DE1515313C3 - Kathodenzerstäubungsvorrichtung - Google Patents
KathodenzerstäubungsvorrichtungInfo
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- DE1515313C3 DE1515313C3 DE19661515313 DE1515313A DE1515313C3 DE 1515313 C3 DE1515313 C3 DE 1515313C3 DE 19661515313 DE19661515313 DE 19661515313 DE 1515313 A DE1515313 A DE 1515313A DE 1515313 C3 DE1515313 C3 DE 1515313C3
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/35—Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
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Description
thode und der bzw. den Anoden angelegten elektrischen
Gleichspannung können dabei die Plasmaionen in Richtung zur Kathode beschleunigt werden
und diese zerstäuben. Zusätzlich zu den bereits vorgenannten Vorteilen weist diese Anordnung den weiteren
Vorteil einer erheblich verminderten Rückdiffusion der abgestäubten Atome zur Kathode auf.
Zum Aufstäuben von dielektrischem Material auf eine Trägerunterlage wählt man elektrisch leitende
Kathodenstäbe und schiebt darüber Rohre aus dielektrischem Material, wobei an die Stäbe ein hochfrequentes,
elektrisches Wechselfeld angelegt wird.
In der Zeichnung ist ein Ausführungsbeispiel der
Kathodenzerstäubungsvorrichtung nach der Erfindung dargestellt.
Mit 1 sind zwei spiegelbildlich zur Kathode angeordnete Anoden bezeichnet, die gleichzeitig als
Halterungen für die Trägerunterlagen 2 dienen. Die Kathode ist aus Stäben 3 gefertigt, die in einer zur
. Ebene der Anoden 1 parallel ausgerichteten Ebene angeordnet sind. Jeweils benachbarte Stäbe 3 der Kathode
sind so mit einer elektrischen Wechselspannungsquelle 5 gekoppelt, daß jeweils zwischen diesen
Stäben ein elektrisches Wechselfeld herrscht. Eine Gleichspannungsquelle 4 ist zwischen die Kathode
und die Anoden 1 geschaltet.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (5)
1. Kathodenzerstäubungsvorrichtung zum Her- sätzliche Erwärmung der zu beschichtenden Träger
stellen von Metall- oder Metallegierungsschichten 5 durch Wärmestrahlung ist ebenfalls unvermeidlich,
auf einer Trägerunterlage mit einem evakuier- Eine derartige zusätzliche Erwärmung der be- und mit Gas füllbaren Zerstäubungsraum, einer schichteten Träger wird zwar bei einer »kalten«, also gitterartigen, ebenen Kathode und einer dazu bei einer nicht zusätzlich, sondern praktisch nur parallelen Anode, dadurch ge kennzeich- durch die Entladung beheizten Kathode vermieden, net, daß die Kathode aus praktisch nur durch io Für eine derartige »kalte« Kathode wird üblicherdie Entladung beheizten Stäben (3) besteht und weise eine Kathodenscheibe benutzt. Bei größeren, daß jeweils benachbarte Stäbe (3) zur Erzeugung für die Fertigung vorgesehenen Kahtodenzerstäudes Plasmas mit einer elektrischen Wechselspan- bungsvorrichtungen mit einer großflächigen KathonungsTquelle (5) verbunden sind. denscheibe erfolgt jedoch eine Konzentration des
auf einer Trägerunterlage mit einem evakuier- Eine derartige zusätzliche Erwärmung der be- und mit Gas füllbaren Zerstäubungsraum, einer schichteten Träger wird zwar bei einer »kalten«, also gitterartigen, ebenen Kathode und einer dazu bei einer nicht zusätzlich, sondern praktisch nur parallelen Anode, dadurch ge kennzeich- durch die Entladung beheizten Kathode vermieden, net, daß die Kathode aus praktisch nur durch io Für eine derartige »kalte« Kathode wird üblicherdie Entladung beheizten Stäben (3) besteht und weise eine Kathodenscheibe benutzt. Bei größeren, daß jeweils benachbarte Stäbe (3) zur Erzeugung für die Fertigung vorgesehenen Kahtodenzerstäudes Plasmas mit einer elektrischen Wechselspan- bungsvorrichtungen mit einer großflächigen KathonungsTquelle (5) verbunden sind. denscheibe erfolgt jedoch eine Konzentration des
2. Kathodenzerstäubungsvorrichtung nach An- 15 Plasmas auf einen Plasmakanal in der Scheibenmitte,
spruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als Anode Eine gleichmäßige Beschichtung größerer Flächen ist
zwei Teilanoden (1) spiegelbildlich zur Kathode bei Benutzung einer relativ großflächigen Kathodenangeordnet
sind. scheibe daher nicht möglich.
3. Kathodenzerstäubungsvorrichtung nach An- Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zuspruch
1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß zu- ao gründe, eine Kathodenzerstäubungsvorrichturig anzusätzlich
eine Gleichspannungsquelle (4) zwischen geben, die eine Beschichtung ohne große Erwärmung
Anode bzw. Anoden (1) und Kathode angeordnet der Trägerunterlage gestattet und deren Kathode zur
ist. gleichmäßigen Bestäubung auch großer Flächen ge-
4. Kathodenzerstäubungsvorrichtung nach den eignet und dabei einfach aufgebaut ist.
Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß 25 Zur Lösung dieser Aufgabe sieht die Erfindung bei zwischen benachbarten Stäben (3) ein hochfre- einer Kathodenzerstäubungsvorrichtung der eingangs quentes elektrisches Wechselfeld herrscht. genannten Art vor, daß die Kathode aus praktisch
Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß 25 Zur Lösung dieser Aufgabe sieht die Erfindung bei zwischen benachbarten Stäben (3) ein hochfre- einer Kathodenzerstäubungsvorrichtung der eingangs quentes elektrisches Wechselfeld herrscht. genannten Art vor, daß die Kathode aus praktisch
5. Abwandlung der Kathodenzerstäubungsvor- nur durch die Entladung beheizten Stäben besteht
richtung nach den Ansprüchen 1 bis 4 zum Er- und daß jeweils benachbarte Stäbe zur Erzeugung
zeugen dielektrischer Schichten, dadurch gekenn- 30 des Plasmas mit einer elektrischen Wechselspanzeichnet,
daß über die elektrisch leitenden Stäbe nungsquelle verbunden sind.
(3) Rohre aus dielektrischem Material geschoben Durch die Erzeugung des Plasmas zwischen- den
sind. " Stäben der Kathode wird das ansonsten durch den
EleKtronenstrom verursachte, unerwünscht große
35 Aufheizen der normalerweise in der Anodenebene
angeordneten Trägerunterlagen vermieden, da die
Trägerunterlagen durch die bei der Vorrichtung nach der Erfindung zwischen den Stäben von dem angelegten
elektrischen Wechselfeld erzeugte Glimment-
Die Erfindung betrifft eine Kathodenzerstäubungs- 40 ladung nicht beeinflußt werden. Auch tritt die bei
vorrichtung zum Herstellen von Metall- oder Metall- Verwendung einer großflächigen Kathodenscheibe
legierungsschichten auf einer Trägerunterlage, mit festzustellende Konzentration des Plasmas auf einen
einem evakuier- und mit Gas füllbaren Zerstäubungs- Plasmakanal in Scheibenmitte bei der Entladung zwiraum,
einer gitterartigen, ebenen Kathode und einer sehen den Stäben der Kathode nicht auf. Es können
dazu parallelen Anode. 45 daher mit einer derartigen Kathode praktisch belie-
Es ist aus der französischen Patentschrift big große Flächen gleichmäßig bestäubt bzw. be-354
eine Kathodenzerstäubungsvorrichtung 'schichtet werden.
zum Herstellen von Metall- oder Metallegierungs- Die Kathodenfläche kann mit einer entsprechenschichten
auf einer Trägerunterlage bekannt, die den Anzahl von Stäben beliebig groß gewählt wereinen
evakuierbaren und mit Zerstäubungsgas füllba- 50 den, wobei im übrigen die Herstellung der Stäbe
ren Zerstäubungsraum, wenigstens eine Kathode und auch wesentlich weniger aufwendig ist als die der biswenigstens
eine Anode, die gleichzeitig als Halterung lang verwendeten, plattenförmigen, ebenen Kathofür
die zu beschichtenden Träger dient, besitzt. den. Der gegenseitige Abstand der Stäbe kann so ge-
Es ist weiterhin aus der deutschen Patentschrift wählt werden, daß die Dickenschwankung der
613 eine Kathodenzerstäubungsvorrichtung be- 55 niedergeschlagenen Schicht nur etwa 1 °/o beträgt,
kannt, deren Kathode aus einer Anzahl paralleler Vorzugsweise sind zwei Anoden vorgesehen, die
kannt, deren Kathode aus einer Anzahl paralleler Vorzugsweise sind zwei Anoden vorgesehen, die
Drähte besteht, die durch einen hindurchgeleiteten. spiegelbildlich zur Kathode angeordnet sind. Da-Wechselstrom
auf hohe Temperaturen erhitzt wer- · durch können gleichzeitig zwei auf verschiedenen
den. Die dort als Kathode benutzten Drähte können Seiten der Kathode angeordnete Substrate beschichauch
einen größeren Durchmesser besitzen. Um den 60 tet werden, was bei Verwendung der bekannten
schädlichen Einfluß des durch den Heizstrom um die scheibenförmigen Kathoden nicht möglich ist.
Kathodendrähte entstehenden Magnetfelds auf die Zusätzlich kann zwischen der Kathode und der
Kathodendrähte entstehenden Magnetfelds auf die Zusätzlich kann zwischen der Kathode und der
Ladungsträger im Plasma zu verringern, ist bei jeder bzw. den Anoden ein elektrisches Gleichfeld vorgesebekannten
Vorrichtung die eigentliche Zerstäubungs- hen sein.
spannung als pulsierende Gleichspannung vorgese- 65 Vorteilhaft wird an die Stäbe der Kathode ein
hen. Diese soll dann ihren Maximalwert erreichen, hochfrequentes elektrisches Wechselfeld angelegt,
wenn die Heizspannung durch Null geht. Die Ver- das im Druckbereich der unselbständigen Gasentlawendung
zweier Spannungsquellen und ihre aufein- dung ein Plasma erzeugt. Mit einer zwischen der Ka-
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DES0101806 | 1966-02-04 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1515313A1 DE1515313A1 (de) | 1971-09-16 |
DE1515313B2 DE1515313B2 (de) | 1973-08-02 |
DE1515313C3 true DE1515313C3 (de) | 1974-03-07 |
Family
ID=7524008
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19661515313 Expired DE1515313C3 (de) | 1966-02-04 | 1966-02-04 | Kathodenzerstäubungsvorrichtung |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
CH (1) | CH492801A (de) |
DE (1) | DE1515313C3 (de) |
-
1966
- 1966-02-04 DE DE19661515313 patent/DE1515313C3/de not_active Expired
-
1967
- 1967-01-27 CH CH128067A patent/CH492801A/de not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CH492801A (de) | 1970-06-30 |
DE1515313B2 (de) | 1973-08-02 |
DE1515313A1 (de) | 1971-09-16 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
E77 | Valid patent as to the heymanns-index 1977 | ||
EHJ | Ceased/non-payment of the annual fee |