DE4409761A1 - Einrichtung zur plasmagestützten Verdampfung in einem Bogenentladungsplasma - Google Patents
Einrichtung zur plasmagestützten Verdampfung in einem BogenentladungsplasmaInfo
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- C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
- C23C14/325—Electric arc evaporation
Description
Die Erfindung betrifft eine Einrichtung zur plasmagestützten
Verdampfung in einem Bogenentladungsplasma, die mit der Anode
einer Stromquelle verbunden ist. Die Einrichtung kann zur
Verdampfung unterschiedlicher Materialien, auch nichtleiten
den Materialien, die thermisch verdampft werden müssen,
eingesetzt werden.
Zur plasmagestützten Beschichtung von Substraten sind nach
dem Stand der Technik verschiedene Verfahren und Einrichtun
gen bekannt. Die Verdampfung des jeweiligen Verdampfungs
materials kann dabei sowohl von der Katode wie von der Anode
erfolgen.
Bei den anodisch verdampfenden Verfahren und Einrichtungen
sind ebenfalls verschiedene Ausführungen bekanntgeworden. In
breitem Maße eingeführt sind dabei Niedervoltbogenverdampfer,
bei denen eine Niedervoltbogenentladung zwischen einer Kato
de, das kann sowohl eine Glühkatode wie eine Hohlkatode sein,
und einer Anode gezündet wird. Die Anode besitzt dabei in der
Regel einen gekühlten selbst nichtverdampfenden Tiegel zur
Aufnahme des Materials, welches verdampft werden soll. Ver
fahrensbedingt sind solche Anordnungen für die Verdampfung
elektrisch leitender Materialien besonders geeignet.
Die DE 34 13 891 C2 beschreibt ein Verfahren, bei dem zwi
schen der Katode und der Anode eine Vakuumbogenentladung
gezündet wird, wobei die auf der Oberfläche der Katode in den
Katodenflecken gebildeten Elektronen, die Anode verdampfen
und die Vakuumbogenentladung im wesentlichen durch das ver
dampfte Anodenmaterial als Brennmedium aufrechterhalten wird.
Das Verfahren arbeitet bei relativ niedrigen Drücken inner
halb der Beschichtungskammer.
In der DD 2 63 423 A3 wird ein Verfahren vorgeschlagen, bei
dem parallel zu einer Bogenentladung innerhalb des äußeren
Plasmas, ein zusätzlicher anodischer Tiegel angeordnet ist,
auf den aus dem Plasma Elektronen extrahiert werden, die zur
Verdampfung des Verdampfungsmaterials innerhalb des anodi
schen Tiegels führt.
Die DD 2 57 451 A1 beschreibt einen Bogenentladungsverdampfer,
der innerhalb des Verdampfertiegels mit gleichem elektrischen
Potential einen Elektronenkollektor aus hochschmelzendem
Material aufweist, an dem das Verdampfungsmaterial unmittel
bar anliegt. Der Elektronenstrahl erhitzt den Elektronenkol
lektor und das Verdampfungsmaterial wird zumindest am Anfang
über Wärmeleitung und Wärmestrahlung aufgeheizt und ver
dampft. Dieser Verdampfer eignet sich besonders zur Verdamp
fung von Materialien mit schlechter elektrischer Leitfähig
keit bzw. schlecht leitenden Oxidüberzügen.
In der EP 554 552 A1 wird ein Verfahren und eine Vorrichtung
zur Materialverdampfung beschrieben, bei dem das zu verdamp
fende Material mit Elektronen aus einer Vakuumbogenverdamp
fung beschossen wird. Zur stufenlosen Regelung der Elek
tronenerzeugung und andererseits der Verdampfung ist neben
einer ersten Stromquelle zur Erzeugung der Bogenspannung
zwischen der selbstverzehrenden Katode und eine Anode eine
zweite steuerbare Stromquelle zwischen der Anode der katodi
schen Vakuumbogenverdampfung und einer zweiten selbstver
zehrenden Anode vorgesehen, so daß die durch die katodische
Vakuumbogenverdampfung erzeugten Elektronen im Vakuumbehälter
gezielt der selbstverzehrenden Anode zugeführt werden.
Neben diesen an der Anode verdampfenden Einrichtungen bzw.
Verfahren, sind auch verschiedene Verfahren und Einrichtungen
bekannt, die mittels eines Vakuumlichtbogens das katodisch
angeordnete Material verdampfen.
Die Verfahren und Einrichtung nach dem Stand der Technik sind
überwiegend sehr spezifisch auf die zu verdampfenden Materia
lien ausgerüstet und können oft nur elektrisch leitendes
Material verdampfen. Für vielfältige Beschichtungsaufgaben
sind derartige Einrichtungen zu unflexibel und durch ihre
hohe Spezialisierung sehr aufwendig.
Die Erfindung stellt sich die Aufgabe, eine Einrichtung zur
plasmagestützten Verdampfung zu schaffen, mit der bei relativ
geringem technischen Aufwand beliebige Materialien mittels
Elektronenbeschuß verdampft werden können.
Erfindungsgemäß wird die Aufgabe mit einer Einrichtung ge
löst, die mit der Anode einer Stromquelle verbunden ist,
einen Grundkörper und mindestens einen thermischen Verdampfer
aufweist, wobei der thermische Verdampfer mit geringem ther
mischen und elektrischen Kontakt auf einer ebenen Fläche des
Grundkörpers angeordnet und die ebene Fläche dem Plasma
zugewandt ist und die dem Plasma zugewandte ebene Fläche
erheblich größer ist als die größte Querschnittsfläche des
thermischen Verdampfers.
Bei einer Einrichtung für hohe Verdampfungsraten sind Boge
nentladungsplasmen mit hoher Energiedichte besonders geeig
net, solche Plasmen können auf verschiedene Weise erzeugt
werden. Gleichermaßen geeignet sind Vakuumlichtbögen oder
Niedervoltbögen, letztere sowohl mit einer Hohlkatode wie mit
einer Glühkatode. Erfindungswesentlich ist, daß die Bogenent
ladung zwischen einer Katode und einer relativ großen ebenen
Fläche des Grundkörpers der erfindungsgemäßen Einrichtung
brennt, oder durch eine separate Stromquelle zusätzlich gegen
die große ebene Fläche des Grundkörpers getrieben wird. Der
thermische Verdampfer ist nur mit geringem thermischen und
elektrischen Kontakt auf der ebenen Fläche des Grundkörpers
angeordnet, im einfachsten Fall steht er auf dieser, kann in
einfachen Bohrungen einen Stabilisierungshalt haben oder auch
an geeigneten Vorrichtungen an der ebenen Fläche des Grund
körpers eingehangen werden.
Überraschenderweise wurde gefunden, daß bereits nach kurzer
Zeit der thermische Verdampfer, der sich innerhalb des Elek
tronenstroms zur ebenen Fläche des Grundkörpers befindet,
erwärmt wird und sich der Elektronenstrom aus der Bogenentla
dung zunehmend auf den Verdampfer konzentriert. In der Folge
wird der thermische Verdampfer mit dem darin befindlichen
Verdampfungsmaterial intensiv aufgeheizt und das
zu verdampfende Material wird zügig eingeschmolzen. Nach dem
Einsetzen der Verdampfung fokussiert die Dampfwolke, die den
Verdampfer nun umgibt, den Elektronenstrom nahezu vollständig
auf das Verdampfungsgut.
Falls erforderlich kann der Strom gegen den Grundkörper kurz
nach dem Einsetzen der Verdampfung auf verhältnismäßig gerin
ge Werte abgesenkt werden, d. h. die Verdampfungsrate kann in
einfacher Weise über diesen Strom reguliert werden. Der
Verdampfungsprozeß ist selbststabilisierend, d. h. die Ver
dampfung erfordert keine besonderen äußeren Steuerungsmaßnah
men für das Aufheizen, Abschalten usf. Das zu verdampfende
Material kann jeweils restlos aus dem thermischen Verdampfer
verdampft werden.
Der thermische Verdampfer kann sowohl ein Verdampferwendel
wie ein Verdampferschiffchen sein. Er ist keinerlei mecha
nischen Spannungen durch die Einspannung desselben ausgesetzt
und weist dadurch eine hohe Lebensdauer auf.
Die starke Konzentration der Bogenentladung auf den thermi
schen Verdampfer führt zu einer hohen Ionisierung des Dampf
stromes des zu verdampfenden Materials und in der Folge zu
vorteilhaften plasmagestützten Schichtabscheidungen.
Die ebene Fläche des Grundkörpers kann in vorteilhafter Weise
an die geometrischen Bedingungen innerhalb der Beschichtungs
kammer und insbesondere an die Substratelage angepaßt werden.
Sie kann rund oder vieleckig sein, je nachdem an welcher
geometrischen Stelle die thermischen Verdampfer in Bezug auf
die Substratlage vorteilhaft auf der ebenen Fläche positio
niert werden sollen.
Die Zahl der thermischen Verdampfer richtet sich dabei aus
schließlich nach den technologischen Erfordernissen. Die Ein
richtung kann sowohl nur einen einzigen thermischen Verdamp
fer aufweisen wie auch eine Vielzahl von derartigen Verdamp
fern. Bei der Anordnung von mehreren thermischen Verdampfern
konzentriert regelmäßig ein Verdampfer den Elektronenstrom
auf sich. Das ist nicht von Nachteil, denn sobald der jeweils
aktive Verdampfer leergedampft ist, also kein Verdampfungs
material mehr aufweist, wird der nächste Verdampfer selbst
regulierend aktiviert und in der Folge verdampft das in ihm
enthaltene Verdampfungsmaterial. Dieser Effekt kann derart
ausgenutzt werden, daß einzelne Verdampfer mit einer Blende
abgedeckt werden, die erst dann entfernt werden, wenn es der
technologisch bedingte Verfahrensablauf erfordert.
Die Erfindung soll nachfolgend an zwei Ausführungsbeispielen
näher erläutert werden.
Die zugehörigen Zeichnungen zeigen das Beispiel I in den
Fig. 1 bis 3 und das Beispiel II in Fig. 4. Im einzelnen
zeigen
Fig. 1 eine erfindungsgemäße Einrichtung mit einer Verdamp
ferwendel als thermischen Verdampfer,
Fig. 1a ein Verdampferschiffchen als Variante für den
thermischen Verdampfer nach Fig. 1,
Fig. 2 den thermischen Verdampfer nach Fig. 1 in einer
Beschichtungskammer in der das Arbeitsplasma mittels einer
Hohlkatodenbogenentladung erzeugt wird,
Fig. 3 den thermischen Verdampfer nach Fig. 1 in einer
Beschichtungskammer in der das Arbeitsplasma mittels einer
Vakuumlichtbogenentladung erzeugt wird und
Fig. 4 eine erfindungsgemäße Einrichtung mit mehreren Ver
dampferwendeln als thermischen Verdampfer.
Fig. 1 zeigt eine vorteilhafte Ausführungsform der erfin
dungsgemäßen Einrichtung. Sie besteht aus einem flachen
rotationssymmetrischen Grundkörper 1, auf dessen ebener Fläche
2 ein thermischer Verdampfer aufgestellt ist. Als thermischer
Verdampfer ist eine Verdampferwendel 3 eingesetzt. In glei
cher Weise kann auch ein Verdampferschiffchen 4 zum Einsatz
kommen wie er beispielsweise in Fig. 1a dargestellt ist. In
jedem Fall müssen die Füße 6 und 7 der Verdampferwendel 3
bzw. die Füße 8 und 9 des Verdampferschiffchens 4 derart
geformt sein, daß der mit einem Verdampfungsmaterial 10
beladene thermische Verdampfer einen sicheren Stand auf der
Fläche 2 des Grundkörpers 1 hat. Obwohl beim Betrieb des
thermischen Verdampfers, also während der Verdampfung, ein
relativ hoher Strom, gewöhnlich größer 50 A, über die Ver
dampferwendel 3 bzw. das Verdampferschiffchen 4 zum Grundkör
per 1 fließt, sind keine besonderen elektrischen Kontaktie
rungen erforderlich. Die Berührungspunkte 11 und 12 sollten
lediglich metallisch blank sein. Vorteilhafterweise ist der
Grundkörper 1 mit einem Bolzen 13 mechanisch fest verbunden,
der zugleich die Kühlwasserzu- und abführung 14 und die
Stromzuführung übernimmt. Der Bolzen 13 ist mit dem positiven
Pol einer Stromquelle 15 elektrisch verbunden.
Die Anordnung nach Fig. 1 wird am Boden einer Vakuumbe
schichtungskammer 19 montiert wie sie in Fig. 2 und 3 darge
stellt ist. Der Bolzen 13 ist zugleich als Vakuumdurchführung
ausgebildet. Der untere Teil des Grundkörpers 1 ist mit einem
Isolator 16, z. B. aus Keramik, abgedeckt. Er kann auch
einfach mit einer Isolationsschicht beschichtet sein. Damit
werden unerwünschte Entladungseffekte an dieser Fläche ver
mieden.
In Fig. 2 ist die erfindungsgemäße Einrichtung nach Fig. 1
in eine schematisch dargestellte Vakuumbeschichtungskammer 19
eingebaut. Das Arbeitsplasma wird mittels einer Hohlkato
denbogenentladung mittels der Hohlkatode 17 erzeugt. Eine
Stromquelle 18 treibt den Plasmastrom der Hohlkatodenboge
nentladung. Die Wand der Vakuumbeschichtungskammer 19 ist als
Anode der Hohlkatodenbogenentladung geschaltet. Die zu be
schichtenden Substrate sind auf einem Substratträger 20
angeordnet, der sich vorteilhafterweise oberhalb der erfin
dungsgemäßen Einrichtung mit dem thermischen Verdampfer, im
Beispiel eine Verdampferwendel 3, bewegt. Die Verdampferwen
del 3 ist mit 2 g Aluminium beladen.
Zur Verdampfung wird zu Beginn nur ein Bogenentladungsplasma
unter Nutzung der Stromquelle 18 erzeugt und aufrechterhal
ten. Das Plasma bewirkt eine vorteilhafte Vorbehandlung der
Oberflächen der Substrate auf dem Substratträger 20. Danach
wird die Stromquelle 15 zugeschaltet, wobei die Stromquelle
den Bogenstrom auf konstant 100 A regelt. Nun kann man be
obachten wie sich die Verdampferwendel 3 allmählich aufheizt,
das Aluminium als Verdampfungsgut einschmilzt, die Verdamp
ferwendel 3 benetzt wird und schließlich das Aluminium zügig
verdampft. Nachdem das Aluminium aufgezehrt ist, bricht der
Dampfstrom rasch ab und der thermische Verdampfer geht in
einen rot- bis hellrot glühenden Zustand über. Die Stromquel
le 15 ist nun abzuschalten, auch die Bogenentladung kann
durch Abschalten der Stromquelle 18 beendet werden. Die Sub
strate weisen nach der Verdampfung eine dünne Al-Reflexions
schicht auf.
Da die Verdampferwendel 3 des thermische Verdampfers nicht
fest eingespannt ist, treten keine mechanischen Spannungen
beim Aufheizen und Abkühlen auf. Daraus resultiert letztlich
eine vergleichbar höhere Lebensdauer gegenüber einer Ver
dampferwendel, die durch Stromdurchgang widerstandsbeheizt
wird und in einer Halteeinrichtung eingespannt ist.
Ein überraschendes Ergebnis ist auch, daß trotz einer fehlen
den festen Kontaktierung des thermischen Verdampfers zum
Grundkörper 1 keine Verschleißerscheinungen an den Berüh
rungspunkten 11 und 12 beobachtet wurden.
Weiter konnte beobachtet werden, daß das Verdampfungsmate
rial, insbesondere bei Aluminium in Wolframwendeln, nahezu
rückstandslos abdampft.
Fig. 3 zeigt die erfindungsgemäße Einrichtung nach Fig. 1
in einer zu Fig. 2 äquivalenten Vakuumbeschichtungskammer
19, wobei das Arbeitsplasma von einem Vakuumlichtbogen be
reitgestellt wird. Eine Stromquelle 21 treibt den Plasmastrom
der Vakuumlichtbogenentladung. Dabei ist die Wand der Vakuum
beschichtungskammer 19 als Anode geschaltet. Als Katode ist
ein Target 22 eingesetzt. Die Substrate sind auf einem Sub
strathalter 23 vorteilhafterweise zwischen dem Target 22 und
dem thermischen Verdampfer angeordnet.
Wenn die Vakuumlichtbogenentladung nur für die Plasmabehand
lung der Substratoberflächen erforderlich ist, so wird die
Bogenentladung nur mit einem kleinen Strom zwischen 60 und 80
A betrieben. Der Ablauf der Beschichtung erfolgt in äquiva
lenter Weise der Hohlkatodenbogenentladung wie es zu Fig. 2
bereits beschrieben wurde. Darüber hinaus kann aber auch das
Target 22 als Verdampfer zur Beschichtung beitragen (Misch
schichten) oder in anderer vorteilhafter Weise in den Ver
fahrensablauf eingebunden werden.
Fig. 4 zeigt eine Ausführungsform, bei der die erfindungs
gemäße Einrichtung einen Grundkörper 25 aufweist, welcher als
ein langer flacher Quader ausgeführt ist. So können mehrere
thermische Verdampfer, z. B. Wolframwendel 26, auf die ebene
Fläche 27 des Grundkörpers 25 gestellt werden. Diese Aus
führungsform ist besonders für lange horizontale Vakuumbe
schichtungskammern, wie sie z. B. für die Beschichtung von
Reflektoren mit Aluminium-Reflexionsschichten eingesetzt
werden, geeignet.
Der Ablauf einer Beschichtung erfolgt entsprechend Beispiel
I. Bemerkenswert ist bei diesem Beispiel, daß jeweils unkon
trolliert bevorzugt ein Verdampferwendel 26 zuerst den Elek
tronenstrom auf sich zieht. Erst wenn dieses weitgehend
leergedampft ist, folgen nacheinander die anderen Verdampfer
wendel 26. Eine Beeinträchtigung der Qualität der Beschich
tung tritt dabei nicht ein.
Claims (5)
1. Einrichtung zur plasmagestützten Verdampfung in einem
Bogenentladungsplasma, die mit der Anode einer Stromquelle
verbunden ist, einen Grundkörper und mindestens einen
thermischen Verdampfer aufweist, wobei der thermische
Verdampfer mit geringem thermischen und elektrischen
Kontakt auf einer ebenen Fläche (2) des Grundkörpers (1)
angeordnet ist, die ebene Fläche (2) dem Plasma zugewandt
ist und die dem Plasma zugewandte ebene Fläche (2) erheb
lich größer als die größte Querschnittsfläche des ther
mischen Verdampfers ist.
2. Einrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
der Grundkörper (1) wassergekühlt ist und dessen ebene
Fläche (2, 27) rund oder vieleckig ist.
3. Einrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
der thermische Verdampfer als ein Verdampferwendel (3)
oder Verdampferschiffchen (4) ausgebildet ist und frei auf
der ebenen Fläche (2, 27) steht oder in Halteeinrichtungen
an der ebenen Fläche (2, 27), wie Bohrungen, Ausnehmungen
oder Halteeinrichtungen, stabilisiert ist.
4. Einrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
das Plasma ein Bogenentladungsplasma ist, und mittels
eines Vakuumlichtbogens oder eines Niedervoltbogens,
letzterer mit Hohlkatode (17) oder Glühkatode, erzeugt
wird.
5. Einrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
über mindestens einem von mehreren thermischen Verdampfern
eine stellbare Abschirmung oder Blende vorhanden ist.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19944409761 DE4409761B4 (de) | 1994-03-22 | 1994-03-22 | Einrichtung zur plasmagestützten Verdampfung in einem Bogenentladungsplasma |
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Publications (2)
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DE4409761A1 true DE4409761A1 (de) | 1995-11-30 |
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DE4409761B4 (de) | 2007-12-27 |
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