem oder flüssigem Zustand, um eine Verdampfung zu bewirken, sowie Einrichtungen zur Ablenkung des von dem Ort seiner Entstehung ausgehenden Dampfes auf diese Fläche.

14. Vorrichtung nach Anspruch 13, dadurch g e k e η η zeichnet , daß die Dampfablenkeinrichtung von einer Elektrode des Elektrodensystems gebildet wird.

15· Vorrichtung nach Anspruch 14, dadurch g e k e η η ζ e ic h η e t , daß die Hauptanode des Elektrodensystems in der Nähe der zu verdampfenden Materialmenge angeordnet oder von dieser zu verdampfenden Materialmenge gebildet wird und daß die Dampfablenkeinrichtung aus der anderen oder einer anderen Elektrode des Elektrodensystems besteht.

16. Vorrichtung nach Anspruch 15, dadurch g e k e η η ζ e ic h η e t , daß die Dampfablenkeinrichtung von der Kathode des Elektrodensystems gebildet wird.

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1?· Vorrichtung nach Anspruch 13 oder 14, dadurch gekennzeichnet , daß die Dampfablenkeinrichtung von der Anode oder der Hauptanode des Elektrodesystems gebildet wird.

18. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 13 bis 17» dadurch gekennzeichnet , daß der Elektroneip^tramerzeuger derart angeordnet ist, daß der Elektronenstrom nach unten auf ein zu verdampfendes Material gerichtet ist, und daß die Dampfablenkeinrichtung derart angeordnet ist, daß der von diesem Material nach oben wandernde Dampf bezüglich dieses Stromes seitlich abgelenkt wird.

19· Vorrichtung nach einem der Ansprüche 13 bis 18, dadurch gekennzeichnet , daß ein Schmelztiegel zur Aufnahme einer zu verdampfenden Flüssigkeitsmenge vorgesehen ist.

20. Vorrichtung nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet , daß der Schmelztiegel aus elektrisch leitendem Material bosteht und die Anode oder die Haupt-U-dec Elektrodeiioynt^rna bildet.

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BADORfOtMAi.

21. Vorrichtung nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet , daß der Schmelztiegel mit einer Schicht aus hitzebeständigem Material ausgekleidet ist.

22. Vor .richtung nach einem der Ansprüche 19 Ms 21, dadurch gekennzeichnet , daß der Schmelztiegel an der Außenseite mit einer Wärmeisolierung versehen ist.

23· Vorrichtung nach einem der Ansprüche 13 bis 22, dadurch gekennzeichnet , daß Einrichtungen zur Aufheizung der Kathode des Elektrodensystems vorgesehen sind.

24-. Vorrichtung nach. Anspruch 23 * dadurch g e k β η η -zeichnet _t daß die Kathodenheizeinrichtung zwischen der Kathode und einem WärmescHrm angeordnet ist.

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